JP3086751B2 - 少なくとも１種類のアセチル化ヒンダードアミン光安定剤を含むポリアセタール組成物 - Google Patents
少なくとも１種類のアセチル化ヒンダードアミン光安定剤を含むポリアセタール組成物Info
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
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Description
【０００１】
【技術的分野】本発明は、少なくとも１種類のアセチル
化ヒンダードアミン光安定剤を含むある種のポリアセタ
ール組成物に関するものであり、該組成物は光への暴露
に対して優れた安定性を有することを特徴する。後文で
“ヒンダードアミン光安定剤”という言葉は、“ＨＡＬ
Ｓ”と言う。
化ヒンダードアミン光安定剤を含むある種のポリアセタ
ール組成物に関するものであり、該組成物は光への暴露
に対して優れた安定性を有することを特徴する。後文で
“ヒンダードアミン光安定剤”という言葉は、“ＨＡＬ
Ｓ”と言う。
【０００２】ポリアセタール組成物には、光に長期間暴
露される用途がある。該ポリアセタール組成物は、光へ
の暴露に対してその期間、比較的安定性を維持している
ことが望ましい。ポリアセタール組成物に光安定性を与
える又はその光安定性を増強するために、ＨＡＬＳをそ
こに加えることかできる。しかしそのようなＨＡＬＳの
添加がポリアセタール組成物の他の性質、例えば組成物
の熔融加工熱安定性（例えば熔融加工の間の気体発泡発
生又は変色）及び／又は熱及び空気に暴露した場合に組
成物が物理的性質を維持する能力に悪影響を与えること
はめずらしくない。本発明は、そのような問題を軽減す
る。
露される用途がある。該ポリアセタール組成物は、光へ
の暴露に対してその期間、比較的安定性を維持している
ことが望ましい。ポリアセタール組成物に光安定性を与
える又はその光安定性を増強するために、ＨＡＬＳをそ
こに加えることかできる。しかしそのようなＨＡＬＳの
添加がポリアセタール組成物の他の性質、例えば組成物
の熔融加工熱安定性（例えば熔融加工の間の気体発泡発
生又は変色）及び／又は熱及び空気に暴露した場合に組
成物が物理的性質を維持する能力に悪影響を与えること
はめずらしくない。本発明は、そのような問題を軽減す
る。
【０００３】Ｉ．本発明の組成物 本発明の組成物は基本的に、（ａ）９５．００−９９．
９５重量％のポリアセタール、及び（ｂ）０．０５−
５．００重量％の、好ましくは上記のＨＡＬＳ（Ｉ）及
びＨＡＬＳ（ＩＩ）から選んだ少なくとも１種類のアセ
チル化ＨＡＬＳを含む。本発明の組成物は基本的に９
７．００−９９．９５重量％の成分（ａ）及び０．０５
−３．００重量％の成分（ｂ）を含むのがより好まし
い。本発明の組成物は基本的に９８．５０−９９．９５
重量％の成分（ａ）及び０．０５−１．５０重量％の成
分（ｂ）を含むのが最も好ましい。上記の重量％はすべ
て成分（ａ）及び（ｂ）の合計量のみに基づく。
９５重量％のポリアセタール、及び（ｂ）０．０５−
５．００重量％の、好ましくは上記のＨＡＬＳ（Ｉ）及
びＨＡＬＳ（ＩＩ）から選んだ少なくとも１種類のアセ
チル化ＨＡＬＳを含む。本発明の組成物は基本的に９
７．００−９９．９５重量％の成分（ａ）及び０．０５
−３．００重量％の成分（ｂ）を含むのがより好まし
い。本発明の組成物は基本的に９８．５０−９９．９５
重量％の成分（ａ）及び０．０５−１．５０重量％の成
分（ｂ）を含むのが最も好ましい。上記の重量％はすべ
て成分（ａ）及び（ｂ）の合計量のみに基づく。
【０００４】ＩＡ．成分（ａ）−ポリアセタール 本文で使用する“ポリアセタール”という言葉には、末
端基がエステル化又はエーテル化によりエンドキャップ
されたホルムアルデヒド又はホルムアルデヒドの環状オ
リゴマーのホモポリマー、ならびにホルムアルデヒド又
はホルムアルデヒドの環状オリゴマーと主鎖に少なくと
も２個の隣接炭素原子を持つオキシアルキレン基を与え
る他のモノマーの、末端基がヒドロキシル末端であるか
又はエステル化あるいはエーテル化によりエンドキャッ
プされたコポリマーが含まれる。
端基がエステル化又はエーテル化によりエンドキャップ
されたホルムアルデヒド又はホルムアルデヒドの環状オ
リゴマーのホモポリマー、ならびにホルムアルデヒド又
はホルムアルデヒドの環状オリゴマーと主鎖に少なくと
も２個の隣接炭素原子を持つオキシアルキレン基を与え
る他のモノマーの、末端基がヒドロキシル末端であるか
又はエステル化あるいはエーテル化によりエンドキャッ
プされたコポリマーが含まれる。
【０００５】本発明の組成物で使用するポリアセタール
は、分枝鎖状又は直鎖であることができ、一般に数平均
分子量が１０，０００−１００，０００の範囲であり、
２０，０００−７５，０００の範囲が好ましい。分子量
は、公称孔径が６０−１０００ＡのＤｕ Ｐｏｎｔ Ｐ
ＳＭ バイモダルカラムキットを用いたｍ−クレゾール
中１６０℃におけるゲル透過クロマトグラフィーにより
簡便に測定することができる。所望の物理的性質及び加
工性に依存してより高い又はより低い平均分子量のポリ
アセタールを使用することもできるが、種々の成分を良
く混合する最適バランスを与え、熔融配合して最も望み
通りに組み合わせられた物理的性質を持つ成型品を与え
る組成物とするためには、上記の平均分子量のポリアセ
タールが好ましい。
は、分枝鎖状又は直鎖であることができ、一般に数平均
分子量が１０，０００−１００，０００の範囲であり、
２０，０００−７５，０００の範囲が好ましい。分子量
は、公称孔径が６０−１０００ＡのＤｕ Ｐｏｎｔ Ｐ
ＳＭ バイモダルカラムキットを用いたｍ−クレゾール
中１６０℃におけるゲル透過クロマトグラフィーにより
簡便に測定することができる。所望の物理的性質及び加
工性に依存してより高い又はより低い平均分子量のポリ
アセタールを使用することもできるが、種々の成分を良
く混合する最適バランスを与え、熔融配合して最も望み
通りに組み合わせられた物理的性質を持つ成型品を与え
る組成物とするためには、上記の平均分子量のポリアセ
タールが好ましい。
【０００６】上記の通り、ポリアセタールはホモポリマ
ー、コポリマー又はそれらの混合物であることができ
る。コポリマーは、一般にポリアセタール組成物の合成
に使用されるコモノマーを１種類かそれ以上含むことが
できる。通常使用されるコモノマーには、炭素数が２−
１２のアルキレンオキシド及びそれらのホルムアルデヒ
ドとの環状付加物が含まれる。コモノマーの量は、２０
重量％以下、好ましくは１５重量％以下、最も好ましく
は約２重量％である。最も好ましいコモノマーはエチレ
ンオキシドである。一般にポリアセタールホモポリマー
の方が剛性が優れているため、コポリマーより好まし
い。好ましいポリアセタールホモポリマーには、末端ヒ
ドロキシル基が化学反応によりエンドキャップされ、エ
ステル又はエーテル基、好ましくはそれぞれアセテート
又はメトキシ基を形成しているホモポリマーが含まれ
る。
ー、コポリマー又はそれらの混合物であることができ
る。コポリマーは、一般にポリアセタール組成物の合成
に使用されるコモノマーを１種類かそれ以上含むことが
できる。通常使用されるコモノマーには、炭素数が２−
１２のアルキレンオキシド及びそれらのホルムアルデヒ
ドとの環状付加物が含まれる。コモノマーの量は、２０
重量％以下、好ましくは１５重量％以下、最も好ましく
は約２重量％である。最も好ましいコモノマーはエチレ
ンオキシドである。一般にポリアセタールホモポリマー
の方が剛性が優れているため、コポリマーより好まし
い。好ましいポリアセタールホモポリマーには、末端ヒ
ドロキシル基が化学反応によりエンドキャップされ、エ
ステル又はエーテル基、好ましくはそれぞれアセテート
又はメトキシ基を形成しているホモポリマーが含まれ
る。
【０００７】ＩＢ．成分（ｂ）。アセチル化ＨＡＬＳ
（Ｉ）及びＨＡＬＳ（ＩＩ） 本文で使用するアセチル化ＨＡＬＳは、アセチル化され
たヒンダード窒素を含む。好ましいアセチル化ＨＡＬＳ
は、以下の構造のＨＡＬＳ（Ｉ）及びＨＡＬＳ（ＩＩ）
から選ぶ：
（Ｉ）及びＨＡＬＳ（ＩＩ） 本文で使用するアセチル化ＨＡＬＳは、アセチル化され
たヒンダード窒素を含む。好ましいアセチル化ＨＡＬＳ
は、以下の構造のＨＡＬＳ（Ｉ）及びＨＡＬＳ（ＩＩ）
から選ぶ：
【０００８】
【化２】
【０００９】式中、Ｒは、Ｃ1−Ｃ40アルキル、好まし
くはＣ12アルキルである；
くはＣ12アルキルである；
【００１０】
【化３】
【００１１】式中、Ｒは、Ｃ1−Ｃ40アルキル、好まし
くはＣ12アルキルである。
くはＣ12アルキルである。
【００１２】アセチル化ＨＡＬＳ（Ｉ）が最も好まし
い。ＨＡＬＳ（Ｉ）及びＨＡＬＳ（ＩＩ）は、同業者が
容易に適用することができる方法により製造することが
できる。Ｒ＝Ｃ12であるＨＡＬＳ（Ｉ）は、Ｔｉｎｕｖ
ｉｎR４４０（Ｃｉｂａ Ｇｅｉｇｙ）の商品名で商業
的に入手することができ、Ｕ．Ｓ．特許４，２４１，２
０８に記載されている。Ｒ＝Ｃ12であるＨＡＬＳ（Ｉ
Ｉ）は、ＳａｎｄｕｖｏｒR−３０５４（Ｓａｎｄｏｚ
Ｃｏｍｐａｎｙ）の商品名で商業的に入手することが
できる。
い。ＨＡＬＳ（Ｉ）及びＨＡＬＳ（ＩＩ）は、同業者が
容易に適用することができる方法により製造することが
できる。Ｒ＝Ｃ12であるＨＡＬＳ（Ｉ）は、Ｔｉｎｕｖ
ｉｎR４４０（Ｃｉｂａ Ｇｅｉｇｙ）の商品名で商業
的に入手することができ、Ｕ．Ｓ．特許４，２４１，２
０８に記載されている。Ｒ＝Ｃ12であるＨＡＬＳ（Ｉ
Ｉ）は、ＳａｎｄｕｖｏｒR−３０５４（Ｓａｎｄｏｚ
Ｃｏｍｐａｎｙ）の商品名で商業的に入手することが
できる。
【００１３】ＩＩ．任意成分 本発明の組成物は、任意にＵＶ吸収剤、ＨＡＬＳのヒン
ダード窒素が第２官能基又はアルキル置換第３官能基で
あるＨＡＬＳ、及び／又はポリアセタール組成物中で有
用であることが周知の他の成分を含むことができる。
ダード窒素が第２官能基又はアルキル置換第３官能基で
あるＨＡＬＳ、及び／又はポリアセタール組成物中で有
用であることが周知の他の成分を含むことができる。
【００１４】ＩＩＡ．ＵＶ吸収剤 本発明の組成物に上記のＵＶ吸収剤を挿入する場合、該
組成物は基本的に（ａ）９５．００−９９．９０重量％
のポリアセタール、（ｂ）０．０５−２．５０重量％の
上記のアセチル化ＨＡＬＳ成分及び（ｃ）０．０５−
２．５重量％の少なくとも１種類のＵＶ吸収剤を含み、
該ＵＶ吸収剤を２−ヒドロキシベンゾフェノン、２−
（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、ベ
ンゾエート、置換オキシアニリド及びシアノアクリレー
トから成る群より選ぶのが好ましい。ＵＶ吸収剤を２−
（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールから
選ぶのが最も好ましい。最も良い光安定性を得るため
に、本発明の組成物は少なくとも１種類の上記のＵＶ安
定剤を含むことを薦める。
組成物は基本的に（ａ）９５．００−９９．９０重量％
のポリアセタール、（ｂ）０．０５−２．５０重量％の
上記のアセチル化ＨＡＬＳ成分及び（ｃ）０．０５−
２．５重量％の少なくとも１種類のＵＶ吸収剤を含み、
該ＵＶ吸収剤を２−ヒドロキシベンゾフェノン、２−
（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、ベ
ンゾエート、置換オキシアニリド及びシアノアクリレー
トから成る群より選ぶのが好ましい。ＵＶ吸収剤を２−
（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールから
選ぶのが最も好ましい。最も良い光安定性を得るため
に、本発明の組成物は少なくとも１種類の上記のＵＶ安
定剤を含むことを薦める。
【００１５】２−ヒドロキシベンゾフェノンの特に典型
的例には、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノ
ン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、
５，５’−メチレンビス（２−ヒドロキシ−４−メトキ
シベンゾフェノン）、２，４−ジヒドロキシベンゾフェ
ノン及び２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾ
フェノンが含まれる。
的例には、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノ
ン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、
５，５’−メチレンビス（２−ヒドロキシ−４−メトキ
シベンゾフェノン）、２，４−ジヒドロキシベンゾフェ
ノン及び２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾ
フェノンが含まれる。
【００１６】２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフ
ェニル）ベンゾトリアゾールの特に典型的な例には、２
−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２’−ビトロキシ−３’，５’−
ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−３’，４’−ジ−ｔｅｒｔブ
チルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−
メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２
−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−オクチルフェ
ニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−
３’，５’−ジクミルフェニル）ベンゾトリアゾール及
び２，２’−メチレンビス（４−ｔｅｒｔ−オクチル−
６−ベンゾトリアゾリル）フェノールが含まれる。
ェニル）ベンゾトリアゾールの特に典型的な例には、２
−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２’−ビトロキシ−３’，５’−
ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−３’，４’−ジ−ｔｅｒｔブ
チルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−
メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２
−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−オクチルフェ
ニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−
３’，５’−ジクミルフェニル）ベンゾトリアゾール及
び２，２’−メチレンビス（４−ｔｅｒｔ−オクチル−
６−ベンゾトリアゾリル）フェノールが含まれる。
【００１７】ベンゾエートの特に典型的な例には、サリ
チル酸フェニル、レゾルシノールモノベンゾエート、
２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−３’，５’−
ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート
及びヘキサデシル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４
−ヒドロキシベンゾエートが含まれる。
チル酸フェニル、レゾルシノールモノベンゾエート、
２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−３’，５’−
ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート
及びヘキサデシル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４
−ヒドロキシベンゾエートが含まれる。
【００１８】置換オキシアニリドの特に典型的な例に
は、２−エチル−２’−エトキシオキシアニリド及び２
−エトキシ−４’−ドデシルオキシアニリドが含まれ
る。
は、２−エチル−２’−エトキシオキシアニリド及び２
−エトキシ−４’−ドデシルオキシアニリドが含まれ
る。
【００１９】シアノアクリレートの特に典型的な例に
は、エチル−シアノ−、−ジフェニルアクリレート及び
メチル ２−シアノ−３−メチル−３−（ｐ−メトキシ
フェニル）アクリレートが含まれる。
は、エチル−シアノ−、−ジフェニルアクリレート及び
メチル ２−シアノ−３−メチル−３−（ｐ−メトキシ
フェニル）アクリレートが含まれる。
【００２０】ＵＶ吸収剤は、商業的に入手可能である
か、又は同業者が容易に適用できる方法により製造する
ことができる。ポリアセタール組成物中で少なくとも１
種類のアセチル化ＨＡＬＳと組み合わせて少なくとも１
種類のＵＶ吸収剤を使用することは、一部にはアセチル
化ＨＡＬＳとＵＶ吸収剤の相乗的相互作用のために、組
成物の光安定性に特に有利である。
か、又は同業者が容易に適用できる方法により製造する
ことができる。ポリアセタール組成物中で少なくとも１
種類のアセチル化ＨＡＬＳと組み合わせて少なくとも１
種類のＵＶ吸収剤を使用することは、一部にはアセチル
化ＨＡＬＳとＵＶ吸収剤の相乗的相互作用のために、組
成物の光安定性に特に有利である。
【００２１】ＩＩＢ．“非−アセチル化”ＨＡＬＳ 本発明の組成物に任意に含むことができる他の種類のＨ
ＡＬＳは、ＨＡＬＳ中のヒンダード窒素がアセチル化さ
れていないＨＡＬＳである（後文では“非−アセチル化
ＨＡＬＳ”と呼ぶ）。これらの非−アセチル化ＨＡＬＳ
は、ヒンダード窒素が第２官能基、又はアルキル置換第
３官能基であることが好ましい。これらの非−アセチル
化ＨＡＬＳは、ピペリジン又はピペラジノン環のヒンダ
ード窒素原子がＣ1−Ｃ6基、好ましくはメチル基により
アルキル化されたテトラアルキルピペリジン残基、及び
／又はテトラ−アルキル−オキソ−ピペラジニル残基を
含むことが好ましい。
ＡＬＳは、ＨＡＬＳ中のヒンダード窒素がアセチル化さ
れていないＨＡＬＳである（後文では“非−アセチル化
ＨＡＬＳ”と呼ぶ）。これらの非−アセチル化ＨＡＬＳ
は、ヒンダード窒素が第２官能基、又はアルキル置換第
３官能基であることが好ましい。これらの非−アセチル
化ＨＡＬＳは、ピペリジン又はピペラジノン環のヒンダ
ード窒素原子がＣ1−Ｃ6基、好ましくはメチル基により
アルキル化されたテトラアルキルピペリジン残基、及び
／又はテトラ−アルキル−オキソ−ピペラジニル残基を
含むことが好ましい。
【００２２】これらの非−アセチル化ＨＡＬＳの特別な
例には、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４
−ピペリジニル）［３，５−ビス（１，１−ジメチルエ
チル−４−ヒドロキシフェニル）メチル］ブチルプロパ
ンジオエート、ジメチルスクシネート／４−ヒドロキシ
−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタ
ノール重縮合物、ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジニル／デカンジオエート、ビス（１−オ
クチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジニル）セバケート、ポリ［［６−［１，１，３，
３−テトラメチル−ブチル）アミノ］−ｓ−トリアジン
−２，４−ジイル］［２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジニル）イミノ］ヘキサメチレン［（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）イミ
ノ］］、１，１’−（１，２−エタンジイル）ビス
［３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン］、ポリ
（（６−（（４−ピペリドン）イミノ）−ｓ−トリアジ
ン−２，４−ジイル）（２−（２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジニル）イミノヘキサメチレン−（４−
（２，２，６，６−テトラメチルピペリジニル）イミ
ノ））、１−［２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチ
ル］−４−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオニルオキシ）−２，２，６，
６−テトラメチルピペリジン、下記実施例中に示す構造
（ＩＩＩ）を有するＨＡＬＳ及び以下の構造（ＩＶ）を
有するＨＡＬＳが含まれ：
例には、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４
−ピペリジニル）［３，５−ビス（１，１−ジメチルエ
チル−４−ヒドロキシフェニル）メチル］ブチルプロパ
ンジオエート、ジメチルスクシネート／４−ヒドロキシ
−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタ
ノール重縮合物、ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジニル／デカンジオエート、ビス（１−オ
クチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジニル）セバケート、ポリ［［６−［１，１，３，
３−テトラメチル−ブチル）アミノ］−ｓ−トリアジン
−２，４−ジイル］［２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジニル）イミノ］ヘキサメチレン［（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）イミ
ノ］］、１，１’−（１，２−エタンジイル）ビス
［３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン］、ポリ
（（６−（（４−ピペリドン）イミノ）−ｓ−トリアジ
ン−２，４−ジイル）（２−（２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジニル）イミノヘキサメチレン−（４−
（２，２，６，６−テトラメチルピペリジニル）イミ
ノ））、１−［２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチ
ル］−４−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオニルオキシ）−２，２，６，
６−テトラメチルピペリジン、下記実施例中に示す構造
（ＩＩＩ）を有するＨＡＬＳ及び以下の構造（ＩＶ）を
有するＨＡＬＳが含まれ：
【００２３】
【化４】
【００２４】式中、Ｘは
【００２５】
【化５】
【００２６】であり、ＡはＨ及びＣ1−Ｃ6アルキルから
選ぶ。
選ぶ。
【００２７】非−アセチル化ＨＡＬＳは、商業的に入手
可能であるか又は同業者が容易に適用できる方法により
製造することができる。
可能であるか又は同業者が容易に適用できる方法により
製造することができる。
【００２８】ＩＩＣ．他の成分 本発明の組成物は、ポリアセタール、アセチル化ＨＡＬ
Ｓ、任意のＵＶ吸収剤ならびに任意に非−アセチル化Ｈ
ＡＬＳの他に、他の成分、改質剤及びポリアセタール成
型用樹脂で一般に用いられる添加剤、例えば熱安定剤、
酸化防止剤、着色剤（顔料を含む）、強化剤、補強剤、
ＵＶ安定剤、核化剤、潤滑剤、充填剤（ガラス繊維を含
む）なども含むことができる。
Ｓ、任意のＵＶ吸収剤ならびに任意に非−アセチル化Ｈ
ＡＬＳの他に、他の成分、改質剤及びポリアセタール成
型用樹脂で一般に用いられる添加剤、例えば熱安定剤、
酸化防止剤、着色剤（顔料を含む）、強化剤、補強剤、
ＵＶ安定剤、核化剤、潤滑剤、充填剤（ガラス繊維を含
む）なども含むことができる。
【００２９】特に興味深い熱安定剤には、ポリアミド安
定剤、特にナイロン三元ポリマー、Ｕ．Ｓ．特許４，７
６６，１６８及び４，８１４，３９７に記載のヒドロキ
シ−含有ポリマー、Ｕ．Ｓ．特許５，０１１，８９０に
記載の窒素−含有又はヒドロキシ−含有ポリマー、なら
びに微結晶セルロースなどの非−熔融性天然ポリマーが
含まれる。
定剤、特にナイロン三元ポリマー、Ｕ．Ｓ．特許４，７
６６，１６８及び４，８１４，３９７に記載のヒドロキ
シ−含有ポリマー、Ｕ．Ｓ．特許５，０１１，８９０に
記載の窒素−含有又はヒドロキシ−含有ポリマー、なら
びに微結晶セルロースなどの非−熔融性天然ポリマーが
含まれる。
【００３０】ＩＩＩ．組成物の調製 本発明の組成物は、熱可塑性ポリアセタール組成物の調
製に従来用いられてきた強力混合装置、例えばゴム用ロ
ール機、“バンバリー”又は“ブラベンダー”ミキサー
などの密閉式ミキサー、外部から又は摩擦により加熱さ
れるキャビティーを持つ単一又は多重ブレード密閉式ミ
キサー、“コニーダー”、“Ｆａｒｒｅｌ連続ミキサ
ー”などのマルチバレルミキサー、射出成型機、及び単
軸スクリューならびに二軸スクリュー及び共回転ならび
に逆転押し出し機を用いて、ポリアセタールの融点以上
の温度ですべての成分をポリアセタールと混合すること
により調製することができる。これらの装置は単独で、
又は静電ミキサー、混合トーピード及び／又は内部圧力
及び／又は混合強度を上げるための種々の装置、例えば
その目的で設計されたバルブ、ゲート又はスクリューと
組み合わせて用いることができる。もちろんこれらの混
合は、組成物のポリアセタール成分の重大な分解が起こ
る温度以下で行わなければならない。一般にポリアセタ
ール組成物は、１７０℃−２８０℃、好ましくは１８０
℃−２４０℃、最も好ましくは１９５℃−２２５℃で熔
融加工する。
製に従来用いられてきた強力混合装置、例えばゴム用ロ
ール機、“バンバリー”又は“ブラベンダー”ミキサー
などの密閉式ミキサー、外部から又は摩擦により加熱さ
れるキャビティーを持つ単一又は多重ブレード密閉式ミ
キサー、“コニーダー”、“Ｆａｒｒｅｌ連続ミキサ
ー”などのマルチバレルミキサー、射出成型機、及び単
軸スクリューならびに二軸スクリュー及び共回転ならび
に逆転押し出し機を用いて、ポリアセタールの融点以上
の温度ですべての成分をポリアセタールと混合すること
により調製することができる。これらの装置は単独で、
又は静電ミキサー、混合トーピード及び／又は内部圧力
及び／又は混合強度を上げるための種々の装置、例えば
その目的で設計されたバルブ、ゲート又はスクリューと
組み合わせて用いることができる。もちろんこれらの混
合は、組成物のポリアセタール成分の重大な分解が起こ
る温度以下で行わなければならない。一般にポリアセタ
ール組成物は、１７０℃−２８０℃、好ましくは１８０
℃−２４０℃、最も好ましくは１９５℃−２２５℃で熔
融加工する。
【００３１】圧縮成型、射出成型、押し出し、吹き込み
成型、回転成型、熔融紡糸及び熱成型を含む通常の幾つ
かの方法のいずれかを用いて、本発明の組成物から成型
品を製造することができる。射出成型が好ましい。成型
品の例には、シート、形材、棒材、フィルム、フィラメ
ント、繊維、ストラップ、テープチューブ、及び管が含
まれる。これらの成型品は、配向、延伸、被覆、アニー
ル、塗装、積層及びめっきにより後処理することができ
る。これらの成型品及びこれらから生ずるスクラップ
は、粉砕し、再成型することができる。
成型、回転成型、熔融紡糸及び熱成型を含む通常の幾つ
かの方法のいずれかを用いて、本発明の組成物から成型
品を製造することができる。射出成型が好ましい。成型
品の例には、シート、形材、棒材、フィルム、フィラメ
ント、繊維、ストラップ、テープチューブ、及び管が含
まれる。これらの成型品は、配向、延伸、被覆、アニー
ル、塗装、積層及びめっきにより後処理することができ
る。これらの成型品及びこれらから生ずるスクラップ
は、粉砕し、再成型することができる。
【００３２】本発明の組成物及びそれから形成する成型
品の製造に使用する加工条件は、１７０℃−２７０℃、
好ましくは１８５℃−２４０℃、最も好ましくは２００
℃−２３０℃の熔融温度を含む。本発明の組成物を射出
成型する場合金型は、製造する形の複雑さと調和する、
できるだけ低温であることが好ましい。一般に金型温度
は１０−１２０℃、好ましくは１０−１００℃、最も好
ましくは約５０−９０℃である。
品の製造に使用する加工条件は、１７０℃−２７０℃、
好ましくは１８５℃−２４０℃、最も好ましくは２００
℃−２３０℃の熔融温度を含む。本発明の組成物を射出
成型する場合金型は、製造する形の複雑さと調和する、
できるだけ低温であることが好ましい。一般に金型温度
は１０−１２０℃、好ましくは１０−１００℃、最も好
ましくは約５０−９０℃である。
【００３３】
【実施例】以下の実施例は、本発明の有効性を決定する
ためにポリアセタール組成物を用いて行った試験の結果
である。参照標準ポリアセタール組成物についての結果
も示す。他に特定しなければ温度はすべて℃である。場
合によっては測定値を丸めた。
ためにポリアセタール組成物を用いて行った試験の結果
である。参照標準ポリアセタール組成物についての結果
も示す。他に特定しなければ温度はすべて℃である。場
合によっては測定値を丸めた。
【００３４】他に記載がなければ下記の実施例で使用し
たポリアセタールは、数平均分子量が約４０，０００の
アセテートエンドキャップホモポリマーであった。
たポリアセタールは、数平均分子量が約４０，０００の
アセテートエンドキャップホモポリマーであった。
【００３５】下記の実施例で用いたアセチル化ＨＡＬＳ
は、以下であった：“アセチル化ＨＡＬＳ（ＩＡ）”
は、以下のＨＡＬＳ（ＩＡ）構造を持つ８−アセチル−
３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，
３，８−トリアザスピロ（４，５）デカン−２，４−ジ
オンであった：
は、以下であった：“アセチル化ＨＡＬＳ（ＩＡ）”
は、以下のＨＡＬＳ（ＩＡ）構造を持つ８−アセチル−
３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，
３，８−トリアザスピロ（４，５）デカン−２，４−ジ
オンであった：
【００３６】
【化６】
【００３７】“アセチル化ＨＡＬＳ（ＩＩＡ）は、以下
のＨＡＬＳ（ＩＩＡ）構造を持つ：
のＨＡＬＳ（ＩＩＡ）構造を持つ：
【００３８】
【化７】
【００３９】下記の実施例で用いたＵＶ吸収剤は、以下
であった：“ＵＶ吸収剤Ａ”は、２−（２Ｈ−ベンゾト
リアゾ−ル−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−
１−フェニルエチル）フェノールであった。
であった：“ＵＶ吸収剤Ａ”は、２−（２Ｈ−ベンゾト
リアゾ−ル−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−
１−フェニルエチル）フェノールであった。
【００４０】下記の実施例で用いた非−アセチル化ＨＡ
ＬＳは、以下であった：“非−アセチル化ＨＡＬＳ
Ａ”は、構造（ＩＶ）を有するポリ−（（６−（（４−
ピペリドン）−イミノ）−ｓ−トリアジン−２，４−ジ
イル）（２−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ニル）−イミノ−ヘキサメチレン−（４−（２，２，
６，６−テトラメチルピペリジニル）−イミノ））であ
った。
ＬＳは、以下であった：“非−アセチル化ＨＡＬＳ
Ａ”は、構造（ＩＶ）を有するポリ−（（６−（（４−
ピペリドン）−イミノ）−ｓ−トリアジン−２，４−ジ
イル）（２−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ニル）−イミノ−ヘキサメチレン−（４−（２，２，
６，６−テトラメチルピペリジニル）−イミノ））であ
った。
【００４１】
【化８】
【００４２】“非−アセチル化ＨＡＬＳ Ｂ”は、ビス
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニ
ル）［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）メチル］ブチルプロパンジオエート
であった。
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニ
ル）［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）メチル］ブチルプロパンジオエート
であった。
【００４３】下記で試験した試料は、以下の要領で製造
した：すべての成分を混合し、バレル温度を１５０℃−
２００℃、ダイ温度を２１０℃、スクリュー速度を７５
ｒｐｍに設定した２．５インチのスターリン一軸スクリ
ュー押し出し機で熔融配合した。ダイを出る時の熔融物
の温度は、２２０−２３０℃であった。
した：すべての成分を混合し、バレル温度を１５０℃−
２００℃、ダイ温度を２１０℃、スクリュー速度を７５
ｒｐｍに設定した２．５インチのスターリン一軸スクリ
ュー押し出し機で熔融配合した。ダイを出る時の熔融物
の温度は、２２０−２３０℃であった。
【００４４】試料組成物のＵＶ安定性を、下記の要領で
ＵＶ光に暴露することにより決定した。ＵＶ暴露の後に
組成物を調べ、その重量損失を決定した。“ＵＶ後重量
損失”試験のための試料は、寸法が５ｃｍｘ８．１ｃｍ
ｘ４ｍｍの成型プラックであった。成型プラックの重量
は２１−２３グラムであり、該プラックの表面仕上げ
は、高光沢表面であった。プラックの高光沢側を、規定
量（すなわち下表に特定した量）でＵＶ光源に暴露し
た。試料組成物は、同一条件下でＵＶ暴露を行った。試
料組成物を試験の前に秤量し、石英内部フィルター及び
硼珪酸ガラス内部フィルターを持つＡｔｌａｓ Ｃｉ６
５ キセノンアーク耐光試験機中で、ＳＡＥＪ１８８５
（自動車内部条件）に従って加速ＵＶ暴露を行った。Ｓ
ＡＥ Ｊ１８８５法に関する詳細を下記に示す：
ＵＶ光に暴露することにより決定した。ＵＶ暴露の後に
組成物を調べ、その重量損失を決定した。“ＵＶ後重量
損失”試験のための試料は、寸法が５ｃｍｘ８．１ｃｍ
ｘ４ｍｍの成型プラックであった。成型プラックの重量
は２１−２３グラムであり、該プラックの表面仕上げ
は、高光沢表面であった。プラックの高光沢側を、規定
量（すなわち下表に特定した量）でＵＶ光源に暴露し
た。試料組成物は、同一条件下でＵＶ暴露を行った。試
料組成物を試験の前に秤量し、石英内部フィルター及び
硼珪酸ガラス内部フィルターを持つＡｔｌａｓ Ｃｉ６
５ キセノンアーク耐光試験機中で、ＳＡＥＪ１８８５
（自動車内部条件）に従って加速ＵＶ暴露を行った。Ｓ
ＡＥ Ｊ１８８５法に関する詳細を下記に示す：
【００４５】
【表１】 明循環 暗循環 照射（ワット／ｍ2） ０．５５ −−− ブラックパネル温度（℃） ８９．０ ３８．０ 相対湿度（％） ５０．０ １００．０ サイクル時間（時間） ３．８ １．０ ＵＶ光への（規定量の）暴露の後、試料を秤量し、％重
量損失を計算することによりＵＶ暴露後の重量損失を決
定した。重量損失は、ポリアセタールのＵＶ分解を研究
するための標準的試験である。
量損失を計算することによりＵＶ暴露後の重量損失を決
定した。重量損失は、ポリアセタールのＵＶ分解を研究
するための標準的試験である。
【００４６】ＵＶ暴露後の色差（ＤＥ）を、色差算出法
により測定した。色差算出法は、色のグレード化の機器
法である。これは人の目程敏感でないので、最終的判断
基準は通常視覚評価によることに注意する。使用した機
器は、Ｍａｃｂｅｔｈ１５００／Ｐｌｕｓ Ｃｏｌｏｒ
Ｍｅｓｕｒｅｍｅｎｔ Ｓｙｓｔｅｍであり、これは
ＣＩＥＬＡＢ色空間、Ｄ６５光源及び正反射率を含む１
０oの観測装置を使用するＳＡＥ Ｊ１５４５により色
差算出測定値を与える。色差を測定し、非暴露試料プラ
ックと暴露試料プラックに関して比較した。この比較の
前にすべての暴露した色差試料プラックを、ティッシュ
ペーパーで拭き、真実の色差測定値の読みを妨げる表面
膜を除去した。
により測定した。色差算出法は、色のグレード化の機器
法である。これは人の目程敏感でないので、最終的判断
基準は通常視覚評価によることに注意する。使用した機
器は、Ｍａｃｂｅｔｈ１５００／Ｐｌｕｓ Ｃｏｌｏｒ
Ｍｅｓｕｒｅｍｅｎｔ Ｓｙｓｔｅｍであり、これは
ＣＩＥＬＡＢ色空間、Ｄ６５光源及び正反射率を含む１
０oの観測装置を使用するＳＡＥ Ｊ１５４５により色
差算出測定値を与える。色差を測定し、非暴露試料プラ
ックと暴露試料プラックに関して比較した。この比較の
前にすべての暴露した色差試料プラックを、ティッシュ
ペーパーで拭き、真実の色差測定値の読みを妨げる表面
膜を除去した。
【００４７】熱発生ホルムアルデヒド（“ＴＥＦ”）試
験法を用いて、試料組成物の熱安定性を決定した。調べ
るポリアセタール組成物の秤量試料を管に入れ、試験試
料に窒素を導入して装置から発生する気体を除去し、酸
素を含まない雰囲気に試料を保つためのキャップをし
た。試料を含む管を、シリコン油浴中で２５９℃に加熱
した。窒素及び発生した気体は、水１ｌ当たり４０ｇの
亜硫酸ナトリウムを溶解した溶液７５ｍｌ中に泡として
出した。発生したホルムアルデヒドは亜硫酸ドシウムと
反応し、水酸化ナトリウムを放出する。水酸化ナトリウ
ムを標準０．１ＮＨＣｌを用いて連続的に中和する。結
果は、試験時間に対する滴定量のｍｌを示す図として得
られる。発生ホルムアルデヒドの％は、次式により算出
する。
験法を用いて、試料組成物の熱安定性を決定した。調べ
るポリアセタール組成物の秤量試料を管に入れ、試験試
料に窒素を導入して装置から発生する気体を除去し、酸
素を含まない雰囲気に試料を保つためのキャップをし
た。試料を含む管を、シリコン油浴中で２５９℃に加熱
した。窒素及び発生した気体は、水１ｌ当たり４０ｇの
亜硫酸ナトリウムを溶解した溶液７５ｍｌ中に泡として
出した。発生したホルムアルデヒドは亜硫酸ドシウムと
反応し、水酸化ナトリウムを放出する。水酸化ナトリウ
ムを標準０．１ＮＨＣｌを用いて連続的に中和する。結
果は、試験時間に対する滴定量のｍｌを示す図として得
られる。発生ホルムアルデヒドの％は、次式により算出
する。
【００４８】
【数１】 ここでＶ＝ミリリットルで表す滴定量の体積、 Ｎ＝滴定液の規定度、及び ＳＷ＝グラムで表す試料の重量である。
【００４９】因子“０．０３”は、ｇ／ミリ当量で表す
ホルムアルデヒドのミリ当量である。ＴＥＦの結果を下
表において、“２５９℃におけるＷｔ．％ＣＨ2Ｏ損
失”として１５及び３０分で記録する。試料組成物の長
期熱−酸化安定性（すなわち物理的性質保持能力）を、
加熱空気老化法を用いて決定した。配合した組成物を、
バレル温度を約２０７℃及び金型温度を約８８℃に設定
した射出成型により、１／８インチの厚さの引張試験片
とした。各組成物の引張試験片を予備秤量し、１３０℃
の空気循環炉に下表に示す時間で入れた。試料片を炉全
体に分布させることにより、炉の位置による効果を平均
化した。各試料に関して記録するデータは、少なくとも
３本の引張試験片の平均である。特定した時間の最後に
試料を炉から出し、秤量し、ＡＳＴＭ法０−６３８（ク
ロスヘッド速度０．２インチ／分）に従い引張強さ（Ｔ
Ｓ）及び伸び率（Ｅ）を調べた。％重量損失（％ＷＬ）
も算出した。
ホルムアルデヒドのミリ当量である。ＴＥＦの結果を下
表において、“２５９℃におけるＷｔ．％ＣＨ2Ｏ損
失”として１５及び３０分で記録する。試料組成物の長
期熱−酸化安定性（すなわち物理的性質保持能力）を、
加熱空気老化法を用いて決定した。配合した組成物を、
バレル温度を約２０７℃及び金型温度を約８８℃に設定
した射出成型により、１／８インチの厚さの引張試験片
とした。各組成物の引張試験片を予備秤量し、１３０℃
の空気循環炉に下表に示す時間で入れた。試料片を炉全
体に分布させることにより、炉の位置による効果を平均
化した。各試料に関して記録するデータは、少なくとも
３本の引張試験片の平均である。特定した時間の最後に
試料を炉から出し、秤量し、ＡＳＴＭ法０−６３８（ク
ロスヘッド速度０．２インチ／分）に従い引張強さ（Ｔ
Ｓ）及び伸び率（Ｅ）を調べた。％重量損失（％ＷＬ）
も算出した。
【００５０】実施例１−３ 実施例１−３及びＣ1−Ｃ3の組成物の成分を下記の表Ｉ
Ａに示す。表ＩＡの各組成物は、さらに以下を含む：
０．７５重量％のエチレンビニルアルコールコポリマー
（Ｕ．Ｓ．特許４，７６６，１６８の開示に従い製造、
後文では“ＥＶＯＨ”と呼ぶ）、０．２５重量％の、ナ
イロン６６、ナイロン６／１０及びナイロン６のそれぞ
れ３３／２３／４３ナイロン三元ポリマー（後文では
“ナイロン”と呼ぶ）、０．１０重量％のトリエチレン
グリコール ビス（３，３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’
−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）プロピオネート
（後文では“酸化防止剤Ａ”と呼ぶ）、０．０５重量％
のＮ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅｒ
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナミド）（後文
では“酸化防止剤Ｂ”と呼ぶ）、及び０．５０重量％
の、平均分子量が８，０００のポリエチレングリコール
（後文では“ＰＥＧ”と呼ぶ）を含む。本節及び表ＩＡ
に示す重量％はすべて組成物の合計重量に基づく。
Ａに示す。表ＩＡの各組成物は、さらに以下を含む：
０．７５重量％のエチレンビニルアルコールコポリマー
（Ｕ．Ｓ．特許４，７６６，１６８の開示に従い製造、
後文では“ＥＶＯＨ”と呼ぶ）、０．２５重量％の、ナ
イロン６６、ナイロン６／１０及びナイロン６のそれぞ
れ３３／２３／４３ナイロン三元ポリマー（後文では
“ナイロン”と呼ぶ）、０．１０重量％のトリエチレン
グリコール ビス（３，３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’
−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）プロピオネート
（後文では“酸化防止剤Ａ”と呼ぶ）、０．０５重量％
のＮ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅｒ
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナミド）（後文
では“酸化防止剤Ｂ”と呼ぶ）、及び０．５０重量％
の、平均分子量が８，０００のポリエチレングリコール
（後文では“ＰＥＧ”と呼ぶ）を含む。本節及び表ＩＡ
に示す重量％はすべて組成物の合計重量に基づく。
【００５１】表ＩＡの各組成物の試験結果を下記の表Ｉ
Ｂ及び表ＩＣに示す。アセチル化ＨＡＬＳ ＩＡを含む
実施例１の組成物は、アセチル化していないＨＡＬＳを
含む実施例Ｃ２の組成物より優れたＵＶ光安定性、熱安
定性及び加熱空気老化安定性を示した。アセチル化ＨＡ
ＬＳ ＩＡ及びＵＶ吸収剤（Ａ）を含む実施例３の組成
物は、アセチル化ＨＡＬＳ ＩＡを含む実施例２の組成
物及びＵＶ吸収剤（Ａ）を含む実施例Ｃ３の組成物より
優れた光安定性を有する。
Ｂ及び表ＩＣに示す。アセチル化ＨＡＬＳ ＩＡを含む
実施例１の組成物は、アセチル化していないＨＡＬＳを
含む実施例Ｃ２の組成物より優れたＵＶ光安定性、熱安
定性及び加熱空気老化安定性を示した。アセチル化ＨＡ
ＬＳ ＩＡ及びＵＶ吸収剤（Ａ）を含む実施例３の組成
物は、アセチル化ＨＡＬＳ ＩＡを含む実施例２の組成
物及びＵＶ吸収剤（Ａ）を含む実施例Ｃ３の組成物より
優れた光安定性を有する。
【００５２】
【表２】
【００５３】
【表３】
【００５４】
【表４】 実施例４−８ 実施例４−８及びＣ１−Ｃ４の組成物の成分を下記の表
ＩＩＩＡに示す。表ＩＩＩＡの各組成物はさらに以下を
含む：０．７５重量％のＥＶＯＨ、０．２５重量％のナ
イロン、０．１０重量％の酸化防止剤Ａ、０．０５重量
％の酸化防止剤Ｂ及び０．５０重量％のＰＥＧ。本節及
び表ＩＩＩＡ中の重量％はすべて組成物の合計重量に基
づく。
ＩＩＩＡに示す。表ＩＩＩＡの各組成物はさらに以下を
含む：０．７５重量％のＥＶＯＨ、０．２５重量％のナ
イロン、０．１０重量％の酸化防止剤Ａ、０．０５重量
％の酸化防止剤Ｂ及び０．５０重量％のＰＥＧ。本節及
び表ＩＩＩＡ中の重量％はすべて組成物の合計重量に基
づく。
【００５５】表ＩＩＩＡの各組成物に関する試験結果
を、下記の表ＩＩＩＢ及び表ＩＩＩＣに示す。それぞれ
アセチル化ＨＡＬＳＩＩＡを含む試料組成物４及び５
は、それぞれＣ４及びＣ２（それぞれ非−アチセル化Ｈ
ＡＬＳ Ａを含む）より優れた光安定性、熱安定性及び
加熱空気老化安定性を有する。
を、下記の表ＩＩＩＢ及び表ＩＩＩＣに示す。それぞれ
アセチル化ＨＡＬＳＩＩＡを含む試料組成物４及び５
は、それぞれＣ４及びＣ２（それぞれ非−アチセル化Ｈ
ＡＬＳ Ａを含む）より優れた光安定性、熱安定性及び
加熱空気老化安定性を有する。
【００５６】
【表５】
【００５７】
【表６】
【００５８】
【表７】
【００５９】実施例７−１１ 実施例７−１１の組成物の成分を下記の表ＩＶＡに示
す。他に特定しなければ各組成物は、０．７５重量％の
ＥＶＯＨ、０．２５重量％のナイロン、０．５０重量％
のＰＥＧ及び０．５０重量％のカーボンブラック濃厚液
を含む。本節及び表ＩＶＡの重量％はすべて組成物の合
計重量に基づく。
す。他に特定しなければ各組成物は、０．７５重量％の
ＥＶＯＨ、０．２５重量％のナイロン、０．５０重量％
のＰＥＧ及び０．５０重量％のカーボンブラック濃厚液
を含む。本節及び表ＩＶＡの重量％はすべて組成物の合
計重量に基づく。
【００６０】表ＩＶＡの各組成物に関する試験の結果を
下記の表ＩＶＢに示す。
下記の表ＩＶＢに示す。
【００６１】
【表８】 ＊ ０．４０重量％のＥＶＯＨ、０．１５重量％のナイ
ロン及び０．２５重量％の、Ｕ．Ｓ．特許５，０１１，
８９０に記載の要領で製造した架橋非−熔融性アクリル
アミドポリマー安定剤を（０．７５重量％のＥＶＯＨ及
び０．２５重量％のナイロンの代わりに）含む。
ロン及び０．２５重量％の、Ｕ．Ｓ．特許５，０１１，
８９０に記載の要領で製造した架橋非−熔融性アクリル
アミドポリマー安定剤を（０．７５重量％のＥＶＯＨ及
び０．２５重量％のナイロンの代わりに）含む。
【００６２】
【表９】 本発明の主たる特徴及び態様は以下の通りである。
【００６３】１．基本的に （ａ）９５．００−９９．９５重量％のポリアセター
ル、及び（ｂ）０．０５−５．００重量％の、以下の構
造（Ｉ）及び構造（ＩＩ）
ル、及び（ｂ）０．０５−５．００重量％の、以下の構
造（Ｉ）及び構造（ＩＩ）
【００６４】
【化９】
【００６５】から選んだ少なくとも１種類のアセチル化
ヒンダードアミン光安定剤を含む組成物において、
（Ｉ）及び（ＩＩ）中、ＲがＣ1−Ｃ40アルキルであ
り、重量％が成分（ａ）及び（ｂ）の合計量のみに基づ
くことを特徴とする組成物。
ヒンダードアミン光安定剤を含む組成物において、
（Ｉ）及び（ＩＩ）中、ＲがＣ1−Ｃ40アルキルであ
り、重量％が成分（ａ）及び（ｂ）の合計量のみに基づ
くことを特徴とする組成物。
【００６６】２．第１項に記載の組成物において、ポリ
アセタールがホモポリマーであることを特徴とする組成
物。
アセタールがホモポリマーであることを特徴とする組成
物。
【００６７】３．第１項に記載の組成物において、ポリ
アセタールがコポリマーであることを特徴とする組成
物。
アセタールがコポリマーであることを特徴とする組成
物。
【００６８】４．第１項に記載の組成物において、構造
（Ｉ）及び（ＩＩ）のＲがＣ12であることを特徴とする
組成物。
（Ｉ）及び（ＩＩ）のＲがＣ12であることを特徴とする
組成物。
【００６９】５．第１項に記載の組成物において、さら
に２−ヒドロキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロ
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、ベンゾエート、置
換オキシアニリド及びシアノアクリレートから成る群よ
り選んだ基本的に少なくとも１種類のＵＶ吸収剤を含む
ことを特徴とする組成物。
に２−ヒドロキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロ
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、ベンゾエート、置
換オキシアニリド及びシアノアクリレートから成る群よ
り選んだ基本的に少なくとも１種類のＵＶ吸収剤を含む
ことを特徴とする組成物。
【００７０】６．第１項に記載の組成物において、さら
にヒンダード窒素がアセチル化されていない基本的に少
なくとも１種類のヒンダードアミン光安定剤を含むこと
を特徴とする組成物。
にヒンダード窒素がアセチル化されていない基本的に少
なくとも１種類のヒンダードアミン光安定剤を含むこと
を特徴とする組成物。
【００７１】７．第５項に記載の組成物において、さら
にヒンダード窒素がアセチル化されていない基本的に少
なくとも１種類のヒンダードアミン光安定剤を含むこと
を特徴とする組成物。
にヒンダード窒素がアセチル化されていない基本的に少
なくとも１種類のヒンダードアミン光安定剤を含むこと
を特徴とする組成物。
【００７２】８．第１項に記載の組成物において、さら
に基本的に少なくとも種類の熱安定剤、酸化防止剤、着
色剤、強化剤、補強剤、ＵＶ安定剤、核化剤、潤滑剤及
び充填剤を含むことを特徴とする組成物。
に基本的に少なくとも種類の熱安定剤、酸化防止剤、着
色剤、強化剤、補強剤、ＵＶ安定剤、核化剤、潤滑剤及
び充填剤を含むことを特徴とする組成物。
【００７３】９．第１項に記載の組成物から形成した成
型品。
型品。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−261854（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C08L 59/00 - 59/04 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (3)
- 【請求項１】 基本的に （ａ）９５.００−９９.９５重量％のポリアセタール、
及び （ｂ）０.０５−５.００重量％の、以下の構造（Ｉ）及
び構造（ＩＩ） 【化１】 から選んだ少なくとも１種類のアセチル化ヒンダードア
ミン光安定剤を含む組成物において、（Ｉ）及び（Ｉ
Ｉ）中、ＲがＣ1−Ｃ40アルキルであり、重量％が成分
（ａ）及び（ｂ）の合計量のみに基づくことを特徴とす
る組成物。 - 【請求項２】 第１項に記載の組成物において、構造
（Ｉ）及び（ＩＩ）のＲがＣ 12 であることを特徴とする
組成物。 - 【請求項３】 第１項に記載の組成物において、２−ヒ
ドロキシベンゾフエノン、２−（２′−ヒドロキシフエ
ニル）ベンゾトリアゾール、ベンゾエート、置換オキシ
アニリド及びシアノアクリレートから成る群より選んだ
少なくとも１種類のＵＶ吸収剤をさらに含むことを特徴
とする組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US72245691A | 1991-06-27 | 1991-06-27 | |
| US722456 | 1991-06-27 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06100757A JPH06100757A (ja) | 1994-04-12 |
| JP3086751B2 true JP3086751B2 (ja) | 2000-09-11 |
Family
ID=24901922
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04187308A Expired - Fee Related JP3086751B2 (ja) | 1991-06-27 | 1992-06-23 | 少なくとも１種類のアセチル化ヒンダードアミン光安定剤を含むポリアセタール組成物 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5981635A (ja) |
| EP (1) | EP0520820B1 (ja) |
| JP (1) | JP3086751B2 (ja) |
| KR (1) | KR100199664B1 (ja) |
| CN (1) | CN1067907A (ja) |
| CA (1) | CA2072241A1 (ja) |
| DE (1) | DE69210889T2 (ja) |
| TW (1) | TW212810B (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| MY114026A (en) * | 1995-09-01 | 2002-07-31 | Asahi Chemical Ind | Polyacetal resin molded article and process for producing the same |
| JP4827435B2 (ja) * | 2005-04-27 | 2011-11-30 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | ポリアセタール樹脂組成物及びその成形品 |
| US10125206B1 (en) | 2017-08-10 | 2018-11-13 | International Business Machines Corporation | Non-halogenated flame retardant hindered amine light stabilizer impact modifiers |
| US10316165B2 (en) | 2017-09-21 | 2019-06-11 | International Business Machines Corporation | Non-halogenated flame retardant hindered amine light stabilizer cross-linkers |
| CN108610917A (zh) * | 2017-09-29 | 2018-10-02 | 聊城鲁西聚碳酸酯有限公司 | 一种用于板材涂层的聚碳酸酯组合物及其制备方法 |
| KR102392117B1 (ko) | 2020-06-17 | 2022-04-29 | (주) 삼덕티엠피 | 페이스 실드 마스크 |
| KR20210000416U (ko) | 2021-01-29 | 2021-02-22 | (주) 삼덕티엠피 | 페이스 실드 마스크 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA975365A (en) * | 1971-06-05 | 1975-09-30 | Eiko Mori | Piperidine derivatives and their use as stabilizers |
| US4348524A (en) * | 1980-03-28 | 1982-09-07 | Ciba-Geigy Corporation | Amide derivatives of polyalkylpiperidines |
| US4439565A (en) * | 1982-11-10 | 1984-03-27 | Ciba-Geigy Corporation | Oligomeric esteramides containing pendant hindered amine groups |
| JPS6136339A (ja) * | 1984-07-27 | 1986-02-21 | Polyplastics Co | 耐候性ポリアセタ−ル樹脂組成物 |
| US4766168A (en) * | 1986-04-15 | 1988-08-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Stabilized polyacetal compositions |
| US4814397A (en) * | 1986-04-15 | 1989-03-21 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Stabilized polyacetal compositions |
| US5011890A (en) * | 1989-03-17 | 1991-04-30 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polyacetal resins containing non-meltable polymer stabilizers |
-
1992
- 1992-06-23 JP JP04187308A patent/JP3086751B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1992-06-24 TW TW081104966A patent/TW212810B/zh active
- 1992-06-24 CA CA002072241A patent/CA2072241A1/en not_active Abandoned
- 1992-06-26 DE DE69210889T patent/DE69210889T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-06-26 EP EP92305915A patent/EP0520820B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-06-26 KR KR1019920011211A patent/KR100199664B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1992-06-27 CN CN92105279A patent/CN1067907A/zh active Pending
- 1992-11-16 US US07/976,846 patent/US5981635A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1067907A (zh) | 1993-01-13 |
| DE69210889D1 (de) | 1996-06-27 |
| DE69210889T2 (de) | 1996-12-12 |
| JPH06100757A (ja) | 1994-04-12 |
| EP0520820A2 (en) | 1992-12-30 |
| EP0520820A3 (en) | 1993-01-20 |
| CA2072241A1 (en) | 1992-12-28 |
| EP0520820B1 (en) | 1996-05-22 |
| KR100199664B1 (ko) | 1999-06-15 |
| US5981635A (en) | 1999-11-09 |
| TW212810B (ja) | 1993-09-11 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080707 Year of fee payment: 8 |
|
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|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |