JP3076806B2 - 回折偏向ビ―ム走査装置 - Google Patents
回折偏向ビ―ム走査装置Info
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真方式画像
形成装置に採用されて使われるビーム走査装置に係り、
詳細にはディスクを使用して光源から出射されたビーム
を回折偏向させるビーム走査装置において、前記回折偏
向されたビームを感光媒体に反射させる反射ミラーの配
置構造が改善されたビーム走査装置に関する。
形成装置に採用されて使われるビーム走査装置に係り、
詳細にはディスクを使用して光源から出射されたビーム
を回折偏向させるビーム走査装置において、前記回折偏
向されたビームを感光媒体に反射させる反射ミラーの配
置構造が改善されたビーム走査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、ビーム走査装置は電子写真方式
画像形成装置に採用されて使われる感光ベルトのような
感光媒体に、例えばレーザースキャニングユニットと光
源から出射されたビームを走査して静電潜像を形成す
る。最近マルチ光走査装置開発の例として、従来の回転
多面鏡を使用してビームを走査した方式とは違って、回
転する偏向ディスクを採用して光源から出たビームを回
折偏向させるビーム走査装置が紹介されたが、その概略
的な構成が図１に示されている。
画像形成装置に採用されて使われる感光ベルトのような
感光媒体に、例えばレーザースキャニングユニットと光
源から出射されたビームを走査して静電潜像を形成す
る。最近マルチ光走査装置開発の例として、従来の回転
多面鏡を使用してビームを走査した方式とは違って、回
転する偏向ディスクを採用して光源から出たビームを回
折偏向させるビーム走査装置が紹介されたが、その概略
的な構成が図１に示されている。
【０００３】図１を参照すれば、前記ビーム走査装置
は、光源１０及び前記光源１０上の部に回転自在に設け
られた偏向ディスク１１を含む。前記偏向ディスク１１
は駆動モータ１２に結合されて高速で回転し、その表面
には回折パターンが形成された複数個のセクターが形成
されている。前記光源１０から出射された光は回転する
偏向ディスク１１を通過しながら前記回折パターンによ
り回折される。この時、前記回折パターンは位置に従っ
て相異なる回折角を有するように形成されているので、
前記偏向ディスク１１が回転することによって同じ光源
１０から出射されたビームは各々相異なる角度に回折さ
れ、結局一本の走査線を描くようになる。前記偏向ディ
スク１１により回折されたビームは次いで複数個の反射
ミラー１３、１４により反射されてその経路が変わる。
は、光源１０及び前記光源１０上の部に回転自在に設け
られた偏向ディスク１１を含む。前記偏向ディスク１１
は駆動モータ１２に結合されて高速で回転し、その表面
には回折パターンが形成された複数個のセクターが形成
されている。前記光源１０から出射された光は回転する
偏向ディスク１１を通過しながら前記回折パターンによ
り回折される。この時、前記回折パターンは位置に従っ
て相異なる回折角を有するように形成されているので、
前記偏向ディスク１１が回転することによって同じ光源
１０から出射されたビームは各々相異なる角度に回折さ
れ、結局一本の走査線を描くようになる。前記偏向ディ
スク１１により回折されたビームは次いで複数個の反射
ミラー１３、１４により反射されてその経路が変わる。
【０００４】反射されたビームは再びビーム補正手段を
経るが、通常的に前記ビーム補正手段としては、光を収
束反射させる収束ミラー１５と前記光を回折透過させて
感光ベルト（図示せず）のような感光媒体に向かうよう
にするホログラム素子１６とが採用される。代案とし
て、このようなビーム補正手段はビームの焦点位置及び
走査幅を補正するＦ−θレンズ（図示せず）に代替でき
る。このようなＦ−θレンズは前記偏向ディスク１１の
回転に従って主走査方向に走査されるビームの収差を補
正し、ビームを定形化する。
経るが、通常的に前記ビーム補正手段としては、光を収
束反射させる収束ミラー１５と前記光を回折透過させて
感光ベルト（図示せず）のような感光媒体に向かうよう
にするホログラム素子１６とが採用される。代案とし
て、このようなビーム補正手段はビームの焦点位置及び
走査幅を補正するＦ−θレンズ（図示せず）に代替でき
る。このようなＦ−θレンズは前記偏向ディスク１１の
回転に従って主走査方向に走査されるビームの収差を補
正し、ビームを定形化する。
【０００５】前記のような動作により光源１０から出射
されたビームは感光ベルト上で主走査方向、即ち、感光
ベルトの走行方向に直角の方向に走査線を形成できる。
図１では一つの光源１０が備わった場合だけを示した
が、例えばカラープリンタの場合には少なくともイェロ
ー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）及びブラック
（Ｂ）に該当する複数個の光源が備わるべきである。
されたビームは感光ベルト上で主走査方向、即ち、感光
ベルトの走行方向に直角の方向に走査線を形成できる。
図１では一つの光源１０が備わった場合だけを示した
が、例えばカラープリンタの場合には少なくともイェロ
ー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）及びブラック
（Ｂ）に該当する複数個の光源が備わるべきである。
【０００６】このような複数個の光源が備わったマルチ
ビーム走査装置の偏向ディスク２０と光源２１、２２、
２３、２４が図２に示されている。各々の光源２１、２
２、２３、２４から出射された光は偏向ディスク２０上
の相異なるセクターに形成されたパターンで回折透過さ
れて、前記偏向ディスク２０が回転するにつれて各々走
査線Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４を描くようになる。前記走
査線Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４の方向は前記偏向ディスク
２０に対する接線方向である。
ビーム走査装置の偏向ディスク２０と光源２１、２２、
２３、２４が図２に示されている。各々の光源２１、２
２、２３、２４から出射された光は偏向ディスク２０上
の相異なるセクターに形成されたパターンで回折透過さ
れて、前記偏向ディスク２０が回転するにつれて各々走
査線Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４を描くようになる。前記走
査線Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４の方向は前記偏向ディスク
２０に対する接線方向である。
【０００７】前記マルチビーム走査装置において、各々
の光源２１、２２、２３、２４から出射されて偏向ディ
スク２０により回折偏向されたビームは全て一方向、即
ちＸ軸方向に進行されるようにその経路が変わるが、こ
れは感光ベルト（図示せず）上にビームを並べて走査す
るためである。このために図３に示したように、偏向デ
ィスク２０の上部には複数個の第１反射ミラー３１、３
２、３３及び第２反射ミラー４１、４２、４３、４４が
備わる。即ち、光源２１、２２、２３から出射されたビ
ームは偏向ディスク２０上の相異なるセクターを通過し
ながら回折偏向されて第１反射ミラー３１、３２、３３
から反射された後、再び第２反射ミラー４１、４２、４
３から反射されてＸ軸方向に進行する。また、光源（図
２の２４）から出射されて回折偏向されたビームは第１
反射ミラー（図示せず）を経由した後第２反射ミラー４
４からＸ軸方向に反射される。
の光源２１、２２、２３、２４から出射されて偏向ディ
スク２０により回折偏向されたビームは全て一方向、即
ちＸ軸方向に進行されるようにその経路が変わるが、こ
れは感光ベルト（図示せず）上にビームを並べて走査す
るためである。このために図３に示したように、偏向デ
ィスク２０の上部には複数個の第１反射ミラー３１、３
２、３３及び第２反射ミラー４１、４２、４３、４４が
備わる。即ち、光源２１、２２、２３から出射されたビ
ームは偏向ディスク２０上の相異なるセクターを通過し
ながら回折偏向されて第１反射ミラー３１、３２、３３
から反射された後、再び第２反射ミラー４１、４２、４
３から反射されてＸ軸方向に進行する。また、光源（図
２の２４）から出射されて回折偏向されたビームは第１
反射ミラー（図示せず）を経由した後第２反射ミラー４
４からＸ軸方向に反射される。
【０００８】ここで、前記第２反射ミラー４１、４２、
４３、４４は、図３のようにその設置の容易性及び安定
した走査線の確保のために偏向ディスク２０の中心上に
相異なる高さで全て配置することが望ましい。ところ
が、図２及び図３ように、光源２１、２２、２３、２４
が偏向ディスク２０の中心に対して対称に配置された場
合には走査線の方向がお互い一致しない問題が発生する
が、これを図４（Ａ）乃至図５（Ｂ）を参照して詳細に
調べる。
４３、４４は、図３のようにその設置の容易性及び安定
した走査線の確保のために偏向ディスク２０の中心上に
相異なる高さで全て配置することが望ましい。ところ
が、図２及び図３ように、光源２１、２２、２３、２４
が偏向ディスク２０の中心に対して対称に配置された場
合には走査線の方向がお互い一致しない問題が発生する
が、これを図４（Ａ）乃至図５（Ｂ）を参照して詳細に
調べる。
【０００９】図４（Ａ）は光源２４から出射されるビー
ムの経路を示す。即ち、光源２４から出射されたビーム
は第１反射ミラー３４から反射されるが、この時走査線
の方向はＸ軸方向になる。次いで、ビームは再び偏向デ
ィスク２０の中心上に配置された第２反射ミラー４４か
ら反射されて走査線の方向が矢印Ｄ１ように−Ｙ軸方向
になる。
ムの経路を示す。即ち、光源２４から出射されたビーム
は第１反射ミラー３４から反射されるが、この時走査線
の方向はＸ軸方向になる。次いで、ビームは再び偏向デ
ィスク２０の中心上に配置された第２反射ミラー４４か
ら反射されて走査線の方向が矢印Ｄ１ように−Ｙ軸方向
になる。
【００１０】同様に、図４（Ｂ）及び図５（Ａ）に示し
た光源２２、２３から出射されて第１反射ミラー３２、
３３及び第２反射ミラー４２、４３を各々経由したビー
ムの走査線方向も矢印Ｄ１方向になる。しかし、図５
（Ｂ）を参照すれば、光源２１から出て第１反射ミラー
３１及び第２反射ミラー４１を経由したビームの走査線
方向は矢印Ｄ２のようにＹ軸方向になって、前述した光
源２２、２３、２４から出射されたビームの走査線方向
Ｄ１と反対になる。このような走査線方向の不一致は別
の回路的なまたは機構的な装置により補正されて感光ベ
ルトに走査されるべきである。
た光源２２、２３から出射されて第１反射ミラー３２、
３３及び第２反射ミラー４２、４３を各々経由したビー
ムの走査線方向も矢印Ｄ１方向になる。しかし、図５
（Ｂ）を参照すれば、光源２１から出て第１反射ミラー
３１及び第２反射ミラー４１を経由したビームの走査線
方向は矢印Ｄ２のようにＹ軸方向になって、前述した光
源２２、２３、２４から出射されたビームの走査線方向
Ｄ１と反対になる。このような走査線方向の不一致は別
の回路的なまたは機構的な装置により補正されて感光ベ
ルトに走査されるべきである。
【００１１】上記のように、光源２１、２２、２３、２
４が偏向ディスク２０の中心に対して対称的に配置され
る場合に発生する走査線方向の不一致を解消するため
に、図６に示したようにＹ軸に平行で偏向ディスク５０
の中心を過ぎる二等分線Ｓを境界としていずれか一側に
全ての光源５１、５２、５３、５４を配置する構成が提
案された。
４が偏向ディスク２０の中心に対して対称的に配置され
る場合に発生する走査線方向の不一致を解消するため
に、図６に示したようにＹ軸に平行で偏向ディスク５０
の中心を過ぎる二等分線Ｓを境界としていずれか一側に
全ての光源５１、５２、５３、５４を配置する構成が提
案された。
【００１２】各光源５１、５２、５３、５４間の角度は
６０゜である。前記のような光源５１、５２、５３、５
４の配置構造は走査線の方向を全て一方向に一致させう
る長所がある反面、走査線自体が非対称に走査されると
いう問題を有するが、これを図７を参照して説明する。
図７は光源５２から出射されたビームの経路を示すこと
である。光源５２から出射されたビームは、回転する偏
向ディスク５０上の所定パターンにより回折された後偏
向ディスク５０の中心上に配置された反射ミラー５５に
より反射されてＸ軸方向に進行する。ここで、走査線の
中心ビームＢ１は反射ミラー５５から反射されてＸ軸と
並んだ中心線Ｃに沿って進行するが、縁部に走査される
側面ビームＢ２、Ｂ３はＸ軸と所定角度を成す。最初
に、光源５２から出射された側面ビームＢ２、Ｂ３は中
心ビームＢ１と同じ角度を成すが、反射ミラー５５から
反射された後これら間の角度θ１、θ２は変わって、図
面のようにビームＢ１、Ｂ２間の角度θ１がビームＢ
１、Ｂ３間の角度θ２より小さい。従って、走査線の長
さＴ１も走査線の長さＴ２より小さくなる。
６０゜である。前記のような光源５１、５２、５３、５
４の配置構造は走査線の方向を全て一方向に一致させう
る長所がある反面、走査線自体が非対称に走査されると
いう問題を有するが、これを図７を参照して説明する。
図７は光源５２から出射されたビームの経路を示すこと
である。光源５２から出射されたビームは、回転する偏
向ディスク５０上の所定パターンにより回折された後偏
向ディスク５０の中心上に配置された反射ミラー５５に
より反射されてＸ軸方向に進行する。ここで、走査線の
中心ビームＢ１は反射ミラー５５から反射されてＸ軸と
並んだ中心線Ｃに沿って進行するが、縁部に走査される
側面ビームＢ２、Ｂ３はＸ軸と所定角度を成す。最初
に、光源５２から出射された側面ビームＢ２、Ｂ３は中
心ビームＢ１と同じ角度を成すが、反射ミラー５５から
反射された後これら間の角度θ１、θ２は変わって、図
面のようにビームＢ１、Ｂ２間の角度θ１がビームＢ
１、Ｂ３間の角度θ２より小さい。従って、走査線の長
さＴ１も走査線の長さＴ２より小さくなる。
【００１３】このような走査線の非対称は画像形成の信
頼性を落とすと同時に、その非対称を補正するための別
の複雑な装置を要求するので望ましくない。
頼性を落とすと同時に、その非対称を補正するための別
の複雑な装置を要求するので望ましくない。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記のような
問題点を解決するためのものであって、偏向ディスクを
採用するビーム走査装置において、複数の光源をビーム
走査方向に垂直の一直線上に配置することによって、各
光源から照射されたビームが反射ミラーにより反射され
ても対称性が維持できるようにした回折偏向ビーム走査
装置を提供することにその目的がある。
問題点を解決するためのものであって、偏向ディスクを
採用するビーム走査装置において、複数の光源をビーム
走査方向に垂直の一直線上に配置することによって、各
光源から照射されたビームが反射ミラーにより反射され
ても対称性が維持できるようにした回折偏向ビーム走査
装置を提供することにその目的がある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】前記のような目的を達成
するために本発明に係る回折偏向ビーム走査装置は、複
数個の光源と、前記光源の上部に回転自在に設けられ
て、前記光源から出射されたビームを回折偏向させるパ
ターンが形成された偏向ディスクと、前記偏向ディスク
で回折偏向されたビームの経路を変える複数個の第１反
射ミラーと、前記第１反射ミラーから反射されたビーム
をビームの走査方向に反射する複数個の第２反射ミラー
とを含む回折偏向ビーム走査装置において、前記光源は
前記ビームの走査方向に対して垂直の直線上に一列に配
列され、前記第２反射ミラーは前記偏向ディスクの回転
中心上に相異なる高さで配置されることを特徴とする。
するために本発明に係る回折偏向ビーム走査装置は、複
数個の光源と、前記光源の上部に回転自在に設けられ
て、前記光源から出射されたビームを回折偏向させるパ
ターンが形成された偏向ディスクと、前記偏向ディスク
で回折偏向されたビームの経路を変える複数個の第１反
射ミラーと、前記第１反射ミラーから反射されたビーム
をビームの走査方向に反射する複数個の第２反射ミラー
とを含む回折偏向ビーム走査装置において、前記光源は
前記ビームの走査方向に対して垂直の直線上に一列に配
列され、前記第２反射ミラーは前記偏向ディスクの回転
中心上に相異なる高さで配置されることを特徴とする。
【００１６】このような光源の一直線配置に従って前記
反射ミラーにより反射されてビームの走査方向に進行す
るビームの走査線はその対称性が維持できる。
反射ミラーにより反射されてビームの走査方向に進行す
るビームの走査線はその対称性が維持できる。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、添付した図面を参照して本
発明の望ましい実施例に対して詳細に説明する。図８
は、本発明の望ましい実施例に係る回折偏向ビーム走査
装置に採用された偏向ディスク１３０と光源１１０、１
１１、１１２、１１３の配置を示す。示したように、本
発明のビーム走査装置は偏向ディスク１３０の中心Ｒを
過ぎる直線Ｓ’上に一列に配列される。前記直線Ｓ’は
光源１１０、１１１、１１２、１１３から出たビームが
反射ミラーにより反射されて進行する方向のビーム走査
方向Ｃ’と直角を成す。望ましくは前記光源１１０、１
１１、１１２、１１３は示したように偏向ディスク１３
０の中心Ｒに対して相互対称に配列される。
発明の望ましい実施例に対して詳細に説明する。図８
は、本発明の望ましい実施例に係る回折偏向ビーム走査
装置に採用された偏向ディスク１３０と光源１１０、１
１１、１１２、１１３の配置を示す。示したように、本
発明のビーム走査装置は偏向ディスク１３０の中心Ｒを
過ぎる直線Ｓ’上に一列に配列される。前記直線Ｓ’は
光源１１０、１１１、１１２、１１３から出たビームが
反射ミラーにより反射されて進行する方向のビーム走査
方向Ｃ’と直角を成す。望ましくは前記光源１１０、１
１１、１１２、１１３は示したように偏向ディスク１３
０の中心Ｒに対して相互対称に配列される。
【００１８】本発明に係る回折偏向ビーム走査装置の全
体的な構成が図９に示されている。図面を参照するに、
本発明のビーム走査装置は、駆動モータ１２０に支持さ
れて高速で回転する偏向ディスク１３０、前記偏向ディ
スク１３０の下部に一列に配列された複数の光源１１
０、１１１、１１２、１１３、前記光源１１０、１１
１、１１２、１１３から出射されて前記偏向ディスク１
３０を透過しながら回折されたビームを反射する第１反
射ミラー１４０、１４１、１４２、１４３、及び前記第
１反射ミラー１４０、１４１、１４２、１４３により反
射されたビームを再び反射してビーム走査方向（図８の
Ｃ’）、即ち、Ｘ軸方向に進行させる第２反射ミラー１
５０、１５１、１５２、１５３を含む。
体的な構成が図９に示されている。図面を参照するに、
本発明のビーム走査装置は、駆動モータ１２０に支持さ
れて高速で回転する偏向ディスク１３０、前記偏向ディ
スク１３０の下部に一列に配列された複数の光源１１
０、１１１、１１２、１１３、前記光源１１０、１１
１、１１２、１１３から出射されて前記偏向ディスク１
３０を透過しながら回折されたビームを反射する第１反
射ミラー１４０、１４１、１４２、１４３、及び前記第
１反射ミラー１４０、１４１、１４２、１４３により反
射されたビームを再び反射してビーム走査方向（図８の
Ｃ’）、即ち、Ｘ軸方向に進行させる第２反射ミラー１
５０、１５１、１５２、１５３を含む。
【００１９】前記第１反射ミラー１４０、１４１、１４
２、１４３は前記光源１１０、１１１、１１２、１１３
と同様に直線Ｓ’上に並んで位置し、前記第２反射ミラ
ー１５０、１５１、１５２、１５３は前記偏向ディスク
１３０の中心Ｒ上に相異なる高さで各々配置されてい
る。これら第１反射ミラー１４０、１４１、１４２、１
４３及び第２反射ミラー１５０、１５１、１５２、１５
３の配置は本実施例により限定されず、走査されるビー
ムが相互交差しない条件下で適切に変形できる。
２、１４３は前記光源１１０、１１１、１１２、１１３
と同様に直線Ｓ’上に並んで位置し、前記第２反射ミラ
ー１５０、１５１、１５２、１５３は前記偏向ディスク
１３０の中心Ｒ上に相異なる高さで各々配置されてい
る。これら第１反射ミラー１４０、１４１、１４２、１
４３及び第２反射ミラー１５０、１５１、１５２、１５
３の配置は本実施例により限定されず、走査されるビー
ムが相互交差しない条件下で適切に変形できる。
【００２０】前記光源１１０、１１１、１１２、１１３
はカラー画像を具現するための画像形成装置の場合、望
ましくはイェロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン
（Ｃ）及びブラック（Ｂ）に該当する４つの光源が備わ
る。前記偏向ディスク１３０には前記光源１１０、１１
１、１１２、１１３から出射されたビームを回折偏向さ
せるホログラムパターンが連続的に形成されている。従
って、光源１１０、１１１、１１２、１１３から出射さ
れて偏向ディスク１３０上の一地点に入射されるビーム
は偏向ディスク１３０が回転するにつれて回折角が変わ
るので走査線を形成する。
はカラー画像を具現するための画像形成装置の場合、望
ましくはイェロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン
（Ｃ）及びブラック（Ｂ）に該当する４つの光源が備わ
る。前記偏向ディスク１３０には前記光源１１０、１１
１、１１２、１１３から出射されたビームを回折偏向さ
せるホログラムパターンが連続的に形成されている。従
って、光源１１０、１１１、１１２、１１３から出射さ
れて偏向ディスク１３０上の一地点に入射されるビーム
は偏向ディスク１３０が回転するにつれて回折角が変わ
るので走査線を形成する。
【００２１】また、前記第１反射ミラー１４０、１４
１、１４２、１４３は光源１１０、１１１、１１２、１
１３と同様に直線Ｓ’上に一列に位置するので、光源１
１０、１１１、１１２、１１３から出射されて前記偏向
ディスク１３０を通過したビームを±Ｙ軸方向にのみ反
射させる。従って、光源１１０、１１１、１１２、１１
３から出射されたビームの走査線の対称性はそのまま維
持される。ここで、前記第１反射ミラー１４０、１４
１、１４２、１４３により反射されたビームの走査線の
対称性は第２反射ミラー１５０、１５１、１５２、１５
３に依存するが、これを図１０を参照して詳細に調べ
る。
１、１４２、１４３は光源１１０、１１１、１１２、１
１３と同様に直線Ｓ’上に一列に位置するので、光源１
１０、１１１、１１２、１１３から出射されて前記偏向
ディスク１３０を通過したビームを±Ｙ軸方向にのみ反
射させる。従って、光源１１０、１１１、１１２、１１
３から出射されたビームの走査線の対称性はそのまま維
持される。ここで、前記第１反射ミラー１４０、１４
１、１４２、１４３により反射されたビームの走査線の
対称性は第２反射ミラー１５０、１５１、１５２、１５
３に依存するが、これを図１０を参照して詳細に調べ
る。
【００２２】図１０には光源１１１から出射されたビー
ムの進行経路が示されているが、光源１１１から出射さ
れて第１反射ミラー１４１から反射された中心ビームＢ
１’は、第２反射ミラー１５１に４５゜の角度で入射さ
れ４５゜の出射角で反射されてＸ軸と並んだビーム走査
方向Ｃ’に追って進行する。最初の光源１１１から出射
された中心ビームＢ１’と側面ビームＢ２’、Ｂ３’が
成す角度は各々θで同一である。これらビームが第１及
び第２反射ミラー１４１、１５１に反射された後、中心
ビームＢ１’と側面ビームＢ２’、Ｂ３’が成す角度を
各々αとβとすれば結局α＝βの関係が成立する。
ムの進行経路が示されているが、光源１１１から出射さ
れて第１反射ミラー１４１から反射された中心ビームＢ
１’は、第２反射ミラー１５１に４５゜の角度で入射さ
れ４５゜の出射角で反射されてＸ軸と並んだビーム走査
方向Ｃ’に追って進行する。最初の光源１１１から出射
された中心ビームＢ１’と側面ビームＢ２’、Ｂ３’が
成す角度は各々θで同一である。これらビームが第１及
び第２反射ミラー１４１、１５１に反射された後、中心
ビームＢ１’と側面ビームＢ２’、Ｂ３’が成す角度を
各々αとβとすれば結局α＝βの関係が成立する。
【００２３】具体的に、側面ビームＢ３’が中心ビーム
Ｂ１’と成す角βを求めるために、第２反射ミラー１５
１に対する側面ビームＢ３’の入射角と出射角をβ’と
すれば次の二つの式が成立する。 θ＝４５゜−β’ （１） β’＋β＝４５゜ （２） 前記式でβ’を消去すれば結局 β＝θ （３） になる。
Ｂ１’と成す角βを求めるために、第２反射ミラー１５
１に対する側面ビームＢ３’の入射角と出射角をβ’と
すれば次の二つの式が成立する。 θ＝４５゜−β’ （１） β’＋β＝４５゜ （２） 前記式でβ’を消去すれば結局 β＝θ （３） になる。
【００２４】同じ方法で側面ビームＢ２’に対しても、 α＝θ （４） になり、結局式（３）及び（４）によりα＝βが成立す
る。従って側面ビームＢ２’及びＢ３’は中心ビームＢ
１’に対して対称を成すのでその走査線も対称を成す。
る。従って側面ビームＢ２’及びＢ３’は中心ビームＢ
１’に対して対称を成すのでその走査線も対称を成す。
【００２５】
【発明の効果】以上のように、光源１１０、１１１、１
１２、１１３をビームの走査方向Ｃ’に対して垂直に一
列で配列することによって、前記光源１１０、１１１、
１１２、１１３から出射されて偏向ディスク１３０を回
折透過したビームの走査線が対称的に形成できる。従っ
て、従来のように走査線の非対称を補正するための別の
装置や複雑な反射ミラーの構成が要らなくて装置の構造
が簡素化できる。
１２、１１３をビームの走査方向Ｃ’に対して垂直に一
列で配列することによって、前記光源１１０、１１１、
１１２、１１３から出射されて偏向ディスク１３０を回
折透過したビームの走査線が対称的に形成できる。従っ
て、従来のように走査線の非対称を補正するための別の
装置や複雑な反射ミラーの構成が要らなくて装置の構造
が簡素化できる。
【図１】偏向ディスクを採用した従来のビーム走査装置
の構成を概略的に示す図である。
の構成を概略的に示す図である。
【図２】従来のマルチビーム走査装置において偏向ディ
スクと複数個の光源の配置状態を示す斜視図である。
スクと複数個の光源の配置状態を示す斜視図である。
【図３】図２のマルチビーム走査装置の構成を示す側面
図である。
図である。
【図４】図２のマルチビーム走査装置において、各光源
から出射されたビームの走査線の方向を示す図である。
から出射されたビームの走査線の方向を示す図である。
【図５】図４と同様の図である。
【図６】さらに他の従来のマルチビーム走査装置におい
て偏向ディスクと光源の配置状態を示す平面図である。
て偏向ディスクと光源の配置状態を示す平面図である。
【図７】図５に示したマルチビーム走査装置において一
光源から出射されたビームの走査線の非対称を示すため
の平面図である。
光源から出射されたビームの走査線の非対称を示すため
の平面図である。
【図８】本発明に係る回折偏向ビーム走査装置において
偏向ディスクと光源の配置状態を示す平面図である。
偏向ディスクと光源の配置状態を示す平面図である。
【図９】本発明に係る回折偏向ビーム走査装置の構成要
素を示す側面図である。
素を示す側面図である。
【図１０】本発明に係る回折偏向ビーム走査装置におい
て一光源から出射されたビームの進行経路を説明するた
めの平面図である。
て一光源から出射されたビームの進行経路を説明するた
めの平面図である。
１１０、１１１、１１２、１１３ 光源 １２０ 駆動モータ １３０ 偏向ディスク １４０，１４１，１４２，１４３ 第１反射ミラー １５０，１５１，１５２，１５３ 第２反射ミラー Ｒ 中心 Ｓ’ 直線 Ｃ’ ビーム走査方向
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 李 文 圭 大韓民国京畿道水原市八達区靈通洞1054 −３番地 住公アパート206棟102号 (72)発明者 閔 池 泓 大韓民国京畿道龍仁市水枝邑竹田里941 番地 碧山アパート203棟604号 (72)発明者 金 栄 一 大韓民国京畿道龍仁市水枝邑竹田里941 番地 碧山アパート304棟1503号 (72)発明者 崔 振 承 大韓民国京畿道水原市長安区華西２洞 646番地 住公アパート305棟901号 (72)発明者 厳 在 鎔 大韓民国京畿道水原市八達区靈通洞964 −５番地 住公アパート506棟1203号 (56)参考文献 特開 平11−231238（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−261718（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02B 26/10
Claims (4)
- 【請求項１】 複数個の光源１１０、１１１、１１２、
１１３と、 前記光源の上部に回転自在に設けられて、前記光源から
出射されたビームを回折偏向させるパターンが形成され
た偏向ディスク１３０と、 前記偏向ディスクで回折偏向されたビームの経路を変え
る複数個の第１反射ミラー１４０、１４１、１４２、１
４３と、 前記第１反射ミラーから反射されたビームをビームの走
査方向Ｃ’に反射する複数個の第２反射ミラー１５０、
１５１、１５２、１５３とを含む回折偏向ビーム走査装
置において、 前記光源１１０、１１１、１１２、１１３は前記ビーム
の走査方向Ｃ’に対して垂直の直線Ｓ’上に一列に配列
され、前記第２反射ミラー１５０、１５１、１５２、１
５３は前記偏向ディスク１３０の中心Ｒ上に相異なる高
さで配置されることを特徴とする回折偏向ビーム走査装
置。 - 【請求項２】 前記光源は４つの光源よりなることを特
徴とする請求項１に記載の回折偏向ビーム走査装置。 - 【請求項３】 前記第１反射ミラー１４０、１４１、１
４２、１４３は、前記光源から出射されて前記偏向ディ
スクにより回折偏向されたビームの経路を前記ビームの
走査方向Ｃ’に垂直の直線Ｓ’方向にのみ変えることを
特徴とする請求項１に記載の回折偏向ビーム走査装置。 - 【請求項４】 前記光源は前記偏向ディスク１３０の中
心Ｒに対して相互対称に配置されたことを特徴とする請
求項１に記載の回折偏向ビーム走査装置。
Applications Claiming Priority (2)
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|---|---|---|---|
| KR10-1998-0048646A KR100503059B1 (ko) | 1998-11-13 | 1998-11-13 | 회절 편향 빔 주사장치 |
| KR48646/1998 | 1998-11-13 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000147403A JP2000147403A (ja) | 2000-05-26 |
| JP3076806B2 true JP3076806B2 (ja) | 2000-08-14 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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| KR (1) | KR100503059B1 (ja) |
| CN (1) | CN1174603C (ja) |
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| US4761046A (en) * | 1985-05-02 | 1988-08-02 | Ricoh Company, Ltd. | Laser beam recording method |
| JPS62266517A (ja) | 1986-05-14 | 1987-11-19 | Ricoh Co Ltd | レ−ザプリンタ |
| JPH0452619A (ja) | 1990-06-20 | 1992-02-20 | Fujitsu Ltd | 光学走査方法およびその装置 |
| US5457550A (en) | 1991-02-27 | 1995-10-10 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanner unit having recursive optical system |
| JPH0550649A (ja) * | 1991-08-23 | 1993-03-02 | Fujitsu Ltd | レーザプリンタ |
| US5295004A (en) | 1991-11-08 | 1994-03-15 | Fujitsu Limited | Optical beam scanning apparatus |
| JPH10268214A (ja) * | 1997-03-21 | 1998-10-09 | Ricoh Co Ltd | マルチビーム走査装置及び画像形成装置 |
| KR100248009B1 (ko) * | 1997-12-13 | 2000-04-01 | 윤종용 | 멀티빔주사장치및이를채용한전자사진방식칼라인쇄기 |
| KR100287151B1 (ko) * | 1998-01-26 | 2001-04-16 | 윤종용 | 멀티 빔 주사장치 |
| KR100304637B1 (ko) * | 1998-07-04 | 2001-09-29 | 윤종용 | 칼라화상출력장치용 광주사 유니트 |
| KR100346687B1 (ko) * | 1998-10-23 | 2002-10-30 | 삼성전자 주식회사 | 멀티광주사유니트 |
-
1998
- 1998-11-13 KR KR10-1998-0048646A patent/KR100503059B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1999
- 1999-11-09 US US09/436,753 patent/US6185017B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-11-10 JP JP11320285A patent/JP3076806B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1999-11-11 EP EP99308992A patent/EP1001296B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-11-11 DE DE69907370T patent/DE69907370T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1999-11-13 CN CNB991266439A patent/CN1174603C/zh not_active Expired - Fee Related
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| CN1258024A (zh) | 2000-06-28 |
| JP2000147403A (ja) | 2000-05-26 |
| DE69907370T2 (de) | 2003-10-16 |
| EP1001296B1 (en) | 2003-05-02 |
| DE69907370D1 (de) | 2003-06-05 |
| KR20000032243A (ko) | 2000-06-05 |
| US6185017B1 (en) | 2001-02-06 |
| KR100503059B1 (ko) | 2005-09-26 |
| CN1174603C (zh) | 2004-11-03 |
| EP1001296A3 (en) | 2000-08-30 |
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