JPS63128719A - 終点検出装置 - Google Patents
終点検出装置Info
- Publication number
- JPS63128719A JPS63128719A JP27609486A JP27609486A JPS63128719A JP S63128719 A JPS63128719 A JP S63128719A JP 27609486 A JP27609486 A JP 27609486A JP 27609486 A JP27609486 A JP 27609486A JP S63128719 A JPS63128719 A JP S63128719A
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- Japan
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- detecting
- detector
- disc
- processing chamber
- vacuum processing
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- Pending
Links
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Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体製造装置、特にプラズマエツチングにお
けるエツチング終了点を検出する装置に関する。
けるエツチング終了点を検出する装置に関する。
従来、この種の終点検出装置は第３図に示すように、電
源９により電極８ａ、８ｂの間に発生したプラズマ光を
真空処理室７外に取付けられた検出器１で検出窓２を介
して検出しているが、検出窓２は真空処理室７内に露出
しており、その中の雰囲気にさらされている。１０は検
出器１のコントローラである。
源９により電極８ａ、８ｂの間に発生したプラズマ光を
真空処理室７外に取付けられた検出器１で検出窓２を介
して検出しているが、検出窓２は真空処理室７内に露出
しており、その中の雰囲気にさらされている。１０は検
出器１のコントローラである。
上述した従来の終点検出装置は検出窓２がプロセス中宮
にプラズマエツチングによって発生する反応生成物にさ
らされているため、長時間使用すると、検出窓２に反応
生成物が付着し、必要とする発光スペクトルの透過率が
変化することにより、正確なモニタリングを行うことが
できないという欠点がある。
にプラズマエツチングによって発生する反応生成物にさ
らされているため、長時間使用すると、検出窓２に反応
生成物が付着し、必要とする発光スペクトルの透過率が
変化することにより、正確なモニタリングを行うことが
できないという欠点がある。
本発明の目的は真空処理室内での発光スペクトルを正確
にモニタリングする終点検出装置を提供することにある
。
にモニタリングする終点検出装置を提供することにある
。
上述した従来の終点検出装置に対し、本発明は反応生成
物や反応ガスイオンが検出窓に付着しないように、検出
穴を有する回転円板を用いてこれらの物質を検出窓から
隔離するという独創的内容を有する。
物や反応ガスイオンが検出窓に付着しないように、検出
穴を有する回転円板を用いてこれらの物質を検出窓から
隔離するという独創的内容を有する。
本発明は真空処理室内での発光スペクトルを光学的に検
出器で検出する終点検出装置において、真空処理室に設
けられた検出窓の真空処理室側に該検出窓を遮へいする
円板を回動可能に設け、検出器の光軸と一致する該円板
の半径上に検出穴を設けたことを特徴とする終点検出装
置である。
出器で検出する終点検出装置において、真空処理室に設
けられた検出窓の真空処理室側に該検出窓を遮へいする
円板を回動可能に設け、検出器の光軸と一致する該円板
の半径上に検出穴を設けたことを特徴とする終点検出装
置である。
以下、本発明の実施例を図により説明する。
（実施例１）
第１図は本発明の実施例１の断面図である。第１図にお
いて、円板４は検出窓２を遮へいするに充分な大きさを
持っており、真空回転導入部５を介してモーター６と接
続され一定の速度で回転する。円板４には検出器１の光
軸と一致する半径上の１点に検出穴３があり、検出器１
は前記検出穴３を通して検出窓２越しに真空処理室７内
のプラズマの発光スペクトルを検出する。
いて、円板４は検出窓２を遮へいするに充分な大きさを
持っており、真空回転導入部５を介してモーター６と接
続され一定の速度で回転する。円板４には検出器１の光
軸と一致する半径上の１点に検出穴３があり、検出器１
は前記検出穴３を通して検出窓２越しに真空処理室７内
のプラズマの発光スペクトルを検出する。
検出°器１でのプラズマ発光スペクトルの検出は円板４
一回転につき１回の割合で行われ、パルス状に入射され
るプラズマからの光を検出器１でとらえる。円板４は真
空処理室７の隔壁７ａとわずかなりリアランスを保って
回転し、真空処理室７の雰囲気が円板４の周囲から隔壁
７ａとの間に回り込むのを最小限におさえている。さら
に検出穴３の大きさは円板４を回転したときの検出穴３
の軌跡にくらべて非常に小さいため、エツチング中に発
生する反応生成物や反応ガスによって検出窓２が汚染さ
れることが非常に少ない。
一回転につき１回の割合で行われ、パルス状に入射され
るプラズマからの光を検出器１でとらえる。円板４は真
空処理室７の隔壁７ａとわずかなりリアランスを保って
回転し、真空処理室７の雰囲気が円板４の周囲から隔壁
７ａとの間に回り込むのを最小限におさえている。さら
に検出穴３の大きさは円板４を回転したときの検出穴３
の軌跡にくらべて非常に小さいため、エツチング中に発
生する反応生成物や反応ガスによって検出窓２が汚染さ
れることが非常に少ない。
（実施例２）
第２図は本発明の実施例２の縦断面図である。
電源９によって２つの電極１１ａ、 ｌｌｂ間に作られ
た電界中にガス導入ロアｂからガスを導入してプラズマ
を発生させ、電極１１ａに装着したターゲット１２にイ
オンを衝突させることにより、ターゲット１２から金属
原子を飛び出させ、金属原子を基板１３に付着させるス
パ゛ツタ装置に適用した例である。
た電界中にガス導入ロアｂからガスを導入してプラズマ
を発生させ、電極１１ａに装着したターゲット１２にイ
オンを衝突させることにより、ターゲット１２から金属
原子を飛び出させ、金属原子を基板１３に付着させるス
パ゛ツタ装置に適用した例である。
この実施例では検出穴を有した円板４により金属原子が
検出窓２に付着するのを最小限に抑えることができるた
め、電極１１ａからの発光スペクトルが正確に検出でき
、ターゲット１２の終点を検出することができるという
利点がある。
検出窓２に付着するのを最小限に抑えることができるた
め、電極１１ａからの発光スペクトルが正確に検出でき
、ターゲット１２の終点を検出することができるという
利点がある。
以上説明したように本発明は回転する円板で検出窓を反
応生成物の汚れなどから保護することにより、必要とす
るスペクトルの透過率が変化することなく、正確なモニ
タリングを行うことができ。
応生成物の汚れなどから保護することにより、必要とす
るスペクトルの透過率が変化することなく、正確なモニ
タリングを行うことができ。
エツチングの終点検出精度を向上できる効果がある。
第１図は本発明の実施例１を示す縦断面図、第２図は本
発明の実施例２の縦断面図、第３図は従来の終点検出装
置の使用例を示す縦断面図である。
発明の実施例２の縦断面図、第３図は従来の終点検出装
置の使用例を示す縦断面図である。
Claims (1)
- （１）真空処理室内での発光スペクトルを光学的に検出
器で検出する終点検出装置において、真空処理室に設け
られた検出窓の真空処理室側に該検出窓を遮へいする円
板を回動可能に設け、検出器の光軸と一致する該円板の
半径上に検出穴を設けたことを特徴とする終点検出装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27609486A JPS63128719A (ja) | 1986-11-19 | 1986-11-19 | 終点検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27609486A JPS63128719A (ja) | 1986-11-19 | 1986-11-19 | 終点検出装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63128719A true JPS63128719A (ja) | 1988-06-01 |
Family
ID=17564718
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27609486A Pending JPS63128719A (ja) | 1986-11-19 | 1986-11-19 | 終点検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63128719A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008521241A (ja) * | 2004-11-18 | 2008-06-19 | セミシスコ・カンパニー・リミテッド | ボッシュプロセスに用いる乾式エッチング装置、乾式エッチング終了点検出装置及びその電気素子の形成方法 |
| US9314824B2 (en) | 2013-11-08 | 2016-04-19 | Mks Instruments, Inc. | Powder and deposition control in throttle valves |
| CN104217916B (zh) * | 2014-08-20 | 2017-07-28 | 上海天马有机发光显示技术有限公司 | 一种刻蚀装置、刻蚀系统及刻蚀终点探测方法 |
-
1986
- 1986-11-19 JP JP27609486A patent/JPS63128719A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008521241A (ja) * | 2004-11-18 | 2008-06-19 | セミシスコ・カンパニー・リミテッド | ボッシュプロセスに用いる乾式エッチング装置、乾式エッチング終了点検出装置及びその電気素子の形成方法 |
| US9314824B2 (en) | 2013-11-08 | 2016-04-19 | Mks Instruments, Inc. | Powder and deposition control in throttle valves |
| CN104217916B (zh) * | 2014-08-20 | 2017-07-28 | 上海天马有机发光显示技术有限公司 | 一种刻蚀装置、刻蚀系统及刻蚀终点探测方法 |
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