JP3080174B2 - 光ビーム偏向装置 - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は複製技術の分野に関連し、さらに光ビームを
偏向するための装置に関する。
偏向するための装置に関する。
光ビーム偏向装置は例えば原画走査機器又は記録機器
のための走査装置において使用される。
のための走査装置において使用される。
入力スキャナとも呼ばれる原画走査機器では、走査装
置で発生される光ビームは点状に及びライン状に走査す
べき原画の上を移動し、この原画から反射される又は透
過される走査光はオプトエレクトロニクス変換器におい
て画像信号に変換される。
置で発生される光ビームは点状に及びライン状に走査す
べき原画の上を移動し、この原画から反射される又は透
過される走査光はオプトエレクトロニクス変換器におい
て画像信号に変換される。
レコーダ、露光器又は出力スキャナとも呼ばれる記録
機器では、走査装置で発生される光ビームは画像信号に
よって強度変調され、この強度変調された光ビームが点
状に及びライン状に感光性記録材料の上へと導かれる。
機器では、走査装置で発生される光ビームは画像信号に
よって強度変調され、この強度変調された光ビームが点
状に及びライン状に感光性記録材料の上へと導かれる。
平台型の走査又は記録機器では原画乃至は記録材料の
支持部材は走査装置に対して相対的に可動される平面で
ある。この平面の上を光ビームは点状に及びライン状に
移動する。
支持部材は走査装置に対して相対的に可動される平面で
ある。この平面の上を光ビームは点状に及びライン状に
移動する。
内部ドラム型の走査又は記録機器では、原画乃至は記
録材料の支持部材は固定式の円筒セグメント形状のトレ
イ型部材として形成されている。走査装置はこのトレイ
型部材の長手軸に平行に移動し、光ビームは点状に及び
ライン状にこのトレイ型部材に亘って半径方向に長手軸
に対して垂直に導かれる。
録材料の支持部材は固定式の円筒セグメント形状のトレ
イ型部材として形成されている。走査装置はこのトレイ
型部材の長手軸に平行に移動し、光ビームは点状に及び
ライン状にこのトレイ型部材に亘って半径方向に長手軸
に対して垂直に導かれる。
内部ドラム型の記録機器の走査装置のためのシングル
ビーム偏向装置は例えばEP−Ｂ−0126469から公知であ
る。この公知のシングルビーム偏向装置は回転鏡を有
し、この回転鏡は光ビームをライン状に記録材料の上に
偏向し、回転鏡で反射される光ビームはほぼ回転鏡に当
たる光ビームの全光出力を有する。
ビーム偏向装置は例えばEP−Ｂ−0126469から公知であ
る。この公知のシングルビーム偏向装置は回転鏡を有
し、この回転鏡は光ビームをライン状に記録材料の上に
偏向し、回転鏡で反射される光ビームはほぼ回転鏡に当
たる光ビームの全光出力を有する。
回転鏡の回転毎にその都度記録材料の上のただ１つの
ラインが露光され、光ビームは次のラインのスタート地
点まで比較的長い戻り時間を必要とする。この公知のシ
ングルビーム偏向装置は次のような不利な点を有する。
すなわち、この公知のシングルビーム偏向装置は長い戻
り時間のために回転毎に比較的小さな利用度を有し、従
って比較的低い記録速度しか得られない、という不利な
点を有する。
ラインが露光され、光ビームは次のラインのスタート地
点まで比較的長い戻り時間を必要とする。この公知のシ
ングルビーム偏向装置は次のような不利な点を有する。
すなわち、この公知のシングルビーム偏向装置は長い戻
り時間のために回転毎に比較的小さな利用度を有し、従
って比較的低い記録速度しか得られない、という不利な
点を有する。
内部ドラム型の記録機器の走査装置のためのダブルビ
ーム偏向装置は例えばDE−Ａ−4128468から公知であ
る。このダブルビーム偏向装置ではビームスプリッタ装
置を用いて偏光された入力光ビームから２つの180゜だ
けずれた部分ビームが得られる。このビームスプリッタ
装置は実質的には偏光された入力光ビームを発生させる
ための固定光源及び偏向ユニットを有する。この偏向ユ
ニットは光ビームの光学軸を中心に回転する。この偏向
ユニットは偏光ビームスプリッタ、偏光変換器及び反射
器から構成される。偏光ビームスプリッタ、偏光変換器
及び反射器は光学軸上に互いに前後して配置されてい
る。固定光源から発射される偏光された光ビームは画像
信号によって強度変調され、さらに回転する偏光ユニッ
トの偏光ビームスプリッタによって２つの部分ビームに
分離される。２つの部分ビームは半径方向に180゜だけ
ずらされて偏向ユニットから出てくる。そしてこれらの
２つの部分ビームは露光トレイ型部材に固定された記録
材料に集束し、点状に及びライン状にこの記録材料を露
光する。
ーム偏向装置は例えばDE−Ａ−4128468から公知であ
る。このダブルビーム偏向装置ではビームスプリッタ装
置を用いて偏光された入力光ビームから２つの180゜だ
けずれた部分ビームが得られる。このビームスプリッタ
装置は実質的には偏光された入力光ビームを発生させる
ための固定光源及び偏向ユニットを有する。この偏向ユ
ニットは光ビームの光学軸を中心に回転する。この偏向
ユニットは偏光ビームスプリッタ、偏光変換器及び反射
器から構成される。偏光ビームスプリッタ、偏光変換器
及び反射器は光学軸上に互いに前後して配置されてい
る。固定光源から発射される偏光された光ビームは画像
信号によって強度変調され、さらに回転する偏光ユニッ
トの偏光ビームスプリッタによって２つの部分ビームに
分離される。２つの部分ビームは半径方向に180゜だけ
ずらされて偏向ユニットから出てくる。そしてこれらの
２つの部分ビームは露光トレイ型部材に固定された記録
材料に集束し、点状に及びライン状にこの記録材料を露
光する。
２つの部分ビームによって偏向ユニットの回転毎に記
録材料の上の２つのラインが露光される。これによって
高い利用度が得られ、従って高い記録速度が得られる。
しかし、この公知のダブルビーム偏向装置は次のような
不利な点を有する。すなわち、各部分ビームは入力光ビ
ームの光出力の約50％の光出力しか持たない。従って、
比較的小さな光学的効率しか得られない。
録材料の上の２つのラインが露光される。これによって
高い利用度が得られ、従って高い記録速度が得られる。
しかし、この公知のダブルビーム偏向装置は次のような
不利な点を有する。すなわち、各部分ビームは入力光ビ
ームの光出力の約50％の光出力しか持たない。従って、
比較的小さな光学的効率しか得られない。
所定の記録材料を露光するためには実際には光ビーム
偏向装置を有する露光器が必要とされる。この光ビーム
偏向装置は記録材料を出来る限り高い光出力で、同時に
良好な利用度で露光することができる。公知のダブルビ
ーム偏向装置はこれらの要求を十分には満たしていな
い。
偏向装置を有する露光器が必要とされる。この光ビーム
偏向装置は記録材料を出来る限り高い光出力で、同時に
良好な利用度で露光することができる。公知のダブルビ
ーム偏向装置はこれらの要求を十分には満たしていな
い。
内部ドラム型の記録機器の走査装置のための別のダブ
ルビーム偏向装置がEP−Ａ−0483827から公知である。
このダブルビーム偏向装置では、まず最初に異なる円偏
光方向を有する２つの円偏光された入力光ビームが発生
される。これら円偏光された入力光ビームは次に選択的
に強度変調され、１つの結合された入力光ビームに統合
される。この結合された入力光ビームは回転する偏向ユ
ニットに供給される。この回転する偏向ユニットでこの
結合された入力光ビームは２つの直線偏光された部分ビ
ームに分割される。これら２つの部分ビームは、回転す
る偏向ユニットによって露光トレイ型部材に固定された
記録材料へとほぼ同じ方向に向けられ、点状に及びライ
ン状にこの記録材料を露光する。
ルビーム偏向装置がEP−Ａ−0483827から公知である。
このダブルビーム偏向装置では、まず最初に異なる円偏
光方向を有する２つの円偏光された入力光ビームが発生
される。これら円偏光された入力光ビームは次に選択的
に強度変調され、１つの結合された入力光ビームに統合
される。この結合された入力光ビームは回転する偏向ユ
ニットに供給される。この回転する偏向ユニットでこの
結合された入力光ビームは２つの直線偏光された部分ビ
ームに分割される。これら２つの部分ビームは、回転す
る偏向ユニットによって露光トレイ型部材に固定された
記録材料へとほぼ同じ方向に向けられ、点状に及びライ
ン状にこの記録材料を露光する。
本発明の課題はより大きな光学的効率と同時に良好な
利用度を達成するように光ビームを偏向するための装置
を改良することである。
利用度を達成するように光ビームを偏向するための装置
を改良することである。
上記課題は本発明においては請求項１の特徴部分記載
の構成によって解決される。
の構成によって解決される。
有利な実施形態及び改善実施形態は従属請求項から得
られる。
られる。
本発明を次に図１から図３に基づいて詳しく説明す
る。
る。
図１は第１の出力光ビームの光路を有する光ビーム偏
向装置の実施例である。
向装置の実施例である。
図２は第２の出力光ビームの光路を有する光ビーム偏
向装置である。
向装置である。
図３は光ビーム偏向装置の適用例である。
図１は改良された光学的効率及び高い利用度を有する
光ビーム偏向装置の実施例である。この光ビーム偏向装
置は基本的に光学軸３に沿った偏光された光ビーム２を
発生するための固定光源１及び偏向ユニット４から構成
される。この偏向ユニット４は光学軸３のまわりに回転
可能に支承されており、モータ５によって駆動される。
光ビーム偏向装置の実施例である。この光ビーム偏向装
置は基本的に光学軸３に沿った偏光された光ビーム２を
発生するための固定光源１及び偏向ユニット４から構成
される。この偏向ユニット４は光学軸３のまわりに回転
可能に支承されており、モータ５によって駆動される。
固定光源１は例えば半導体レーザダイオードである。
基本的には偏光されていない光ビームを発生する他のど
んな光源を偏光子に結合して使用してもよい。この結
果、偏光された光ビーム２が得られる。
基本的には偏光されていない光ビームを発生する他のど
んな光源を偏光子に結合して使用してもよい。この結
果、偏光された光ビーム２が得られる。
光源１と偏向ユニット４との間には光学軸３上に互い
に前後してレンズ系６及び制御可能な第１の偏光変換器
７が固定的に配置される。
に前後してレンズ系６及び制御可能な第１の偏光変換器
７が固定的に配置される。
この制御可能な第１の偏光変換器７は例えば電気光学
的変調器であり、この電気光学的変調器は入射してくる
光ビーム２の偏光を円偏光に変換し、この円偏光の回転
方向をその都度の制御信号の信号レベルに依存して切り
換える。
的変調器であり、この電気光学的変調器は入射してくる
光ビーム２の偏光を円偏光に変換し、この円偏光の回転
方向をその都度の制御信号の信号レベルに依存して切り
換える。
偏向ユニット４は原理的には第２の偏光変換器８、偏
光ビームスプリッタ９、第３の偏光変換器10及び反射器
11から構成される。これらの光学素子は光学軸３上に互
いに前後して配置され、有利なやり方でコンパクトなユ
ニットに例えば接着させることによって結合される。
光ビームスプリッタ９、第３の偏光変換器10及び反射器
11から構成される。これらの光学素子は光学軸３上に互
いに前後して配置され、有利なやり方でコンパクトなユ
ニットに例えば接着させることによって結合される。
モータ５にはプログラマブル回転パルス発生器12が機
械的に結合されている。このプログラマブル回転パルス
発生器12は光学軸３のまわりを回転し、２つのレベルを
有する制御信号を発生し、線路13を介して第１の偏光変
換器７に供給する。
械的に結合されている。このプログラマブル回転パルス
発生器12は光学軸３のまわりを回転し、２つのレベルを
有する制御信号を発生し、線路13を介して第１の偏光変
換器７に供給する。
第２の偏光変換器８は波長板、例えばλ/4プレートと
して形成される。この第２の偏光変換器８は光ビーム２
の円偏光をこの円偏光のその都度の回転方向に依存して
第１の偏光状態を有する直線偏光に、例えば０゜の偏光
面を有する直線偏光に変換するか又は第２の偏光状態を
有する直線偏光に、例えば90゜の偏光面を有する直線偏
光に変換する。
して形成される。この第２の偏光変換器８は光ビーム２
の円偏光をこの円偏光のその都度の回転方向に依存して
第１の偏光状態を有する直線偏光に、例えば０゜の偏光
面を有する直線偏光に変換するか又は第２の偏光状態を
有する直線偏光に、例えば90゜の偏光面を有する直線偏
光に変換する。
偏光ビームスプリッタ９は偏光層14を有する。この偏
光層14によって直線偏光された光ビーム２がそのその都
度の偏光状態に依存して反射されるか又は透過される。
偏光層14は通常は異なる屈折率を有する複数の誘電体層
から形成される。代替的にこの偏光層14はプラスティッ
ク製の偏光フォイルシートか又は他の適当な材料から構
成してもよい。偏光層14の支持体はこの実施例では２つ
の三角プリズム15、16から形成される立方体であり、偏
光層14は三角プリズム15、16の互いに向かい合った境界
面の間に配置される。
光層14によって直線偏光された光ビーム２がそのその都
度の偏光状態に依存して反射されるか又は透過される。
偏光層14は通常は異なる屈折率を有する複数の誘電体層
から形成される。代替的にこの偏光層14はプラスティッ
ク製の偏光フォイルシートか又は他の適当な材料から構
成してもよい。偏光層14の支持体はこの実施例では２つ
の三角プリズム15、16から形成される立方体であり、偏
光層14は三角プリズム15、16の互いに向かい合った境界
面の間に配置される。
第３の偏光変換器10は例えば複屈折プレートであり、
この複屈折プレートは反射器11と共に直線偏光の偏光面
を90゜回転させる。
この複屈折プレートは反射器11と共に直線偏光の偏光面
を90゜回転させる。
反射器11は平面鏡又は実施例に図示されているように
有利には少なくとも90゜の角度で互いに向かい合った２
つの鏡面を有するプリズムとして、例えばリッジプリズ
ム又はトリプルプリズムとして形成される。
有利には少なくとも90゜の角度で互いに向かい合った２
つの鏡面を有するプリズムとして、例えばリッジプリズ
ム又はトリプルプリズムとして形成される。
偏向ユニット４はその他にこの偏向ユニット４から出
て行く出力光ビーム（図１では19、図２では20）のため
の半径方向に対向配置された２つの光射出開口部17、18
ならびにビーム集束のための光学的手段を有する。
て行く出力光ビーム（図１では19、図２では20）のため
の半径方向に対向配置された２つの光射出開口部17、18
ならびにビーム集束のための光学的手段を有する。
レンズ系６が平行な、つまり予め集束されてはいない
光２ビームを形成するこの図示された実施例では、ビー
ムを集束させるために光射出開口部17、18にそれぞれレ
ンズ21、22が取り付けられている。代替的にレンズ系６
と偏向ユニット４との間の光ビーム２のビーム路に、例
えば制御可能な第１の偏光変換器７の後方に又は回転す
る偏向ユニット４の第２の偏光変換器８の前方に固定的
にレンズ21を配置してもよい。レンズ22は偏光ビームス
プリッタ９と反射器11との間に存在してもよい。それぞ
れレンズの代わりに、レンズ結合（lens−combinatio
n）を使用してもよい。
光２ビームを形成するこの図示された実施例では、ビー
ムを集束させるために光射出開口部17、18にそれぞれレ
ンズ21、22が取り付けられている。代替的にレンズ系６
と偏向ユニット４との間の光ビーム２のビーム路に、例
えば制御可能な第１の偏光変換器７の後方に又は回転す
る偏向ユニット４の第２の偏光変換器８の前方に固定的
にレンズ21を配置してもよい。レンズ22は偏光ビームス
プリッタ９と反射器11との間に存在してもよい。それぞ
れレンズの代わりに、レンズ結合（lens−combinatio
n）を使用してもよい。
実施例に図示されているように、予め集束されていな
い光ビーム２が使用される場合、出力光ビーム19、20を
集束させるために使用されるレンズ21、22は同一の光学
的パラメータを有する。これに対して、レンズ系６を相
応に形成及び配置することによって予め集束された光ビ
ーム２を使用する場合には、レンズ21、22は異なる光学
的パラメータを有する、 光ビーム偏向装置の構造の記述の後でこの光ビーム偏
向装置の作動方法を詳しく説明する。
い光ビーム２が使用される場合、出力光ビーム19、20を
集束させるために使用されるレンズ21、22は同一の光学
的パラメータを有する。これに対して、レンズ系６を相
応に形成及び配置することによって予め集束された光ビ
ーム２を使用する場合には、レンズ21、22は異なる光学
的パラメータを有する、 光ビーム偏向装置の構造の記述の後でこの光ビーム偏
向装置の作動方法を詳しく説明する。
光源１から発生する偏向された光ビーム２はレンズ系
６によってコリメートされ、制御可能な第１の偏光変換
器７に供給される。この制御可能な第１の偏光変換器７
において光ビーム２の偏光が円偏光に変換されこの円偏
光の回転方向は線路13におけるその都度の制御信号の信
号レベルに依存して次のように切り換えられる。すなわ
ち、光ビーム２は例えば制御信号の一方の信号レベルに
おいては右回転する円偏光を有し、他方の信号レベルに
おいては左回転する円偏光を有するように切り換えられ
る。
６によってコリメートされ、制御可能な第１の偏光変換
器７に供給される。この制御可能な第１の偏光変換器７
において光ビーム２の偏光が円偏光に変換されこの円偏
光の回転方向は線路13におけるその都度の制御信号の信
号レベルに依存して次のように切り換えられる。すなわ
ち、光ビーム２は例えば制御信号の一方の信号レベルに
おいては右回転する円偏光を有し、他方の信号レベルに
おいては左回転する円偏光を有するように切り換えられ
る。
異なるように円偏光された光ビーム２は次に回転する
偏向ユニット４の第２の偏光変換器８に供給される。こ
の第２の偏光変換器８は光ビーム２の円偏光をこの円偏
光のその都度の回転方向に依存して第１の偏光状態又は
第２の偏光状態を有する直線偏光に変換する。
偏向ユニット４の第２の偏光変換器８に供給される。こ
の第２の偏光変換器８は光ビーム２の円偏光をこの円偏
光のその都度の回転方向に依存して第１の偏光状態又は
第２の偏光状態を有する直線偏光に変換する。
この第２の偏光変換器８から出てくる直線偏光された
光ビーム２は次に偏光ビームスプリッタ９の偏光層14に
到達し、この偏光層14でその第１の偏光状態又は第２の
偏光状態に応じて反射されるか又はこの偏光層14を透過
する。この結果、２つの異なる光路A,Bが偏向ユニット
４の内部に生じる。
光ビーム２は次に偏光ビームスプリッタ９の偏光層14に
到達し、この偏光層14でその第１の偏光状態又は第２の
偏光状態に応じて反射されるか又はこの偏光層14を透過
する。この結果、２つの異なる光路A,Bが偏向ユニット
４の内部に生じる。
これら２つの光路A,Bを次に図１及び図２に基づいて
詳しく説明する。図１及び図２は光学軸３を中心とする
同一の回転位置における光ビーム偏向装置を示す。
詳しく説明する。図１及び図２は光学軸３を中心とする
同一の回転位置における光ビーム偏向装置を示す。
直線偏光された光ビーム２が第１の偏光状態を有する
場合、図１に図示されているように、光ビーム２は偏光
層14で光路Ａを介して第１の出力光ビーム19として反射
される。よって、偏光層14を透過せず、このため第２の
出力光ビーム20は形成されない。
場合、図１に図示されているように、光ビーム２は偏光
層14で光路Ａを介して第１の出力光ビーム19として反射
される。よって、偏光層14を透過せず、このため第２の
出力光ビーム20は形成されない。
第１の出力光ビーム19は偏向ユニット４から第１の光
射出開口部17を通って出て行き、レンズ21によって第１
の固定基準平面23に集束する。
射出開口部17を通って出て行き、レンズ21によって第１
の固定基準平面23に集束する。
これに対して、直線偏向された光ビーム２が第２の偏
光状態を有する場合、光ビーム２は図２に図示されてい
るように偏光層14を光路Ｂを介して透過する。よって、
偏光層14によって反射されず、このため第１の出力光ビ
ーム19は形成されない。
光状態を有する場合、光ビーム２は図２に図示されてい
るように偏光層14を光路Ｂを介して透過する。よって、
偏光層14によって反射されず、このため第１の出力光ビ
ーム19は形成されない。
透過した光ビーム２は第３の偏光変換器10に導かれ
る。この第３の偏光変換器10は光ビーム２の偏光状態を
変える。光ビーム２は次に反射器11で反射され、偏光状
態が再び変化する。この反射器11で反射された光ビーム
２はあらためて第３の偏光変換器10に正反対の方向から
通過する。これによってこの偏光は反射器11の方向に進
行する光ビーム２の偏光に対して90゜だけ回転させられ
る。この結果、反射器11から来る光ビーム２は偏光ビー
ムスプリッタ９の偏光層14で第２の出力光ビーム20とし
て反射される。
る。この第３の偏光変換器10は光ビーム２の偏光状態を
変える。光ビーム２は次に反射器11で反射され、偏光状
態が再び変化する。この反射器11で反射された光ビーム
２はあらためて第３の偏光変換器10に正反対の方向から
通過する。これによってこの偏光は反射器11の方向に進
行する光ビーム２の偏光に対して90゜だけ回転させられ
る。この結果、反射器11から来る光ビーム２は偏光ビー
ムスプリッタ９の偏光層14で第２の出力光ビーム20とし
て反射される。
この第２の出力光ビーム20は次の前提条件下で生じ
る。すなわち、偏光ビームスプリッタ９の偏光層14が光
学軸３に対して45゜の傾角を有する、という前提条件下
で生じる。この第２の出力光ビーム20は第１の出力光ビ
ーム19に対して180゜のずれを有して偏向ユニット４か
ら第２の光射出開口部18を通過して出て行き、レンズ22
によって第２の固定基準平面24に集束する。
る。すなわち、偏光ビームスプリッタ９の偏光層14が光
学軸３に対して45゜の傾角を有する、という前提条件下
で生じる。この第２の出力光ビーム20は第１の出力光ビ
ーム19に対して180゜のずれを有して偏向ユニット４か
ら第２の光射出開口部18を通過して出て行き、レンズ22
によって第２の固定基準平面24に集束する。
従って、本発明の光ビーム偏向装置においては有利な
やり方で偏向ユニット４の各回転毎に制御信号の信号レ
ベルの持続時間を介して作動領域が決定される。この作
動領域ではその都度出力光ビームのうちの１つ19乃至は
20がオンされ、もう一方の出力光ビーム20乃至19はオフ
される。偏光ビームスプリッタ９の偏光層14でビーム分
離が行われないので、その都度定められた作動領域にお
いてアクティブな出力光ビーム19乃至20は有利なやり方
でほぼ光ビーム２の全光出力を有する。
やり方で偏向ユニット４の各回転毎に制御信号の信号レ
ベルの持続時間を介して作動領域が決定される。この作
動領域ではその都度出力光ビームのうちの１つ19乃至は
20がオンされ、もう一方の出力光ビーム20乃至19はオフ
される。偏光ビームスプリッタ９の偏光層14でビーム分
離が行われないので、その都度定められた作動領域にお
いてアクティブな出力光ビーム19乃至20は有利なやり方
でほぼ光ビーム２の全光出力を有する。
制御信号の信号レベルのその都度の持続時間は例えば
回転パルス発生器12においてプログラムされる。
回転パルス発生器12においてプログラムされる。
図３は内部ドラムの原理に従って作動するレコーダ
（露光器）の走査装置26における本発明の光ビーム偏向
装置の適用例を図示している。このような内部ドラム式
レコーダでは記録材料27は円筒セグメントの内壁に露光
トレイ型部材28として固定される。走査装置26は図１及
び図２に図示された光ビーム偏向装置を有し、露光トレ
イ型部材28の内側面は基準面の１つ23乃至24を形成す
る。180゜だけ半径方向に互いにずらされた出力光ビー
ム19、20は画像信号によって輝度変調される。これは詳
しくは図示されていない。そして出力光ビーム19、20は
露光のために点状に及びライン状に記録材料27の上に導
かれる。この際、走査装置26は長手軸29の方向にここに
は図示されていない駆動部によって移動する。
（露光器）の走査装置26における本発明の光ビーム偏向
装置の適用例を図示している。このような内部ドラム式
レコーダでは記録材料27は円筒セグメントの内壁に露光
トレイ型部材28として固定される。走査装置26は図１及
び図２に図示された光ビーム偏向装置を有し、露光トレ
イ型部材28の内側面は基準面の１つ23乃至24を形成す
る。180゜だけ半径方向に互いにずらされた出力光ビー
ム19、20は画像信号によって輝度変調される。これは詳
しくは図示されていない。そして出力光ビーム19、20は
露光のために点状に及びライン状に記録材料27の上に導
かれる。この際、走査装置26は長手軸29の方向にここに
は図示されていない駆動部によって移動する。
光ビーム偏向装置の各回転は作動領域30と戻り領域31
とに分割される。図示されている例では出力光ビーム19
は作動領域30の上を移動する間オンされており、記録材
料27上のラインをこのラインのスタート地点32からこの
ラインの終点33まで露光する。出力光ビーム19がオンさ
れている間、出力光ビーム20はその戻り領域31において
オフされる。オンされた出力光ビーム19がラインの終点
33でこの作動領域30を離れると、この出力光ビーム19は
オフされる。この時点で戻り回転されていた出力光ビー
ム20が次のラインのラインスタート地点に到達し相応す
るラインを露光するためにオンされる。
とに分割される。図示されている例では出力光ビーム19
は作動領域30の上を移動する間オンされており、記録材
料27上のラインをこのラインのスタート地点32からこの
ラインの終点33まで露光する。出力光ビーム19がオンさ
れている間、出力光ビーム20はその戻り領域31において
オフされる。オンされた出力光ビーム19がラインの終点
33でこの作動領域30を離れると、この出力光ビーム19は
オフされる。この時点で戻り回転されていた出力光ビー
ム20が次のラインのラインスタート地点に到達し相応す
るラインを露光するためにオンされる。
図１又は図２の回転パルス発生器12は次のようにプロ
グラミングできる。すなわち、偏向ユニット４の各回転
毎に第１の偏光変換器７に対する２つのレベルを有する
制御信号は作動領域30の間には一方の信号レベルをと
り、戻り領域31の間には他方の信号レベルをとるように
プログラミングされる。
グラミングできる。すなわち、偏向ユニット４の各回転
毎に第１の偏光変換器７に対する２つのレベルを有する
制御信号は作動領域30の間には一方の信号レベルをと
り、戻り領域31の間には他方の信号レベルをとるように
プログラミングされる。
本発明の光ビーム偏光向置では作動領域30でその都度
アクティブな出力光ビーム19乃至は20は光源１で発生さ
れた光ビーム２のほぼ全光出力を有するので、記録材料
27を露光する際に高い光学的効率が得られる。そして同
時に高い利用度も得られる。というのも、記録材料27の
露光は無駄時間なしで行われるからである。従って、本
発明の光ビーム偏向装置は有利なやり方で従来のシング
ルビーム偏向装置のポジティブな特性と従来のダブルビ
ーム偏向装置のポジティブな特性とを統合するものであ
る。
アクティブな出力光ビーム19乃至は20は光源１で発生さ
れた光ビーム２のほぼ全光出力を有するので、記録材料
27を露光する際に高い光学的効率が得られる。そして同
時に高い利用度も得られる。というのも、記録材料27の
露光は無駄時間なしで行われるからである。従って、本
発明の光ビーム偏向装置は有利なやり方で従来のシング
ルビーム偏向装置のポジティブな特性と従来のダブルビ
ーム偏向装置のポジティブな特性とを統合するものであ
る。
本発明の光ビーム偏向装置は内部ドラム型又は平台型
の記録機器において使用できる。本発明の枠内には原画
走査機器にもこの光ビーム偏向装置を使用することが含
まれている。この場合両方の出力光ビームが原画の点状
の及びライン状の露光に使用される。
の記録機器において使用できる。本発明の枠内には原画
走査機器にもこの光ビーム偏向装置を使用することが含
まれている。この場合両方の出力光ビームが原画の点状
の及びライン状の露光に使用される。
Claims (7)
- 【請求項１】光ビームを偏向するための装置であって、 光学軸（３）に沿って偏光された光ビーム（２）を発生
するための固定光源（１）と、 偏光された光ビーム（２）を円偏光させるための手段
と、 前記光源（１）の前方の前記光学軸（３）に配置される
対物レンズ（６）と、 前記円偏光された光ビーム（２）が加えられる、前記光
学軸（３）を中心として回転可能な偏向ユニット（４）
とから成る、光ビームを偏向するための装置であって、 該光ビームを偏向するための装置は、 偏向された光を偏向状態に依存して透過又は反射する偏
光ビームスプリッタ（９）と、 該偏光ビームスプリッタ（９）の後方の前記光学軸
（３）上に配置される偏光変換器（10）及び反射器（1
1）とを有し、該偏光変換器（10）及び反射器（11）は
透過光を偏光方向に関して位相において90゜だけ回転さ
れた偏光された光に変換し、前記反射器（11）によって
前記偏光ビームスプリッタ（９）へと反射される光はこ
の偏光ビームスプリッタ（９）によって反射される、光
ビームを偏向するための装置において、 回転する前記偏向ユニット（４）の前方には制御可能な
固定的な第１の偏光変換器（７）が配置され、該制御可
能な固定的な第１の偏光変換器（７）において前記光ビ
ーム（２）の円偏光の回転方向が制御信号に依存して切
り換えられ、 前記回転する偏向ユニット（４）の中で前記偏光ビーム
スプリッタ（９）の前方に第２の偏光変換器（８）が配
置され、該第２の偏光変換器（８）は前記光ビーム
（２）の円偏光を該円偏光のその都度の回転方向に依存
して第１の偏光状態又は第２の偏光状態を有する直線偏
光へと変換し、 前記第１の偏光状態を有する前記光ビーム（２）は偏向
装置の第１の出力光ビーム（19）として前記偏光ビーム
スプリッタ（９）によって反射され、 前記第２の偏光状態を有する前記光ビーム（２）は前記
偏光ビームスプリッタ（９）を透過し、第３の偏光変換
器（10）を通過した後で前記反射器（11）で反射され、
もう１度前記第３の偏光変換器（10）を通過した後で前
記偏光ビームスプリッタ（９）に導かれ、この偏光ビー
ムスプリッタ（９）において偏向装置の第２の出力光ビ
ーム（20）として実質的に前記光学軸（３）に対して垂
直に反射されることを特徴とする、光ビームを偏向する
ための装置。 - 【請求項２】第１の偏光変換器（７）に対する制御信号
によって一方の出力光ビーム（19ないしは20）のオン時
間及び他方の出力光ビーム（20ないしは19）のオフ時間
が決定されることを特徴とする請求項１記載の装置。 - 【請求項３】第１の偏光変換器（７）に対する制御信号
は回転する偏向ユニット（４）に結合される回転パルス
発生器（12）から得られることを特徴とする請求項１又
は２記載の装置。 - 【請求項４】制御信号によって偏向ユニット（４）の各
回転毎に少なくとも１つの作動領域（30）が決定され、
該作動領域（30）において出力光ビーム（19ないしは2
0）のうちの１つがスイッチオンされることを特徴とす
る請求項３記載の装置。 - 【請求項５】制御可能な第１の偏光変換器（７）は電気
光学的変調器として形成されることを特徴とする請求項
１〜４までのうちの１項記載の装置。 - 【請求項６】第２の偏光変換器（８）は複屈折プレート
として、例えばλ/4プレートとして形成されることを特
徴とする請求項１〜５までのうち１項記載の装置。 - 【請求項７】偏光ビームスプリッタ（９）は２つの三角
プリズム（15、16）から形成されており、該２つの三角
プリズム（15、16）の間には空隙が延在することを特徴
とする請求項１〜６までのうち１項記載の装置。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19532971.6 | 1995-09-07 | ||
| DE19532971A DE19532971A1 (de) | 1995-09-07 | 1995-09-07 | Zweistrahl-Lichtablenker mit gesteuerter Strahlumschaltung |
| PCT/DE1996/001575 WO1997009651A2 (de) | 1995-09-07 | 1996-08-24 | Lichtstrahl-ablenkvorrichtung |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11504137A JPH11504137A (ja) | 1999-04-06 |
| JP3080174B2 true JP3080174B2 (ja) | 2000-08-21 |
Family
ID=7771449
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09510750A Expired - Fee Related JP3080174B2 (ja) | 1995-09-07 | 1996-08-24 | 光ビーム偏向装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0850435B1 (ja) |
| JP (1) | JP3080174B2 (ja) |
| DE (2) | DE19532971A1 (ja) |
| WO (1) | WO1997009651A2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000330052A (ja) | 1999-05-20 | 2000-11-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 内面走査型画像記録装置 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US1800031A (en) * | 1927-04-21 | 1931-04-07 | Drahtlose Telegraphie Gmbh | Continuous picture transmission |
| US4406520A (en) * | 1980-08-14 | 1983-09-27 | Universal Pioneer Corporation | Beam splitter optical system of signal pickup device |
| DE3318311A1 (de) * | 1983-05-19 | 1984-11-22 | Dr. Böger Photosatz GmbH, 2000 Wedel | Optische lichtfleck-abtastvorrichtung fuer ein photoempfindliches bahnmaterial bei optischen photosetzgeraeten |
| EP0483827B1 (en) * | 1990-10-31 | 1997-01-02 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Apparatus for scanning drum inner face and method of scanning therefor |
| DE4128468C2 (de) * | 1991-08-28 | 1997-05-28 | Hell Ag Linotype | Vorrichtung zur Teilung eines Lichtstrahls |
| DE4217238C2 (de) * | 1992-05-21 | 1995-03-16 | Mannesmann Ag | Vorrichtung für ein Fotosetzgerät zum Belichten von fotoempfindlichem Belichtungsmaterial |
-
1995
- 1995-09-07 DE DE19532971A patent/DE19532971A1/de not_active Withdrawn
-
1996
- 1996-08-24 DE DE59608216T patent/DE59608216D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-08-24 JP JP09510750A patent/JP3080174B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1996-08-24 WO PCT/DE1996/001575 patent/WO1997009651A2/de active IP Right Grant
- 1996-08-24 EP EP96934375A patent/EP0850435B1/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE19532971A1 (de) | 1997-03-13 |
| EP0850435B1 (de) | 2001-11-14 |
| JPH11504137A (ja) | 1999-04-06 |
| WO1997009651A2 (de) | 1997-03-13 |
| EP0850435A2 (de) | 1998-07-01 |
| WO1997009651A3 (de) | 1997-04-03 |
| DE59608216D1 (de) | 2001-12-20 |
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