JPH05290411A - 光ディスク原盤製造方法及び製造装置 - Google Patents
光ディスク原盤製造方法及び製造装置Info
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- JPH05290411A JPH05290411A JP11415592A JP11415592A JPH05290411A JP H05290411 A JPH05290411 A JP H05290411A JP 11415592 A JP11415592 A JP 11415592A JP 11415592 A JP11415592 A JP 11415592A JP H05290411 A JPH05290411 A JP H05290411A
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- signal
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ピットの長短によって露光レーザビームの形
状を変化させ、再生信号品質を向上させる。 【構成】 プリフォーマット信号発生回路からの信号Ｓ
1は、形成すべきプリフォーマットピット列に従ってオ
ン・オフされる信号である。Ｓ1は光変調素子３に入力
されるとともに、パルス幅弁別回路２に入り、露光ビー
ム形状制御信号Ｓ2を出力する。Ｓ2を受けた露光ビーム
形状制御回路４は、Ｓ1のパルス幅に応じた露光ビーム
形状を前記光変調素子３に導く。これにより、ピットの
長さ（パルス幅）に応じて露光ビーム形状を変化させ
る。
状を変化させ、再生信号品質を向上させる。 【構成】 プリフォーマット信号発生回路からの信号Ｓ
1は、形成すべきプリフォーマットピット列に従ってオ
ン・オフされる信号である。Ｓ1は光変調素子３に入力
されるとともに、パルス幅弁別回路２に入り、露光ビー
ム形状制御信号Ｓ2を出力する。Ｓ2を受けた露光ビーム
形状制御回路４は、Ｓ1のパルス幅に応じた露光ビーム
形状を前記光変調素子３に導く。これにより、ピットの
長さ（パルス幅）に応じて露光ビーム形状を変化させ
る。
Description
【０００１】
【技術分野】本発明は、光ディスク原盤製造方法及び製
造装置に関する。
造装置に関する。
【０００２】
【従来技術】ＣＣＳ（Composite Continuous Servo）光
ディスクのプリフォーマット部分には、セクターマーク
と呼ばれる長いピットからなる部分と、それ以外の短い
ピット（ＶＦＯが代表的）が存在する。ＶＦＯは、ディ
スク回転に変動があっても確実にデータを再生できるよ
うにするための連続的な繰返しデータ・パターンであ
る。プリフォーマット部は、ガラス原盤上に塗布された
レジストに所望するパターンに従ってＯＮ−ＯＦＦされ
た露光レーザビームを当てて形成している。当初、プリ
フォーマット形成は、一定円形パワーの露光レーザビー
ムを単にＯＮ−ＯＦＦして行っていた。ところが、この
方法によると、形成されるプリフォーマットピットの大
きさが長いセクターマークピットと短いピットで異なっ
てしまう。セクターマークピット幅は短いピット幅より
大きいので、このプリフォーマット部を再生して得られ
る信号のうち、短いピットの信号振幅が小さいという欠
点を有していた。図７（ａ）〜（ｄ）は、セクターマー
クとＶＦＯにおける例を示す図である。
ディスクのプリフォーマット部分には、セクターマーク
と呼ばれる長いピットからなる部分と、それ以外の短い
ピット（ＶＦＯが代表的）が存在する。ＶＦＯは、ディ
スク回転に変動があっても確実にデータを再生できるよ
うにするための連続的な繰返しデータ・パターンであ
る。プリフォーマット部は、ガラス原盤上に塗布された
レジストに所望するパターンに従ってＯＮ−ＯＦＦされ
た露光レーザビームを当てて形成している。当初、プリ
フォーマット形成は、一定円形パワーの露光レーザビー
ムを単にＯＮ−ＯＦＦして行っていた。ところが、この
方法によると、形成されるプリフォーマットピットの大
きさが長いセクターマークピットと短いピットで異なっ
てしまう。セクターマークピット幅は短いピット幅より
大きいので、このプリフォーマット部を再生して得られ
る信号のうち、短いピットの信号振幅が小さいという欠
点を有していた。図７（ａ）〜（ｄ）は、セクターマー
クとＶＦＯにおける例を示す図である。
【０００３】この不具合を解消するため、セクターマー
ク部の長いピット部と短いピット部のピット幅を等しく
する方法が提案されている。これらは短いピットが十分
な大きさに形成されるようにパワーを上げで露光し、逆
にセクターマーク部では、ピットの幅が大きくなりすぎ
ないようにパワーそのもの、あるいは等価的なパワーを
短ピット部より小さく抑えるというものである。
ク部の長いピット部と短いピット部のピット幅を等しく
する方法が提案されている。これらは短いピットが十分
な大きさに形成されるようにパワーを上げで露光し、逆
にセクターマーク部では、ピットの幅が大きくなりすぎ
ないようにパワーそのもの、あるいは等価的なパワーを
短ピット部より小さく抑えるというものである。
【０００４】例えば、特開平１−２８６１４３号公報に
提案されている「光ディスク原盤製造方法および装置」
は、図７（ｅ）〜（ｇ）に示すように、セクターマーク
のパワーは低く、短ピットのパワーは大きくしたもので
ある。また、例えば、特開平１−２８６１４４号公報に
提案されたものは、セクターマークは短いパルスの集合
として形成するものである。これらの方法では、確かに
短いピットによる再生信号は十分な落ち込みが得られ
る。ところが、短ピットの形状が円形であるため、ピッ
トサイズが大きくなった分だけピットエッジ間の間隔が
相対的に短くなる（図７（ｃ）と（ｆ）におけるＤ1＞
Ｄ2）ために、この部分では、実際には図７（ｇ）点線
に示すように再生信号が上昇しにくく、結果として短ピ
ット部の再生信号振幅が期待ほど大きくならない場合が
ある。
提案されている「光ディスク原盤製造方法および装置」
は、図７（ｅ）〜（ｇ）に示すように、セクターマーク
のパワーは低く、短ピットのパワーは大きくしたもので
ある。また、例えば、特開平１−２８６１４４号公報に
提案されたものは、セクターマークは短いパルスの集合
として形成するものである。これらの方法では、確かに
短いピットによる再生信号は十分な落ち込みが得られ
る。ところが、短ピットの形状が円形であるため、ピッ
トサイズが大きくなった分だけピットエッジ間の間隔が
相対的に短くなる（図７（ｃ）と（ｆ）におけるＤ1＞
Ｄ2）ために、この部分では、実際には図７（ｇ）点線
に示すように再生信号が上昇しにくく、結果として短ピ
ット部の再生信号振幅が期待ほど大きくならない場合が
ある。
【０００５】この現象は、再生ビームの大きさに対して
短ピットエッジ間の間隔が短い（小さい）ことが原因で
生じる。すなわち、図７（ｃ）においては、再生ビーム
の大きさに対してＤ1の値は比較的大きいため、ピット
による回折の割合が小さくなり、反射光量が多くなる
が、図７（ｆ）では、再生ビームの大きさに対してＤ2
の値が小さいために回折の割合が大きく、反射光量が少
なくなるからである。このように、円形の露光ビームで
短ピットを形成する場合、ピット幅とピットエッジ間隔
の要求を両方ともクリアさせることは本質的に困難であ
る。
短ピットエッジ間の間隔が短い（小さい）ことが原因で
生じる。すなわち、図７（ｃ）においては、再生ビーム
の大きさに対してＤ1の値は比較的大きいため、ピット
による回折の割合が小さくなり、反射光量が多くなる
が、図７（ｆ）では、再生ビームの大きさに対してＤ2
の値が小さいために回折の割合が大きく、反射光量が少
なくなるからである。このように、円形の露光ビームで
短ピットを形成する場合、ピット幅とピットエッジ間隔
の要求を両方ともクリアさせることは本質的に困難であ
る。
【０００６】
【目的】本発明は、上述のごとき実情に鑑みてなされた
もので、ＶＦＯなどの短いピットからも十分な再生信号
振幅が得られるプリフォーマットピットを形成するため
の光ディスク原盤製造方法及び製造装置を提供すること
を目的としてなされたものである。
もので、ＶＦＯなどの短いピットからも十分な再生信号
振幅が得られるプリフォーマットピットを形成するため
の光ディスク原盤製造方法及び製造装置を提供すること
を目的としてなされたものである。
【０００７】
【構成】本発明は、上記目的を達成するために、（１）
長いセクターマークピット部と他の短いプリピット部か
ら成るプリフォーマット部を、一定のパワーを有する露
光レーザ光を変調させて形成する光ディスク原盤製造方
法において、形成されるべきプリフォーマットピット列
に従ってオン・オフされるプリフォーマット信号を発生
し、該プリフォーマット信号をパルス幅弁別回路に入力
して露光ビーム形状制御信号を出力し、該露光ビーム形
状制御信号により前記プリフォーマット信号のパルス幅
に応じた露光ビーム形状を制御すること、更には、
（２）前記セクターマークピット部の露光レーザビーム
形状を円形とし、他のピットの露光レーザビーム形状を
ピット列方向に短く、それと直交する方向に長い形状と
して露光すること、或いは、（３）形成されるべきプリ
フォーマットピット列に従ってオン・オフされるプリフ
ォーマット信号を発生するプリフォーマット信号発生手
段と、該プリフォーマット信号発生手段により発生され
るプリフォーマット信号から、セクターマークを抽出
し、セクターマークゲート信号を発生するセクターマー
ク分離手段と、該セクターマーク分離手段により発生さ
れたセクターマークゲート信号を入力する露光ビーム切
換手段とから成り、該露光ビーム切換手段が、前記セク
ターマークピット部の露光レーザビームと他のピットの
露光レーザビームを時分割で選択するための選択手段を
有すること、更には、（４）前記（３）において、前記
選択手段が、光変調素子を用いて２本の露光レーザビー
ムを時分割に選択するものであること、更には、（５）
前記（３）において、前記選択手段が、ＴＮ液晶シャッ
タと互いに直交する振動面を有する直線偏光からなる２
本の露光レーザビームを用い、該レーザビームを時分割
に選択するものであること、更には、（６）前記（３）
において、前記セクターマークピット部とその他のピッ
ト部を露光するレーザビームを別の光源から得ることを
特徴としたものである。以下、本発明の実施例に基づい
て説明する。
長いセクターマークピット部と他の短いプリピット部か
ら成るプリフォーマット部を、一定のパワーを有する露
光レーザ光を変調させて形成する光ディスク原盤製造方
法において、形成されるべきプリフォーマットピット列
に従ってオン・オフされるプリフォーマット信号を発生
し、該プリフォーマット信号をパルス幅弁別回路に入力
して露光ビーム形状制御信号を出力し、該露光ビーム形
状制御信号により前記プリフォーマット信号のパルス幅
に応じた露光ビーム形状を制御すること、更には、
（２）前記セクターマークピット部の露光レーザビーム
形状を円形とし、他のピットの露光レーザビーム形状を
ピット列方向に短く、それと直交する方向に長い形状と
して露光すること、或いは、（３）形成されるべきプリ
フォーマットピット列に従ってオン・オフされるプリフ
ォーマット信号を発生するプリフォーマット信号発生手
段と、該プリフォーマット信号発生手段により発生され
るプリフォーマット信号から、セクターマークを抽出
し、セクターマークゲート信号を発生するセクターマー
ク分離手段と、該セクターマーク分離手段により発生さ
れたセクターマークゲート信号を入力する露光ビーム切
換手段とから成り、該露光ビーム切換手段が、前記セク
ターマークピット部の露光レーザビームと他のピットの
露光レーザビームを時分割で選択するための選択手段を
有すること、更には、（４）前記（３）において、前記
選択手段が、光変調素子を用いて２本の露光レーザビー
ムを時分割に選択するものであること、更には、（５）
前記（３）において、前記選択手段が、ＴＮ液晶シャッ
タと互いに直交する振動面を有する直線偏光からなる２
本の露光レーザビームを用い、該レーザビームを時分割
に選択するものであること、更には、（６）前記（３）
において、前記セクターマークピット部とその他のピッ
ト部を露光するレーザビームを別の光源から得ることを
特徴としたものである。以下、本発明の実施例に基づい
て説明する。
【０００８】図１は、本発明による光ディスク原盤製造
方法を説明するための構成図で、図中、１はプリフォー
マット信号発生回路、２はパルス幅弁別回路、３は光変
調素子、４は露光ビーム形状制御回路である。プリフォ
ーマット信号発生回路１から発生されるプリフォーマッ
ト信号Ｓ1は、形成すべきプリフォーマットピット列に
従ってＯＮ−ＯＦＦされた図７（ｂ）のような波形であ
る。Ｓ1は直接光変調素子３に入力される他に、パルス
幅弁別回路２にも入力される。該パルス幅弁別回路２か
らは露光ビーム形状制御信号Ｓ2が出力し、これを受け
た露光ビーム形状制御回路４は、Ｓ1のパルス幅に応じ
た露光ビーム形状を光変調素子３に導いて光ディスク原
盤を露光する。これによって、ピットの長さ（すなわち
パルス幅）に応じて露光ビーム形状を変化させ、再生信
号の面から見て最適なプリフォーマットとなるようなビ
ーム形状で露光する。
方法を説明するための構成図で、図中、１はプリフォー
マット信号発生回路、２はパルス幅弁別回路、３は光変
調素子、４は露光ビーム形状制御回路である。プリフォ
ーマット信号発生回路１から発生されるプリフォーマッ
ト信号Ｓ1は、形成すべきプリフォーマットピット列に
従ってＯＮ−ＯＦＦされた図７（ｂ）のような波形であ
る。Ｓ1は直接光変調素子３に入力される他に、パルス
幅弁別回路２にも入力される。該パルス幅弁別回路２か
らは露光ビーム形状制御信号Ｓ2が出力し、これを受け
た露光ビーム形状制御回路４は、Ｓ1のパルス幅に応じ
た露光ビーム形状を光変調素子３に導いて光ディスク原
盤を露光する。これによって、ピットの長さ（すなわち
パルス幅）に応じて露光ビーム形状を変化させ、再生信
号の面から見て最適なプリフォーマットとなるようなビ
ーム形状で露光する。
【０００９】図２（ａ）〜（ｄ）は、本発明による光デ
ィスク原盤製造方法の一実施例を説明するための工程図
で、図（ａ）は露光ビーム、図（ｂ）は露光レーザパワ
ー、図（ｃ）は形成ピット、図（ｄ）は再生信号を各々
示している。露光ビームの形状をピットの長いセクター
マーク部とピットの短いＶＦＯ部などで変化させ、前者
においては円形、後者においては楕円ビームとする。楕
円はピット列の方向（図２中の水平方向）に短く（短径
ｂ）、それと直交する方向に長い（長径ａ）もので、長
径ａ，短径ｂを変化させることにより、セクターマーク
のピット幅と等しい幅Ｗ１を有し、かつピットエッジ間
隔がＤ3（Ｄ1＜Ｄ2＜Ｄ3）とある程度長くとれる短ピッ
トを形成することができる。ピット部による再生信号の
落ち込みは、ピットの面積が大きいほど多く、ピットエ
ッジ間隔が長いほど回折の影響が少なく、反射光量が多
くなる。したがって、得られる短ピット部の再生信号振
幅は、図７（ｇ）点線の欠点を有さず十分大きなものと
なる。また、短いピットの露光ビームを楕円の代わり
に、矩形などのようにピット列と直交する方向に長い形
状を有するビームとしても同様である。
ィスク原盤製造方法の一実施例を説明するための工程図
で、図（ａ）は露光ビーム、図（ｂ）は露光レーザパワ
ー、図（ｃ）は形成ピット、図（ｄ）は再生信号を各々
示している。露光ビームの形状をピットの長いセクター
マーク部とピットの短いＶＦＯ部などで変化させ、前者
においては円形、後者においては楕円ビームとする。楕
円はピット列の方向（図２中の水平方向）に短く（短径
ｂ）、それと直交する方向に長い（長径ａ）もので、長
径ａ，短径ｂを変化させることにより、セクターマーク
のピット幅と等しい幅Ｗ１を有し、かつピットエッジ間
隔がＤ3（Ｄ1＜Ｄ2＜Ｄ3）とある程度長くとれる短ピッ
トを形成することができる。ピット部による再生信号の
落ち込みは、ピットの面積が大きいほど多く、ピットエ
ッジ間隔が長いほど回折の影響が少なく、反射光量が多
くなる。したがって、得られる短ピット部の再生信号振
幅は、図７（ｇ）点線の欠点を有さず十分大きなものと
なる。また、短いピットの露光ビームを楕円の代わり
に、矩形などのようにピット列と直交する方向に長い形
状を有するビームとしても同様である。
【００１０】図３〜図５は、本発明による光ディスク原
盤製造装置の一実施例を説明するための図で、図３は露
光ビーム形状を変えるための制御回路のブロック図、図
４は図３に示したブロック図中の信号を示す図、図５は
光ディスク原盤製造装置の光学系を示す図である。図
中、１１はプリフォーマット信号発生回路、１２はセク
ターマーク分離回路、１３は光変調素子、１４は露光ビ
ーム切換回路、１５はガラス原盤、１６，１７はシャッ
タ、１８はセクターマーク整形光学系、１９は短ピット
整形光学系、２０はセクターマーク用レーザビーム、２
１は短ピット用レーザビームである。
盤製造装置の一実施例を説明するための図で、図３は露
光ビーム形状を変えるための制御回路のブロック図、図
４は図３に示したブロック図中の信号を示す図、図５は
光ディスク原盤製造装置の光学系を示す図である。図
中、１１はプリフォーマット信号発生回路、１２はセク
ターマーク分離回路、１３は光変調素子、１４は露光ビ
ーム切換回路、１５はガラス原盤、１６，１７はシャッ
タ、１８はセクターマーク整形光学系、１９は短ピット
整形光学系、２０はセクターマーク用レーザビーム、２
１は短ピット用レーザビームである。
【００１１】プリフォーマット信号Ｓ1は、図４（ａ）
に示されるようなパルス列である。Ｓ1は光変調素子１
３（図５中にもある）とセクターマーク分離回路１２に
入力される。セクターマーク分離回路１２は、Ｓ1から
セクターマーク（長いパルス）を抽出し、セクターマー
クゲート信号Ｓ2を発生させる。Ｓ2は露光ビーム切換回
路１４に入力される。該露光ビーム切換回路１４は、Ｓ
2に従って図５のシャッタ１６，１７を選択的に１つず
つ開閉する。すなわち、Ｓ2がＯＮの時はビーム２０で
露光され、Ｓ2がＯＦＦの時はビーム２１でガラス原盤
が露光される。光学系１８はビーム２０を円形に整形
し、光学系１９はビーム２１を楕円などにそれぞれ整形
する。光変調素子１３はＳ1に従ってビームをＯＮ−Ｏ
ＦＦする。
に示されるようなパルス列である。Ｓ1は光変調素子１
３（図５中にもある）とセクターマーク分離回路１２に
入力される。セクターマーク分離回路１２は、Ｓ1から
セクターマーク（長いパルス）を抽出し、セクターマー
クゲート信号Ｓ2を発生させる。Ｓ2は露光ビーム切換回
路１４に入力される。該露光ビーム切換回路１４は、Ｓ
2に従って図５のシャッタ１６，１７を選択的に１つず
つ開閉する。すなわち、Ｓ2がＯＮの時はビーム２０で
露光され、Ｓ2がＯＦＦの時はビーム２１でガラス原盤
が露光される。光学系１８はビーム２０を円形に整形
し、光学系１９はビーム２１を楕円などにそれぞれ整形
する。光変調素子１３はＳ1に従ってビームをＯＮ−Ｏ
ＦＦする。
【００１２】図６は、本発明による光ディスク原盤製造
装置の他の光学系を示す図で、図中、２２は検光子
（Ｐ）、２３はＴＮ（Twist Nematic）液晶シャッタ
で、その他、図５と同じ作用をする部分は同一の符号を
付してある。図５におけるシャッタ１６，１７のスイッ
チング速度を考慮すると、該シャッタも光変調素子とす
ることが望ましい。あるいは、ＴＮ液晶シャッタ２３と
直交する直線偏光を組み合わせても良い。つまり、セク
ターマーク用のレーザビームと短ピット用のレーザビー
ムをそれぞれＳ偏光，Ｐ偏光とし、ＴＮ液晶シャッタ２
３にセクターマークゲート信号Ｓ2を入力すると、Ｓ2が
ＯＮの時、Ｐ→Ｓ，Ｓ→Ｐと振動面が切換わる。この後
にＰ検光子２２を配せば、常にＰ偏光のみで露光される
ので、Ｓ2に従ってセクターマーク用のビームと短ピッ
ト用のビームが選択的に使用される。また、２本の露光
ビームは別個の光源から得ることが、ビーム整形の自由
度からも望ましい。
装置の他の光学系を示す図で、図中、２２は検光子
（Ｐ）、２３はＴＮ（Twist Nematic）液晶シャッタ
で、その他、図５と同じ作用をする部分は同一の符号を
付してある。図５におけるシャッタ１６，１７のスイッ
チング速度を考慮すると、該シャッタも光変調素子とす
ることが望ましい。あるいは、ＴＮ液晶シャッタ２３と
直交する直線偏光を組み合わせても良い。つまり、セク
ターマーク用のレーザビームと短ピット用のレーザビー
ムをそれぞれＳ偏光，Ｐ偏光とし、ＴＮ液晶シャッタ２
３にセクターマークゲート信号Ｓ2を入力すると、Ｓ2が
ＯＮの時、Ｐ→Ｓ，Ｓ→Ｐと振動面が切換わる。この後
にＰ検光子２２を配せば、常にＰ偏光のみで露光される
ので、Ｓ2に従ってセクターマーク用のビームと短ピッ
ト用のビームが選択的に使用される。また、２本の露光
ビームは別個の光源から得ることが、ビーム整形の自由
度からも望ましい。
【００１３】
【効果】以上の説明から明らかなように、本発明による
と、以下のような効果がある。 （１）請求項１に対応する効果：ピットの長短によって
露光レーザビームの形状を変化させてプリフォーマット
ピットを形成しているので、ピット長にかかわらず、再
生信号品質を向上させることができる。 （２）請求項２,３に対応する効果：短いピットをピッ
ト幅方向に長く、かつそれと直交する方向に短い露光ビ
ームにより形成しているので、得られるピットの形状も
それと相似形となり、十分な振幅を有する再生信号が得
られる。 （３）請求項４に対応する効果：露光レーザビームの切
換えを光変調素子で行っているので、短いピット１個毎
まで高速に露光ビーム形状を制御することができる。 （４）請求項５に対応する効果：露光レーザビームの切
換えを行う素子を１個に集中しているので、装置構成を
簡略化できる。 （５）請求項６に対応する効果：２本の露光レーザビー
ムを別個のレーザ光源から作るので、他のビームに影響
を与えることなく、柔軟にビーム整形が行える。
と、以下のような効果がある。 （１）請求項１に対応する効果：ピットの長短によって
露光レーザビームの形状を変化させてプリフォーマット
ピットを形成しているので、ピット長にかかわらず、再
生信号品質を向上させることができる。 （２）請求項２,３に対応する効果：短いピットをピッ
ト幅方向に長く、かつそれと直交する方向に短い露光ビ
ームにより形成しているので、得られるピットの形状も
それと相似形となり、十分な振幅を有する再生信号が得
られる。 （３）請求項４に対応する効果：露光レーザビームの切
換えを光変調素子で行っているので、短いピット１個毎
まで高速に露光ビーム形状を制御することができる。 （４）請求項５に対応する効果：露光レーザビームの切
換えを行う素子を１個に集中しているので、装置構成を
簡略化できる。 （５）請求項６に対応する効果：２本の露光レーザビー
ムを別個のレーザ光源から作るので、他のビームに影響
を与えることなく、柔軟にビーム整形が行える。
【図１】 本発明による光ディスク原盤製造方法を説明
するための構成図である。
するための構成図である。
【図２】 本発明による光ディスク原盤装置方法の一実
施例を示す工程図である。
施例を示す工程図である。
【図３】 露光ビーム形状を変えるための制御回路のブ
ロック図である。
ロック図である。
【図４】 図３に示したブロック図中の信号を示す図で
ある。
ある。
【図５】 光ディスク原盤製造装置の光学系を示す図で
ある。
ある。
【図６】 光ディスク原盤製造装置の他の光学系を示す
図である。
図である。
【図７】 従来の光ディスク原盤製造方法を説明するた
めの工程図である。
めの工程図である。
１…プリフォーマット信号発生回路、２…パルス幅弁別
回路、３…光変調素子、４…露光ビーム形状制御回路、
１１…プリフォーマット信号発生回路、１２…セクター
マーク分離回路、１３…光変調素子、１４…露光ビーム
切換回路、１５…ガラス原盤、１６，１７…シャッタ、
１８…セクターマーク整形光学系、１９…短ピット整形
光学系、２０…セクターマーク用レーザビーム、２１…
短ピット用レーザビーム。
回路、３…光変調素子、４…露光ビーム形状制御回路、
１１…プリフォーマット信号発生回路、１２…セクター
マーク分離回路、１３…光変調素子、１４…露光ビーム
切換回路、１５…ガラス原盤、１６，１７…シャッタ、
１８…セクターマーク整形光学系、１９…短ピット整形
光学系、２０…セクターマーク用レーザビーム、２１…
短ピット用レーザビーム。
Claims (6)
- 【請求項１】 長いセクターマークピット部と他の短い
プリピット部から成るプリフォーマット部を、一定のパ
ワーを有する露光レーザ光を変調させて形成する光ディ
スク原盤製造方法において、形成されるべきプリフォー
マットピット列に従ってオン・オフされるプリフォーマ
ット信号を発生し、該プリフォーマット信号をパルス幅
弁別回路に入力して露光ビーム形状制御信号を出力し、
該露光ビーム形状制御信号により前記プリフォーマット
信号のパルス幅に応じた露光ビーム形状を制御すること
を特徴とする光ディスク原盤製造方法。 - 【請求項２】 前記セクターマークピット部の露光レー
ザビーム形状を円形とし、他のピットの露光レーザビー
ム形状をピット列方向に短く、それと直交する方向に長
い形状として露光することを特徴とする請求項１記載の
光ディスク原盤製造方法。 - 【請求項３】 形成されるべきプリフォーマットピット
列に従ってオン・オフされるプリフォーマット信号を発
生するプリフォーマット信号発生手段と、該プリフォー
マット信号発生手段により発生されるプリフォーマット
信号から、セクターマークを抽出し、セクターマークゲ
ート信号を発生するセクターマーク分離手段と、該セク
ターマーク分離手段により発生されたセクターマークゲ
ート信号を入力する露光ビーム切換手段とから成り、該
露光ビーム切換手段が、前記セクターマークピット部の
露光レーザビームと他のピットの露光レーザビームを時
分割で選択するための選択手段を有することを特徴とす
る光ディスク原盤製造装置。 - 【請求項４】 前記選択手段が、光変調素子を用いて２
本の露光レーザビームを時分割に選択するものであるこ
とを特徴とする請求項３記載の光ディスク原盤製造装
置。 - 【請求項５】 前記選択手段が、ＴＮ液晶シャッタと互
いに直交する振動面を有する直線偏光からなる２本の露
光レーザビームを用い、該レーザビームを時分割に選択
するものであることを特徴とする請求項３記載の光ディ
スク原盤製造装置。 - 【請求項６】 前記セクターマークピット部とその他の
ピット部を露光するレーザビームを別の光源から得るこ
とを特徴とする請求項３記載の光ディスク原盤製造装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11415592A JPH05290411A (ja) | 1992-04-07 | 1992-04-07 | 光ディスク原盤製造方法及び製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11415592A JPH05290411A (ja) | 1992-04-07 | 1992-04-07 | 光ディスク原盤製造方法及び製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05290411A true JPH05290411A (ja) | 1993-11-05 |
Family
ID=14630531
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11415592A Pending JPH05290411A (ja) | 1992-04-07 | 1992-04-07 | 光ディスク原盤製造方法及び製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05290411A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6482493B1 (en) | 1998-04-04 | 2002-11-19 | Lg Electronics Inc. | Optical disc and method and apparatus of fabricating master disc for the same |
| JP2017054568A (ja) * | 2015-09-10 | 2017-03-16 | シチズン時計株式会社 | 液晶シャッタ、制御方法および光学装置 |
-
1992
- 1992-04-07 JP JP11415592A patent/JPH05290411A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6482493B1 (en) | 1998-04-04 | 2002-11-19 | Lg Electronics Inc. | Optical disc and method and apparatus of fabricating master disc for the same |
| JP2017054568A (ja) * | 2015-09-10 | 2017-03-16 | シチズン時計株式会社 | 液晶シャッタ、制御方法および光学装置 |
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