KR100199664B1

KR100199664B1 - 1종 이상의 아세틸화 차단된 아민 광 안정화제를 함유하는 폴리아세탈 조성물

Info

Publication number: KR100199664B1
Application number: KR1019920011211A
Authority: KR
Inventors: 알렌 헤이스 리챠드
Original assignee: 미리암 디. 메코너헤이; 이. 아이. 듀퐁 드 네모아 앤드 캄파니
Priority date: 1991-06-27
Filing date: 1992-06-26
Publication date: 1999-06-15
Also published as: EP0520820A3; TW212810B; JP3086751B2; US5981635A; EP0520820A2; CA2072241A1; CN1067907A; JPH06100757A; DE69210889D1; DE69210889T2; EP0520820B1

Abstract

아세틸화 차단된 질소를 함유하는 1종 이상의 차단된 아민 광 안정화제를 폴리아세탈 조성물에 포함시켜서 열 및 공기 노출 후에 양호한 광 안정성, 열 안정성 및 물리적 성질을 유지하는 조성물을 얻는다.

Description

1종 이상의 아세틸화 차단된 아민 광 안정화제를 함유하는 폴리아세탈 조성물

본 발명은 1종 이상의 아세틸화 차단된 아민 광 안정화제를 함유하는 특정폴리아세틸 조성물에 관한 것으로, 상기 조성물은 광에 노출시 양호한 안정성을 갖는 것이 특징이다. 이후, 차단된 아민 광 안정화제란 용어는 HALS로서 나타낼 것이다.

특정 용도에 있어서, 폴리아세틸 조성물은 오랜 기간 동안 광에 노출된다. 상기 폴리아세탈 조성물은 장기간 동안 광에 노출시 비교적 안정하게 존재하는 것이 바람직하다. 폴리아세탈 조성물의 광 안전성을 부여하거나 또는 개선시키기 위하여, HALS가 이 조성물에 첨가될 수 있다. 그러나, 이러한 HALS의 첨가가 조성물의 용융 가공 열 안정성(즉, 용융 가공시의 가스 형성 발생 또는 탈색) 및/또는 열 및 공간에 노출시 물리적 성질을 보유하는 조성물의 능력 등의 폴리아세탈 조성물의 다른 성질에 역영향을 미칠 수 있다. 본 발명은 이러한 문제를 경감시키는 역할을 한다.

. 본 발명의 조성물

본 발명의 조성물은 필수적으로 (a) 95.00 내지 99.95 중량 %의 폴리아세탈 및 (b) 0.05 내지 5.00 중량 %의 상기한 HALS() 및 HALS()로부터 바람직하게 선택된 1종 이상의 아세틸화 HALS로 이루어진다. 더욱 바람직하게는, 본 발명의 조성물은 필수적으로 97.00 내지 99.95 중량 %의 성분(a) 및 0.05 내지 3.00 중량%의 성분(b)로 이루어진다. 가장 바람직하게는, 본 발명의 조성물은 필수적으로 98.50 내지 99.95 중량 %의 성분(a) 및 0.05 내지 1.50 중량 %의 성분(b)로 이루어진다. 상기 모든 중량 %는 단지 성분(a) 및 (b)만의 전채량을 기준으로 한다.

IA. 성분(a) - 폴리아세탈

본 명세서 중에서 사용되는 용어 폴리아세탈에는 말단기가 에스테르화 또는 에테르화로 말단 캡화(end-capped)된 포름알데히드 또는 포름알데하이드의 사이클릭 올리고머의 단일 중합체, 및 말단기가 하이드록실 종결화 또는 에스테르화 또는 에테르화로 말단-캡화될 수 있는 포름알데하이드 또는 포름알데하이드의 사이클릭 올리고머 및 주사슬 중의 2개 이상의 근접 탄소 원자를 갖는 옥시알킬렌기를 생성하는 다른 단량체의 공중합체가 포함된다.

본 발명의 조성물 중에 사용되는 폴리아세탈은 분지쇄 또는 직쇄일 수 있고, 일반적으로 10,000 내지 100,000 범위의 수 평균 분자량, 바람직하게는 20,000 내지 75,000 범위의 수 평균 분자량을 갖는 것이다. 분자량은 60 내지 1000 A의 공칭 공극 크기를 갖는 듀폰사 제품인 PSM 바이모달 칼럼 키트(bimodal colummkit)를 사용하여 160에서 m-크레졸 중에서 겔 투과 크로마토그래피로 편리하게 측정될 수 있다. 목적하는 물리적 및 가공 성질에 따라, 더 높거나 또는 더 낮은 분자량을 갖는 폴리아세탈이 사용될 수 있지만, 상기한 폴리아세탈 분자량 평균은 이러한 조성물로부터 제조된 성형 제품 중의 물리적 성질의 가장 바람직한 조합을 갖는 조성물로 용융 혼합되는 각종 성분들의 양호한 혼합의 최적 균형을 제공하는 것이 바람직하다.

상기한 바와 같이, 폴리아세탈은 단일 중합체, 공중합체 또는 그의 혼합물 일 수 있다. 공중합체는 폴리아세탈 조성물을 제조하는데 일반적으로 사용되는 공중합체와 같이 1종 이상의 공단량체를 함유할 수 있다. 더욱 보편적으로 사용되는 공단량체에는 C₂-C₁₂의 알킬렌 옥사이드 및 그의 포름알데하이드와의 사이클릭 부가 생성물이 포함된다. 공단량체의 양은 20 중량 % 이하, 바람직하게는 15 중량 % 이하, 가장 바람직하게는 약 2 중량 % 일 것이다. 가장 바람직한 공단량체는 에틸렌 옥사이드이다. 일반적으로, 폴리아세탈 단일 중합체는 그의 견고함이 증가되기 때문에, 공중합체에 비교하여 바람직하다. 바람직한 폴리아세탈 단일중합체에는 그의 말단 하이드록실기가 화학 반응에 의하여 말단 캡화되어 각각 에스테르 또는 에테르기, 바람직하게는 아세테이트 또는 메톡시기를 형성하는 것이 포함된다.

IB. 성분(b) - 아세틸화 HALS() 및 HALS()

본 명세서에서 사용되는 아세틸화 HALS는 아세틸화되는 차단된 질소를 함유한다. 바람직한 아세틸화 HALS는 하기 구조를 갖는 HALS() 및 HALS() 중에서 선택된다.

상기 식들에서,

R은 C₁-C₄₀알킬, 바람직하게는 C₁₂알킬을 나타낸다.

아세틸화 HALS()이 가장 바람직하다. HALS() 및 HALS()는 당업자에서 용이하게 실시될 수 있는 기술에 의하여 제조될 수 있다. R=C₁₂인 HALS()은 상표명 Tinuvin,440(시바 가이기사 제품)으로 상업상 시판되고, 미합중국 특허 제 4,241,208호에 기재되어 있다. R=C₁₂인 HALS()는 상표면 Sanduvor,-3054(산도즈사 제품)로 상업상 시판된다.

. 임의 성분

본 발명의 조성물은 임의로 UV 흡수제, 차단된 질소가 제2 관능기 또는 알킬치환 제3 관능기인 HALS 및/또는 폴리아세탈 조성물 중에 사용되는 것으로 공지된 다른 성분을 함유할 수 있다.

A. UV 흡수제

UV 흡수제가 상기한 바와 같이 본 발명의 조성물 내에 포함되는 경우에는, 상기 조성물을 필수적으로 (a) 95.00 내지 99.90 중량 %의 폴리아세탈 (b) 0.05 내지 2.50 중량 %의 상기한 바와 같은 아세틸화 HALS 성분 및 (c) 0.05 내지 2.50 중량 %의 1종 이상의 UV 흡수제로 이루어지고, 상기 UV 흡수제는 바람직하게는 2-하이드록시벤조페논, 2-(2`-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 벤조에이트, 치환 옥사닐리드 및 시아노 아크릴레이트로 이루어진 군 중에서 선택된다. 가장 바람직하게는, UV 흡수제는 2-(2`-하이드록시페닐)벤조트리아졸로부터 선택된다. 최상의 광 안정성을 위하여, 본 발명의 조성물은 상기한 바와 같이 1종 이상의 UV 흡수제를 함유하는 것이 바람직하다.

2-하이드록시벤조페논의 특정의 대표적인 예에는 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-옥톡시벤조페논, 5,5`-메틸렌비스(2-하이드록시-4-메톡시벤조페논), 2,4-디하이드록시벤조페논 및 2,2`-디하이드록시-4-메톡시벤조페논이 있다.

2-(2`-하이드록시-5`-메틸페닐)벤조트리아졸의 특정의 대표적인 예에는, 2-(2`-하이드록시-5`-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2`-하이드록시-3`,5`-디-t-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2`-하이드록시-3`,4`-디-t-부틸페놀)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2`-하이드록시-3`-t-부틸-5`-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2`-하이드록시-5`-t-옥틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2`-하이드록시-3`,5`-디쿠밀페닐)벤조트리아졸 및 2,2`-메틸렌비스(4-t-옥틸-6-벤조트리아졸릴)페놀이 포함된다.

벤조에이트의 특정의 대표적인 예에는 페닐 살리실레이트, 레조르시놀 모노벤조에이트, 2,4-디-t-부틸-페닐-3`,5`-디-t-부틸-4`-하이드록시벤조에이트 및 헥사데실-3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤조에이트가 포함된다.

치환 옥사닐리드의 특정의 대표적인 예에는 2-에틸-2`-에톡시옥사닐리드 및 2-에톡시-4`-도데실옥사닐리드가 포함된다.

시아노아크릴레이트의 특정의 대표적인 예에는 에틸-시아노-,-디페닐아크릴레이트 및 메틸 2-시아노-3-메틸-3-(p-메톡시페닐)아크릴레이트가 포함된다.

UV 흡수제는 상업상 시판되거나 또는 당업자에 용이하게 실시될 수 있는 기술에 의하여 제조될 수 있다. 폴리아세탈 조성물 증의 1종 이상의 아세틸화 HALS와 조합된 1종 이상의 UV 흡수제의 사용은, 특히 부분적으로는 아세틸화 HALS 및 UV 흡수제 사이의 상승적 상호 작용 때문에 조성물의 광 안정성에 유익하다.

B. 비아세틸화 HALS

본 발명의 조성물 중에 임의로 포함될 수 있는 다른 종류의 HALS는 HALS 중의 차단된 질소가 아세틸화되지 않은 것들이다(이후, 비아세틸화 HALS로서 나타냄). 바람직하게는, 이러한 비아세틸화 HALS는 제2 관능기 또는 알킬-치환된 제3관능기인 차단된 질소를 갖는 HALS이다. 가장 바람직하게는, 이러한 비아세틸화 HALS는 피페리딘 또는 피페라지놀 고리 중의 차단된 질소가 C₁-C₆기, 바람직하게는 메틸기를 사용하여 알킬화되는 테트라 알킬 피페리딘 잔기 및/또는 테트라-알킬-옥소-피페라지닐-잔기를 함유하는 HALS이다.

이러한 비아세틸화 HALS의 특정 예에는 부틸프로판디오에이트, 디메틸석시네이트/4-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-1-피페리딘에탄올 중축합물, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐/데칸디오에이트, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)세바세이트, 헥사메틸렌[(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노]], 1,1`-(1,2-에탄디일)비스[3,3,5,5-테트라메틸 피페라지논], 하기 실시예에 나타낸 것과 같은 구조를 갖는 HALS() 및 하기 구조를 갖는 HALS()가 포함된다.

상기 식에서,

X는이고,

A는 H 및 C₁-C₆알킬 중에서 선택된다.

비아세틸화 HALS는 상업상 시판되거나 또는 당업자에게 용이하게 실시될 수 있는 기술에 의하여 제조될 수 있다.

C. 기타 성분

본 발명의 조성물은 폴리아세탈, 아세틸화 HALS, 임의의 UV 흡수제, 및 임의의 비아세틸화 HALS에 추가하여, 또한 기타 성분, 변형제, 및 폴리아세탈 성형 수지에 일반적으로 사용되는 첨가제, 예를 들면 열 안정화제, 산화 방지제, 착색제(안료 포함), 인성화제, 보강제, UV 안정화제, 핵 생성제, 윤활제 및 충전제(유리섬유 포함)를 포함할 수 있다.

특별한 관심이 있는 열 안정화제에는 폴리아미드 안정화제, 특히 나일론 터폴리머, 미합중국 특허 제4, 766, 168호 및 동 제4, 814, 397호에 기재된 것과 같은 하이드록시 함유 중합체, 미합중국 특허 제5, 011,890호에 기재된 바와 같은 비용융성 질소 함유 또는 하이드록시 함유 중합체 및 미세결정 셀룰로오스 등의 비용융성 천연 중합체가 포함된다.

. 조성물의 제조

본 발명의 조성물은 모든 성분을 폴리아세탈의 용융 온도 이상의 온도에서, 고무 분쇄기, 밴버리 및 브라벤더 혼합기 등의 밀폐식 혼합기, 외부적으로 또는 마찰에 의하여 가열된 공동을 가진 싱글 또는 멀티블레이드 밀폐식 혼합기, 코니이더(Ko-Kneader), 패럴 연속식 혼합기(Farrel Continuous Mixer) 등의 멀티배럴 혼합기, 사출 성형기, 및 압출기, 단일 및 쌍 나사, 상호 회전 및 회전 카운터 등의 가소성 폴리아세탈 조성물을 제조하는데 통상적으로 사용되는 특정의 강력한 혼합 장치를 사용하여 폴리아세탈과 혼합함으로써 제조될 수 있다. 이 장치는 단독으로 또는 정전기 혼합기, 혼합 토우페도우(torpedoes) 및/또는 이러한 목적을 위하여 설계된 밸브, 게이트 또는 나사 등의 내부 압력 및/또는 혼합 강도를 증가시키기 위한 다양한 장치와 조합하여 사용될 수 있다. 압출기가 바람직하다. 물론, 이러한 혼합은 조성물의 폴리아세탈 성분의 뚜렷한 분해가 발생하는 온도 미만에서 수행되어야만 한다. 일반적으로, 폴리아세탈 조성물은 170-280, 바람직하게는 180-240및 가장 바람직하게는 195-225에서 용융 가공된다.

성형 제품은 압축 성형, 사출 성형, 압출, 취입 성형, 회전 성형, 용융 방사 및 열 성형을 포함하는, 수종의 통상적인 방법을 사용하여 본 발명의 조성물로부터 제조될 수 있다. 사출 성형이 바람직하다. 성형 제품의 예에는 시이트, 프로파일, 막대형, 필름, 필라멘트, 섬유, 스트래핑, 테입 튜빙 및 파이프가 포함된다. 이러한 성형 제품은 배향, 신장, 피복, 어니일링, 페인트, 라미네이트 및 플레이트에 의하여 후처리될 수 있다. 이러한 성형 제품 및 그로부터의 스트랩은 분쇄 및 재성형될 수 있다.

본 발명의 조성물 및 그로부터 제조된 성형 제품의 제조에 사용되는 처리 조건은 약 170-270, 가장 바람직하게는 200-230의 용융 온도가 포함된다. 본 발명의 조성물을 사출 성형하는 경우에, 성형은 생성되는 형태의 정교함을 유지할 수 있도록 가능한 냉각되는 것이 바람직하다. 일반적으로, 성형 온도는 10-120, 바람직하게는 10-100및 가장 바람직하게는 약 50-90가 될 것이다.

[실시예 ]

다음의 실시예는 본 발명의 효과를 측정하기 위하여 폴리아세탈 조성물을 사용하여 수행되는 시험의 결과이다. 또한, 대조 폴리아세탈 조성물에 관한 시험결과도 제공된다. 모든 온도는 다른 식으로 나타내지 않는 한 섭씨 온도이다. 측정치는 적절한 경우에 반올림하였다.

다른 식으로 언급되지 않는한, 하기 실시예 중에서 사용되는 폴리아세탈은 약 40,000의 수 평균 분자량을 갖는 아세테이트 말단-캡화된 단일 중합체이다.

하기 실시예에서 사용되는 아세틸화 HALS는 다음과 같다.

아세틸화 HALS(IA)는 하기 HALS(IA)의 구조를 갖는 8-아세틸-3-도데실-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로(4,5)데칸-2,4-디온이다.

아세틸화 HALS(IIA)는 하기 HALS(IIA)의 구조를 갖는다.

하기 실시예 중에 사용되는 UV 흡수제는 다음과 같다.

UV 흡수제 A는 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4,6-비스(1-메틸-1-페닐에틸)페놀이다.

하기 실시예 중에서 사용되는 비아세틸화 HALS는 다음과 같다.

비아세틸화 HALS A는 하기 (III)의 구조를 갖는

바아세틸화된 HALS B는 부틸프로판디오에이트이다.

하기 시험한 시료를 다음과 같은 방법으로 제조하였다. 모든 성분을 함게 혼합시키고, 150-200의 배럴(barrel) 온도 세팅, 210의 다이 온도 세팅 및 75rpm의 나사 스피드를 갖는 6.35 cm(2.5 인치)의 스테링(sterling) 단일 나사 압출기 상에서 용융 혼합하였다. 다이에서 배출되는 때의 용융물의 온도는 220-230이었다.

시료 조성물의 UV 안정성은 하기한 바와 같이, UV 광에 노출시킴으로써 결정하였다. 조성물을 UV 노출 후에 중량 손실을 결정하기 위하여 시험하였다. UV 노출 후이 중량 손실 시험을 위한 시료는 5 cm8.1 cm4 mm의 치수를 갖는 성형된 플라크(plaque)이었다. 성형된 플라크의 중량은 21 내지 23 g이었고, 상기 플라크의 표면 마무리는 고광택 표면이었다. 플라크의 고광택 면을 규정량으로 UV 광원에 노출시켰다(즉, 하기 표에 나타낸 것과 같음). 시료 조성물을 동일조건 하에서 UV 과에 노출시켰다. 시료 조성물을 시험 전에 중량을 달고, 석영 내부 필터 및 보로실리케이트 외부 필터가 있는 SAE J1885(자동 내부 조건)로서 수행되는 Atlas Ci65 Xenon Arc Weatherometer 중에서 가속된 UV에 노출시켰다.

SAE J1885의 관련 세부 사항은 하기에 직접 나타난다.

명주기 암주기

발광(와트/m²) 0.55 ----

블랙 패널 온도() 89.0 38.0

상개 습도(%) 50.0 100.0

주기 시간(시간) 3.8 1.0

UV 노출 후의 중량 손실을 규정량의 UV 광에 노출시킨 후에, 시료의 중량을 달고, 이어서 중량 손실을 계산함으로써 결정하였다. 중량 손실은 폴리아세탈 UV분해에 대한 표준 시험이다.

UV 노출 후의 색차(DE)를 색차 계산 방법에 의하여 측정하였다. 색차 계산방법은 색 등급의 도구적 수단이다. 그것은 사람의 눈 만큼 민감하지 않으므로, 최종 판단 기준은 통상적으로 가시적 평가이다. 사용되는 기구는 Macbeth 1500/Plus Color Measurement System이고, 이 시스템은 CIELAB 색 공간, D65 발광체, 및 거울 반사가 포함되는 10도 관찰기를 사용하는 SAE J1545로서 색차 계산측정치를 나타낸다. 색차를 측정하고, 노출되지 않은 시료 플라크 및 노출된 시료 플라크와 비교하였다. 모든 노출된 색 시료 플라크를 이러한 비교 전에 티슈로 닦아서, 실제의 색 차이의 측정치의 판독을 방해할 수 있는 표면 필름을 제거하였다.

시료 조성물의 열 안전성을 열적으로 발생된 포름알데하이드(TEF) 시험 방법을 사용하여 결정하였다. 시험할 폴리아세탈 조성물의 청량된 시료를 튜브 중에 놓고, 산소가 없는 환경 중에서 시료를 유지시키면서 장치로부터 발생된 가스를 제거하기 위하여, 질소를 시험 시료에 도입하기 위한 캡으로 튜브를 닫았다. 시료를 함유한 튜브를 실리콘 유조 중에서 259에서 가열하였다. 질소 및 질소에 의하여 운반되는 발생된 가스를 수용액 중의 아황산 나트륨(40 g/L) 75 m1를 통하여 버블시켰다. 발생된 포름알데하이드를 아황산 나트륨과 반응시켜 수산화 나트륨을 방출시켰다. 수산화나트륨을 표준 0.1 N HC1을 사용하여 연속적으로 중화시켰다. 결과를 적정량(m1) 대 시험 시간의 챠트(char)로서 얻었다. 발생된 포름알데하이드의 비율을 하기 일반식에 의하여 계산하였다.

상기 식에서,

V는 ml로 표시한 적정 부피이고

N은 적정 노르말 농도이고

SW는 g으로 표시한 시료 중량이다.

지수 0.03은 포름알데하이드의 밀리당량 중량(g/밀리당량)이다. TEF 결과를 15 및 30분에서 기록된 결과를 가지고 중량 % CH₂0 손실 @ 259하에서 하기 표중에서 기록하였다. 시료 조성물의 장시간 열-산화 안정성(즉, 물리적 성질 보유능)을 공기 오븐 숙성 방법을 사용하여 결정하였다. 혼합된 조성물을 대략 207의 배럴 온도 세팅 및 대략 88의 성형 세팅을 사용하여 약 0.32 cm(1/8 인치) 두께의 인장 바아(bar) 내로 사출 성형시켰다. 각각의 조성물의 인장 바아를 미리 청량하고, 하기 표에 나타낸 것과 같은 시간 동안 130에서 순환 공기 오븐중에 놓았다. 오븐 위치 효과를 시료의 바아를 오븐 전체에 분산시킴으로써 평균화 시켰다. 각각의 시료에 대하여 보고된 데이터는 3개 이상의 인장 바아의 평균을 나타낸다. 명시된 시간의 말기에 시료를 오븐으로부터 꺼내, 칭량하고, ASTM방법 0-638 [약 0.51 cm(0.2 인치)/분, 크로스헤드(crosshead) 속도]에 따라서 인장 강도(TS) 및 신장율(E)에 대하여 시험하였다. 중량 손실의 비율(% WL)로 계산하였다.

[실시예 1-3]

실시예 1-3 및 C1-C3 조성물에 대한 성분을 하기 표 IA에 나타내었다. 표 IA 중의 각각의 조성물은 추가 0.75 중량 %의 에틸렌 비닐 알코올 공중합체(미합중국 특허 제4, 766, 168호에 기재된 바와 같이 제조되고, 이후 EVOH로 나타냄), 0.25 중량 %의 나일론 66, 나일론 6/10 및 나일론 6 각각의 33/23/43 나일론 터폴리머(이후 나일론으로 나타냄) 및 0.10 중량 %의 트리에틸렌글리콜 비스(3,3`-t-부틸-4'-하이드록시-5'-메틸페닐)프로피오네이트(이후,산화 방지제 A로서 나타냄), 0.05 중량 %의 N,N`-헥사메틸렌 비스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시하이드로신나마이드)(이후, 산화 방지제 B로서 나타냄) 및 0.50 중량 %의 평균 분자량 8000인 폴리에틸렌 글리콜(이후, PEG로 나타냄)을 함유하였다. 상기 문장 및 표 IA에 제공되는 모든 중량 %는 전체 조성물 중량을 기준으로 한다.

표 IA 중의 각각의 조성물에 대한 시험 결과를 하기 표 IB 및 표 IC에 나타내었다. 아세틸화 HALS IA를 함유하는 실시예 1의 조성물은 비아세틸화 HALS를 함유한 실시예 C2의 조성물보다 더 나은 UV 광 안정성, 열 안정성 및 공기 오븐 숙성 안정성(즉, 물리적 성질 유지)을 나타내었다. 아세틸화 HALS IA 및 UV 흡수제(A)를 함유한 실시예 3의 조성물은 아세틸화 HALS IA를 함유한 실시예 2의 조성물 및 UV흡수제(A)를 함유한 실시예 3의 조성물보다 더 나은 광 안정성을 나타내었다.

[실시예 4-8]

실시예 4-8 및 C1-C4의 조성물에 대한 성분을 하기 표 IIIA 중에 나타내었다. 표 IIIA 중의 각각의 조성물은 추가로 0.75 중량 %의 EVOH, 0.25 중량 %의 나일론, 0.10 중량 %의 산화 방지제 A, 0.05 중량 %의 산화 방지제 B 및 0.50 중량 %의 PEG를 함유하였다. 상기 문장 및 표 IIIA 중의 모든 중량 %는 전체 조성물 중량을 기준으로 한다.

표 IIIA 중의 각각의 조성물에 대한 시험 결과를 하기 표 IIIB 및 표 IIIC 중에 나타내었다. 아세틸화 HALS IIA를 함유한 각각의 시료 조성물 4 및 5는 비아세틸화 HALS A를 함유하는 각각의 시료 조성물 C4 및 C2 보다 각각 더 나은 광안정성, 열 안정성 및 공기 오븐 숙성 안정성을 나타내었다.

* 데이터 없음

[실시예 7-11 ]

실시예 7-11의 조성물에 대한 성분을 하기 표A에 나타내었다. 다른 식으로 특별히 명시되지 않는 한, 각각의 조성물은 0.75 중량 %의 EVOH, 0.25 중량 %의 나일론, 0.50 중량 %의 PEG 및 0.05 중량 %의 카본 블랙 농축물을 함유하였다. 상기 문장 및 표A 중의 모든 중량 %는 전체 조성물 중량을 기준으로 한다.

표A 중의 각각의 조성물에 대한 시험 결과를 하기 표B에 나타내었다.

* 0.40 중량 %의 EVOH, 0.15 중량 %의 나일론 및 미합중국 특허 제5,011,890호에 기재된 바와 같이 제조된 0.25 중량 %의 가교 결합된 비용융성 아크릴아미드 종합체 안정화제를 함유함(0.75 중량 %의 EVOH 및 0.25 중량 %의 나일론을 대신함).

Claims

필수적으로 성분(a) 및 (b)만의 전체 중량을 기준으로 (a) 95.00 내지 99.95 중량 %의 폴리아세탈 및 (b) 0.05 내지 5.00 중량 %의 하기 일반식() 및 ()의 화합물 중에서 선택된 1종 이상의 아세틸화 차단된 아민 광 안정화제로 이루어지는 조성물.

상기 식들에서,

R은 C₁-C₄₀알킬이다.
제1항에 있어서, 상기 폴리아세탈이 단일 중합체인 것을 특징으로 하는 조성물.
제1항에 있어서, 상기 폴리아세탈이 공중합체인 것을 특징으로 하는 조성물.
제1항에 있어서, 상기 일반식() 및 ()의 R이 C₁₂알킬인 것을 특징으로 하는 조성물.
제1항에 있어서, 필수적으로 2-하이드록시벤조페논, 2-(2`-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 벤조에이트, 치환 옥사닐리드 및 시아노 아크릴레이트로 이루어진 군 중에서 선택된 1종 이상의 UV 흡수제를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제1항에 있어서, 필수적으로 차단된 질소가 아세틸화되지 않은 1종 이상의 차단된 아민 광 안정화제를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제5항에 있어서, 필수적으로 차단된 질소가 아세틸화되지 않은 1종 이상의 차단된 아민 광 안정화제를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제1항에 있어서, 필수적으로 열 안정화제, 산화 방지제, 착색제, 인성화제, 보강제, UV 광 안정화제, 핵 생성제, 윤활제 및 충전제 중 1종 이상을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제1항의 조성물로부터 제조된 성형 제품.