JPH0836978A - Ｘ線発生装置 - Google Patents
Ｘ線発生装置Info
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- JPH0836978A JPH0836978A JP17437494A JP17437494A JPH0836978A JP H0836978 A JPH0836978 A JP H0836978A JP 17437494 A JP17437494 A JP 17437494A JP 17437494 A JP17437494 A JP 17437494A JP H0836978 A JPH0836978 A JP H0836978A
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- electron
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- electron tube
- tube
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 この発明は構成簡単にして小形化を計ること
ができるようにしたＸ線発生装置を提供することにあ
る。 【構成】 Ｘ線を発生させるためのＸ線発生装置におい
て、内部が所定の真空度に減圧された電子管１と、この
電子管内に封じ込められた電子を放出する電子銃２と、
この電子銃から放出された電子を衝突させることでＸ線
を発生させるタ−ゲット５と、上記電子管の中途部に設
けられ上記電子銃からの電子を所定の位置に集束する電
磁レンズ３と、上記電子管に気密に設けられ上記電子銃
からの電子あるいは上記タ−ゲットからのＸ線を透過さ
せる透過窓４とを具備したことを特徴とする。
ができるようにしたＸ線発生装置を提供することにあ
る。 【構成】 Ｘ線を発生させるためのＸ線発生装置におい
て、内部が所定の真空度に減圧された電子管１と、この
電子管内に封じ込められた電子を放出する電子銃２と、
この電子銃から放出された電子を衝突させることでＸ線
を発生させるタ−ゲット５と、上記電子管の中途部に設
けられ上記電子銃からの電子を所定の位置に集束する電
磁レンズ３と、上記電子管に気密に設けられ上記電子銃
からの電子あるいは上記タ−ゲットからのＸ線を透過さ
せる透過窓４とを具備したことを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は電子線をタ−ゲットに
衝突させてＸ線を発生させるＸ線発生装置に関する。
衝突させてＸ線を発生させるＸ線発生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】電気を帯びた粒子である、電子が速度を
急速に変えると電磁波（Ｘ線）が発生することが知られ
ている。そこで、Ｘ線を大量に発射させる場合、電子を
タングステンなどの材料で形成されたタ−ゲットに衝突
させることで、Ｘ線を発射させるということが行われて
いる。
急速に変えると電磁波（Ｘ線）が発生することが知られ
ている。そこで、Ｘ線を大量に発射させる場合、電子を
タングステンなどの材料で形成されたタ−ゲットに衝突
させることで、Ｘ線を発射させるということが行われて
いる。
【０００３】このようなＸ線発生装置は、電子を放出す
る、電子放出部となる電子銃が封じ込められた電子管を
備えており、Ｘ線を多量に発生させるためには、上記電
子銃からの電子を高速に加速して上記タ−ゲットに衝突
させるようにしている。
る、電子放出部となる電子銃が封じ込められた電子管を
備えており、Ｘ線を多量に発生させるためには、上記電
子銃からの電子を高速に加速して上記タ−ゲットに衝突
させるようにしている。
【０００４】従来、上記電子銃が設けられた電子管には
真空ポンプが備えられ、この真空ポンプによって電子の
放出に必要な高い減圧状態を作り出すようにしている。
しかしながら、真空ポンプを用いて減圧状態を作り出す
ようにすると、その真空ポンプを設置するのに必要なス
ペ−スが要求されたり、真空ポンプと電子管とを配管接
続しなければならないなどのことによって装置が大型化
や複雑化し、コスト高を招くなどのことがあった。
真空ポンプが備えられ、この真空ポンプによって電子の
放出に必要な高い減圧状態を作り出すようにしている。
しかしながら、真空ポンプを用いて減圧状態を作り出す
ようにすると、その真空ポンプを設置するのに必要なス
ペ−スが要求されたり、真空ポンプと電子管とを配管接
続しなければならないなどのことによって装置が大型化
や複雑化し、コスト高を招くなどのことがあった。
【０００５】また、電子を衝突させることでＸ線を発生
するタ−ゲットは、上記電子管の内部に設けられてい
た。そのため、上記タ−ゲットが使用中に損傷した場
合、電子管内に設けられたタ−ゲットを交換するのに多
くに手間がかかるため、その交換作業の能率化が要求さ
れていた。
するタ−ゲットは、上記電子管の内部に設けられてい
た。そのため、上記タ−ゲットが使用中に損傷した場
合、電子管内に設けられたタ−ゲットを交換するのに多
くに手間がかかるため、その交換作業の能率化が要求さ
れていた。
【０００６】さらに、電子銃から放出された電子を単に
タ−ゲットに衝突させたのでは、このタ−ゲットから発
生するＸ線の強度を十分に高くすることができないか
ら、たとえばＸ線検査を行なうような場合、その検査を
高い分解能で行なえないということがあった。
タ−ゲットに衝突させたのでは、このタ−ゲットから発
生するＸ線の強度を十分に高くすることができないか
ら、たとえばＸ線検査を行なうような場合、その検査を
高い分解能で行なえないということがあった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来のＸ
線発生装置は、電子管内を減圧するのに、上記真空管に
真空ポンプを接続して行なうようにしていたので、装置
の大型化や複雑化を招くということがあった。
線発生装置は、電子管内を減圧するのに、上記真空管に
真空ポンプを接続して行なうようにしていたので、装置
の大型化や複雑化を招くということがあった。
【０００８】また、電子を衝突させてＸ線を発生させる
タ−ゲットを電子管内に設けていたので、その交換作業
が容易でないということがあった。さらに、電子銃で発
生した電子を単にタ−ゲットに衝突させるだけでは、Ｘ
線の強度を十分に高くすることができないということも
あった。
タ−ゲットを電子管内に設けていたので、その交換作業
が容易でないということがあった。さらに、電子銃で発
生した電子を単にタ−ゲットに衝突させるだけでは、Ｘ
線の強度を十分に高くすることができないということも
あった。
【０００９】この発明の第１の目的は、真空ポンプを用
いないですむようにしたＸ線発生装置を提供することに
ある。この発明の第２の目的は、タ−ゲットの交換作業
を容易かつ迅速に行えるようにしたＸ線発生装置を提供
することにある。この発明の第３の目的は、強度の高い
Ｘ線を得ることができるようにしたＸ線発生装置を提供
することにある。
いないですむようにしたＸ線発生装置を提供することに
ある。この発明の第２の目的は、タ−ゲットの交換作業
を容易かつ迅速に行えるようにしたＸ線発生装置を提供
することにある。この発明の第３の目的は、強度の高い
Ｘ線を得ることができるようにしたＸ線発生装置を提供
することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載されたこ
の発明は、Ｘ線を発生させるためのＸ線発生装置におい
て、内部が所定の真空度に減圧された電子管と、この電
子管内に封じ込められた電子を放出する電子放出部と、
この電子放出部から放出された電子を衝突させることで
Ｘ線を発生させるタ−ゲットと、上記電子管の中途部に
設けられ上記電子放出部からの電子を所定の位置に集束
する集束手段と、上記電子管に気密に設けられ上記電子
放出部からの電子あるいは上記タ−ゲットからのＸ線を
透過させる透過窓とを具備したことを特徴とする。
の発明は、Ｘ線を発生させるためのＸ線発生装置におい
て、内部が所定の真空度に減圧された電子管と、この電
子管内に封じ込められた電子を放出する電子放出部と、
この電子放出部から放出された電子を衝突させることで
Ｘ線を発生させるタ−ゲットと、上記電子管の中途部に
設けられ上記電子放出部からの電子を所定の位置に集束
する集束手段と、上記電子管に気密に設けられ上記電子
放出部からの電子あるいは上記タ−ゲットからのＸ線を
透過させる透過窓とを具備したことを特徴とする。
【００１１】請求項２に記載されたこの発明は、上記タ
−ゲットは、上記電子管の外部に上記透過窓に近接して
配置されていることを特徴とする。請求項３に記載され
たこの発明は、上記タ−ゲット上に上記集束手段の焦点
が一致するよう上記タ−ゲットが配置されていることを
特徴とする。
−ゲットは、上記電子管の外部に上記透過窓に近接して
配置されていることを特徴とする。請求項３に記載され
たこの発明は、上記タ−ゲット上に上記集束手段の焦点
が一致するよう上記タ−ゲットが配置されていることを
特徴とする。
【００１２】
【作用】請求項１に記載された発明によれば、電子管が
予め所定の減圧状態で密封状態に形成されているから、
この電子管に真空ポンプを接続して減圧状態を維持せず
にすむ。
予め所定の減圧状態で密封状態に形成されているから、
この電子管に真空ポンプを接続して減圧状態を維持せず
にすむ。
【００１３】請求項２に記載された発明によれば、タ−
ゲットが電子管の外部に配置されているから、その交換
作業を容易に行える。請求項３に記載されたこの発明に
よれば、電子によるタ−ゲットの照射面積が最小になる
から、そのタ−ゲットから発生するＸ線のビ−ム断面積
も最小となって強度が高くなる。
ゲットが電子管の外部に配置されているから、その交換
作業を容易に行える。請求項３に記載されたこの発明に
よれば、電子によるタ−ゲットの照射面積が最小になる
から、そのタ−ゲットから発生するＸ線のビ−ム断面積
も最小となって強度が高くなる。
【００１４】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図面を参照して
説明する。図１に示すＸ線発生装置は電子管１を備えて
いる。この電子管１はガラスなどの透磁性材料によって
チュ−ブ状に形成されていて、その内部は予め１０-8To
rr台の低圧に減圧されている。
説明する。図１に示すＸ線発生装置は電子管１を備えて
いる。この電子管１はガラスなどの透磁性材料によって
チュ−ブ状に形成されていて、その内部は予め１０-8To
rr台の低圧に減圧されている。
【００１５】上記電子管１の軸方向一端側には電子放出
部としての電子銃２が気密に封じ込められている。この
電子銃２は、アノ−ド２ａおよびこのアノ−ド２ａとの
間に高電圧が印加されて電子線（電子）を発生するカソ
−ド２ｂと、このカソ−ド２ｂからの電子線を加速する
グリッド２ｃを備えている。
部としての電子銃２が気密に封じ込められている。この
電子銃２は、アノ−ド２ａおよびこのアノ−ド２ａとの
間に高電圧が印加されて電子線（電子）を発生するカソ
−ド２ｂと、このカソ−ド２ｂからの電子線を加速する
グリッド２ｃを備えている。
【００１６】上記電子管１の中途部外周面には、集束手
段としてのコイルからなる電磁レンズ３が設けられてい
る。この電磁レンズ３は、上記カソ−ド２ｂから発生さ
せれられてグリッド２ｃで加速された電子線を所定の位
置で集束するようになっている。この電磁レンズ３によ
り集束される電子線の焦点距離は、そのコイルに印加す
る電圧を制御することによって調節できるようになって
いる。
段としてのコイルからなる電磁レンズ３が設けられてい
る。この電磁レンズ３は、上記カソ−ド２ｂから発生さ
せれられてグリッド２ｃで加速された電子線を所定の位
置で集束するようになっている。この電磁レンズ３によ
り集束される電子線の焦点距離は、そのコイルに印加す
る電圧を制御することによって調節できるようになって
いる。
【００１７】上記電子管１の軸方向他端面には上記電子
銃２からの電子線を出射させるための透過窓４が気密に
形成されている。この透過窓４は、たとえば金属ベリリ
ウムやカ−ボンなどの低原子番号の材料によって形成さ
れた薄膜４ａからなり、上記電子線を透過させることが
できるとともに、所定の圧力差に耐えることができるよ
うになっている。
銃２からの電子線を出射させるための透過窓４が気密に
形成されている。この透過窓４は、たとえば金属ベリリ
ウムやカ−ボンなどの低原子番号の材料によって形成さ
れた薄膜４ａからなり、上記電子線を透過させることが
できるとともに、所定の圧力差に耐えることができるよ
うになっている。
【００１８】つまり、上記薄膜４ａは、電子管１の内部
と大気との隔壁機能を持たせるため、電子管１の内部と
外部との圧力差である、たとえば１atm 程度の差圧に耐
え得る強度、つまり膜厚に設定されている。
と大気との隔壁機能を持たせるため、電子管１の内部と
外部との圧力差である、たとえば１atm 程度の差圧に耐
え得る強度、つまり膜厚に設定されている。
【００１９】上記透過窓４から出射した電子線はタ−ゲ
ット５に衝突する。つまり、タ−ゲット５は、回転盤１
１に周方向に沿って形成された複数の保持部１２にそれ
ぞれ保持されている。上記回転盤１１は駆動源１３によ
って所定角度づつ回転駆動することができるようになっ
ている。
ット５に衝突する。つまり、タ−ゲット５は、回転盤１
１に周方向に沿って形成された複数の保持部１２にそれ
ぞれ保持されている。上記回転盤１１は駆動源１３によ
って所定角度づつ回転駆動することができるようになっ
ている。
【００２０】回転盤１１の１つの保持部１２を上記透過
窓４に対向させれば、その保持部１２に保持されたタ−
ゲット５を上記透過窓４を形成する薄膜４ａに、密着あ
るいはミクロン単位の距離となるよう、近接状態で位置
決めすることができる。なお、タ−ゲット５を透過窓の
薄膜４ａに密着させるためには、上記回転盤１１を駆動
源１３によって回転させるだけでなく、上下方向にも駆
動できる構成とすればよい。
窓４に対向させれば、その保持部１２に保持されたタ−
ゲット５を上記透過窓４を形成する薄膜４ａに、密着あ
るいはミクロン単位の距離となるよう、近接状態で位置
決めすることができる。なお、タ−ゲット５を透過窓の
薄膜４ａに密着させるためには、上記回転盤１１を駆動
源１３によって回転させるだけでなく、上下方向にも駆
動できる構成とすればよい。
【００２１】上記タ−ゲット５はタングステンなどの材
料によって形成されていて、電子線が衝突することでＸ
線が発生し、そのＸ線はタ−ゲット５を透過する方向に
発射する。つまり、タ−ゲット５はＸ線透過型光学系を
構成している。
料によって形成されていて、電子線が衝突することでＸ
線が発生し、そのＸ線はタ−ゲット５を透過する方向に
発射する。つまり、タ−ゲット５はＸ線透過型光学系を
構成している。
【００２２】上記電子線は、上記タ−ゲット５上に集束
するよう、その焦点距離が上記電磁レンズ３によって設
定されている。電磁レンズ３の焦点がタ−ゲット５上に
設定されることで、電子線はたとえば１ミクロン程度の
スポットサイズでタ−ゲット５を照射する。タ−ゲット
５を照射する電子線のスポット径が小さければ、このタ
−ゲット５から発射するＸ線のサイズも最小となるか
ら、上記タ−ゲット５からは最大の強度でＸ線を発射さ
せることができる。つまり、分解能の高いＸ線を発生さ
せることができる。
するよう、その焦点距離が上記電磁レンズ３によって設
定されている。電磁レンズ３の焦点がタ−ゲット５上に
設定されることで、電子線はたとえば１ミクロン程度の
スポットサイズでタ−ゲット５を照射する。タ−ゲット
５を照射する電子線のスポット径が小さければ、このタ
−ゲット５から発射するＸ線のサイズも最小となるか
ら、上記タ−ゲット５からは最大の強度でＸ線を発射さ
せることができる。つまり、分解能の高いＸ線を発生さ
せることができる。
【００２３】上記タ−ゲット５から発射したＸ線は測定
物６を照射して透過する。測定物６を透過したＸ線は投
影面７上に上記測定物６の透過像を結像する。透過像の
倍率は上記測定物６に対する上記投影面７の距離によっ
て設定することができる。
物６を照射して透過する。測定物６を透過したＸ線は投
影面７上に上記測定物６の透過像を結像する。透過像の
倍率は上記測定物６に対する上記投影面７の距離によっ
て設定することができる。
【００２４】上記構成のＸ線発生装置によれば、電子管
１を予め所定の真空度に減圧した構成としたから、真空
ポンプを接続することなく、その内部を減圧状態に維持
することができる。真空ポンプを必要としなければ、全
体の構成を小型かつ簡略化することができる。
１を予め所定の真空度に減圧した構成としたから、真空
ポンプを接続することなく、その内部を減圧状態に維持
することができる。真空ポンプを必要としなければ、全
体の構成を小型かつ簡略化することができる。
【００２５】また、電子線の衝突が繰り返されるタ−ゲ
ット５は使用にともない損傷する。透過窓４に対向して
配置されたタ−ゲット５が損傷したならば、駆動源１３
を作動させて回転板１１を所定角度回転させ、上記回転
板１のほかの保持部１２に保持されたタ−ゲット５を上
記透過窓４に対向位置決めすればよい。したがって、上
記タ−ゲット５の交換作業を容易かつ迅速に行うことが
できる。
ット５は使用にともない損傷する。透過窓４に対向して
配置されたタ−ゲット５が損傷したならば、駆動源１３
を作動させて回転板１１を所定角度回転させ、上記回転
板１のほかの保持部１２に保持されたタ−ゲット５を上
記透過窓４に対向位置決めすればよい。したがって、上
記タ−ゲット５の交換作業を容易かつ迅速に行うことが
できる。
【００２６】タ−ゲット５を電子管１の外部に設けて
も、そのタ−ゲット５が透過窓４の薄膜４ａに近接して
配置されることで、電子銃２からの電子線が大気中を飛
翔する距離を極めて小さくすることができる。そのた
め、薄膜４ａを透過した電子線が大気の影響を受けて散
乱するということがほとんどないから、タ−ゲット５上
に、たとえば１ミクロン程度の極小のスポットサイズに
絞り込むことが可能であり、その結果、極小サイズのＸ
線、つまり分解能の高いＸ線を発射させることができ
る。Ｘ線は電子線に比べて高エネルギであるから、タ−
ゲット５から発射されたあと、大気中を飛翔しても散乱
するようなことはほとんどない。
も、そのタ−ゲット５が透過窓４の薄膜４ａに近接して
配置されることで、電子銃２からの電子線が大気中を飛
翔する距離を極めて小さくすることができる。そのた
め、薄膜４ａを透過した電子線が大気の影響を受けて散
乱するということがほとんどないから、タ−ゲット５上
に、たとえば１ミクロン程度の極小のスポットサイズに
絞り込むことが可能であり、その結果、極小サイズのＸ
線、つまり分解能の高いＸ線を発射させることができ
る。Ｘ線は電子線に比べて高エネルギであるから、タ−
ゲット５から発射されたあと、大気中を飛翔しても散乱
するようなことはほとんどない。
【００２７】上記Ｘ線はタ−ゲット５を透過して発生す
る。つまり、タ−ゲット５は透過光学系を構成してい
る。そのため、上記タ−ゲット５に測定物６を近接させ
て配置できるから、測定倍率を高くするために測定面７
との距離を大きくしても、装置全体の大きさを比較的小
さくすることが可能となる。
る。つまり、タ−ゲット５は透過光学系を構成してい
る。そのため、上記タ−ゲット５に測定物６を近接させ
て配置できるから、測定倍率を高くするために測定面７
との距離を大きくしても、装置全体の大きさを比較的小
さくすることが可能となる。
【００２８】電子管１を予め所定の圧力に減圧したこと
で、透過窓４の薄膜４ａには耐圧性が要求されるから、
その要求に応じて上記薄膜４ａの膜厚を設定しなければ
ならない。
で、透過窓４の薄膜４ａには耐圧性が要求されるから、
その要求に応じて上記薄膜４ａの膜厚を設定しなければ
ならない。
【００２９】図２はベリリウムからなる薄膜４ａの膜厚
を２ミクロンとして１atm 程度の差圧に耐える厚さと
し、Ｘ線を発生させるために電子銃２に１００ｋｅＶの
加速電圧を印加した場合に、上記薄膜４ａを透過する電
子線の透過率を測定した結果を示す。この図から分かる
ように、上記薄膜４ａを耐圧性を備えた厚さとしても、
電子線の透過率は９０％（同図における透過確率で0.55
％）程度を確保できることが確認された。
を２ミクロンとして１atm 程度の差圧に耐える厚さと
し、Ｘ線を発生させるために電子銃２に１００ｋｅＶの
加速電圧を印加した場合に、上記薄膜４ａを透過する電
子線の透過率を測定した結果を示す。この図から分かる
ように、上記薄膜４ａを耐圧性を備えた厚さとしても、
電子線の透過率は９０％（同図における透過確率で0.55
％）程度を確保できることが確認された。
【００３０】なお、上記一実施例ではタ−ゲットを電子
管の外部に近接して配置したが、内部に配置するように
してもよい。また、集束手段としては電磁レンズに限ら
れず、電子管内に静電レンズを配置する構成であっても
よい。さらにこの発明のＸ線発生装置の用途は、測定物
の測定に限らず、電子線アシストエッチングやデポジシ
ョンなどにも適用可能である。
管の外部に近接して配置したが、内部に配置するように
してもよい。また、集束手段としては電磁レンズに限ら
れず、電子管内に静電レンズを配置する構成であっても
よい。さらにこの発明のＸ線発生装置の用途は、測定物
の測定に限らず、電子線アシストエッチングやデポジシ
ョンなどにも適用可能である。
【００３１】
【発明の効果】以上述べたように請求項１の発明は、電
子放出部が封じ込められた電子管の内部を、所定の真空
度に減圧するようにした。そのため、従来のように真空
ポンプを接続して上記電子管内の真空度を維持するとい
うことをせずにすむから、装置の構成の簡略化や小形化
を計ることができる。
子放出部が封じ込められた電子管の内部を、所定の真空
度に減圧するようにした。そのため、従来のように真空
ポンプを接続して上記電子管内の真空度を維持するとい
うことをせずにすむから、装置の構成の簡略化や小形化
を計ることができる。
【００３２】請求項２の発明は、電子線が衝突すること
でＸ線を発生するタ−ゲットを電子管の外部の、上記電
子線が出射される透過窓に近接させて配置するようにし
た。そのため、上記タ−ゲットが使用にともない損傷し
た場合の交換が容易であり、また透過窓に近接している
ことで、外部であっても電子が大気中を飛翔することが
ほとんどないから、その散乱を防止できる。
でＸ線を発生するタ−ゲットを電子管の外部の、上記電
子線が出射される透過窓に近接させて配置するようにし
た。そのため、上記タ−ゲットが使用にともない損傷し
た場合の交換が容易であり、また透過窓に近接している
ことで、外部であっても電子が大気中を飛翔することが
ほとんどないから、その散乱を防止できる。
【００３３】請求項３の発明は、電子線の焦点がタ−ゲ
ット上になるよう位置決めしたから、このタ−ゲットか
ら発生するＸ線の口径を小さくし、その分解能を高める
ことができる。
ット上になるよう位置決めしたから、このタ−ゲットか
ら発生するＸ線の口径を小さくし、その分解能を高める
ことができる。
【図１】この発明の一実施例の全体構成図。
【図２】同じく所定の耐圧性を備えた薄膜としてベリリ
ウムを用いた場合、その薄膜における電子線の透過率を
示した図。
ウムを用いた場合、その薄膜における電子線の透過率を
示した図。
１…電子管、２…電子銃（電子放出手段）、３…電磁レ
ンズ（集束手段）、４…透過窓、４ａ…薄膜、５…タ−
ゲット。
ンズ（集束手段）、４…透過窓、４ａ…薄膜、５…タ−
ゲット。
Claims (4)
- 【請求項１】 Ｘ線を発生させるためのＸ線発生装置に
おいて、 内部が所定の真空度に減圧された電子管と、この電子管
内に封じ込められた電子を放出する電子放出部と、この
電子放出部から放出された電子を衝突させることでＸ線
を発生させるタ−ゲットと、上記電子管の中途部に設け
られ上記電子放出部からの電子を所定の位置に集束する
集束手段と、上記電子管に気密に設けられ上記電子放出
部からの電子あるいは上記タ−ゲットからのＸ線を透過
させる透過窓とを具備したことを特徴とするＸ線発生装
置。 - 【請求項２】 上記タ−ゲットは、上記電子管の外部に
上記透過窓に近接して配置されていることを特徴とする
請求項１記載のＸ線発生装置。 - 【請求項３】 上記タ−ゲット上に上記集束手段の焦点
が一致するよう設定されていることを特徴とする請求項
１または請求項２記載のＸ線発生装置。 - 【請求項４】 上記透過窓は、金属ベリリウムやカ−ボ
ンなどの低原子番号の材料によって形成された薄膜から
なることを特徴とする請求項１または請求項２記載のＸ
線発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17437494A JPH0836978A (ja) | 1994-07-26 | 1994-07-26 | Ｘ線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17437494A JPH0836978A (ja) | 1994-07-26 | 1994-07-26 | Ｘ線発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0836978A true JPH0836978A (ja) | 1996-02-06 |
Family
ID=15977502
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17437494A Pending JPH0836978A (ja) | 1994-07-26 | 1994-07-26 | Ｘ線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0836978A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0957506A1 (de) * | 1998-05-15 | 1999-11-17 | Philips Patentverwaltung GmbH | Röntgenstrahler mit einem Flüssigmetall-Target |
| JP2009026600A (ja) * | 2007-07-19 | 2009-02-05 | Toshiba Corp | 電子銃およびｘ線源 |
| JP2017502447A (ja) * | 2013-10-21 | 2017-01-19 | エクスロン インターナショナル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングＹｘｌｏｎ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｇｍｂｈ | Ｘ線管用のターゲット及び／又はフィラメント、ｘ線管、ターゲット及び／又はフィラメントの識別方法並びにターゲット及び／又はフィラメントの特性設定方法 |
| CN109789483A (zh) * | 2016-08-04 | 2019-05-21 | 海帕塔研究财团 | 电子束3d打印机 |
-
1994
- 1994-07-26 JP JP17437494A patent/JPH0836978A/ja active Pending
Cited By (7)
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