JPH11504137A - 光ビーム偏向装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は光ビーム偏向装置に関する。この光ビーム偏向装置は光源（１）、第１の偏光変換器（７）及び回転可能な偏向ユニット（４）から成る。偏向ユニット（４）は第２の偏光変換器（８）、偏光ビームスプリッタ（９）、第３の偏光変換器（１０）及び反射器（１１）を有する。偏光変換器（７）は光ビーム（２）の偏光を円偏光に変え、円回転方向を制御信号に依存して切り換える。偏光変換器（８）は光ビーム（２）の円偏光を円回転方向にに依存して２つの偏光状態を有する直線偏光に変換する。偏光状態に応じて光ビーム（２）は偏光ビームスプリッタ（９）において第１の出力光ビーム（１９）として又は１８０°だけ回転シフトされた第２の出力光ビーム（２０）として反射される。偏向ユニット（４）の各回転において制御信号によって少なくとも１つの作動領域が定められる。この少なくとも１つの作動領域においてそれぞれ出力光ビームのうちの１つのみがオンされる。このオンされる出力光ビームはそれぞれ光ビーム（２）の全光出力を有する。この光ビーム（２）の全光出力によって高い光学的効率と同時に高い利用度が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】 光ビーム偏向装置 本発明は複製技術の分野に関連し、さらに光ビームを偏向するための装置に関 する。 光ビーム偏向装置は例えば原画走査機器又は記録機器のための走査装置におい て使用される。 入力スキャナとも呼ばれる原画走査機器では、走査装置で発生される光ビーム は点状に及びライン状に走査すべき原画の上を移動し、この原画から反射される 又は透過される走査光はオプトエレクトロニクス変換器において画像信号に変換 される。 レコーダ、露光器又は出力スキャナとも呼ばれる記録機器では、走査装置で発 生される光ビームは画像信号によって強度変調され、この強度変調された光ビー ムが点状に及びライン状に感光性記録材料の上へと導かれる。 平台型の走査又は記録機器では原画乃至は記録材料の支持部材は走査装置に対 して相対的に可動される平面である。この平面の上を光ビームは点状に及びライ ン状に移動する。 内部ドラム型の走査又は記録機器では、原画乃至は記録材料の支持部材は固定 式の円筒セグメント形状のトレイ型部材として形成されている。走査装置はこの トレイ型部材の長手軸に平行に移動し、光ビームは点状に及びライン状にこのト レイ型部材に亘って半径方向に長手軸に対して垂直に導かれる。 内部ドラム型の記録機器の走査装置のためのシングルビーム偏向装置は例えば ＥＰ−Ｂ−０１２６４６９から公知である。この公知のシングルビーム偏向装置 は回転鏡を有し、この回転鏡は光ビームをライン状に記録材料の上に偏向し、回 転鏡で反射される光ビームはほぼ回転鏡に当たる光ビームの全光出力を有する。 回転鏡の回転毎にその都度記録材料の上のただ１つのラインが露光され、光ビ ームは次のラインのスタート地点まで比較的長い戻り時間を必要とする。この公 知のシングルビーム偏向装置は次のような不利な点を有する。すなわち、この公 知のシングルビーム偏向装置は長い戻り時間のために回転毎に比較的低い利用度 を有し、従って比較的低い記録速度しか得られない、という不利な点を有する。 内部ドラム型の記録機器の走査装置のためのダブルビーム偏向装置は例えばＤ Ｅ−Ａ−４１２８４６８から公知である。このダブルビーム偏向装置では、ビー ムスプリッタ装置を用いて１８０°だけずれた２つの部分ビームが得られる。こ のビームスプリッタ装置は実質的には光ビームを発生させるための固定光源及び 偏向ユニットを有する。この偏向ユニットは光ビームの光学軸のまわりを回転す る。この偏向ユニットは偏 光ビームスプリッタ、偏光変換器及び反射器から構成される。偏光ビームスプリ ッタ、偏光変換器及び反射器は光学軸上に互いに前後して配置されている。固定 光源から発射される偏光された光ビームは回転する偏光ユニットの偏光ビームス プリッタによって２つの部分ビームに分離される。これら２つの部分ビームは画 像信号によって強度変調される。 ２つの強度変調された部分ビームは半径方向に１８０°だけずらされて偏向ユ ニットから出てくる。そしてこれらの２つの部分ビームは露光トレイ型部材に固 定された記録材料に集束され、点状に及びライン状にこの記録材料を露光する。 ２つの強度変調された部分ビームによって偏向ユニットの回転毎に記録材料の 上の２つのラインが露光される。これによって高い利用度が、従って高い記録速 度が得られる。しかし、この公知のダブルビーム偏向装置は次のような不利な点 を有する。すなわち、各部分ビームは入力光ビームの光出力のほんの約５０％の 光出力しか持たない。このことによって比較的小さな光学的効率しか得られない 。 所定の記録材料を露光するためには実際には光ビーム偏向装置を有する露光器 が必要とされる。この光ビーム偏向装置は記録材料を出来る限り高い光出力で、 同時に良好な利用度で露光することができる。公知の光ビーム偏向装置はこれら の要求を満足には満たして いない。 本発明の課題はより大きな光学的効率と同時に良好な利用度を達成するように 光ビームを偏向するための装置を改良することである。 上記課題は本発明においては請求項１の特徴部分記載の構成によって解決され る。 有利な実施形態及び改善実施形態は従属請求項から得られる。 本発明を次に図１から図３に基づいて詳しく説明する。 図１は第１の出力光ビームの光路を有する光ビーム偏向装置の実施例である。 図２は第２の出力光ビームの光路を有する光ビーム偏向装置である。 図３は光ビーム偏向装置の適用例である。 図１は改良された光学的効率及び高い利用度を有する光ビーム偏向装置の実施 例である。この光ビーム偏向装置は基本的に光学軸３に沿った偏光された光ビー ム２を発生するための固定光源１及び偏向ユニット４から構成される。この偏向 ユニット４は光学軸３のまわりに回転可能に支承されており、モータ５によって 駆動される。 固定光源１は例えば半導体レーザダイオードである。基本的には偏光されてい ない光ビームを発生する他のどんな光源を偏光子に結合して使用してもよい。こ の結果、偏光された光ビーム２が得られる。 光源１と偏向ユニット４との間には光学軸３上に互いに前後してレンズ系６及 び制御可能な第１の偏光変換器７が固定的に配置される。 この制御可能な第１の偏光変換器７は例えば電気光学的変調器であり、この電 気光学的変調器は入射してくる光ビーム２の偏光を円偏光に変換し、この円偏光 の回転方向をその都度の制御信号の信号レベルに依存して切り換える。 偏向ユニット４は原理的には第２の偏光変換器８、偏光ビームスプリッタ９、 第３の偏光変換器１０及び反射器１１から構成される。これらの光学素子は光学 軸３上に互いに前後して配置され、有利なやり方でコンパクトなユニットに例え ば接着させることによって結合される。 モータ５にはプログラマブル回転パルス発生器１２が機械的に結合されている 。このプログラマブル回転パルス発生器１２は光学軸３のまわりを回転し、２つ のレベルを有する制御信号を発生し、線路１３を介して第１の偏光変換器７に供 給する。 第２の偏光変換器８は波長板、例えばλ/４プレートとして形成される。この 第２の偏光変換器８は光ビーム２の円偏光をこの円偏光のその都度の回転方向に 依存して第１の偏光状態を有する直線偏光に、例えば０°の偏光面を有する直線 偏光に変換するか又は第２ の偏光状態を有する直線偏光に、例えば９０°の偏光面を有する直線偏光に変換 する。 偏光ビームスプリッタ９は偏光層１４を有する。この偏光層１４によって直線 偏光された光ビーム２がそのその都度の偏光状態に依存して反射されるか又は透 過される。偏光層１４は通常は異なる屈折率を有する複数の誘電体層から形成さ れる。代替的にこの偏光層１４はプラスティック製の偏光フォイルシートか又は 他の適当な材料から構成してもよい。偏光層１４の支持体はこの実施例では２つ の三角プリズム１５、１６から形成される立方体であり、偏光層１４は三角プリ ズム１５、１６の互いに向かい合った境界面の間に配置される。 第３の偏光変換器１０は例えば複屈折プレートであり、この複屈折プレートは 反射器１１と共に直線偏光の偏光面を９０°回転させる。 反射器１１は平面鏡又は実施例に図示されているように有利には少なくとも９ ０°の角度で互いに向かい合った２つの鏡面を有するプリズムとして、例えばリ ッジプリズム又はトリプルプリズムとして形成される。 偏向ユニット４はその他にこの偏向ユニット４から出て行く出力光ビーム（図 １では１９、図２では２０）のための半径方向に対向配置された２つの光射出開 口部１７、１８ならびにビーム集束のための光学的手 段を有する。 レンズ系６が平行な、つまり予め集束されてはいない光ビーム２を形成するこ の図示された実施例では、ビームを集束させるために光射出開口部１７、１８に それぞれレンズ２１、２２が取り付けられている。代替的にレンズ系６と偏向ユ ニット４との間の光ビーム２のビーム路に、例えば制御可能な第１の偏光変換器 ７の後方に又は回転する偏向ユニット４の第２の偏光変換器８の前方に固定的に レンズ２１を配置してもよい。レンズ２２は偏光ビームスプリッタ９と反射器１ １との間に存在してもよい。それぞれレンズの代わりに、レンズ結合（lens-com bination）を使用してもよい。 実施例に図示されているように、予め集束されていない光ビーム２が使用され る場合、出力光ビーム１９、２０を集束させるために使用されるレンズ２１、２ ２は同一の光学的パラメータを有する。これに対して、レンズ系６を相応に形成 及び配置することによって予め集束された光ビーム２を使用する場合には、レン ズ２１、２２は異なる光学的パラメータを有する。 光ビーム偏向装置の構造の記述の後でこの光ビーム偏向装置の作動方法を詳し く説明する。 光源１から発生する偏光された光ビーム２はレンズ系６によってコリメートさ れ、制御可能な第１の偏光変換器７に供給される。この制御可能な第１の偏光変 換器７において光ビーム２の偏光が円偏光に変換されこの円偏光の回転方向は線 路１３におけるその都度の制御信号の信号レベルに依存して次のように切り換え られる。すなわち、光ビーム２は例えば制御信号の一方の信号レベルにおいては 右回転する円偏光を有し、他方の信号レベルにおいては左回転する円偏光を有す るように切り換えられる。 異なるように円偏光された光ビーム２は次に回転する偏向ユニット４の第２の 偏光変換器８に供給される。この第２の偏光変換器８は光ビーム２の円偏光をこ の円偏光のその都度の回転方向に依存して第１の偏光状態又は第２の偏光状態を 有する直線偏光に変換する。 この第２の偏光変換器８から出てくる直線偏光された光ビーム２は次に偏光ビ ームスプリッタ９の偏光層１４に到達し、この偏光層１４でその第１の偏光状態 又は第２の偏光状態に応じて反射されるか又はこの偏光層１４を透過する。この 結果、２つの異なる光路Ａ，Ｂが偏向ユニット４の内部に生じる。 これら２つの光路Ａ，Ｂを次に図１及び図２に基づいて詳しく説明する。図１ 及び図２は光学軸３を中心とする同一の回転位置における光ビーム偏向装置を示 す。 直線偏光された光ビーム２が第１の偏光状態を有する場合、図１に図示されて いるように、光ビーム２は 偏光層１４で光路Ａを介して第１の出力光ビーム１９として反射される。よって 、偏光層１４を透過せず、このため第２の出力光ビーム２０は形成されない。 第１の出力光ビーム１９は偏向ユニット４から第１の光射出開口部１７を通っ て出て行き、レンズ２１によって第１の固定基準平面２３に集束する。 これに対して、直線偏光された光ビーム２が第２の偏光状態を有する場合、光 ビーム２は図２に図示されているように偏光層１４を光路Ｂを介して透過する。 よって、偏光層１４によって反射されず、このため第１の出力光ビーム１９は形 成されない。 透過した光ビーム２は第３の偏光変換器１０に導かれる。この第３の偏光変換 器１０は光ビーム２の偏光状態を変える。光ビーム２は次に反射器１１で反射さ れ、偏光状態が再び変化する。この反射器１１で反射された光ビーム２はあらた めて第３の偏光変換器１０に正反対の方向から通過する。これによってこの偏光 は反射器１１の方向に進行する光ビーム２の偏光に対して９０°だけ回転させら れる。この結果、反射器１１から来る光ビーム２は偏光ビームスプリッタ９の偏 光層１４で第２の出力光ビーム２０として反射される。 この第２の出力光ビーム２０は次の前提条件下で生じる。すなわち、偏光ビー ムスプリッタ９の偏光層１４が光学軸３に対して４５°の傾角を有する、という 前提条件下で生じる。この第２の出力光ビーム２０は第１の出力光ビーム１９に 対して１８０°のずれを有して偏向ユニット４から第２の光射出開口部１８を通 過して出て行き、レンズ２２によって第２の固定基準平面２４に集束する。 従って、本発明の光ビーム偏向装置においては有利なやり方で偏向ユニット４ の各回転毎に制御信号の信号レベルの持続時間を介して作動領域が決定される。 この作動領域ではその都度出力光ビームのうちの１つ１９乃至は２０がオンされ 、もう一方の出力光ビーム２０乃至は１９はオフされる。偏光ビームスプリッタ ９の偏光層１４でビーム分離が行われないので、その都度定められた作動領域に おいてアクティブな出力光ビーム１９乃至は２０は有利なやり方でほぼ光ビーム ２の全光出力を有する。 制御信号の信号レベルのその都度の持続時間は例えば回転パルス発生器１２に おいてプログラムされる。 図３は内部ドラムの原理に従って作動するレコーダ（露光器）の走査装置２６ における本発明の光ビーム偏向装置の適用例を図示している。このような内部ド ラム式レコーダでは記録材料２７は円筒セグメントの内壁に露光トレイ型部材２ ８として固定される。走査装置２６は図１及び図２に図示された光ビーム偏向装 置を有し、露光トレイ型部材２８の内側面は基準面の１つ２３乃至は２４を形成 する。１８０°だけ半径方 向に互いにずらされた出力光ビーム１９、２０は画像信号によって輝度変調され る。これは詳しくは図示されていない。そして出力光ビーム１９、２０は露光の ために点状に及びライン状に記録材料２７の上に導かれる。この際、走査装置２ ６は長手軸２９の方向にここには図示されていない駆動部によって移動する。 光ビーム偏向装置の各回転は作動領域３０と戻り領域３１とに分割される。図 示されている例では出力光ビーム１９は作動領域３０の上を移動する間オンされ ており、記録材料２７上のラインをこのラインのスタート地点３２からこのライ ンの終点３３まで露光する。出力光ビーム１９がオンされている間、出力光ビー ム２０はその戻り領域３１においてオフされている。オンされた出力光ビーム１ ９がラインの終点３３でこの作動領域３０を離れると、この出力光ビーム１９は オフされる。この時点で戻り回転されていた出力光ビーム２０が次のラインのラ インスタート地点に到達し相応するラインを露光するためにオンされる。 図１又は図２の回転パルス発生器１２は次のようにプログラミングできる。す なわち、偏向ユニット４の各回転毎に第１の偏光変換器７に対する２つのレベル を有する制御信号は作動領域３０の間には一方の信号レベルをとり、戻り領域３ １の間には他方の信号レベルをとるようにプログラミングされる。 本発明の光ビーム偏向装置では作動領域３０でその 都度アクティブな出力光ビーム１９乃至は２０は光源１で発生された光ビーム２ のほぼ全光出力を有するので、記録材料２７を露光する際に高い光学的効率が得 られる。そして同時に高い利用度も得られる。というのも、記録材料２７の露光 は無駄時間なしで行われるからである。従って、本発明の光ビーム偏向装置は有 利なやり方で従来のシングルビーム偏向装置のポジティブな特性と従来のダブル ビーム偏向装置のポジティブな特性とを統合するものである。 本発明の光ビーム偏向装置は内部ドラム型又は平台型の記録機器において使用 できる。本発明の枠内には原画走査機器にもこの光ビーム偏向装置を使用するこ とが含まれている。この場合両方の出力光ビームが原画の点状の及びライン状の 露光に使用される。

【手続補正書】 【提出日】１９９８年３月１１日 【補正内容】 明細書 光ビーム偏向装置 本発明は複製技術の分野に関連し、さらに光ビームを偏向するための装置に関 する。 光ビーム偏向装置は例えば原画走査機器又は記録機器のための走査装置におい て使用される。 入力スキャナとも呼ばれる原画走査機器では、走査装置で発生される光ビーム は点状に及びライン状に走査すべき原画の上を移動し、この原画から反射される 又は透過される走査光はオプトエレクトロニクス変換器において画像信号に変換 される。 レコーダ、露光器又は出力スキャナとも呼ばれる記録機器では、走査装置で発 生される光ビームは画像信号によって強度変調され、この強度変調された光ビー ムが点状に及びライン状に感光性記録材料の上へと導かれる。 平台型の走査又は記録機器では原画乃至は記録材料の支持部材は走査装置に対 して相対的に可動される平面である。この平面の上を光ビームは点状に及びライ ン状に移動する。 内部ドラム型の走査又は記録機器では、原画乃至は記録材料の支持部材は固定 式の円筒セグメント形状のトレイ型部材として形成されている。走査装置はこの トレイ型部材の長手軸に平行に移動し、光ビームは点状に及びライン状にこのト レイ型部材に亘って半径方向に長手軸に対して垂直に導かれる。 内部ドラム型の記録機器の走査装置のためのシングルビーム偏向装置は例えば ＥＰ―Ｂ―０１２６４６９から公知である。この公知のシングルビーム偏向装置 は回転鏡を有し、この回転鏡は光ビームをライン状に記録材料の上に偏向し、回 転鏡で反射される光ビームはほぼ回転鏡に当たる光ビームの全光出力を有する。 回転鏡の回転毎にその都度記録材料の上のただ１つのラインが露光され、光ビ ームは次のラインのスタート地点まで比較的長い戻り時間を必要とする。この公 知のシングルビーム偏向装置は次のような不利な点を有する。すなわち、この公 知のシングルビーム偏向装置は長い戻り時間のために回転毎に比較的小さな利用 度を有し、従って比較的低い記録速度しか得られない、という不利な点を有する 。 内部ドラム型の記録機器の走査装置のためのダブルビーム偏向装置は例えばＤ Ｅ―Ａ―４１２８４６８から公知である。このダブルビーム偏向装置ではビーム スプリッタ装置を用いて偏光された入力光ビームから２つの１８０°だけずれた 部分ビームが得られる。このビームスプリッタ装置は実質的には偏光された入力 光ビームを発生させるための固定光源及び偏向ユニットを有する。この偏向ユニ ットは光ビームの光学軸を 中心に回転する。この偏向ユニットは偏光ビームスプリッタ、偏光変換器及び反 射器から構成される。偏光ビームスプリッタ、偏光変換器及び反射器は光学軸上 に互いに前後して配置されている。固定光源から発射される偏光された光ビーム は画像信号によって強度変調され、さらに回転する偏光ユニットの偏光ビームス プリッタによって２つの部分ビームに分離される。２つの部分ビームは半径方向 に１８０°だけずらされて偏向ユニットから出てくる。そしてこれらの２つの部 分ビームは露光トレイ型部材に固定された記録材料に集束し、点状に及びライン 状にこの記録材料を露光する。 ２つの部分ビームによって偏向ユニットの回転毎に記録材料の上の２つのライ ンが露光される。これによって高い利用度が得られ、従って高い記録速度が得ら れる。しかし、この公知のダブルビーム偏向装置は次のような不利な点を有する 。すなわち、各部分ビームは入力光ビームの光出力の約５０％の光出力しか持た ない。従って、比較的小さな光学的効率しか得られない。 所定の記録材料を露光するためには実際には光ビーム偏向装置を有する露光器 が必要とされる。この光ビーム偏向装置は記録材料を出来る限り高い光出力で、 同時に良好な利用度で露光することができる。公知のダブルビーム偏向装置はこ れらの要求を十分には満た していない。 内部ドラム型の記録機器の走査装置のための別のダブルビーム偏向装置がＥＰ ―Ａ―０４８３８２７から公知である。このダブルビーム偏向装置では、まず最 初に異なる円偏光方向を有する２つの円偏光された入力光ビームが発生される。 これら円偏光された入力光ビームは次に選択的に強度変調され、１つの結合され た入力光ビームに統合される。この結合された入力光ビームは回転する偏向ユニ ットに供給される。この回転する偏向ユニットでこの結合された入力光ビームは ２つの直線偏光された部分ビームに分割される。これら２つの部分ビームは、回 転する偏向ユニットによって露光トレイ型部材に固定された記録材料へとほぼ同 じ方向に向けられ、点状に及びライン状にこの記録材料を露光する。 請求の範囲 １．光ビームを偏向するための装置であって、 光学軸（３）に沿って偏光された光ビーム（２）を発生するための固定光源 （１）と、 偏光された光ビーム（２）を円偏光させるための手段と、 前記光源（１）の前方の前記光学軸（３）に配置される対物レンズ（６）と 、 前記円偏光された光ビーム（２）が加えられる、前記光学軸（３）を中心と して回転可能な偏向ユニット（４）とから成る、光ビームを偏向するための装置 であって、 該光ビームを偏向するための装置は、 偏光された光を偏光状態に依存して透過又は反射する偏光ビームスプリッタ （９）と、 該偏光ビームスプリッタ（９）の後方の前記光学軸（３）上に配置される偏 光変換器（１０）及び反射器（１１）とを有し、該偏光変換器（１０）及び反射 器（１１）は透過光を偏光方向に関して位相において９０°だけ回転された偏光 された光に変換し、前記反射器（１１）によって前記偏光ビームスプリッタ（９ ）へと反射される光はこの偏光ビームスプリッタ（９）によって反射される、光 ビームを偏向するための装置において、 回転する前記偏向ユニット（４）の前方には制御可能な固定的な第１の偏光 変換器（７）が配置され、該制御可能な固定的な第１の偏光変換器（７）におい て前記光ビーム（２）の円偏光の回転方向が制御信号に依存して切り換えられ、 前記回転する偏向ユニット（４）の中で前記偏光ビームスプリッタ（９）の 前方に第２の偏光変換器（８）が配置され、該第２の偏光変換器（８）は前記光 ビーム（２）の円偏光を該円偏光のその都度の回転方向に依存して第１の偏光状 態又は第２の偏光状態を有する直線偏光へと変換し、 前記第１の偏光状態を有する前記光ビーム（２）は偏向装置の第１の出力光 ビーム（１９）として前記偏光ビームスプリッタ（９）によって反射され、 前記第２の偏光状態を有する前記光ビーム（２）は前記偏光ビームスプリッ タ（９）を透過し、第３の偏光変換器（１０）を通過した後で前記反射器（１１ ）で反射され、もう１度前記第３の偏光変換器（１０）を通過した後で前記偏光 ビームスプリッタ（９）に導かれ、この偏光ビームスプリッタ（９）において偏 向装置の第２の出力光ビーム（２０）として実質的に前記光学軸（３）に対して 垂直に反射されることを特徴とする、光ビームを偏向するための装置。 ２．第１の偏光変換器（７）に対する制御信号によっ て一方の出力光ビーム（１９ないしは２０）のオン時間及び他方の出力光ビーム （２０ないしは１９）のオフ時間が決定されることを特徴とする請求項１記載の 装置。 ３．第１の偏光変換器（７）に対する制御信号は回転する偏向ユニット（４）に 結合される回転パルス発生器（１２）から得られることを特徴とする請求項１又 は２記載の装置。 ４．制御信号によって偏向ユニット（４）の各回転毎に少なくとも１つの作動領 域（３０）が決定され、該作動領域（３０）において出力光ビーム（１９ないし は２０）のうちの１つがスイッチオンされることを特徴とする請求項３記載の装 置。 ５．制御可能な第１の偏光変換器（７）は電気光学的変調器として形成されるこ とを特徴とする請求項１〜４までのうちの１項記載の装置。 ６．第２の偏光変換器（８）は複屈折プレートとして、例えばλ/４プレートと して形成されることを特徴とする請求項１〜５までのうち１項記載の装置。 ７．偏光ビームスプリッタ（９）は２つの三角プリズム(１５、１６)から形成さ れており、該２つの三角プリズム(１５、１６)の間には空隙が延在することを特 徴とする請求項１〜６までのうち１項記載の装置。

───────────────────────────────────────────────────── 【要約の続き】 が得られる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．光ビームを偏向するための装置であって、 光学軸（３）に沿って偏光された光ビーム（２）を発生するための固定光源 （１）と、 該光源（１）の前方の前記光学軸（３）に配置される対物レンズ（６）と、 前記偏光された光ビーム（２）が加えられる、前記光学軸（３）の周囲を回 転可能な偏向ユニット（４）から成る光ビームを偏向するための装置であって、 該光ビームを偏向するための装置は、 偏光された光を偏光状態に依存して透過又は反射する偏光ビームスプリッタ （９）と、 該偏光ビームスプリッタ（９）の後方の前記光学軸（３）上に配置される偏 光変換器（１０）及び反射器（１１）とを有し、該偏光変換器（１０）及び反射 器（１１）は透過光を偏光方向に関して位相において９０°だけ回転された光に 変換し、前記反射器（１１）によって前記偏光ビームスプリッタ（９）へと反射 される光はこの偏光ビームスプリッタ（９）によって反射される、光ビームを偏 向するための装置において、 前記光ビーム（２）は円偏光され、 回転する前記偏向ユニット（４）の前方には制御 可能な固定的な第１の偏光変換器（７）が配置され、該制御可能な固定的な第１ の偏光変換器（７）において前記光ビーム（２）の円偏光の回転方向は制御信号 に依存して切り換えられ、 前記回転する偏向ユニット（４）において前記偏光ビームスプリッタ（９） の前方に第２の偏光変換器（８）が配置され、該第２の偏光変換器（８）は前記 光ビーム（２）の円偏光を該円偏光の各々の回転方向に依存して第１の偏光状態 又は第２の偏光状態を有する直線偏光へと変換し、 前記第１の偏光状態を有する前記光ビーム（２）はこの偏向装置の第１の出 力光ビーム（１９）として前記偏光ビームスプリッタ（９）で反射され、 前記第２の偏光状態を有する前記光ビーム（２）は前記偏光ビームスプリッ タ（９）を透過し、第３の偏光変換器（１０）を通過した後で前記反射器（１１ ）によって反射され、もう１度前記第３の偏光変換器（１０）を通過した後で前 記偏光ビームスプリッタ（９）に導かれ、この偏光ビームスプリッタ（９）によ ってこの偏向装置の第２の出力光ビーム（２０）として実質的に前記光学軸（３ ）に対して垂直に反射されることを特徴とする、光ビームを偏向するための装置 。 ２．第１の偏光変換器（７）に対する制御信号によって一方の出力光ビーム（１ ９ないしは２０）のオン 時間及び他方の出力光ビーム（２０ないしは１９）のオフ時間が決定されること を特徴とする請求項１記載の装置。 ３．第１の偏光変換器（７）に対する制御信号は回転する偏向ユニット（４）に 結合される回転パルス発生器（１２）から得られることを特徴とする請求項１又 は２記載の装置。 ４．制御信号によって偏向ユニット（４）の各回転の際に少なくとも１つの作動 領域が決定され、該作動領域（３０）において出力光ビーム（１９ないしは２０ ）のうちの１つがスイッチオンされることを特徴とする請求項３記載の装置。 ５．制御可能な第１の偏光変換器（７）は電気光学的変調器として形成されるこ とを特徴とする請求項１〜４までのうちの１項記載の装置。 ６．第２の偏光変換器（８）は複屈折プレート、例えばλ/４プレートとして形 成されることを特徴とする請求項１〜５までのうち１項記載の装置。 ７．偏光ビームスプリッタ（９）は２つの三角プリズム(１５、１６)から形成さ れており、該２つの三角プリズム(１５、１６)の間には空隙が延在することを特 徴とする請求項１〜６までのうち１項記載の装置。 ８．第３の偏光変換器（１０）は複屈折プレート、例えばλ/４プレートとして 形成されることを特徴と する請求項１〜７までのうち１項記載の装置。 ９．反射器（１１）は平面鏡として形成されることを特徴とする請求項１〜８ま でのうち１項記載の装置。 １０．反射器（１１）は少なくとも２つの鏡の平面を有するプリズムとして形成 されることを特徴とする請求項１〜９までのうち１項記載の装置。 １１．第１の出力光ビーム（１９）を集束させるために対物レンズ（６）と偏光 ビームスプリッタ（９）との間に及び/又は前記第１の出力光ビーム（１９）の ビーム路に少なくとも１つのレンズ（２１）が配置されることを特徴とする請求 項１〜１０までのうちの１項記載の装置。 １２．第２の出力光ビーム（２０）を集束させるために偏光ビームスプリッタ（ ９）と反射器（１１）との間に及び/又は前記第２の出力光ビーム（２０）のビ ーム路に少なくとも１つのレンズ（２２）が配置されることを特徴とする請求項 １〜１１までのうちの１項記載の装置。