JP2543732Y2 - X線銃 - Google Patents

X線銃

Info

Publication number
JP2543732Y2
JP2543732Y2 JP1990400644U JP40064490U JP2543732Y2 JP 2543732 Y2 JP2543732 Y2 JP 2543732Y2 JP 1990400644 U JP1990400644 U JP 1990400644U JP 40064490 U JP40064490 U JP 40064490U JP 2543732 Y2 JP2543732 Y2 JP 2543732Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ray
cap
anode
window
window material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP1990400644U
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0488652U (ja
Inventor
雄嗣 小玉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP1990400644U priority Critical patent/JP2543732Y2/ja
Publication of JPH0488652U publication Critical patent/JPH0488652U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2543732Y2 publication Critical patent/JP2543732Y2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Medical Preparation Storing Or Oral Administration Devices (AREA)
  • Infusion, Injection, And Reservoir Apparatuses (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本考案は、主としてX線光電子分
析装置に装備されるX線銃に関する。
【0002】
【従来の技術】X線光電子分析装置は、試料に軟X線を
照射し、試料表面から放出される光電子のエネルギーを
測定して、試料の表面分析をするもので、その概略構成
を図4に示す。
【0003】図4において、21は真空チャンバであ
り、この真空チャンバ21内に、試料ステージ22と、
試料パレット23と、X線銃24と、アナライザ25に
接続されたレンズ26とが設けられている。
【0004】試料パレット23上にセットされた試料S
には、X線銃24から励起X線が照射される。試料Sか
ら放出される光電子は、レンズ26で集束されてアナラ
イザ25に導入され、そのエネルギーが測定される。
【0005】27は観察窓であって、その外側には顕微
鏡等の光学系28が設けられる。この光学系28と、試
料S上に臨出するミラー29とによって、試料S表面が
光学的に観察される。このほか、図示省略したが、真空
チャンバ21内には、通常、イオン銃が設けられる。
【0006】次に、上記の光電子分析装置に装備される
従来のX線銃24は、図5に示すように、アノード30
と、その先端近傍に配置されたフィラメント31と、ア
ノード30の基部を被覆するケーシング32と、ケーシ
ング32に取り付けられてアノード30とフィラメント
31との間に介在するウェネルト33と、アノード30
の先端外周を覆うキャップ34とからなる。
【0007】キャップ34は、試料S側への電子の流出
や電界の波及を阻止して試料Sの帯電を防止するととも
に、アノード30からの蒸発物粒子の試料Sへの付着を
防止するためのもので、ステンレス鋼もしくは銅製で、
窓孔を有し、この窓孔にアルミニウム箔等の金属箔から
なる窓材35が張設されている。
【0008】そして、フィラメント31から放出される
熱電子がアノード30の先端部表面に衝突することで、
アノード30先端部に設けられたターゲットから、その
元素に応じた波長のX線を発生し、そのX線はキャップ
34の窓材35を通じて試料Sに照射される。
【0009】
【考案が解決しようとする課題】ところで、X線光電子
分析装置においては、イオン銃によるイオンエッチング
で、試料S表面をクリーニング処理したり、試料Sを所
要の深さまで切削したりするが、その際、微粒子が発生
し、このような微粒子がキャップ34の窓材35に付着
して、X線の透過を阻害する。そのため、窓材35は、
頻繁に取り換えなければならない。
【0010】また、励起X線としてZrMζ線のような
エネルギーの低いX線を使用する場合、アルミニウム箔
のような窓材35では、充分な量のX線が透過しないの
で、このような場合も、窓材の取り換えが必要になる。
【0011】このように、従来のX線銃24では、キャ
ップ窓材35を交換する必要性が数多く生じ、その度に
真空チャンバ21をリークしたり、再び真空引きしたり
しなければならず、面倒である。
【0012】本考案は、上記の問題点に鑑みてなされた
ものであって、真空チャンバ内でキャップ窓材の交換を
可能にし、真空チャンバを開放した上での窓材の交換頻
度を可及的少なくするものである。
【0013】
【課題を解決するための手段】本考案は、上記の課題を
達成するために、アノードと、その先端近傍に配置され
たフィラメントと、アノードの基部を被覆するケーシン
グと、X線透過用窓材を有しアノードの先端外周を覆う
キャップとを備えたX線銃において、キャップはアノー
ドの周りで回転しうるようケーシングに設けられてお
り、前記窓材は、X線透過箇所に位置する窓領域が前記
キャップの回転に伴って変動するものであることに特徴
を有している。
【0014】
【作用】上記構成において、キャップの窓材に微粒子が
付着して汚染された場合は、キャップを回転させて、ま
だ汚染されていない窓領域をX線透過個所に臨ませれば
よい。また、窓材の一部に金属メッシュのようなX線透
過性の良い部材を張設しておけば、キャップを回転させ
て高透過性の窓材の領域をX線透過個所に位置させるこ
とで、低エネルギーX線の照射が可能になる。
【0015】
【実施例】図1ないし図3は本考案の実施例に係り、図
1は一実施例のX線銃の断面図、図2はそのキャップの
斜視図、図3は他の実施例に係るキャップとアノードと
の斜視図である。
【0016】図1に示すように、この実施例のX線銃
が、アノード1と、その先端近傍に配置されたフィラメ
ント2と、アノード1の基部を被覆するケーシング3
と、ケーシング3に取り付けられてアノード1とフィラ
メント2との間に介在するウェネルト4と、アノード1
の先端外周を覆うキャップ5とからなり、かつ、キャッ
プ5は窓孔を有し、この窓孔にX線透過用の窓材6(6
a,6b)が張設されている点は、従来のX線銃と同じ
である。
【0017】この実施例のX線銃が従来例と異なる点
は、キャップ5がアノード1の周りで回転しうるように
ベアリング7を介してケーシング3に取り付けられてい
ることである。キャップ5の基部外周には、外歯のリン
グギア8が固着され、このリングギア8には、モータ等
の駆動手段9の駆動により回転する伝動ギア10が噛合
している。キャップ5とケーシング3とは、いずれも接
地される。一方、アノード1は棒状に形成されていて、
その軸心周りに回転可能で、モータのような駆動手段1
1の駆動により回転するようになっている。そして、両
駆動手段9、11は、いずれも真空チャンバの外部から
の操作で制御されるようになっている。
【0018】図2に示すように、キャップ5は、先端部
の周方向に沿って少なくとも2個の窓孔を有し、各窓孔
にはそれぞれアルミニウム箔のようなX線透過用窓材6
a,6bが張設されている。これらの窓材6a,6b
は、同種でも異種のものであってもよい。
【0019】図3の実施例においては、キャップ5の先
端部に、周方向3個の窓孔が形成され、各窓孔のうち、
2個の窓孔にはアルミニウム箔のような金属箔からなる
窓材6a,6bが張設されているが、他の1個の窓孔に
は銅のような金属メッシュからなる窓材6cが張設され
ている。
【0020】一方、アノード1の先端には、その周方向
に沿って複数(図では4個)のターゲット12(12
a,12b,12c,12d)が設けられている。ター
ゲット12としては、Al,Ti,Mg,Zr等の金属
が用いられる。
【0021】上記の構成において、フィラメント2から
放出される熱電子がアノード1の先端部表面のいずれか
のターゲット12に衝突することで、該ターゲット12
からは、その元素に応じた波長のX線を発生し、そのX
線はキャップ5の窓材6を通じて試料に照射される。
【0022】分析途中で試料のイオンエッチングを行う
と、微粒子が発生飛散する。この微粒子が窓材6に多量
に付着すると、窓材6でのX線透過量が減少する。この
ような場合、キャップ5を回転させると、窓材6各部の
うち、まだ汚染されていない部分がX線透過個所に臨む
ことになり、再び充分な量のX線を照射しうるようにな
る。
【0023】また、図3に示した実施例では、アノード
1を回転させて、Zrのような低エネルギーX線を発生
するターゲット(例えば12d)をフィラメント2と対
応する角度位置に合わせるとともに、キャップ5を回転
させて、金属メッシュのようなX線透過性の良い窓材6
cをX線透過個所に臨ませることにより、低エネルギー
X線を減衰させることなく窓材6cを通じて試料に照射
することができる。
【0024】
【考案の効果】本考案によれば、アノードの周りでキャ
ップを回転させることで、付着物で汚染されていない窓
領域、もしくはX線透過性の良い窓領域をX線透過個所
に臨ませることが可能で、キャップは真空チャンバの外
部からの操作で回転させることができるから、真空チャ
ンバ内で窓領域の変更が可能であり、従来のように、真
空チャンバをリークしたり真空引きする必要がなく、真
空チャンバを開放した上での窓材の交換が極めて少なく
て済む。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の一実施例に係るX線銃の断面図であ
る。
【図2】本考案の一実施例におけるキャップの斜視図で
ある。
【図3】本考案の他の実施例におけるキャップとアノー
ドとの斜視図である。
【図4】X線光電子分析装置の構成図である。
【図5】従来のX線銃の断面図である。
【符号の説明】
1 アノード 2 フィラメント 3 ケーシング 5 キャップ 6 窓材

Claims (1)

    (57)【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 アノードと、その先端近傍に配置された
    フィラメントと、アノードの基部を被覆するケーシング
    と、X線透過用の窓材を有しアノードの先端外周を覆う
    キャップとを備えたX線銃であって、 前記キャップは、アノードの周りで回転しうるようケー
    シングに設けられており、 前記窓材は、X線透過箇所に位置する窓領域が前記キャ
    ップの回転に伴って変動するものである、 ことを特徴とするX線銃。
JP1990400644U 1990-12-14 1990-12-14 X線銃 Expired - Lifetime JP2543732Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1990400644U JP2543732Y2 (ja) 1990-12-14 1990-12-14 X線銃

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1990400644U JP2543732Y2 (ja) 1990-12-14 1990-12-14 X線銃

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0488652U JPH0488652U (ja) 1992-07-31
JP2543732Y2 true JP2543732Y2 (ja) 1997-08-13

Family

ID=31878861

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1990400644U Expired - Lifetime JP2543732Y2 (ja) 1990-12-14 1990-12-14 X線銃

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2543732Y2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101289502B1 (ko) 2005-10-07 2013-07-24 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 X선관 및 비파괴 검사 장치
JP5214361B2 (ja) * 2008-07-31 2013-06-19 株式会社東芝 X線管およびx線分析装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6049890B2 (ja) * 1979-07-23 1985-11-05 日本電信電話株式会社 分割露光用回転シャッタ
JPH0719669B2 (ja) * 1988-10-18 1995-03-06 三菱電機株式会社 レーザ励起型x線の発生装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0488652U (ja) 1992-07-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
GB2133208A (en) X-ray sources
JP2007287643A (ja) X線発生方法及びx線発生装置
GB1559354A (en) Ray source assembly
JP2543732Y2 (ja) X線銃
JPH0235417B2 (ja)
JP3812165B2 (ja) X線管
US4740683A (en) X-ray image intensifier with phosphor layer of varying thickness
US4217517A (en) Small divergence x-ray tube
US5383232A (en) Rotating anode for composite X-ray tube
JPH05314941A (ja) Fib/eb複合装置
JP2000277042A (ja) X線管
WO2022018265A2 (en) Target assembly, x-ray apparatus, structure measurement apparatus, structure measurement method, and method of modifying a target assembly
JPH05119199A (ja) レーザプラズマx線源用ターゲツト
US3150255A (en) Viewing window for electronoptical devices
JP2001015056A (ja) 試料ホルダーおよび該試料ホルダーに用いるスペーサー
JP3729896B2 (ja) 回転陽極型x線管
JP3684106B2 (ja) 成膜装置
JP2637482B2 (ja) 放射線像拡大観察装置
JP2768544B2 (ja) X線光源装置
JPH1068683A (ja) 透過電子顕微鏡用薄膜試料の作製方法
JP2002319365A (ja) ステージ及びfib試料作成装置
JPH0836978A (ja) X線発生装置
JPH0351881Y2 (ja)
JPH08146197A (ja) 反射鏡固定方法及び反射鏡ホルダー
JPH0583880B2 (ja)