JP3104021B2 - 光ディスク及びマスターディスク製造方法及び装置 - Google Patents
光ディスク及びマスターディスク製造方法及び装置Info
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Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は光学的に情報が記録
及び／または再生される光ディスクに関する。また、本
発明は光ディスク成型用マスターディスクの製造方法及
び装置に関する。
及び／または再生される光ディスクに関する。また、本
発明は光ディスク成型用マスターディスクの製造方法及
び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般的に、光ディスクはマスターディス
クから複製される。マスターディスクはポトエッチング
により製造される。これをさらに説明すると、まず基板
上にポトレジスター膜を成膜する。フォトレジスト膜は
露光パルスにより断続されるレーザ光に露出される。こ
のように露光されたフォトレジスト膜が現像液により現
像され、プリピット（Prepit）が形成されたディスク円
盤が形成される。この時、ディスク円盤上に形成された
プリピットはレーザ光が照射される時間によって異なる
長さを有する。レーザ光の照射時間は露光パルスの幅に
より変わる。結果的に、プリピットの長さは図１に示さ
れたように、露光パルス（ＥＰ）の幅により決定され
る。例えば、短い長さの第１及び第２プリピット（１、
３）はレーザ光がフォトレジスト膜上に３Ｔ及び４Ｔの
露光時間で照射されることにより形成され、一番長い長
さを有する第４プリピット（７）はレーザ光がフォトレ
ジスト膜上に１０Ｔの露光時間で照射されるて形成され
る。このように形成されたプリピットが反転・転写され
て成型器に設置されるスタンパーが製作される。成型器
は溶融された基板物質をスタンパーに入れ、その流入さ
れた基板物質を凝固させてディスク基板を複製する。こ
のように複製されたディスク基板にはディスク円盤上の
プリピットと同一の形態を有するプリピットが形成され
る。最後に、反射膜と反射膜の劣化を防止するための保
護層などがプリピットが形成されたディスク基板上に順
次的に積層されることで光ディスクが完成する。このよ
うな光ディスクの製造工程は一般化されたＣＤ−ＲＯＭ
を始めとしてＤＶＤ−ＲＯＭなどの再生専用ディスクは
勿論ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒなどの追記型ディスクとＣＤ
−ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＡＭなどの書き換え可能型ディスク
にも適用されている。
クから複製される。マスターディスクはポトエッチング
により製造される。これをさらに説明すると、まず基板
上にポトレジスター膜を成膜する。フォトレジスト膜は
露光パルスにより断続されるレーザ光に露出される。こ
のように露光されたフォトレジスト膜が現像液により現
像され、プリピット（Prepit）が形成されたディスク円
盤が形成される。この時、ディスク円盤上に形成された
プリピットはレーザ光が照射される時間によって異なる
長さを有する。レーザ光の照射時間は露光パルスの幅に
より変わる。結果的に、プリピットの長さは図１に示さ
れたように、露光パルス（ＥＰ）の幅により決定され
る。例えば、短い長さの第１及び第２プリピット（１、
３）はレーザ光がフォトレジスト膜上に３Ｔ及び４Ｔの
露光時間で照射されることにより形成され、一番長い長
さを有する第４プリピット（７）はレーザ光がフォトレ
ジスト膜上に１０Ｔの露光時間で照射されるて形成され
る。このように形成されたプリピットが反転・転写され
て成型器に設置されるスタンパーが製作される。成型器
は溶融された基板物質をスタンパーに入れ、その流入さ
れた基板物質を凝固させてディスク基板を複製する。こ
のように複製されたディスク基板にはディスク円盤上の
プリピットと同一の形態を有するプリピットが形成され
る。最後に、反射膜と反射膜の劣化を防止するための保
護層などがプリピットが形成されたディスク基板上に順
次的に積層されることで光ディスクが完成する。このよ
うな光ディスクの製造工程は一般化されたＣＤ−ＲＯＭ
を始めとしてＤＶＤ−ＲＯＭなどの再生専用ディスクは
勿論ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒなどの追記型ディスクとＣＤ
−ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＡＭなどの書き換え可能型ディスク
にも適用されている。
【０００３】記録可能な光ディスクの記録領域は同心円
のトラックなど一つまたは二つの螺旋型トラックトラッ
クを有している。このようなトラックは正確な追従制御
が可能であるようにランドとグルーブとからなる構造を
有する。これらランドとグルーブのトラックはやりプリ
ピットと同様に前述した製造方法により形成されるよう
になる。さらにに、光ディスクは動映像のような大容量
の情報を記録することができるように高い記録密度を有
する趨勢にある。実際に、ＣＤは１．６μｍのトラック
ピッチと０．９〜３．２マイクロｍのピット長さを有
し、ＤＶＤは０．６９μｍのトラックピッチと０．４５
μｍの最小ピット長さを有する。これを通じて、ＤＶＤ
がＣＤよりかなり高い記録密度を有するということがわ
かる。ディスクの記録密度をより高めるために、短い波
長の光源（即ち、ブルーレーザなど）を利用したり、対
物レンズの開口数（ＮＡ）を大きくする方案が研究・開
発されている。このように記録密度が高くなるにつれて
光ディスクのトラックピッチ及びピット長さが小さくな
るので、マスターディスクの製造は高い精度を要求され
る。
のトラックなど一つまたは二つの螺旋型トラックトラッ
クを有している。このようなトラックは正確な追従制御
が可能であるようにランドとグルーブとからなる構造を
有する。これらランドとグルーブのトラックはやりプリ
ピットと同様に前述した製造方法により形成されるよう
になる。さらにに、光ディスクは動映像のような大容量
の情報を記録することができるように高い記録密度を有
する趨勢にある。実際に、ＣＤは１．６μｍのトラック
ピッチと０．９〜３．２マイクロｍのピット長さを有
し、ＤＶＤは０．６９μｍのトラックピッチと０．４５
μｍの最小ピット長さを有する。これを通じて、ＤＶＤ
がＣＤよりかなり高い記録密度を有するということがわ
かる。ディスクの記録密度をより高めるために、短い波
長の光源（即ち、ブルーレーザなど）を利用したり、対
物レンズの開口数（ＮＡ）を大きくする方案が研究・開
発されている。このように記録密度が高くなるにつれて
光ディスクのトラックピッチ及びピット長さが小さくな
るので、マスターディスクの製造は高い精度を要求され
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、露光パルスの
幅、即ちレーザ光の照射時間はプリピットの長さだけで
はなくプリピットの幅も変換させる。実際に、１０Ｔの
幅を有する露光パルスにより形成された長いプリピット
（７）の幅は図１のように３Ｔ及び４Ｔの幅を有する露
光パルスにより形成された短いプリピット（１、３）の
幅より広くなる。これはフォトレジスト膜上に照射され
るレーザ光のパワー（強さ）が露光パルスの幅に比例す
ることに因る。実際に、露光パルスの幅が狭くなるとフ
ォトレジスト膜上にレーザ光のパワーが弱くなり、露光
パルスの長さが長くなるとフォトレジスト膜に照射され
るレーザ光のパワーが強くなる。このようなレーザ光に
よって、プリピットの幅（Ｗ）は図２のようにプリピッ
トの長さが５Ｔに到達するまで順次に広くなり、プリピ
ットが５Ｔより長くなるとほぼ一定の幅を有する。この
ような長さに対するプリピットの幅の変化は記録密度が
高くなっていくにつれてより大きくなる。これによっ
て、露光パルスに応答するレーザ光は記録密度が高くな
るにつれて所望の幅と長さを有するプリピットを生成さ
せるのが困難になる。また、記録密度が高くなるほどプ
リピットの幅がより狭くなるので、狭い幅のプリピット
からは再生可能なレベルの再生信号が検出されにくくな
る。これによって、記録密度が高いディスクから再生さ
れた再生信号ではエラーが発生される。このような再生
エラーによってプリピットは一定の長さ以上の大きさに
しなければならないので、ディスクに高い記録密度を持
たせることができない。従って、本発明の目的は高い記
録密度の光ディスクを提供することにある。本発明の他
の目的は高い記録密度の光ディスクを製造するのに使用
されるマスターディスクの製造方法及び製造装置を提供
することである。
幅、即ちレーザ光の照射時間はプリピットの長さだけで
はなくプリピットの幅も変換させる。実際に、１０Ｔの
幅を有する露光パルスにより形成された長いプリピット
（７）の幅は図１のように３Ｔ及び４Ｔの幅を有する露
光パルスにより形成された短いプリピット（１、３）の
幅より広くなる。これはフォトレジスト膜上に照射され
るレーザ光のパワー（強さ）が露光パルスの幅に比例す
ることに因る。実際に、露光パルスの幅が狭くなるとフ
ォトレジスト膜上にレーザ光のパワーが弱くなり、露光
パルスの長さが長くなるとフォトレジスト膜に照射され
るレーザ光のパワーが強くなる。このようなレーザ光に
よって、プリピットの幅（Ｗ）は図２のようにプリピッ
トの長さが５Ｔに到達するまで順次に広くなり、プリピ
ットが５Ｔより長くなるとほぼ一定の幅を有する。この
ような長さに対するプリピットの幅の変化は記録密度が
高くなっていくにつれてより大きくなる。これによっ
て、露光パルスに応答するレーザ光は記録密度が高くな
るにつれて所望の幅と長さを有するプリピットを生成さ
せるのが困難になる。また、記録密度が高くなるほどプ
リピットの幅がより狭くなるので、狭い幅のプリピット
からは再生可能なレベルの再生信号が検出されにくくな
る。これによって、記録密度が高いディスクから再生さ
れた再生信号ではエラーが発生される。このような再生
エラーによってプリピットは一定の長さ以上の大きさに
しなければならないので、ディスクに高い記録密度を持
たせることができない。従って、本発明の目的は高い記
録密度の光ディスクを提供することにある。本発明の他
の目的は高い記録密度の光ディスクを製造するのに使用
されるマスターディスクの製造方法及び製造装置を提供
することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明の光ディスクは幅の長さより大きいピットと
を具備する。本発明によるマスターディスク製造方法
は、基板にフォトレジスト膜を成膜し、フォトレジスト
膜を少なくとも２回以上反復露光して基板上に一つのト
ラックが形成されるようにすることを特徴とする。本発
明による光ディスク製造方法は、マスターディスク製造
方法によって得られたマスターディスクを転写してスタ
ンパーを製造し、そのスタンパーを利用してディスク基
板を成型することを特徴とする。本発明によるマスター
ディスク製造装置は、基板にフォトレジスタ膜を成膜す
る手段と、フォトレジスト膜を少なくとも２以上の光ス
ポットに同時に露光して基板上に一つのトラックを形成
する手段とを含むことを特徴とする。本発明によるマス
ターディスク製造装置は、レーザ光を生成するレーザ発
生手段と、露光データからチャンネルビットストリーム
を形成する記録処理手段と、レーザ光をチャンネルビッ
トストリームにより断続する光変調手段と、基板が回転
による回転情報を検出する回転数検出手段と、回転情報
によりレーザ光の光軸を基板に対して内周側と外周側の
いずれかの一側に移動させる光偏向手段とをさらに具備
することを特徴とする。
に、本発明の光ディスクは幅の長さより大きいピットと
を具備する。本発明によるマスターディスク製造方法
は、基板にフォトレジスト膜を成膜し、フォトレジスト
膜を少なくとも２回以上反復露光して基板上に一つのト
ラックが形成されるようにすることを特徴とする。本発
明による光ディスク製造方法は、マスターディスク製造
方法によって得られたマスターディスクを転写してスタ
ンパーを製造し、そのスタンパーを利用してディスク基
板を成型することを特徴とする。本発明によるマスター
ディスク製造装置は、基板にフォトレジスタ膜を成膜す
る手段と、フォトレジスト膜を少なくとも２以上の光ス
ポットに同時に露光して基板上に一つのトラックを形成
する手段とを含むことを特徴とする。本発明によるマス
ターディスク製造装置は、レーザ光を生成するレーザ発
生手段と、露光データからチャンネルビットストリーム
を形成する記録処理手段と、レーザ光をチャンネルビッ
トストリームにより断続する光変調手段と、基板が回転
による回転情報を検出する回転数検出手段と、回転情報
によりレーザ光の光軸を基板に対して内周側と外周側の
いずれかの一側に移動させる光偏向手段とをさらに具備
することを特徴とする。
【０００６】
【作用】前記構成によって、本発明の光ディスクは高い
記録密度を有する。本発明によるマスターディスク製造
方法及び装置はフォトレジスト膜にレーザビームを少な
くとも２回以上反復露光したり、少なくとも２以上のレ
ーザビームを露光することで幅が一定のピットを形成す
ることができるとともに再生時変調度が高いディスクを
成型することができる。更に、本発明によるマスターデ
ィスク製造方法及び装置は長さより広い幅を有するピッ
トを形成することで高い記録密度を有する光ディスクを
成型することができる。
記録密度を有する。本発明によるマスターディスク製造
方法及び装置はフォトレジスト膜にレーザビームを少な
くとも２回以上反復露光したり、少なくとも２以上のレ
ーザビームを露光することで幅が一定のピットを形成す
ることができるとともに再生時変調度が高いディスクを
成型することができる。更に、本発明によるマスターデ
ィスク製造方法及び装置は長さより広い幅を有するピッ
トを形成することで高い記録密度を有する光ディスクを
成型することができる。
【０００７】
【発明の実施態様】以下、本発明の実施形態などを添付
した図３ないし図１１を参照して詳細に説明する。図３
は本発明によるマスターディスクに形成されたプリピッ
ト列（ＰＴ）の例を示している。図３のプリピット列
（ＰＴ）では、長さと無関係に一定の幅（Ｗ）を有する
第１ないし第４ピット（１１、１３、１５、１７）が含
まれている。これら第１ないし第４ピット（１１、１
３、１５、１７）の各々はトラックピッチ（Ｗ）の半分
に相当する直径を有する光スポットを露光パルス列（Ｄ
Ｐ）によって断続しながらダブルスキャンすることによ
り形成される。これを詳細に説明すると、トラックピッ
チの半分に該当する光スポットが露光パルス列により断
続的にスキャンすることで第１ないし第４上部ピット
（１１Ａ、１３Ａ、１５Ａ、１７Ａ）を形成する。そし
て第１ないし第４下部ピット（１１Ｂ、１３Ｂ、１５
Ｂ、１７Ｂ）は光スポットを露光パルス列（ＥＰ）で断
続しながら再スキャンすることにより生成する。このよ
うに第１ないし第４上部ピット（１１Ａ、１３Ａ、１５
Ａ、１７Ａ）の各々に隣接するように下部ピットを形成
することで長さと関係無しに一定の幅（Ｗ）を有する第
１ないし第４ピット（１１、１３、１５、１７）を形成
する。
した図３ないし図１１を参照して詳細に説明する。図３
は本発明によるマスターディスクに形成されたプリピッ
ト列（ＰＴ）の例を示している。図３のプリピット列
（ＰＴ）では、長さと無関係に一定の幅（Ｗ）を有する
第１ないし第４ピット（１１、１３、１５、１７）が含
まれている。これら第１ないし第４ピット（１１、１
３、１５、１７）の各々はトラックピッチ（Ｗ）の半分
に相当する直径を有する光スポットを露光パルス列（Ｄ
Ｐ）によって断続しながらダブルスキャンすることによ
り形成される。これを詳細に説明すると、トラックピッ
チの半分に該当する光スポットが露光パルス列により断
続的にスキャンすることで第１ないし第４上部ピット
（１１Ａ、１３Ａ、１５Ａ、１７Ａ）を形成する。そし
て第１ないし第４下部ピット（１１Ｂ、１３Ｂ、１５
Ｂ、１７Ｂ）は光スポットを露光パルス列（ＥＰ）で断
続しながら再スキャンすることにより生成する。このよ
うに第１ないし第４上部ピット（１１Ａ、１３Ａ、１５
Ａ、１７Ａ）の各々に隣接するように下部ピットを形成
することで長さと関係無しに一定の幅（Ｗ）を有する第
１ないし第４ピット（１１、１３、１５、１７）を形成
する。
【０００８】このような第１ないし第４ピット（１１、
１３、１５、１７）を有するマスターディスクを製造す
るためには、まず基板上にフォトレジスト膜を成膜す
る。トラックピッチの半分に該当する直径を有するスポ
ットの光ビームを露光パルス（ＥＰ）により断続しなが
らフォトレジスト膜の始点からトラックの進行方向に沿
って照射して、第１ないし第４ピット（１１、１３、１
５、１７）がトラックの上半部に形成する。続いて、ト
ラックピッチの半分に該当する直径を有するスポットの
光ビームを露光パルス（ＥＰ）により断続しながらフォ
トレジスト膜の始点からトラックの進行方向に再照射し
て、第１ないし第４下部ピット（１１Ｂ、１３Ｂ、１５
Ｂ、１７Ｂ）をトラックの下半部に形成する。第１ない
し第４上部ピット（１１Ａ、１３Ａ、１５Ａ、１７Ａ）
と隣接するように第１ないし第４下部ピット（１１Ｂ、
１３Ｂ、１５Ｂ、１７Ｂ）を形成することで同一の幅の
ピットを有するピット列パターンに含まれた第１ないし
第４ピット（１１、１３、１５、１７）各々は露光パル
ス（ＤＰ）の幅に該当する３Ｔ、４Ｔ、５Ｔまたは１０
Ｔの長さを有するようにすることができる。
１３、１５、１７）を有するマスターディスクを製造す
るためには、まず基板上にフォトレジスト膜を成膜す
る。トラックピッチの半分に該当する直径を有するスポ
ットの光ビームを露光パルス（ＥＰ）により断続しなが
らフォトレジスト膜の始点からトラックの進行方向に沿
って照射して、第１ないし第４ピット（１１、１３、１
５、１７）がトラックの上半部に形成する。続いて、ト
ラックピッチの半分に該当する直径を有するスポットの
光ビームを露光パルス（ＥＰ）により断続しながらフォ
トレジスト膜の始点からトラックの進行方向に再照射し
て、第１ないし第４下部ピット（１１Ｂ、１３Ｂ、１５
Ｂ、１７Ｂ）をトラックの下半部に形成する。第１ない
し第４上部ピット（１１Ａ、１３Ａ、１５Ａ、１７Ａ）
と隣接するように第１ないし第４下部ピット（１１Ｂ、
１３Ｂ、１５Ｂ、１７Ｂ）を形成することで同一の幅の
ピットを有するピット列パターンに含まれた第１ないし
第４ピット（１１、１３、１５、１７）各々は露光パル
ス（ＤＰ）の幅に該当する３Ｔ、４Ｔ、５Ｔまたは１０
Ｔの長さを有するようにすることができる。
【０００９】このようにして基板上に形成されたプリピ
ットパターンを反転・転写することで成型器に設置され
るスタンパーを形成する。スタンパーが設置された成型
器は溶融された基板物質をスタンパー側に流入して、そ
の流入された基板物質を凝固させてプリピットパターン
を有するディスク基板を複製する。このように複製され
たディスク基板上に記録層、反射膜及び保護層などが順
次的に積層されて光ディスクが完成する。この光ディス
ク上では第１ピット（１１）は長さ（Ｌ）に比べて幅
（Ｗ）が大きい。本実施形態の場合そのようなピットも
存在することができる。狭い幅の露光パルスでピットが
生成されるが、第１ピット（１１）は長さ（Ｌ）より大
きい幅を有することができる。このように長さより大き
い幅を有するピットは、狭い幅のピットより同一長さで
も反射光量は大きくなる。これによって、本実施形態の
ピットは短い長さのピットでも十分なレベルの再生信号
を得ることができる。したがって、光ディスク上に形成
されるピットの長さをより短くすることができ、より高
密度の光ディスクを得ることができる。また、ランド及
びグルーブのトラックが記録領域へ形成される場合で
も、ランド及びグルーブのトラックもプリピット列と同
一に少なくとも２回以上反復露光により形成される。し
かし、ランドまたはグルーブのトラックのいずれかのプ
リピット（ＰＴ）を反復露光により形成し、他のトラッ
クを従来と同一に一回の露光により形成させてもよい。
ットパターンを反転・転写することで成型器に設置され
るスタンパーを形成する。スタンパーが設置された成型
器は溶融された基板物質をスタンパー側に流入して、そ
の流入された基板物質を凝固させてプリピットパターン
を有するディスク基板を複製する。このように複製され
たディスク基板上に記録層、反射膜及び保護層などが順
次的に積層されて光ディスクが完成する。この光ディス
ク上では第１ピット（１１）は長さ（Ｌ）に比べて幅
（Ｗ）が大きい。本実施形態の場合そのようなピットも
存在することができる。狭い幅の露光パルスでピットが
生成されるが、第１ピット（１１）は長さ（Ｌ）より大
きい幅を有することができる。このように長さより大き
い幅を有するピットは、狭い幅のピットより同一長さで
も反射光量は大きくなる。これによって、本実施形態の
ピットは短い長さのピットでも十分なレベルの再生信号
を得ることができる。したがって、光ディスク上に形成
されるピットの長さをより短くすることができ、より高
密度の光ディスクを得ることができる。また、ランド及
びグルーブのトラックが記録領域へ形成される場合で
も、ランド及びグルーブのトラックもプリピット列と同
一に少なくとも２回以上反復露光により形成される。し
かし、ランドまたはグルーブのトラックのいずれかのプ
リピット（ＰＴ）を反復露光により形成し、他のトラッ
クを従来と同一に一回の露光により形成させてもよい。
【００１０】図４は本発明の実施形態による光ディスク
を図示する。図４の光ディスクは並んで形成された螺旋
型のランドとグルーブのトラック（２１、２３）を有す
る。これらランドとグルーブのトラック（２１、２３）
の中のランドのトラック（２１）は使用者情報を記録す
るための記録領域（ＲＺ）に使用され、グルーブのトラ
ック（２３）は光ビームを案内する。このようなランド
のトラック（２１）はトラック方向（即ち、円周方向）
でプリピット列（２５）と交番される。このプリピット
列（２５）はランドのトラック（２１）の中心線に沿っ
て形成される。このプリピット列（２５）はランドのト
ラック（２１）、即ち記録領域の物理的な位置に対する
識別情報を含めて記録領域（ＲＺ）の物理的な位置を指
示するヘッド領域（ＨＤＺ）に使用される。プリピット
列（２５）では長さより大きい幅を有する図３の第１プ
リピット（１１）のようなプリピットが含まれる。すな
わち、プリピットの長さが短くなるがプリピットの幅は
広くなる。このような光ディスクを製造するために、二
重露光法がディスク円盤の製作時に採用される。二重露
光法は１トラック分のランドのトラックとプリピット列
など（２５）を形成するために基板上に塗布されたフォ
トレジスト膜上に２回転ずつ光スポットがスキャンす
る。このような二重露光ビームは図４に図示されたよう
に、奇数番目の回転スキャンが終了するごとに５／２ト
ラックだけ内周側に光スポットを移動させるとともに偶
数番目の回転のスキャンが終了されるごとに１／２トラ
ック幅だけ外周側に光スポットを移動させる。奇数番目
の回転のスキャン時に光スポットはランドのトラックの
外周辺から内周側に幅の１／４だけ入った第１スキャン
ライン（ＴＬ１）に沿って進む一方、偶数番目の回転の
スキャン時には光スポットはランドのトラックの外周辺
から内周側に幅の３／４だけ離れた第２スキャンライン
（ＴＬ２）に沿って進む。このような光スポットの移動
状態を図５に示してある。
を図示する。図４の光ディスクは並んで形成された螺旋
型のランドとグルーブのトラック（２１、２３）を有す
る。これらランドとグルーブのトラック（２１、２３）
の中のランドのトラック（２１）は使用者情報を記録す
るための記録領域（ＲＺ）に使用され、グルーブのトラ
ック（２３）は光ビームを案内する。このようなランド
のトラック（２１）はトラック方向（即ち、円周方向）
でプリピット列（２５）と交番される。このプリピット
列（２５）はランドのトラック（２１）の中心線に沿っ
て形成される。このプリピット列（２５）はランドのト
ラック（２１）、即ち記録領域の物理的な位置に対する
識別情報を含めて記録領域（ＲＺ）の物理的な位置を指
示するヘッド領域（ＨＤＺ）に使用される。プリピット
列（２５）では長さより大きい幅を有する図３の第１プ
リピット（１１）のようなプリピットが含まれる。すな
わち、プリピットの長さが短くなるがプリピットの幅は
広くなる。このような光ディスクを製造するために、二
重露光法がディスク円盤の製作時に採用される。二重露
光法は１トラック分のランドのトラックとプリピット列
など（２５）を形成するために基板上に塗布されたフォ
トレジスト膜上に２回転ずつ光スポットがスキャンす
る。このような二重露光ビームは図４に図示されたよう
に、奇数番目の回転スキャンが終了するごとに５／２ト
ラックだけ内周側に光スポットを移動させるとともに偶
数番目の回転のスキャンが終了されるごとに１／２トラ
ック幅だけ外周側に光スポットを移動させる。奇数番目
の回転のスキャン時に光スポットはランドのトラックの
外周辺から内周側に幅の１／４だけ入った第１スキャン
ライン（ＴＬ１）に沿って進む一方、偶数番目の回転の
スキャン時には光スポットはランドのトラックの外周辺
から内周側に幅の３／４だけ離れた第２スキャンライン
（ＴＬ２）に沿って進む。このような光スポットの移動
状態を図５に示してある。
【００１１】ｉ番目とｉ＋１番目のトラックが形成され
る時、光スポットは２ｉ−１番目のスタート時点（ＳＰ
２ｉ−１）から第１スキャニングライン（ＴＬ１）に沿
って進行して２ｉ番目のスタート時点（ＳＰ２ｉ＋１）
に到達することで２ｉ−１番目の回転が完了する。２ｉ
−１番目の回転が完了した時、光スポットは２ｉ＋１番
目のスタート時点（２ｉ＋１）から２ｉ番目のスタート
時点（ＳＴ２ｉ）に移動する。即ち、２ｉ−１番目の回
転のスキャンが完了した時に光スポットは５／２のトラ
ック幅だけ内周側に移動する。続いて、光スポットは２
ｉ番目スタート時点（ＳＰ２ｉ）から第２スキャニング
ライン（ＴＬ２）に沿って進行して２ｉ＋２番目スター
ト時点（２ｉ＋２）まで到達することで２ｉ番目の回転
を完了するようになる。このような２回転の回転スキャ
ンによって、ｉ番目ランドとグルーブのトラック（２
１、２３）がパターン化される。２ｉの回転スキャン
後、光スポットは１／２のトラック幅だけ外周側に移動
して２ｉ＋１番目の回転のスキャンが始まることができ
るようにする。このように２回転スキャンが進行される
間、光スポットは図６に示す露光パルス信号（ＥＰＳ）
により断続される。図６を参照すれば、露光パルス信号
（ＥＰＳ）はヘッド領域（ＨＤＺ）でハイ論理とロー論
理を反復的に繰り返す一方、記録領域（ＲＺ）ではハイ
論理を有する。これによって、光スポットもヘッド領域
（ＨＤＺ）では断続的にフォトレジスト膜に照射される
のに対して記録領域（ＲＺ）では連続的に照射される。
このように、フォトレジスト膜に照射される光スポット
が切り換えられることでランドとグルーブのトラックと
プリピットが形成される。
る時、光スポットは２ｉ−１番目のスタート時点（ＳＰ
２ｉ−１）から第１スキャニングライン（ＴＬ１）に沿
って進行して２ｉ番目のスタート時点（ＳＰ２ｉ＋１）
に到達することで２ｉ−１番目の回転が完了する。２ｉ
−１番目の回転が完了した時、光スポットは２ｉ＋１番
目のスタート時点（２ｉ＋１）から２ｉ番目のスタート
時点（ＳＴ２ｉ）に移動する。即ち、２ｉ−１番目の回
転のスキャンが完了した時に光スポットは５／２のトラ
ック幅だけ内周側に移動する。続いて、光スポットは２
ｉ番目スタート時点（ＳＰ２ｉ）から第２スキャニング
ライン（ＴＬ２）に沿って進行して２ｉ＋２番目スター
ト時点（２ｉ＋２）まで到達することで２ｉ番目の回転
を完了するようになる。このような２回転の回転スキャ
ンによって、ｉ番目ランドとグルーブのトラック（２
１、２３）がパターン化される。２ｉの回転スキャン
後、光スポットは１／２のトラック幅だけ外周側に移動
して２ｉ＋１番目の回転のスキャンが始まることができ
るようにする。このように２回転スキャンが進行される
間、光スポットは図６に示す露光パルス信号（ＥＰＳ）
により断続される。図６を参照すれば、露光パルス信号
（ＥＰＳ）はヘッド領域（ＨＤＺ）でハイ論理とロー論
理を反復的に繰り返す一方、記録領域（ＲＺ）ではハイ
論理を有する。これによって、光スポットもヘッド領域
（ＨＤＺ）では断続的にフォトレジスト膜に照射される
のに対して記録領域（ＲＺ）では連続的に照射される。
このように、フォトレジスト膜に照射される光スポット
が切り換えられることでランドとグルーブのトラックと
プリピットが形成される。
【００１２】図７は本発明による実施形態による光ディ
スクを図示する。図７の光ディスクは螺旋型のランドと
グルーブのトラック（２１、２３）が並んでいる。これ
らランドとグルーブのトラック（２１、２３）すべてが
使用者情報を記録するための記録領域（ＲＺ）で使用さ
れる。このようなランドとグルーブのトラック（２１、
２３）各々はトラック方向（即ち、円周方向）でプリピ
ット列（２５）が交番される。プリピット列（２５）
は、グルーブのトラック用の第１プリピット列（２５
Ａ）とランドのトラック（２３）用の第２プリピット列
（２５Ｂ）とで構成されている。第１プリピット列（２
５Ａ）はランドのトラック（２１）の内周側の境界辺に
沿って形成される。このようなランドとグルーブのトラ
ック（２１、２３）、即ち記録領域の物理的な位置に対
する識別情報を含めて記録領域（ＲＺ）の物理的な位置
を指示するヘッド領域（ＨＤＺ）に使用される。また、
第１プリピット列（２５Ａ）が形成された領域はグルー
ブのヘッド領域（ＧＨＤ）と言われ、第２プリピット列
（２５Ｂ）が形成された領域はランドのヘッド領域（Ｌ
ＨＤ）と言われる。
スクを図示する。図７の光ディスクは螺旋型のランドと
グルーブのトラック（２１、２３）が並んでいる。これ
らランドとグルーブのトラック（２１、２３）すべてが
使用者情報を記録するための記録領域（ＲＺ）で使用さ
れる。このようなランドとグルーブのトラック（２１、
２３）各々はトラック方向（即ち、円周方向）でプリピ
ット列（２５）が交番される。プリピット列（２５）
は、グルーブのトラック用の第１プリピット列（２５
Ａ）とランドのトラック（２３）用の第２プリピット列
（２５Ｂ）とで構成されている。第１プリピット列（２
５Ａ）はランドのトラック（２１）の内周側の境界辺に
沿って形成される。このようなランドとグルーブのトラ
ック（２１、２３）、即ち記録領域の物理的な位置に対
する識別情報を含めて記録領域（ＲＺ）の物理的な位置
を指示するヘッド領域（ＨＤＺ）に使用される。また、
第１プリピット列（２５Ａ）が形成された領域はグルー
ブのヘッド領域（ＧＨＤ）と言われ、第２プリピット列
（２５Ｂ）が形成された領域はランドのヘッド領域（Ｌ
ＨＤ）と言われる。
【００１３】プリピット列（２５）は長さより大きい幅
を有する図３の第１プリピット（１１）のようなプリピ
ットが含まれる。これによって、図６の光ディスクのラ
ンドとグルーブのトラック（２１、２３）すべては高い
記録密度を有することができる。このような光ディスク
を製造するために、二重露光法がマスターディスクの製
作時に採用される。二重露光法は１トラック分のランド
のトラックとプリピット列（２５）を形成するために基
板上に塗布されたフォトレジスト膜上に２回転ずつ光ス
ポットがされる。このような二重露光法は図７に図示さ
れたように、奇数番目の回転のスキャンが終了するごと
に５／２トラックだけ内周側に光スポットを移動させる
とともに、偶数番目の回転のスキャンが終了するごとに
１／２トラック幅だけ外周側に光スポットを移動させ
る。光スポットがランドのトラック（２１）でグルーブ
のヘッド領域（ＧＨＤ）に進入する場合、ランドのヘッ
ド領域（ＬＨＤ）からランドのトラック（２１）に進入
する場合、光スポットは１／２トラック幅だけ外周側に
移動する。これとは異なって、グルーブのヘッド領域
（ＧＨＤ）からランドのヘッド領域（ＬＨＤ）側に進入
する場合光スポットは１／２のトラックだけ内周側に移
動される。グルーブのヘッド領域が先に始まるとする
と、二重露光法は奇数番目の回転のスキャンが終了する
ごとに５／２トラック幅だけ内周側に光スポットを移動
させるとともに、具数番目の回転スキャンが終了するご
とに１／２トラック幅だけ外周側に光スポットを移動さ
せる。
を有する図３の第１プリピット（１１）のようなプリピ
ットが含まれる。これによって、図６の光ディスクのラ
ンドとグルーブのトラック（２１、２３）すべては高い
記録密度を有することができる。このような光ディスク
を製造するために、二重露光法がマスターディスクの製
作時に採用される。二重露光法は１トラック分のランド
のトラックとプリピット列（２５）を形成するために基
板上に塗布されたフォトレジスト膜上に２回転ずつ光ス
ポットがされる。このような二重露光法は図７に図示さ
れたように、奇数番目の回転のスキャンが終了するごと
に５／２トラックだけ内周側に光スポットを移動させる
とともに、偶数番目の回転のスキャンが終了するごとに
１／２トラック幅だけ外周側に光スポットを移動させ
る。光スポットがランドのトラック（２１）でグルーブ
のヘッド領域（ＧＨＤ）に進入する場合、ランドのヘッ
ド領域（ＬＨＤ）からランドのトラック（２１）に進入
する場合、光スポットは１／２トラック幅だけ外周側に
移動する。これとは異なって、グルーブのヘッド領域
（ＧＨＤ）からランドのヘッド領域（ＬＨＤ）側に進入
する場合光スポットは１／２のトラックだけ内周側に移
動される。グルーブのヘッド領域が先に始まるとする
と、二重露光法は奇数番目の回転のスキャンが終了する
ごとに５／２トラック幅だけ内周側に光スポットを移動
させるとともに、具数番目の回転スキャンが終了するご
とに１／２トラック幅だけ外周側に光スポットを移動さ
せる。
【００１４】また、二重露光法は一つのトラックを形成
するために光スポットが第１ないし第４スキャニングラ
イン（ＴＬ１ないしＴＬ４）を選択的に沿っていくよう
にする。ここで、第１スキャニングライン（ＴＬ１）は
ランドのトラック（２１）の外周辺から内周側に１／４
トラック幅だけ離れて位置して、第２スキャニングライ
ン（ＴＬ２）はランドのトラック（２１）の内周辺から
外周側に１／４トラック幅だけ離れて位置する。また、
第３スキャニングライン（ＴＬ３）はランドのトラック
（２１）の外周辺から外周側に１／４トラック幅だけ離
れて位置して、第４スキャニングライン（ＴＬ４）はラ
ンドのトラック（２１）の内周辺から内周側に１／４ト
ラック幅だけ離れて位置する。これによって、奇数番目
の回転のスキャン時に光スポットは第３スキャニングラ
イン（ＴＬ３）、第２スキャニングライン（ＴＬ２）及
び第１スキャニングライン（ＴＬ１）の順番で交番的に
変更される。偶数番目の回転のスキャン時に光スポット
は第１スキャニングライン（ＴＬ１）、第４スキャニン
グライン（ＴＬ４）及び第３スキャニングライン（ＴＬ
３）の順番で交番的に変更される。実際に、ｉ番目のラ
ンドとグルーブのトラック（２１、２３）を形成するた
めに光スポットは図８に示す移動経路に沿っていく。
するために光スポットが第１ないし第４スキャニングラ
イン（ＴＬ１ないしＴＬ４）を選択的に沿っていくよう
にする。ここで、第１スキャニングライン（ＴＬ１）は
ランドのトラック（２１）の外周辺から内周側に１／４
トラック幅だけ離れて位置して、第２スキャニングライ
ン（ＴＬ２）はランドのトラック（２１）の内周辺から
外周側に１／４トラック幅だけ離れて位置する。また、
第３スキャニングライン（ＴＬ３）はランドのトラック
（２１）の外周辺から外周側に１／４トラック幅だけ離
れて位置して、第４スキャニングライン（ＴＬ４）はラ
ンドのトラック（２１）の内周辺から内周側に１／４ト
ラック幅だけ離れて位置する。これによって、奇数番目
の回転のスキャン時に光スポットは第３スキャニングラ
イン（ＴＬ３）、第２スキャニングライン（ＴＬ２）及
び第１スキャニングライン（ＴＬ１）の順番で交番的に
変更される。偶数番目の回転のスキャン時に光スポット
は第１スキャニングライン（ＴＬ１）、第４スキャニン
グライン（ＴＬ４）及び第３スキャニングライン（ＴＬ
３）の順番で交番的に変更される。実際に、ｉ番目のラ
ンドとグルーブのトラック（２１、２３）を形成するた
めに光スポットは図８に示す移動経路に沿っていく。
【００１５】これを詳細に説明すると、２ｉ−１番目の
ランドのトラックが形成される時光スポットは２ｉ−１
番目スタート時点から１／２のトラック幅だけ外周側に
移動して第３スキャニングライン（ＴＬ３）を移動する
ことでグルーブのヘッド領域（ＧＨＤ）の上半部を形成
する。グルーブのヘッド領域（ＧＨＤ）の終わりの時点
に到達した時、光スポットは一つのトラック幅だけ内周
側に移動して第２スキャニングライン（ＴＬ２）を移動
することでランドのヘッド領域（ＬＨＤ）の上半部を形
成する。このランドのヘッド領域の上半部が形成される
時に光スポットは１／２のトラック幅だけ外周側に移動
して第１スキャニングライン（ＴＬ１）を移動すること
でランドのヘッド領域（ＧＨＤ）の上半部を形成する。
このように光スポットは２ｉ＋１番目スタート時点に到
達する時まで第３、第２及び第２スキャニングライン
（ＴＬ３、ＴＬ２、ＴＬ１）を循環的に移動することで
ヘッド領域（ＨＤＺ）とランドのトラック（２１）の上
半部を形成する。ｉ番目のランドのトラック（２１）の
上半部が形成される時、光スポットは２トラックの幅だ
け内周側に移動して第１スキャニングライン（ＴＬ１）
を移動することでグルーブのヘッド領域（ＧＨＤ）の下
半部を形成する。グルーブのヘッド領域（ＧＨＤ）の終
わりの時点に到達した時、光スポットは一つのトラック
幅だけ内周側に移動して第４スキャニングライン（ＴＬ
４）を移動することでランドのヘッド領域（ＬＨＤ）の
下半部を形成する。このランドのヘッド領域の下半部が
形成される時に光スポットは１／２のトラック幅だけ外
周側に移動して第２スキャニングライン（ＴＬ２）を移
動することでランドのトラック（２１）の下半部を形成
する。また、光スポットはランドのトラック（２１）の
終了時点に来たときに１／２トラック幅だけ外周側に移
動する。このように光スポットは２ｉ＋２番目のスター
ト時点に到達する時まで第１、第４及び第２スキャニン
グライン（ＴＬ１、ＴＬ４、ＴＬ２）を循環的に移動す
ることでヘッド領域（ＨＤＺ）とランドのトラック（２
１）の下半部を形成する。このような２回転の回転スキ
ャンによって、ｉ番目のランドとグルーブのトラック
（２１、２３）がパターン化される。２ｉ番目の回転ス
キャン後、光スポットは一つのトラック幅だけ外周側に
移動して２ｉ＋１番目の回転スキャンが始まることがで
きる。このように２回転スキャンが進行される間、光ス
ポットは図５のような露光パルス信号（ＥＰＳ）により
断続される。すなわち、光スポットはヘッド領域（ＨＤ
Ｚ）で断続的にフォトレジスト膜に照射されるが、記録
領域（ＲＺ）では連続的に照射される。このように、フ
ォトレジスト膜に照射される光スポットが切り替えられ
ることでランドとグルーブのトラックとプリピットが形
成される。
ランドのトラックが形成される時光スポットは２ｉ−１
番目スタート時点から１／２のトラック幅だけ外周側に
移動して第３スキャニングライン（ＴＬ３）を移動する
ことでグルーブのヘッド領域（ＧＨＤ）の上半部を形成
する。グルーブのヘッド領域（ＧＨＤ）の終わりの時点
に到達した時、光スポットは一つのトラック幅だけ内周
側に移動して第２スキャニングライン（ＴＬ２）を移動
することでランドのヘッド領域（ＬＨＤ）の上半部を形
成する。このランドのヘッド領域の上半部が形成される
時に光スポットは１／２のトラック幅だけ外周側に移動
して第１スキャニングライン（ＴＬ１）を移動すること
でランドのヘッド領域（ＧＨＤ）の上半部を形成する。
このように光スポットは２ｉ＋１番目スタート時点に到
達する時まで第３、第２及び第２スキャニングライン
（ＴＬ３、ＴＬ２、ＴＬ１）を循環的に移動することで
ヘッド領域（ＨＤＺ）とランドのトラック（２１）の上
半部を形成する。ｉ番目のランドのトラック（２１）の
上半部が形成される時、光スポットは２トラックの幅だ
け内周側に移動して第１スキャニングライン（ＴＬ１）
を移動することでグルーブのヘッド領域（ＧＨＤ）の下
半部を形成する。グルーブのヘッド領域（ＧＨＤ）の終
わりの時点に到達した時、光スポットは一つのトラック
幅だけ内周側に移動して第４スキャニングライン（ＴＬ
４）を移動することでランドのヘッド領域（ＬＨＤ）の
下半部を形成する。このランドのヘッド領域の下半部が
形成される時に光スポットは１／２のトラック幅だけ外
周側に移動して第２スキャニングライン（ＴＬ２）を移
動することでランドのトラック（２１）の下半部を形成
する。また、光スポットはランドのトラック（２１）の
終了時点に来たときに１／２トラック幅だけ外周側に移
動する。このように光スポットは２ｉ＋２番目のスター
ト時点に到達する時まで第１、第４及び第２スキャニン
グライン（ＴＬ１、ＴＬ４、ＴＬ２）を循環的に移動す
ることでヘッド領域（ＨＤＺ）とランドのトラック（２
１）の下半部を形成する。このような２回転の回転スキ
ャンによって、ｉ番目のランドとグルーブのトラック
（２１、２３）がパターン化される。２ｉ番目の回転ス
キャン後、光スポットは一つのトラック幅だけ外周側に
移動して２ｉ＋１番目の回転スキャンが始まることがで
きる。このように２回転スキャンが進行される間、光ス
ポットは図５のような露光パルス信号（ＥＰＳ）により
断続される。すなわち、光スポットはヘッド領域（ＨＤ
Ｚ）で断続的にフォトレジスト膜に照射されるが、記録
領域（ＲＺ）では連続的に照射される。このように、フ
ォトレジスト膜に照射される光スポットが切り替えられ
ることでランドとグルーブのトラックとプリピットが形
成される。
【００１６】図９は本発明による他の実施形態による光
ディスクを図示する。図９の光ディスクはＤＶＤ−ＲＡ
Ｍで使用される。図９の光ディスクは一つの螺旋型のト
ラック（２１、２３）をなすように１回転ずつ交番され
たランドとグルーブのトラック（２１、２３）を有す
る。これらランドとグルーブのトラック（２１、２３）
すべては使用者情報を記録するための記録領域（ＲＺ）
で使用される。このようなランドとグルーブのトラック
（２１、２３）各々はトラック方向（即ち円周方向）で
プリピット列（２５）が交番される。プリピット列（２
５）はグルーブのトラック用の第１プリピット列（２５
Ａ）とランドのトラック（２３）用の第２プリピット列
（２５Ｂ）で構成されている。第１プリピット列（２５
Ａ）はランドのトラック（２１）の内周側境界辺に沿っ
て形成され、第２プリピット列（２５Ｂ）はランドのト
ラック（２１）の内周側境界辺に沿って形成される。こ
のようなランドとグルーブのトラック（２１、２３）
は、記録領域の物理的位置に対する識別情報を含めて記
録領域（ＲＺ）の物理的位置を指示するヘッド領域（Ｈ
ＤＺ）に使用される。また、第１プリピット列（２５
Ａ）が形成された領域はグルーブのヘッド領域（ＧＨ
Ｄ）と言われ、第２プリピット列（２５Ｂ）が形成され
た領域はランドのヘッド領域（ＬＨＤ）と言われる。プ
リピット列（２５）では長さより広い幅を有する図３の
第１プリピット（１１）のようなプリピットが含まれ
る。これによって、図９の光ディスクのランドとグルー
ブのトラック（２１、２３）すべては高い記録密度を有
する。
ディスクを図示する。図９の光ディスクはＤＶＤ−ＲＡ
Ｍで使用される。図９の光ディスクは一つの螺旋型のト
ラック（２１、２３）をなすように１回転ずつ交番され
たランドとグルーブのトラック（２１、２３）を有す
る。これらランドとグルーブのトラック（２１、２３）
すべては使用者情報を記録するための記録領域（ＲＺ）
で使用される。このようなランドとグルーブのトラック
（２１、２３）各々はトラック方向（即ち円周方向）で
プリピット列（２５）が交番される。プリピット列（２
５）はグルーブのトラック用の第１プリピット列（２５
Ａ）とランドのトラック（２３）用の第２プリピット列
（２５Ｂ）で構成されている。第１プリピット列（２５
Ａ）はランドのトラック（２１）の内周側境界辺に沿っ
て形成され、第２プリピット列（２５Ｂ）はランドのト
ラック（２１）の内周側境界辺に沿って形成される。こ
のようなランドとグルーブのトラック（２１、２３）
は、記録領域の物理的位置に対する識別情報を含めて記
録領域（ＲＺ）の物理的位置を指示するヘッド領域（Ｈ
ＤＺ）に使用される。また、第１プリピット列（２５
Ａ）が形成された領域はグルーブのヘッド領域（ＧＨ
Ｄ）と言われ、第２プリピット列（２５Ｂ）が形成され
た領域はランドのヘッド領域（ＬＨＤ）と言われる。プ
リピット列（２５）では長さより広い幅を有する図３の
第１プリピット（１１）のようなプリピットが含まれ
る。これによって、図９の光ディスクのランドとグルー
ブのトラック（２１、２３）すべては高い記録密度を有
する。
【００１７】このような光ディスクを製造するために、
二重露光法がディスク円盤の製作時に採用される。二重
露光法は１トラック分のランドのトラックとプリピット
列（２５）を形成するために基板上に塗布されたフォト
レジスト膜上に２回転ずつ光スポットが形成される。こ
のような二重露光法は図９に図示されたように、奇数番
目の回転スキャンが終了されるごとに３／２トラックだ
け内周側に光スポットを移動させるとともに、偶数番目
の回転スキャンが終了されるごとに３／２トラック幅だ
け外周側に光スポットを移動させる。光スポットがラン
ドのトラック（２１）からグルーブのヘッド領域（ＧＨ
Ｄ）に進入する場合、ランドのヘッド領域（ＬＨＤ）か
らランドのトラック（２１）に進入する場合、光スポッ
トは１／２トラック幅だけ外周側に移動される。これと
は異なって、グルーブのヘッド領域（ＧＨＤ）からラン
ドのヘッド領域（ＬＨＤ）側に進入する場合光スポット
は１トラックだけ内周側に移動する。グルーブのヘッド
領域が先に始まるとする場合、二重露光法は奇数番目の
回転のスキャンが終了するごとに１トラック幅だけ内周
側に光スポットを移動させ、偶数番目の回転スキャンが
終了するごとに２トラック幅だけ外周側に光スポットを
移動させる。
二重露光法がディスク円盤の製作時に採用される。二重
露光法は１トラック分のランドのトラックとプリピット
列（２５）を形成するために基板上に塗布されたフォト
レジスト膜上に２回転ずつ光スポットが形成される。こ
のような二重露光法は図９に図示されたように、奇数番
目の回転スキャンが終了されるごとに３／２トラックだ
け内周側に光スポットを移動させるとともに、偶数番目
の回転スキャンが終了されるごとに３／２トラック幅だ
け外周側に光スポットを移動させる。光スポットがラン
ドのトラック（２１）からグルーブのヘッド領域（ＧＨ
Ｄ）に進入する場合、ランドのヘッド領域（ＬＨＤ）か
らランドのトラック（２１）に進入する場合、光スポッ
トは１／２トラック幅だけ外周側に移動される。これと
は異なって、グルーブのヘッド領域（ＧＨＤ）からラン
ドのヘッド領域（ＬＨＤ）側に進入する場合光スポット
は１トラックだけ内周側に移動する。グルーブのヘッド
領域が先に始まるとする場合、二重露光法は奇数番目の
回転のスキャンが終了するごとに１トラック幅だけ内周
側に光スポットを移動させ、偶数番目の回転スキャンが
終了するごとに２トラック幅だけ外周側に光スポットを
移動させる。
【００１８】また、二重露光法は一つのトラックを形成
するために光スポットが第１ないし第４スキャニングラ
イン（ＴＬ１ないしＴＬ４）を選択的に移動する。ここ
で、第１スキャニングライン（ＴＬ１）はランドのトラ
ック（２１）の外周辺から内周側に１／４トラック幅だ
け離れて位置して、第２スキャニングライン（ＴＬ２）
はランドのトラック（２１）の内周辺から外周側に１／
４トラック幅だけ離れて位置する。また、第３スキャニ
ングライン（ＴＬ３）はランドのトラック（２１）の外
周辺から外周側に１／４トラック幅だけ離れて位置し
て、第４スキャニングライン（ＴＬ４）はランドのトラ
ック（２１）の内周辺から内周側に１／４トラック幅だ
け離れて位置する。これによって、奇数番目の回転時に
光スポットは第３スキャニングライン（ＴＬ３）、第２
スキャニングライン（ＴＬ２）及び第１スキャニングラ
イン（ＴＬ１）の順番で交番的に変更される。偶数番目
の回転スキャン時に光スポットは第１スキャニングライ
ン（ＴＬ１）、第４スキャニングライン（ＴＬ４）及び
第３スキャニングライン（ＴＬ３）の順に変える。実際
に、ｉ番目のランドとグルーブのトラック（２１、２
３）を形成するために光スポットは図１０のように移動
経路に沿っていく。これを詳細に説明する。
するために光スポットが第１ないし第４スキャニングラ
イン（ＴＬ１ないしＴＬ４）を選択的に移動する。ここ
で、第１スキャニングライン（ＴＬ１）はランドのトラ
ック（２１）の外周辺から内周側に１／４トラック幅だ
け離れて位置して、第２スキャニングライン（ＴＬ２）
はランドのトラック（２１）の内周辺から外周側に１／
４トラック幅だけ離れて位置する。また、第３スキャニ
ングライン（ＴＬ３）はランドのトラック（２１）の外
周辺から外周側に１／４トラック幅だけ離れて位置し
て、第４スキャニングライン（ＴＬ４）はランドのトラ
ック（２１）の内周辺から内周側に１／４トラック幅だ
け離れて位置する。これによって、奇数番目の回転時に
光スポットは第３スキャニングライン（ＴＬ３）、第２
スキャニングライン（ＴＬ２）及び第１スキャニングラ
イン（ＴＬ１）の順番で交番的に変更される。偶数番目
の回転スキャン時に光スポットは第１スキャニングライ
ン（ＴＬ１）、第４スキャニングライン（ＴＬ４）及び
第３スキャニングライン（ＴＬ３）の順に変える。実際
に、ｉ番目のランドとグルーブのトラック（２１、２
３）を形成するために光スポットは図１０のように移動
経路に沿っていく。これを詳細に説明する。
【００１９】ｉ−１番目のランドのトラック（２１）が
形成される時光スポットは２ｉ−１番目スタート時点
（ＳＴ１ｉ−１）から２トラック幅だけ外周側に移動し
て第３スキャニングライン（ＴＬ３）を移動することで
グルーブのヘッド領域（ＧＨＤ）の上半部を形成する。
グルーブのヘッド領域（ＧＨＤ）の終わりの時点に到達
した時、光スポットは一つのトラック幅だけ内周側に移
動して第２スキャニングライン（ＴＬ２）を移動してラ
ンドのヘッド領域（ＬＨＤ）の上半部を形成する。この
ランドのヘッド領域の上半部が形成される時に光スポッ
トは１／２のトラック幅だけ外周側に移動して第１スキ
ャニングライン（ＴＬ１）を移動することでランドのヘ
ッド領域（ＧＨＤ）の上半部を形成する。このように光
スポットは２ｉ＋１番目スタート時点に到達する時まで
第３、第２及び第２スキャニングライン（ＴＬ３、ＴＬ
２、ＴＬ１）を循環的に移動することでヘッド領域（Ｈ
ＤＺ）とランドのトラック（２１）の上半部を形成す
る。ｉ番目のランドのトラック（２１）の上半部が形成
される時、光スポットは１トラックの幅だけ内周側に移
動して第１スキャニングライン（ＴＬ１）を移動するこ
とでグルーブのヘッド領域（ＧＨＤ）の下半部を形成す
る。グルーブのヘッド領域（ＧＨＤ）の終わりの時点に
到達した時、光スポットは一つのトラック幅だけ内周側
に移動して第４スキャニングライン（ＴＬ４）を移動す
ることでランドのヘッド領域（ＬＨＤ）の下半部を形成
する。このランドのヘッド領域の下半部が形成される時
に光スポットは１／２トラック幅だけ外周側に移動して
第２スキャニングライン（ＴＬ２）を移動することでラ
ンドのトラック（２１）の下半部を形成する。また、光
スポットはランドのトラック（２１）の終了時点に１／
２トラック幅だけ外周側に移動する。このように光スポ
ットは２ｉ＋２番目スタート時点に到達する時まで第
１、第４及び第２スキャニングライン（ＴＬ１、ＴＬ
４、ＴＬ２）を循環的に移動することでヘッド領域（Ｈ
ＤＺ）とランドのトラック（２１）の下半部を形成す
る。このような２回転の回転スキャンによって、ｉ番目
のランドとグルーブのトラック（２１、２３）がパター
ン化される。２ｉ番目の回転スキャン後、光スポットは
２トラック幅だけ外周側に移動して２ｉ＋１番目の回転
スキャンが始まることができるようにする。このように
２回転スキャンが進行されている間、光スポットは図５
でのような露光パルス信号（ＥＰＳ）により断続され
る。光スポットはヘッド領域（ＨＤＺ）で断続的にフォ
トレジスト膜に照射されるが、記録領域（ＲＺ）では連
続的に照射される。このように、フォトレジスト膜に照
射される光スポットが切り換えられることでランドとグ
ルーブのトラックとプリーピットが形成される。
形成される時光スポットは２ｉ−１番目スタート時点
（ＳＴ１ｉ−１）から２トラック幅だけ外周側に移動し
て第３スキャニングライン（ＴＬ３）を移動することで
グルーブのヘッド領域（ＧＨＤ）の上半部を形成する。
グルーブのヘッド領域（ＧＨＤ）の終わりの時点に到達
した時、光スポットは一つのトラック幅だけ内周側に移
動して第２スキャニングライン（ＴＬ２）を移動してラ
ンドのヘッド領域（ＬＨＤ）の上半部を形成する。この
ランドのヘッド領域の上半部が形成される時に光スポッ
トは１／２のトラック幅だけ外周側に移動して第１スキ
ャニングライン（ＴＬ１）を移動することでランドのヘ
ッド領域（ＧＨＤ）の上半部を形成する。このように光
スポットは２ｉ＋１番目スタート時点に到達する時まで
第３、第２及び第２スキャニングライン（ＴＬ３、ＴＬ
２、ＴＬ１）を循環的に移動することでヘッド領域（Ｈ
ＤＺ）とランドのトラック（２１）の上半部を形成す
る。ｉ番目のランドのトラック（２１）の上半部が形成
される時、光スポットは１トラックの幅だけ内周側に移
動して第１スキャニングライン（ＴＬ１）を移動するこ
とでグルーブのヘッド領域（ＧＨＤ）の下半部を形成す
る。グルーブのヘッド領域（ＧＨＤ）の終わりの時点に
到達した時、光スポットは一つのトラック幅だけ内周側
に移動して第４スキャニングライン（ＴＬ４）を移動す
ることでランドのヘッド領域（ＬＨＤ）の下半部を形成
する。このランドのヘッド領域の下半部が形成される時
に光スポットは１／２トラック幅だけ外周側に移動して
第２スキャニングライン（ＴＬ２）を移動することでラ
ンドのトラック（２１）の下半部を形成する。また、光
スポットはランドのトラック（２１）の終了時点に１／
２トラック幅だけ外周側に移動する。このように光スポ
ットは２ｉ＋２番目スタート時点に到達する時まで第
１、第４及び第２スキャニングライン（ＴＬ１、ＴＬ
４、ＴＬ２）を循環的に移動することでヘッド領域（Ｈ
ＤＺ）とランドのトラック（２１）の下半部を形成す
る。このような２回転の回転スキャンによって、ｉ番目
のランドとグルーブのトラック（２１、２３）がパター
ン化される。２ｉ番目の回転スキャン後、光スポットは
２トラック幅だけ外周側に移動して２ｉ＋１番目の回転
スキャンが始まることができるようにする。このように
２回転スキャンが進行されている間、光スポットは図５
でのような露光パルス信号（ＥＰＳ）により断続され
る。光スポットはヘッド領域（ＨＤＺ）で断続的にフォ
トレジスト膜に照射されるが、記録領域（ＲＺ）では連
続的に照射される。このように、フォトレジスト膜に照
射される光スポットが切り換えられることでランドとグ
ルーブのトラックとプリーピットが形成される。
【００２０】図１１は本発明の第１実施形態によるマス
ターディスクの製造装置を概略的に表すブロック図であ
る。図１１のマスターディスクの製造装置はディスク基
板（２０）を回転させるスピンドルモータ（２２）と、
ディスク基板（２０）とレーザ共振器の間にビーム拡大
器（２６）、第１反射ミーラ（２８）、光変調器（３
０）、第２反射ミーラ（３２）、第３反射ミーラ（３
４）、光デフレクタ（３６）及び対物レンズ（３８）と
が配置されている。ディスク基板（２０）上にはフォト
レジスト膜（２０Ａ）が形成されている。スピンドルモ
ータ（２２）はディスク基板（２０）が回転される時回
転速度によって異なる周期を有する回転クリックを発生
する。このために、スピンドルモータ（２２）は回転角
度による位置を指示するために回転軸に記録された磁気
的信号を有する。磁気的信号はスピンドルモータ（２
２）に含まれたセンサー（図示しない）により電気的信
号に変換されることで回転クリックが形成される。レー
ザ共振器（２４）はディスク基板（２０）上のフォトレ
ジスト膜に照射されるレーザビームを発生する。レーザ
共振器（２４）で発生されたレーザビームはビーム拡大
器（２６）により一定の線束径を有するようになる。第
１反射ミーラ（２８）はビーム拡大器（２６）からレー
ザビームを光変調器（３０）側に直角反射させる。光変
調器（３０）は第１反射ミーラ（２８）から第２反射ミ
ーラ（３２）側に進行するレーザビームをチャンネルス
トリーム（ＣＨＢＳ）により切り替える。第２反射ミー
ラ（３２）は光変調器（３０）からのレーザビームを第
３反射ミーラ（３４）側に直角に反射させる。また、第
３反射ミーラ（３４）は第２反射ミーラ（３２）からの
レーザビームを光デフレクタ（３６）を経て対物レンズ
（３８）側に直角に反射させる。光デフレクタ（３６）
はレーザビームをディスク基板（２０）の直径方向に移
動させる。対物レンズ（３８）は光デフレクタ（３６）
からのレーザビームディスク基板（２０）のフォトレジ
スト膜（２０Ａ）上にスポットの形態で照射させる。ま
た、光ディスク円盤製造装置はスピンドルモータ（２
２）と光デフレクタ（３６）の間に直列接続された位相
同期ループ（ＰＬＬ、４０）、カウンター（４２）、ラ
ッチ（４４）、制御器（４８）、光変調器（３０）にチ
ャンネルビットストリーム（ＣＨＢＳ）を供給する記録
処理部（４６）とを具備する。ＰＬＬ（４０）はスピン
ドルモータ（２２）からの回転クリックを周波数逓倍し
てチャンネルクリック（ＣＨＣＬ）を発生させる。ＰＬ
Ｌ（４０）で発生されたチャンネルクリック（ＣＨＣ
Ｌ）はカウンター（４２）及び記録処理部（４６）に供
給される。カウンター（４２）はチャンネルクリック
（ＣＨＣＬ）を計数してディスク基板（２０）が１回転
されるごとにオーバーフロー信号を発生させる。ラッチ
（４４）はカウンター（４２）からオーバーフロー信号
が入力されるごとに出力信号を反転させて回転情報信号
を発生する。この回転情報信号は基板が奇数番目または
偶数番目の回転であるかどうかを指示する。また、回転
情報信号は制御器（４８）及び記録処理部（４６）に供
給される。制御器（４８）はラッチ（４４）からの回転
情報信号により光デフレクタ（３６）を制御してレーザ
ビームが図５でのようにフォトレジスト膜で毎１回転ご
とに内周側に３／２トラック幅だけまたは外周側に１／
２トラック幅だけ移動させる。
ターディスクの製造装置を概略的に表すブロック図であ
る。図１１のマスターディスクの製造装置はディスク基
板（２０）を回転させるスピンドルモータ（２２）と、
ディスク基板（２０）とレーザ共振器の間にビーム拡大
器（２６）、第１反射ミーラ（２８）、光変調器（３
０）、第２反射ミーラ（３２）、第３反射ミーラ（３
４）、光デフレクタ（３６）及び対物レンズ（３８）と
が配置されている。ディスク基板（２０）上にはフォト
レジスト膜（２０Ａ）が形成されている。スピンドルモ
ータ（２２）はディスク基板（２０）が回転される時回
転速度によって異なる周期を有する回転クリックを発生
する。このために、スピンドルモータ（２２）は回転角
度による位置を指示するために回転軸に記録された磁気
的信号を有する。磁気的信号はスピンドルモータ（２
２）に含まれたセンサー（図示しない）により電気的信
号に変換されることで回転クリックが形成される。レー
ザ共振器（２４）はディスク基板（２０）上のフォトレ
ジスト膜に照射されるレーザビームを発生する。レーザ
共振器（２４）で発生されたレーザビームはビーム拡大
器（２６）により一定の線束径を有するようになる。第
１反射ミーラ（２８）はビーム拡大器（２６）からレー
ザビームを光変調器（３０）側に直角反射させる。光変
調器（３０）は第１反射ミーラ（２８）から第２反射ミ
ーラ（３２）側に進行するレーザビームをチャンネルス
トリーム（ＣＨＢＳ）により切り替える。第２反射ミー
ラ（３２）は光変調器（３０）からのレーザビームを第
３反射ミーラ（３４）側に直角に反射させる。また、第
３反射ミーラ（３４）は第２反射ミーラ（３２）からの
レーザビームを光デフレクタ（３６）を経て対物レンズ
（３８）側に直角に反射させる。光デフレクタ（３６）
はレーザビームをディスク基板（２０）の直径方向に移
動させる。対物レンズ（３８）は光デフレクタ（３６）
からのレーザビームディスク基板（２０）のフォトレジ
スト膜（２０Ａ）上にスポットの形態で照射させる。ま
た、光ディスク円盤製造装置はスピンドルモータ（２
２）と光デフレクタ（３６）の間に直列接続された位相
同期ループ（ＰＬＬ、４０）、カウンター（４２）、ラ
ッチ（４４）、制御器（４８）、光変調器（３０）にチ
ャンネルビットストリーム（ＣＨＢＳ）を供給する記録
処理部（４６）とを具備する。ＰＬＬ（４０）はスピン
ドルモータ（２２）からの回転クリックを周波数逓倍し
てチャンネルクリック（ＣＨＣＬ）を発生させる。ＰＬ
Ｌ（４０）で発生されたチャンネルクリック（ＣＨＣ
Ｌ）はカウンター（４２）及び記録処理部（４６）に供
給される。カウンター（４２）はチャンネルクリック
（ＣＨＣＬ）を計数してディスク基板（２０）が１回転
されるごとにオーバーフロー信号を発生させる。ラッチ
（４４）はカウンター（４２）からオーバーフロー信号
が入力されるごとに出力信号を反転させて回転情報信号
を発生する。この回転情報信号は基板が奇数番目または
偶数番目の回転であるかどうかを指示する。また、回転
情報信号は制御器（４８）及び記録処理部（４６）に供
給される。制御器（４８）はラッチ（４４）からの回転
情報信号により光デフレクタ（３６）を制御してレーザ
ビームが図５でのようにフォトレジスト膜で毎１回転ご
とに内周側に３／２トラック幅だけまたは外周側に１／
２トラック幅だけ移動させる。
【００２１】これを詳細に説明すると、制御部（４８）
は回転情報信号の論理の値が“０”である時（即ち、デ
ィスク基板（２０）が奇数番目の回転を始める時）レー
ザビームを外周側に１／２トラック幅だけ移動させる。
この結果、ヘッド領域（ＨＤＺ）及びランドのトラック
（２１）の上半部が形成される。一方、回転情報信号の
論理の値が“１”である時（即ち、ディスク基板（２
０）が偶数番目の回転を始める時）レーザビームを内周
側に３／２トラック幅だけ移動させる。これによって、
ヘッド領域（ＨＤＺ）及びランドのトラック（２１）の
下半部が形成される。一方、記録処理部（４６）は露光
データを図６のようなチャンネルビットストリーム（Ｃ
ＨＢＳ）に変換して、その変換されたチャンネルビット
ストリーム（ＣＨＢＳ）をＰＬＬ（４０）からチャンネ
ルクリック（ＣＨＣＬ）に合わせて光変調器（３０）に
供給する。また、記録処理部（４６）はラッチ（４４）
からの回転情報信号に応答して１回転分のチャンネルビ
ットストリーム（ＣＨＢＳ）を再出力して、同一の露光
データがフォトレジスト膜（２０Ａ）上に２回記録され
るようにする。これを詳細に説明すると、記録処理部
（４６）は回転情報信号が“０”の論理値を有する場合
には新しいチャンネルビットストリーム（ＣＨＢＳ）を
光変調器（３０）に供給するのに対して、回転情報信号
が“１”の論理値を有する場合には以前のチャンネルビ
ットストリーム（ＣＨＢＳ）もやはりセクタの物理的な
位置情報を有する。このように位置の情報を有するチャ
ンネルビットストリーム（ＣＨＢＳ）が１回転分ずつ反
復されることと併せて偶数番目のレーザ光ビームが奇数
番目のレーザビームと隣接することで、幅が長さより大
きいプリピットがフォトレジスト膜（２０Ａ）上に形成
することができる。この結果、ディスク円盤製造装置は
高い記録密度を有する図４のような光ディスクを製造す
ることができる。
は回転情報信号の論理の値が“０”である時（即ち、デ
ィスク基板（２０）が奇数番目の回転を始める時）レー
ザビームを外周側に１／２トラック幅だけ移動させる。
この結果、ヘッド領域（ＨＤＺ）及びランドのトラック
（２１）の上半部が形成される。一方、回転情報信号の
論理の値が“１”である時（即ち、ディスク基板（２
０）が偶数番目の回転を始める時）レーザビームを内周
側に３／２トラック幅だけ移動させる。これによって、
ヘッド領域（ＨＤＺ）及びランドのトラック（２１）の
下半部が形成される。一方、記録処理部（４６）は露光
データを図６のようなチャンネルビットストリーム（Ｃ
ＨＢＳ）に変換して、その変換されたチャンネルビット
ストリーム（ＣＨＢＳ）をＰＬＬ（４０）からチャンネ
ルクリック（ＣＨＣＬ）に合わせて光変調器（３０）に
供給する。また、記録処理部（４６）はラッチ（４４）
からの回転情報信号に応答して１回転分のチャンネルビ
ットストリーム（ＣＨＢＳ）を再出力して、同一の露光
データがフォトレジスト膜（２０Ａ）上に２回記録され
るようにする。これを詳細に説明すると、記録処理部
（４６）は回転情報信号が“０”の論理値を有する場合
には新しいチャンネルビットストリーム（ＣＨＢＳ）を
光変調器（３０）に供給するのに対して、回転情報信号
が“１”の論理値を有する場合には以前のチャンネルビ
ットストリーム（ＣＨＢＳ）もやはりセクタの物理的な
位置情報を有する。このように位置の情報を有するチャ
ンネルビットストリーム（ＣＨＢＳ）が１回転分ずつ反
復されることと併せて偶数番目のレーザ光ビームが奇数
番目のレーザビームと隣接することで、幅が長さより大
きいプリピットがフォトレジスト膜（２０Ａ）上に形成
することができる。この結果、ディスク円盤製造装置は
高い記録密度を有する図４のような光ディスクを製造す
ることができる。
【００２２】図１２は本発明の他の実施形態によるディ
スク円盤の製造装置である。図１２の製造装置は光デフ
レクタ（３６）、ラッチ（４４）及び記録処理部（４
６）に接続された制御部（４８Ａ）を除いては図１１の
製造装置と同一の構成を構成を有する。図１２の製造装
置において、制御部（４８Ａ）は、ラッチ（４４）から
の回転情報信号により光デフレクタ（３６）を制御し
て、レーザビームが図５のようにフォトレジスト膜で毎
１回転ごとに内周側に３／２トラック幅だけ、または外
周側に１／２または３／２トラック幅だけ移動させるよ
うにする。これを詳細に説明すると、制御部（４８Ａ）
は回転情報信号の論理の値が“０”である時（即ち、デ
ィスク基板（２０）が奇数番目の回転を始める時）レー
ザビームを外周側に１／２または３／２トラック幅だけ
移動させる。この結果、ヘッド領域（ＨＤＺ）及びラン
ドのトラック（２１）の上半部が形成される。反面に、
回転情報信号の論理の値が“１”である時（即ち、ディ
スク基板（２０）が偶数番目の回転を始める時）レーザ
ビームを内周側に５／２または３／２トラック幅だけ移
動させる。これによって、ヘッド領域（ＨＤＺ）及びラ
ンドのトラック（２１）の下半部が形成される。また、
制御部（４８Ａ）は記録処理部（４６）からのチャンネ
ルビットストリーム（ＣＨＢＳ）により光デフレクタ
（３６）を制御してレーザビームを外周側に１／２トラ
ック幅だけまたは内周側に１トラック幅だけ移動させ
る。これを詳細に説明すると、制御部（４８Ａ）はグル
ーブのヘッド情報に対してはレーザビームを１／２トラ
ック幅だけ外周側に移動させ、ランドのヘッド情報に対
してはレーザビームを一つのトラック幅だけ内周側に移
動させるようにして、ランドのトラックに対してはレー
ザビームを１／２トラック幅だけ外周側に移動させる。
すなわち、制御部（４８Ａ）はレーザビームを図８また
は図１０のように移動させる。この結果、図７または図
９に図示されたような光ディスクを製作することができ
る。
スク円盤の製造装置である。図１２の製造装置は光デフ
レクタ（３６）、ラッチ（４４）及び記録処理部（４
６）に接続された制御部（４８Ａ）を除いては図１１の
製造装置と同一の構成を構成を有する。図１２の製造装
置において、制御部（４８Ａ）は、ラッチ（４４）から
の回転情報信号により光デフレクタ（３６）を制御し
て、レーザビームが図５のようにフォトレジスト膜で毎
１回転ごとに内周側に３／２トラック幅だけ、または外
周側に１／２または３／２トラック幅だけ移動させるよ
うにする。これを詳細に説明すると、制御部（４８Ａ）
は回転情報信号の論理の値が“０”である時（即ち、デ
ィスク基板（２０）が奇数番目の回転を始める時）レー
ザビームを外周側に１／２または３／２トラック幅だけ
移動させる。この結果、ヘッド領域（ＨＤＺ）及びラン
ドのトラック（２１）の上半部が形成される。反面に、
回転情報信号の論理の値が“１”である時（即ち、ディ
スク基板（２０）が偶数番目の回転を始める時）レーザ
ビームを内周側に５／２または３／２トラック幅だけ移
動させる。これによって、ヘッド領域（ＨＤＺ）及びラ
ンドのトラック（２１）の下半部が形成される。また、
制御部（４８Ａ）は記録処理部（４６）からのチャンネ
ルビットストリーム（ＣＨＢＳ）により光デフレクタ
（３６）を制御してレーザビームを外周側に１／２トラ
ック幅だけまたは内周側に１トラック幅だけ移動させ
る。これを詳細に説明すると、制御部（４８Ａ）はグル
ーブのヘッド情報に対してはレーザビームを１／２トラ
ック幅だけ外周側に移動させ、ランドのヘッド情報に対
してはレーザビームを一つのトラック幅だけ内周側に移
動させるようにして、ランドのトラックに対してはレー
ザビームを１／２トラック幅だけ外周側に移動させる。
すなわち、制御部（４８Ａ）はレーザビームを図８また
は図１０のように移動させる。この結果、図７または図
９に図示されたような光ディスクを製作することができ
る。
【００２３】図１３は本発明の実施形態によるマスター
ディスクの製造装置を図示する。図１３の製造装置はデ
ィスク基板（２０）を回転させるスピンドルモータ（２
２）と、ディスク基板（２０）とレーザ共振器の間に配
列されたビーム拡大器（２６）と、第１反射ミーラ（２
８）、光変調器（３０）、第２反射ミーラ（３２）、第
３反射ミーラ（３４）、光デフレクタ（３６）及び対物
レンズ（３８）とを具備する。ディスク基板（２０）上
にはフォトレジスト膜（２０Ａ）が形成されている。レ
ーザ共振器（２４）はディスク基板（２０）上のフォト
レジスト膜に照射されるビームを発生する。レーザ共振
器（２４）で発生されたレーザビームはビーム拡大器
（２６）により一定の線束径を有する。第１反射ミーラ
（２８）はビーム拡大器（２６）からレーザビームを光
変調器（３０）側に直角反射させる。光変調器（３０）
は第１反射ミーラ（２８）から第２反射ミーラ（３２）
側に進行するレーザビームをチャンネルストリーム（Ｃ
ＨＢＳ）により切り替える。第２反射ミーラ（３２）は
光変調器（３０）からレーザビームを第３反射ミーラ
（３４）側に直角に反射させる。また、第３反射ミーラ
（３４）は第２反射ミーラ（３２）からレーザビームを
光デフレクタ（３６）を経て対物レンズ（３８）側に直
角に反射させる。光デフレクタ（３６）はレーザビーム
をディスク基板（２０）の直径方向に移動させる。対物
レンズ（３８）は光デフレクタ（３６）からのレーザビ
ームをディスク基板（２０）のフォトレジスト膜（２０
Ａ）上にスポットの形態で照射させる。また、本光ディ
スク円盤製造装置は第１反射ミーラ（２８）から第２反
射ミーラ（３２）に至る光路に並列に連結される補助光
路を形成するための第２ハーフミーラ（５０）、第２光
変調器（５２）及び第２ハーフミーラ（５４）と、記録
処理部（５６）と光デフレクタ（３６）の間に接続され
た制御部とを備えている。第１ハーフミーラ（５０）は
ビーム拡大器（２６）からのレーザビームの一部を第１
反射ミーラ（２８）側に通過させるとともに他は第２光
変調器（５２）側に直角に反射させる。第２光変調器
（５２）は第１ハーフミーラ（５０）から第２ハーフミ
ーラ（５４）側に進行するレーザビーム（以下、‘補助
レーザビーム’という）をチャンネルビットストリーム
（ＣＨＢＳ）により切り替える。第２ハーフミーラ（５
４）は第２光変調器（５２）からの補助レーザビームを
第３反射ミーラ（３４）側に直角に反射させる。また、
第２ハーフミーラ（５２）は第２反射ミーラ（３２）か
らのレーザビーム（以下、‘メインレーザビーム’とい
う）を第３反射ミーラ（３４）側に通過させる。これに
よって、第３反射ミーラ（３４）はメインレーザビーム
と補助レーザビームすべてを光デフレクタ（３６）側に
直角に反射させる。この時、メインレーザビームと補助
レーザビームの中心軸などは互いに１／２のトラック幅
だけ離される。このようなメインレーザビームと補助レ
ーザビームは光デフレクタ（３６）によりディスク基板
（２０）の直径方向に移動される。また、これらメイン
レーザビームと補助レーザビームすべてが対物レンズ
（３８）に導かれることでフォトレジスター膜（２０
Ａ）上にメイン光スポットと補助光スポットが照射され
る。メイン光スポットと補助光スポットは１／２のトラ
ック幅に該当する直径を有する。メイン光スポットはト
ラックの下半部にそして補助光スポットはトラックの上
半部に位置することで図３のような上部プリピット（１
１Ａ、１３Ａ、１５Ａ、１７Ａ）と下部プリピット（１
１Ｂ、１３Ｂ、１５Ｂ、１７Ｂ）が同時に形成される。
併せて、ランドのトラック（２１）上半部と下半部も同
時に形成される。記録処理部（５６）は露光データをチ
ャンネルビットストリーム（ＣＨＢＳ）に変換してその
変換されたチャンネルビットストリーム（ＣＨＢＳ）を
第１及び第２光変調器（３０、５２）と制御部（５８）
に供給する。制御部（５８）は記録処理部（４６）から
のチャンネルビットストリーム（ＣＨＢＳ）により光デ
フレクタ（３６）を制御してメイン及び補助光スポット
を外周側に１／２トラック幅だけまたは内周側に１トラ
ック幅だけ移動させる。すなわち、制御部（５８）はグ
ルーブのヘッド情報に対してはメイン及び補助光スポッ
トを１／２トラック幅だけ内周側に移動させるようにな
り、ランドのトラックに対してはメイン及び補助光スポ
ットを１/２トラック幅だけ外周側に移動させる。この
結果、図３のように、長さに関係無しに同一の幅を有す
るプリーピットが形成されるとともに長さより幅が大き
いプリピットも形成される。また、図７または図９に図
示されたような光ディスクを製作することができる。
ディスクの製造装置を図示する。図１３の製造装置はデ
ィスク基板（２０）を回転させるスピンドルモータ（２
２）と、ディスク基板（２０）とレーザ共振器の間に配
列されたビーム拡大器（２６）と、第１反射ミーラ（２
８）、光変調器（３０）、第２反射ミーラ（３２）、第
３反射ミーラ（３４）、光デフレクタ（３６）及び対物
レンズ（３８）とを具備する。ディスク基板（２０）上
にはフォトレジスト膜（２０Ａ）が形成されている。レ
ーザ共振器（２４）はディスク基板（２０）上のフォト
レジスト膜に照射されるビームを発生する。レーザ共振
器（２４）で発生されたレーザビームはビーム拡大器
（２６）により一定の線束径を有する。第１反射ミーラ
（２８）はビーム拡大器（２６）からレーザビームを光
変調器（３０）側に直角反射させる。光変調器（３０）
は第１反射ミーラ（２８）から第２反射ミーラ（３２）
側に進行するレーザビームをチャンネルストリーム（Ｃ
ＨＢＳ）により切り替える。第２反射ミーラ（３２）は
光変調器（３０）からレーザビームを第３反射ミーラ
（３４）側に直角に反射させる。また、第３反射ミーラ
（３４）は第２反射ミーラ（３２）からレーザビームを
光デフレクタ（３６）を経て対物レンズ（３８）側に直
角に反射させる。光デフレクタ（３６）はレーザビーム
をディスク基板（２０）の直径方向に移動させる。対物
レンズ（３８）は光デフレクタ（３６）からのレーザビ
ームをディスク基板（２０）のフォトレジスト膜（２０
Ａ）上にスポットの形態で照射させる。また、本光ディ
スク円盤製造装置は第１反射ミーラ（２８）から第２反
射ミーラ（３２）に至る光路に並列に連結される補助光
路を形成するための第２ハーフミーラ（５０）、第２光
変調器（５２）及び第２ハーフミーラ（５４）と、記録
処理部（５６）と光デフレクタ（３６）の間に接続され
た制御部とを備えている。第１ハーフミーラ（５０）は
ビーム拡大器（２６）からのレーザビームの一部を第１
反射ミーラ（２８）側に通過させるとともに他は第２光
変調器（５２）側に直角に反射させる。第２光変調器
（５２）は第１ハーフミーラ（５０）から第２ハーフミ
ーラ（５４）側に進行するレーザビーム（以下、‘補助
レーザビーム’という）をチャンネルビットストリーム
（ＣＨＢＳ）により切り替える。第２ハーフミーラ（５
４）は第２光変調器（５２）からの補助レーザビームを
第３反射ミーラ（３４）側に直角に反射させる。また、
第２ハーフミーラ（５２）は第２反射ミーラ（３２）か
らのレーザビーム（以下、‘メインレーザビーム’とい
う）を第３反射ミーラ（３４）側に通過させる。これに
よって、第３反射ミーラ（３４）はメインレーザビーム
と補助レーザビームすべてを光デフレクタ（３６）側に
直角に反射させる。この時、メインレーザビームと補助
レーザビームの中心軸などは互いに１／２のトラック幅
だけ離される。このようなメインレーザビームと補助レ
ーザビームは光デフレクタ（３６）によりディスク基板
（２０）の直径方向に移動される。また、これらメイン
レーザビームと補助レーザビームすべてが対物レンズ
（３８）に導かれることでフォトレジスター膜（２０
Ａ）上にメイン光スポットと補助光スポットが照射され
る。メイン光スポットと補助光スポットは１／２のトラ
ック幅に該当する直径を有する。メイン光スポットはト
ラックの下半部にそして補助光スポットはトラックの上
半部に位置することで図３のような上部プリピット（１
１Ａ、１３Ａ、１５Ａ、１７Ａ）と下部プリピット（１
１Ｂ、１３Ｂ、１５Ｂ、１７Ｂ）が同時に形成される。
併せて、ランドのトラック（２１）上半部と下半部も同
時に形成される。記録処理部（５６）は露光データをチ
ャンネルビットストリーム（ＣＨＢＳ）に変換してその
変換されたチャンネルビットストリーム（ＣＨＢＳ）を
第１及び第２光変調器（３０、５２）と制御部（５８）
に供給する。制御部（５８）は記録処理部（４６）から
のチャンネルビットストリーム（ＣＨＢＳ）により光デ
フレクタ（３６）を制御してメイン及び補助光スポット
を外周側に１／２トラック幅だけまたは内周側に１トラ
ック幅だけ移動させる。すなわち、制御部（５８）はグ
ルーブのヘッド情報に対してはメイン及び補助光スポッ
トを１／２トラック幅だけ内周側に移動させるようにな
り、ランドのトラックに対してはメイン及び補助光スポ
ットを１/２トラック幅だけ外周側に移動させる。この
結果、図３のように、長さに関係無しに同一の幅を有す
るプリーピットが形成されるとともに長さより幅が大き
いプリピットも形成される。また、図７または図９に図
示されたような光ディスクを製作することができる。
【００２４】このように、図１３の製造装置はトラック
の上半部と下半部各々に光スポットが同時に照射される
ようにすることでシングルトレースによりプリピット及
びランドのトラックを形成することができる。それによ
り、図１３の製造装置は、図１１及び図１２の製造装置
よりディスク円盤の製作に要する時間を１／２に減らす
ことができる。図４、図７及び図９に図示された実施形
態などの光ディスクにおいて、最初始めの位置が異なる
場合（例えば、回転スキャンがＳＰ２ｉ−１変わりにＳ
Ｐ２ｉで始まると）、光経路の転移部で光スポットの移
動幅が異なることがある。また、図７及び図９に図示さ
れたランドとグルーブのトラックはワーブルされること
がある。このようなワーブル光ディスク光ディスクを製
造するために、図１１ないし図１３の露光装置などに含
まれた光デフレクタ（３６）はワーブル信号の振幅によ
りレーザビームをトラックの幅に移動させるようにな
る。
の上半部と下半部各々に光スポットが同時に照射される
ようにすることでシングルトレースによりプリピット及
びランドのトラックを形成することができる。それによ
り、図１３の製造装置は、図１１及び図１２の製造装置
よりディスク円盤の製作に要する時間を１／２に減らす
ことができる。図４、図７及び図９に図示された実施形
態などの光ディスクにおいて、最初始めの位置が異なる
場合（例えば、回転スキャンがＳＰ２ｉ−１変わりにＳ
Ｐ２ｉで始まると）、光経路の転移部で光スポットの移
動幅が異なることがある。また、図７及び図９に図示さ
れたランドとグルーブのトラックはワーブルされること
がある。このようなワーブル光ディスク光ディスクを製
造するために、図１１ないし図１３の露光装置などに含
まれた光デフレクタ（３６）はワーブル信号の振幅によ
りレーザビームをトラックの幅に移動させるようにな
る。
【００２５】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の光
ディスクは従来のものより幅の広いピットが形成される
ので高い記録密度を有する。本発明によるマスターディ
スクの製造方法及び装置はフォトレジスト膜にビームを
少なくとも２回以上反復露光したり多重ビームを使用し
て露光することで幅が一定のピットを形成することがで
きるとともに再生時変調度が高い光ディスクを成型する
ことができる。さらに、本発明によるマスターディスク
の製造方法及び装置は長さより長い幅を有するピットが
形成されることで高い記録密度を有する光ディスクが成
型される。
ディスクは従来のものより幅の広いピットが形成される
ので高い記録密度を有する。本発明によるマスターディ
スクの製造方法及び装置はフォトレジスト膜にビームを
少なくとも２回以上反復露光したり多重ビームを使用し
て露光することで幅が一定のピットを形成することがで
きるとともに再生時変調度が高い光ディスクを成型する
ことができる。さらに、本発明によるマスターディスク
の製造方法及び装置は長さより長い幅を有するピットが
形成されることで高い記録密度を有する光ディスクが成
型される。
【図１】 従来のマスターディスクに形成されるプリピ
ット列を図示する図面である。
ット列を図示する図面である。
【図２】 レーザビームによるディスク円盤に形成され
るプリピット列を図示する図面である。
るプリピット列を図示する図面である。
【図３】 本発明によるディスク円盤に形成されるプリ
ピット列を図示する図面である。
ピット列を図示する図面である。
【図４】 本発明の実施形態による光ディスクのトラッ
ク構造を図示する図面である。
ク構造を図示する図面である。
【図５】 図４の光ディスクの製造時露光面に照射され
る光スポットの照射経路を図示する図面である。
る光スポットの照射経路を図示する図面である。
【図６】 ヘッド領域を有する光ディスク製造時使用さ
れる露光パルスの波形図である。
れる露光パルスの波形図である。
【図７】 本発明の実施形態による光ディスクのトラッ
ク構造を図示する図面である。
ク構造を図示する図面である。
【図８】 図７の光ディスクの製造時露光面に照射され
る光スポットの照射経路を図示する図面である。
る光スポットの照射経路を図示する図面である。
【図９】 本発明の実施形態による光ディスクのトラッ
ク構造を図示する図面である。
ク構造を図示する図面である。
【図１０】 図９の光ディスクの製造時露光面に照射さ
れる光スポットの照射経路を説明する図面である。
れる光スポットの照射経路を説明する図面である。
【図１１】 本発明の実施形態によるマスターディスク
の製造装置を図示するブロック図である。
の製造装置を図示するブロック図である。
【図１２】 本発明の実施形態によるマスターディスク
の製造装置を図示するブロック図である。
の製造装置を図示するブロック図である。
【図１３】 本発明のまた他の実施形態によるマスター
ディスクの製造装置を図示するブロック図である。
ディスクの製造装置を図示するブロック図である。
１、３、７：プリピット １１、１３、１５、１７：第１ないし第４ピット １１Ａ、１３Ａ、１５Ａ、１７Ａ：第１ないし第４上部
ピット １１Ｂ、１３Ｂ、１５Ｂ、１７Ｂ：第１ないし第４下部
ピット ２０：ディスク基板 ２０Ａ：フォト
レジスト膜 ２１：ランドのトラック ２２：スピンド
ルモータ ２３：グルーブのトラック ２４：レーザ共
振器 ２５：プリピット列 ２５Ａ：第１プ
リピット列 ２５Ｂ：第２プリピット列 ２６：ビーム拡
大器 ２８：第１反射ミーラ ３０：光変調器 ３２：第２反射ミーラ ３４：第３反射
ミーラ ３６：光デフレクタ ３８：対物レン
ズ ４０：ＰＬＬ ４２：カウンタ
ー ４４：ラッチ ４６：記録処理
部 ４８：制御器 ４８Ａ：制御部 ５０、５４：第２ハーフミーラ ５２：第２光変
調器
ピット １１Ｂ、１３Ｂ、１５Ｂ、１７Ｂ：第１ないし第４下部
ピット ２０：ディスク基板 ２０Ａ：フォト
レジスト膜 ２１：ランドのトラック ２２：スピンド
ルモータ ２３：グルーブのトラック ２４：レーザ共
振器 ２５：プリピット列 ２５Ａ：第１プ
リピット列 ２５Ｂ：第２プリピット列 ２６：ビーム拡
大器 ２８：第１反射ミーラ ３０：光変調器 ３２：第２反射ミーラ ３４：第３反射
ミーラ ３６：光デフレクタ ３８：対物レン
ズ ４０：ＰＬＬ ４２：カウンタ
ー ４４：ラッチ ４６：記録処理
部 ４８：制御器 ４８Ａ：制御部 ５０、５４：第２ハーフミーラ ５２：第２光変
調器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 7/26 G11B 7/24
Claims (13)
- 【請求項１】 基板にフォトレジスト膜を成膜する段階
と、 前記フォトレジスト膜を少なくとも２回以上反復露光し
て前記基板上に一つのトラックを形成する段階とを含む
ことを特徴とするマスターディスクの製造方法。 - 【請求項２】 前記露光段階は、前記トラック上に形成
されるピットの位置に対応されるフォトレジスト膜を反
復露光することを特徴とする請求項１記載のマスターデ
ィスクの製造方法。 - 【請求項３】 前記露光段階が、前記トラックに形成さ
れるグルーブの位置に対応する前記フォトレジスト膜を
反復露光することを特徴とする請求項１記載のマスター
ディスクの製造方法。 - 【請求項４】 前記露光段階は、レーザ光を生成する段
階と、前記基板上に記録されるチャンネルビットストリ
ームによりレーザ光を断続する段階と、前記基板が１回
転されるごとに前記レーザ光の軸を内周及び外周のいず
れかの一側に移動させる段階とを追加で含むことを特徴
とする請求項１記載のマスターディスクの製造方法。 - 【請求項５】 請求項１の方法により製造されたことを
特徴とするマスターディスク。 - 【請求項６】 請求項５記載のマスターディスクを転写
してスタンパーを製造する段階と、前記スタンパーを利
用してディスク基板を成型する段階とを含むことを特徴
とする光ディスクの製造方法。 - 【請求項７】 請求項６の製造方法により製造されたこ
とを特徴とする光ディスク。 - 【請求項８】 基板にフォトレジスト膜を成膜する段階
と、 前記フォトレジスト膜を少なくとも２以上の光スポット
に同時に露光して前記基板上に一つのトラックを形成さ
れる段階とを含むことを特徴とするマスターディスクの
製造方法。 - 【請求項９】 前記露光段階は、レーザ光を生成する段
階と、露光データをチャンネルビットストリームに変換
する段階と、前記レーザ光を少なくとも一つ以上のビー
ムに分離する段階と、前記少なくとも一つ以上のビーム
を前記チャンネルビットストリームにより断続する段階
と、前記少なくとも一つ以上のビームを互いに重畳され
るようにして前記ビームの光路を一致させる段階と、前
記チャンネルビットストリームにより前記ビームの光軸
を前記基板に対して内周側と外周側のいずれかの一側に
移動させる段階とをさらに含むことを特徴とする請求項
８記載のマスターディスクの製造方法。 - 【請求項１０】 フォトレジスト膜を少なくとも２回以
上反復露光して基板上に一つのトラックが形成されるよ
うにする露光手段とを具備することを特徴とするマスタ
ーディスクの製造装置。 - 【請求項１１】 前記露光手段は、前記トラック上に形
成されるピットの位置に対応される前記をフォトレジス
ト膜を反復露光することを特徴とする請求項１０記載の
マスターディスクの製造装置。 - 【請求項１２】 前記露光手段が、前記トラックに形成
されるグルーブの位置に対応する前記フォトレジスト膜
を反復露光することを特徴とする請求項１０記載のマス
ターディスクの製造装置。 - 【請求項１３】 レーザ光を生成するレーザ発生手段
と、入力ラインを通して入力された露光データをチャン
ネルビットストリームに変換して記録処理手段と、前記
レーザ光を前記チャンネルビットストリームにより断続
する光変調手段と、基板が回転による回転情報を検出す
る回転数検出手段と、前記回転情報により前記レーザ光
の光軸を前記基板に対して内周側と外周側のいずれかの
側に移動させる光偏向手段とをさらに具備することを特
徴とするマスターディスクの製造装置。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019980011975A KR100433238B1 (ko) | 1998-04-04 | 1998-04-04 | 광디스크및마스터디스크제조방법및장치 |
| KR11975/1998 | 1998-04-04 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11328744A JPH11328744A (ja) | 1999-11-30 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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|---|---|
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| KR (1) | KR100433238B1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| WO2002023544A1 (fr) | 2000-09-12 | 2002-03-21 | Tdk Corporation | Support d'enregistrement optique |
| EP1504446B1 (en) | 2002-05-01 | 2011-06-29 | LG Electronics, Inc. | High-density read-only optical disc, and optical disc apparatus and method using the same background of the invention |
| KR100915874B1 (ko) * | 2002-05-01 | 2009-09-07 | 엘지전자 주식회사 | 고밀도 광디스크와, 그에 따른 광디스크 장치 및 방법 |
| EP1518227B1 (en) | 2002-07-02 | 2013-09-04 | LG Electronics, Inc. | High-density optical disc and method for restricting playback of the high-density optical disc in optical disc apparatus |
| KR100545800B1 (ko) * | 2002-10-01 | 2006-01-24 | 엘지전자 주식회사 | 이중 트랙 구조를 갖는 광디스크와, 광디스크 장치에서의데이터 기록 및 재생방법 |
| TWI251233B (en) * | 2002-11-19 | 2006-03-11 | Hitachi Maxell | Optical information recording medium and method of manufacturing the same |
| KR101021074B1 (ko) * | 2002-12-19 | 2011-03-14 | 코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. | 광 기록매체의 정보층에 마크들을 기록하는 방법 및기록장치 |
| KR101051000B1 (ko) | 2003-02-19 | 2011-07-26 | 엘지전자 주식회사 | 고밀도 광디스크와, 그에 따른 불법 복제 판별방법 |
| JP4481982B2 (ja) | 2004-03-04 | 2010-06-16 | パイオニア株式会社 | 情報記録方法、および情報記録装置 |
| JP4322919B2 (ja) * | 2004-03-23 | 2009-09-02 | パイオニア株式会社 | 電子ビーム描画装置 |
| WO2006038153A1 (en) * | 2004-10-08 | 2006-04-13 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Mastering of an optical disc with a data pattern in the form of a metatrack having coplanar parallel sub-tracks |
| JP4528308B2 (ja) * | 2004-12-28 | 2010-08-18 | パイオニア株式会社 | ビーム記録方法及び装置 |
| EP1979786B1 (en) * | 2006-01-30 | 2011-11-02 | 3dcd, Llc | Optically variable device mastering system, method of authenticating articles employing the same, and resultant article |
| KR100920658B1 (ko) * | 2007-05-01 | 2009-10-09 | 엘지전자 주식회사 | 고밀도 재생전용 광디스크와, 그에 따른 광디스크 장치 및방법 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3902010A (en) * | 1972-02-15 | 1975-08-26 | Canon Kk | Information recording device with record having layers with different intensity sensitivity |
| FR2321164A1 (fr) * | 1975-08-13 | 1977-03-11 | Thomson Csf | Procede mecano-optique de diffusion de l'information, disque et dispositifs d'enregistrement et de lecture pour la mise en oeuvre de ce procede |
| JPS6433613A (en) * | 1987-07-30 | 1989-02-03 | Mitsubishi Electric Corp | Information processor |
| JPH0230748A (ja) | 1988-07-20 | 1990-02-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 微細パターン形成方法 |
| JPH05290411A (ja) | 1992-04-07 | 1993-11-05 | Ricoh Co Ltd | 光ディスク原盤製造方法及び製造装置 |
| JPH06103613A (ja) | 1992-09-16 | 1994-04-15 | Sony Corp | 光ディスク原盤の製造方法 |
| US5843626A (en) * | 1995-04-19 | 1998-12-01 | Pioneer Video Corporation | Method for manufacturing a master disc for optical discs |
| KR100234291B1 (ko) * | 1997-09-12 | 1999-12-15 | 윤종용 | 광디스크 제작용 마스타 디스크 제조방법 |
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1998
- 1998-04-04 KR KR1019980011975A patent/KR100433238B1/ko not_active IP Right Cessation
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1999
- 1999-04-01 DE DE19914985A patent/DE19914985C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1999-04-02 US US09/285,265 patent/US6482493B1/en not_active Expired - Fee Related
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