JPH11249041A

JPH11249041A - 光走査装置

Info

Publication number: JPH11249041A
Application number: JP4708698A
Authority: JP
Inventors: Hidetsugu Narisawa; 秀継成沢
Original assignee: Fuji Xerox Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Business Innovation Corp
Priority date: 1998-02-27
Filing date: 1998-02-27
Publication date: 1999-09-17

Abstract

(57)【要約】【課題】被走査面上の隣接する走査線間隔の補正及び
走査線の湾曲の補正を簡易な構造で実行する。【解決手段】複数の光ビームにより被走査面１９を同
時に走査する光走査装置２０Ａにおいて、走査レンズ１
５Ａと被走査面１９との間の光路上に、副走査方向に沿
って回転可能なプリズム３０を配置する。このプリズム
３０を回転調整することで、折り返しミラー４Ａ等の取
付け誤差に起因する被走査面１９上の走査線の湾曲及び
隣接する走査線間隔のバラツキを解消するべく、走査線
が被走査面１９の移動方向に凸となるよう湾曲し且つ走
査線の間隔が狭くなるように、又は走査線が被走査面１
９の移動方向と反対方向に凸となるよう湾曲し且つ走査
線の間隔が広くなるように、補正する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光走査装置に係
り、より詳しくは、複数の発光源からの光ビームで被走
査面を同時に走査する光走査装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、単一の光源からのレーザービ
ームを回転多面鏡に照射し、回転多面鏡からの反射ビー
ムを、一定速度で移動する帯電された感光体表面に照射
するレーザービームプリンタ等の画像形成装置が知られ
ている。このような画像形成装置では、光源からのレー
ザービームは出力すべき画像のデジタル画像データに応
じて変調されており、回転多面鏡の回転により該レーザ
ービームは感光体表面の移動方向と垂直な方向に走査さ
れるので、感光体上には静電潜像が形成され、この静電
線像は現像されて可視のトナー像となる。

【０００３】このような画像形成装置において画像形成
処理を高速化するためには、高速且つ高出力なレーザビ
ームの走査が必要となる。ところが、回転多面鏡の回転
数や、単一の光源から射出されるレーザビームの光量に
は限界がある。そこで、この問題を解決するために、光
源として複数個の発光源が配列されたレーザダイオード
アレー（＝ＭＳＬＤ：ＭｕｌｔｉＳｐｏｔＬａｓｅ
ｒＤｉｏｄｅ）を使用して複数個の発光源からの光ビ
ームで同時に感光体を走査する技術が提案されている。

【０００４】このようなＭＳＬＤを用いて複数の光ビー
ムで同時に感光体を走査する画像形成装置において、高
画質な出力画像を得るためには、光ビームによる感光体
上の走査線の湾曲を無くし、隣接する走査線の間隔を一
定に維持することが必要である。

【０００５】特開昭５８−６８０１６号公報には、図７
（Ａ）に示すように、２本の光ビームの独立した光路
Ａ、Ｂのうち、一方の光路（例えば光路Ｂ）上のコリメ
ータレンズ９０の下流側近傍にプリズム９２を配置し図
７（Ｂ）に示すように該プリズム９２を回転調整するこ
とで、感光体９４上の隣接する走査線の間隔が一定にな
るよう維持する技術が提案されている。これにより、図
７（Ｃ）に示すように間隔が一定でなかった走査線Ｌ
が、図７（Ｄ）に示すように等間隔となるよう補正され
る。

【０００６】ところが、上記構成では、隣接する走査線
間隔を一定に維持することは可能となるが、前述した走
査線の湾曲の補正はできない。このため、走査線の湾曲
の補正も併せて行うには、湾曲補正用の別の機構を光走
査装置内にさらに設置する必要が生じ、光走査装置の構
成が複雑化してしまうという問題がある。

【０００７】また、特公昭６０−１０２８４号公報に
は、図８に示すように、光ビームを走査レンズ８２に入
射させる際に副走査方向に沿って角度をつけて入射させ
る構成の光走査装置８０において、上記構成時に発生す
る走査線の湾曲を無くすために、光路中にプリズム８
４、８６を配置する技術が提案されている。

【０００８】ところが、この技術では、装置構成の設計
により予めわかっている走査線の湾曲を補正することは
できるものの、光学部品の取付け誤差や各部品の寸法バ
ラツキ等により生じる走査線の湾曲については補正でき
ない。また、前述した隣接する走査線間隔についても補
正できない。このため、光学部品の取付け誤差等に起因
した走査線の湾曲や隣接する走査線間隔についても補正
するためには、これらの補正用の別の機構を光走査装置
内にさらに設置する必要が生じ、光走査装置の構成が複
雑化してしまうという問題がある。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
を解消するために成されたものであり、被走査面上の隣
接する走査線間隔の補正及び走査線の湾曲の補正を簡易
な構造で実行することができる光走査装置を提供するこ
とを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１記載の光走査装置は、独立に駆動可能な複
数の発光源を有する光源部と、前記複数の発光源から発
光された複数の光ビームを偏向する偏向器と、前記光源
部から射出された光ビームを前記偏向器の偏向面上に結
像させる第１の結像光学系と、前記偏向面により偏向さ
れた光ビームを、所定方向に移動する被走査面上に結像
させる第２の結像光学系と、を有し、前記複数の光ビー
ムで前記被走査面を同時に主走査方向に走査する光走査
装置であって、前記第２の結像光学系と前記被走査面と
の間の光路上又は前記第２の結像光学系内の光路上に、
前記主走査方向に垂直な平面内で回転可能に配置され、
光ビームによる走査線の所定位置での湾曲量が該所定位
置での隣接する走査線間隔の変化量以上となるよう回転
され、前記走査線が前記所定方向に凸となるよう湾曲す
る場合、前記走査線間隔が狭くなるよう回転され、前記
走査線が前記所定方向と逆方向に凸となるよう湾曲する
場合、前記走査線間隔が広くなるよう回転されるプリズ
ムを備えたことを特徴とする。

【００１１】また、請求項２記載の光走査装置では、請
求項１記載の光走査装置において、前記光源部からの光
ビームが、前記第２の結像光学系の光軸を含み前記主走
査方向に平行な主走査面に対し傾斜して前記第２の結像
光学系の略正面から入射し、該第２の結像光学系を通過
した光ビームが前記偏向器で偏向され、偏向された光ビ
ームが該第２の結像光学系に再度入射し、前記プリズム
は、前記光源部からの光ビームの前記主走査面に対する
傾斜により発生する走査線の湾曲量を補正する角度だけ
回転した状態で配置されたことを特徴とする。

【００１２】また、請求項３記載の光走査装置では、請
求項１又は請求項２に記載の光走査装置において、前記
プリズムは、前記第２の結像光学系を構成するレンズの
うち前記偏向器に最も近いレンズの光ビーム進行方向側
近傍に配置されたことを特徴とする。

【００１３】また、請求項４記載の光走査装置では、請
求項１又は請求項２に記載の光走査装置において、前記
プリズムは、前記第２の結像光学系を構成するレンズの
うち前記偏向器に最も近いレンズの光ビーム進行方向下
流側近傍に配置されたことを特徴とする。

【００１４】また、請求項５記載の光走査装置では、請
求項１又は請求項２に記載の光走査装置において、前記
光源部、前記偏向器、前記第１の結像光学系及び前記第
２の結像光学系は筐体に収納され、前記プリズムは、前
記光ビームが前記筐体内から射出される該筐体の出口部
分に、隙間が形成されないように設置されたことを特徴
とする。

【００１５】上記請求項１記載の光走査装置は、独立に
駆動可能な複数の発光源を有する光源部を備えており、
これら複数の発光源から発光された複数の光ビームは、
第１の結像光学系を透過し、偏向器の偏向面上に結像す
る。そして、複数の光ビームは偏向面で偏向され、偏向
された複数の光ビームは、第２の結像光学系を透過して
被走査面上に結像する。このようにして、光走査装置は
複数の光ビームで被走査面を同時に主走査方向に走査す
る。このとき被走査面は所定方向に移動するので、該被
走査面は二次元的に走査されることとなる。

【００１６】このような光走査装置において、第１、第
２の結像光学系の各種光学部品の取付け誤差や各部品の
寸法バラツキ等がある場合、被走査面上の走査線が湾曲
し隣接する走査線の間隔にバラツキが生じる。

【００１７】このとき、図１に示すように、光走査装置
がアンダーフィルド光学系で構成された場合、オーバー
フィルド光学系で構成された場合の何れの場合も、光学
部品の取付け誤差により、走査線が所定方向（＝被走査
面の移動方向）に凸となるよう湾曲する（即ち、走査線
が前回の走査線に近寄る側に湾曲する）とき（＝図２で
ミラー角度が負方向に変動したとき）、走査線の間隔は
狭くなる傾向にある。逆に、走査線が所定方向と逆方向
に凸となるよう湾曲するとき（＝図２でミラー角度が正
方向に変動したとき）、走査線の間隔は広くなる傾向に
ある。なお、図２に表記したボーとは、走査線の湾曲量
を意味する。

【００１８】また、走査線の所定位置（例えば走査中
心）での湾曲量は該所定位置での隣接する走査線の間隔
の変化量よりも大きくなる。図２の例でも、光走査装置
がアンダーフィルド光学系で構成された場合、１．２°
の角度エラーで走査線の間隔の変化量は約１．２μｍで
あるのに対し、走査線の湾曲量は約４４μｍとなる。ま
た、光走査装置がオーバーフィルド光学系で構成された
場合、１．２°の角度エラーで走査線の間隔の変化量は
約１．２μｍであるのに対し、走査線の湾曲量は１３μ
ｍとなる。

【００１９】そこで、請求項１記載の光走査装置では、
プリズムが、第２の結像光学系と被走査面との間の光路
上又は第２の結像光学系内の光路上に、主走査方向に垂
直な平面内で回転可能に配置されており、該プリズム
は、走査線の所定位置での湾曲量が該所定位置での隣接
する走査線間隔の変化量以上となり、走査線が所定方向
に凸となるよう湾曲する場合走査線間隔が狭くなり、走
査線が所定方向と逆方向に凸となるよう湾曲する場合走
査線間隔が広くなるよう回転調整される。

【００２０】即ち、走査線が所定方向に凸となるよう湾
曲し走査線間隔が狭くなるよう変動しているケースで
は、プリズムを、走査線が所定方向と逆方向に凸となる
よう湾曲し走査線間隔が広くなるよう回転調整すれば、
隣接する走査線間隔の補正と走査線の湾曲の補正の両方
を同時に簡易な構造で実現することができる。

【００２１】一方、走査線が所定方向と逆方向に凸とな
るよう湾曲し走査線間隔が広くなるよう変動しているケ
ースでは、プリズムを、走査線が所定方向に凸となるよ
う湾曲し走査線間隔が狭くなるよう回転調整すれば、隣
接する走査線間隔の補正と走査線の湾曲の補正の両方を
同時に簡易な構造で実現することができる。

【００２２】また、プリズムを所定角度だけ回転調整し
たとき、走査線の湾曲についての補正量が隣接する走査
線間隔の変化についての補正量以上となるので、湾曲量
が大きい走査線の湾曲と変化量が小さい隣接する走査線
間隔の変化の両方をそれぞれ適正な補正量で同時に補正
することができる。

【００２３】また、請求項２に記載した光走査装置で
は、光源部からの光ビームが、第２の結像光学系の光軸
を含み主走査方向に平行な主走査面に対し傾斜して第２
の結像光学系の略正面から入射し、該第２の結像光学系
を通過した光ビームが偏向器で偏向され、偏向された光
ビームが該第２の結像光学系に再度入射する。このよう
な構成の光学系は正面入射光学系と呼ばれるが、この正
面入射光学系では、光源部からの光ビームが主走査面に
対し傾斜しているため、被走査面上の走査線が傾斜度に
応じて湾曲する。

【００２４】ここで、走査線の湾曲量は、光ビームの主
走査面に対する傾斜度により予め求められるので、請求
項２記載の光走査装置では、プリズムが、上記光ビーム
の傾斜により発生する走査線の湾曲量を補正する角度だ
け回転した状態で配置されている。

【００２５】このため、正面入射光学系での光ビームの
傾斜に起因した予め求められる走査線の湾曲について
は、上記のようにプリズムを配置することで、簡易な構
造で補正することができる。

【００２６】なお、プリズムは、第２の結像光学系と被
走査面との間の光路上又は第２の結像光学系内の光路上
に配置すれば良いが、請求項３に記載したように、第２
の結像光学系を構成するレンズのうち偏向器に最も近い
レンズの光ビーム進行方向側近傍に配置することが望ま
しい。例えば、図５に示すように、プリズム３０を、第
２の結像光学系１５を構成するレンズのうち偏向器３に
最も近いレンズ１５Ａの光ビーム進行方向側（図５にお
いて右側）近傍に配置することが望ましい。

【００２７】このようにプリズムを配置すれば、該プリ
ズムを通過する光ビームの主走査方向の幅を最も狭くす
ることができるので、主走査方向に沿ったプリズムの寸
法を短くすることが可能となり、プリズムの小型化及び
コスト削減を図ることができる。

【００２８】また、例えば図９に示すように偏向器３に
入射する光ビームが主走査平面Ｈに対し、図５の角度α
よりも大きい角度βを成す場合、プリズムは、請求項４
に記載したように、第２の結像光学系を構成するレンズ
のうち偏向器に最も近いレンズの光ビーム進行方向下流
側近傍に配置することが望ましい。例えば、図９に示す
ように、プリズム３０Ｓを、第２の結像光学系１５を構
成するレンズのうち偏向器３に最も近いレンズ１５Ａの
光ビーム進行方向下流側（図９において偏向器３からの
偏向光が通過する領域のレンズ１５Ａの右側）近傍に配
置することが望ましい。

【００２９】このようにプリズムを配置すれば、副走査
方向に沿ったプリズムの寸法を短くすることが可能とな
り、プリズムの小型化及びコスト削減を図ることができ
る。

【００３０】また、請求項５に記載したように、光源
部、偏向器、第１の結像光学系及び第２の結像光学系が
１つの筐体に収納されているときは、プリズムを、光ビ
ームが筐体内から射出される該筐体の出口部分に、隙間
が形成されないように設置することが望ましい。この場
合、塵や埃等が筐体の光ビーム出口部分から筐体内に侵
入することをプリズムによって防止することができる。
即ち、上記のような隣接する走査線間隔の補正と走査線
の湾曲の補正に加え、防塵効果を得ることができる。

【００３１】

【発明の実施の形態】以下、発明の各種実施形態を説明
する。

【００３２】［第１実施形態］まず、請求項１に記載し
た発明に対応する第１実施形態を説明する。

【００３３】最初に、図１を用いて本発明に係る光走査
装置２０Ａの構成を説明する。図１に示すように光走査
装置２０Ａには、独立に駆動可能な複数の発光源から構
成された光源１が設けられており、この光源１より射出
される光ビームの光路上には、光源１に近い方から順に
コリメータレンズ１２、副走査方向にのみパワーを有す
るシリンダレンズ１１、折り返しミラー４Ａ、回転多面
鏡（ポリゴンミラー）３が配置されている。なお、回転
多面鏡３は、複数の反射面が側面に形成され、図示しな
いスキャナモータの駆動力で所定方向に等角速度で回転
し、側面の反射面で光ビームを偏向する。

【００３４】また、偏向された光ビームの光路上には、
回転多面鏡３から近い方から順に、走査レンズ１５Ａ、
後述するプリズム３０、走査レンズ１５Ｂ、折り返しミ
ラー４Ｂ、副走査方向にのみパワーを有するシリンダミ
ラー５が配置されており、シリンダミラー５で反射され
た光ビームは、防塵カバーガラス６を透過した後、被走
査面１９に照射される。なお、走査レンズ１５Ａ、１５
Ｂは、偏向された光ビームを被走査面１９上で等速度移
動させるｆθレンズ系１５を構成する。

【００３５】上記で回転多面鏡３に入射した光ビーム
は、所定方向に回転する回転多面鏡３の側面で偏向され
るので、その偏向角は連続的に変化し、被走査面１９は
偏向された光ビームで走査されることとなる。なお、偏
向された光ビームによって被走査面１９が走査される方
向（図１の矢印Ｗ方向）を主走査方向という。

【００３６】一方、被走査面１９は、主走査方向と直交
する副走査方向（例えば図１の紙面に垂直な手前方向）
に移動する。このため、被走査面１９は光源１の複数の
発光源からの光ビームで同時に二次元的に走査される。

【００３７】なお、光源１〜回転多面鏡３間の光学系を
プレポリゴン光学系とし、回転多面鏡３〜被走査面１９
間の光学系をポストポリゴン光学系とする。また、本第
１実施形態の光走査装置２０Ａは、図１より明らかなよ
うにアンダーフィルド光学系で構成されている。また、
前述したように光源１は、上記副走査方向に沿って複数
個の発光源が配列されたレーザダイオードアレー（ＭＳ
ＬＤ）により構成されている。

【００３８】上記のような本実施形態の光走査装置２０
Ａでは、光学部品の取付け誤差や部品の寸法誤差等に起
因して、光ビームによる被走査面１９上の走査線が湾曲
し、隣接する走査線の間隔にバラツキが生じることがあ
る。

【００３９】例えば、折り返しミラー４Ａが正規の姿勢
から倒れた場合、アンダーフィルド光学系で構成された
光走査装置２０Ａでは、走査線が被走査面１９の移動方
向に凸となるよう湾曲するとき、隣接する走査線の間隔
は狭くなる傾向にあり、逆に、走査線が被走査面１９の
移動方向と逆方向に凸となるよう湾曲するとき、走査線
の間隔は広くなる傾向にある。

【００４０】図２には、折り返しミラー４Ａの角度変動
に伴う走査線の湾曲量（以下、ボーと称する）及び隣接
する走査線間隔の変動を示している。この図２では、走
査線が被走査面１９の移動方向に（＝前回の走査線に近
寄る側に）凸となるよう湾曲したときのボーを正として
表記している。

【００４１】折り返しミラー４Ａとしては、副走査方向
の長さが１２ｍｍ程度のミラーを使用しているが、この
折り返しミラー４Ａの取付基準面（不図示）の直角度を
高精度加工しても、約０．６°の角度エラーが生じる。
また、上記取付基準面に折り返しミラー４Ａを取り付け
る際に生じる取り付け誤差も、上記同様に０．６°程度
生じるため、折り返しミラー４Ａの実際の取り付け角度
誤差は１．２°程度になる。

【００４２】図２に示すように、アンダーフィルド光学
系で構成された光走査装置２０Ａでは、１．２°の角度
エラーで走査線の間隔の変化量は約１．２μｍとなり、
走査線の湾曲量は約４４μｍとなる。即ち、走査線の湾
曲量は走査線の間隔の変化量よりもはるかに大きくな
る。

【００４３】そこで、本第１実施形態では、プリズム３
０を、走査レンズ１５Ａの光ビーム進行方向下流側近傍
に、副走査方向に沿って回転可能に配置している。この
プリズム３０の諸元は、材質：ＢＫ７、中心厚さ：１．
３５、頂点の角度：１．１°である。

【００４４】しかも、プリズム３０は、図３に示すよう
に、走査線の所定位置（ここでは走査中心）でのボーが
該所定位置での隣接する走査線間隔の変化量以上とな
り、走査線が被走査面１９の移動方向に凸となるよう湾
曲する場合走査線間隔が狭くなり、走査線が前記移動方
向と逆方向に凸となるよう湾曲する場合走査線間隔が広
くなるよう回転調整される。

【００４５】これにより、走査線が被走査面１９の移動
方向に凸となるよう湾曲し走査線間隔が狭くなるよう変
動しているケースでは、プリズム３０を、走査線が移動
方向と逆方向に凸となるよう湾曲し走査線間隔が広くな
るよう回転調整すれば、隣接する走査線間隔の補正と走
査線の湾曲の補正の両方を同時に簡易な構造で実現する
ことができる。

【００４６】一方、走査線が被走査面１９の移動方向と
逆方向に凸となるよう湾曲し走査線間隔が広くなるよう
変動しているケースでは、プリズム３０を、走査線が移
動方向に凸となるよう湾曲し走査線間隔が狭くなるよう
回転調整すれば、隣接する走査線間隔の補正と走査線の
湾曲の補正の両方を同時に簡易な構造で実現することが
できる。

【００４７】また、図６に示すようにプリズムを所定角
度だけ回転調整したとき、ボーの補正量が隣接する走査
線間隔の変化についての補正量以上となるので、湾曲量
が大きい走査線の湾曲と変化量が小さい隣接する走査線
間隔の変化の両方をそれぞれ適正な補正量で同時に補正
することができる。

【００４８】一般的に光走査装置に求められている精度
は、ボーが１０μｍ以下、隣接する走査線間隔の変動が
５μｍ以下である。この程度のエラーであれば、画質に
影響を及ぼさないことが知られている。例えば、解像度
が６００ＳＰＩの場合、被走査面１９上の隣接する走査
線間隔の設計値は４２．３μｍとなるので、隣接する走
査線間隔については（４２．３±５）μｍの範囲に収め
れば良い。

【００４９】本第１実施形態のプリズム３０の角度調整
による補正の分解能は、図３に示すように、プリズム３
０の回転角度が仮に±１０°を考慮すると、ボーは１０
μｍ／１０°、隣接する走査線間隔は０．７μｍ／１０
°となる。よって、光走査装置に求められている精度
（ボーが１０μｍ以下、隣接する走査線間隔の変動が５
μｍ以下）を満足させることができる。

【００５０】［第２実施形態］次に、請求項２、３、４
に記載した発明に対応する第２実施形態を説明する。こ
の第２実施形態の光走査装置は正面入射光学系により構
成される。即ち、図４に示すように、光走査装置２０Ｂ
では、光源１からの光ビームが、ｆθレンズ系１５の略
正面から入射し通過した後、回転多面鏡３で偏向され
る。偏向された光ビームは、ｆθレンズ系１５に再度入
射する。

【００５１】しかも、図５に示すように、光源１からの
光ビームは、ｆθレンズ系１５の光軸を含み主走査方向
に平行な主走査面Ｈに対し所定角度αだけ傾斜して該ｆ
θレンズ系１５に入射する。このため、回転多面鏡３で
偏向された光ビームと前記入射光ビームとは副走査断面
で角度２αを成すこととなり、これらが互いに干渉し合
うことが回避される。

【００５２】一方、このような正面入射光学系では、光
源１からの光ビームが主走査面Ｈに対し傾斜しているた
め、被走査面１９上の走査線が傾斜度に応じて湾曲する
ことが知られている。また、走査線の湾曲量は、光ビー
ムの主走査面Ｈに対する傾斜角度αにより予め求められ
る。

【００５３】そこで、第２実施形態の光走査装置２０Ｂ
では、図４、図５のように、プリズム３０が、上記光ビ
ームの傾斜により発生する走査線の湾曲量を補正する角
度だけ回転した状態で、走査レンズ１５Ａの光ビーム進
行方向側近傍に配置されている。

【００５４】このため、正面入射光学系での主走査面Ｈ
に対する光ビームの傾斜に起因した予め求められる走査
線の湾曲については、上記のようにプリズム３０を配置
することで補正することができる。

【００５５】また、走査線の湾曲を補正するためには、
プリズム３０を、回転多面鏡３と被走査面１９との間の
光路上に配置すれば良いが、実際のレイアウトでは回転
多面鏡３と走査レンズ１５Ａとの間隔は２０ｍｍ程度の
小さい間隔なので、プリズム３０を回転多面鏡３の近傍
に配置することは不可能に近い。

【００５６】よって、プリズム３０は、ｆθレンズ系１
５と被走査面１９との間の光路上又はｆθレンズ系１５
内の光路上に配置すれば良いが、図４のように走査レン
ズ１５Ａの光ビーム進行方向側近傍に配置すれば、該プ
リズム３０を通過する光ビームの主走査方向の幅を最も
狭くすることができる。このため、主走査方向に沿った
プリズム３０の寸法を短くすることが可能となり、プリ
ズム３０の小型化及びコスト削減を図ることができる。

【００５７】仮に、走査レンズ１５Ａ、１５Ｂの間隔が
狭くて、ｆθレンズ系１５内の光路上にプリズム３０を
配置するのが困難な場合は、プリズム３０を回転多面鏡
３により近い場所に配置するのが望ましい。即ち、プリ
ズム３０を走査レンズ１５Ｂの光ビーム進行方向側近傍
に配置するのが望ましい。

【００５８】ところで、図９に示すように回転多面鏡３
に入射する光ビームが主走査平面Ｈに対し、図５の角度
αよりも大きい角度βを成す場合、プリズム３０Ｓを、
走査レンズ１５Ａの光ビーム進行方向下流側（図９にお
いて回転多面鏡３からの偏向光が通過する領域の走査レ
ンズ１５Ａの右側）近傍に配置するのが望ましい。

【００５９】このようにプリズム３０Ｓを配置すれば、
副走査方向に沿ったプリズム３０Ｓの寸法を短くするこ
とが可能となり、プリズム３０Ｓの小型化及びコスト削
減を図ることができる。

【００６０】［第３実施形態］次に、請求項５に記載し
た発明に対応する第３実施形態を説明する。図６に示す
ように、第３実施形態の光走査装置２０Ｃは筐体２２に
収納されており、光ビームは筐体２２の出口部２２Ａか
ら射出され、矢印Ｑ方向に等角速度で回転する感光体ド
ラム２４の表面に照射される。

【００６１】この第３実施形態では、プリズム３０が、
出口部２２Ａに、防塵カバーガラス６（図１、図４参
照）に代わって配置されており、該プリズム３０の回転
調整後も隙間が形成されないように構成されている。こ
れにより、塵や埃等が筐体２２内に侵入することをプリ
ズム３０によって防止できると共に、該プリズム３０に
よって上記第１、第２実施形態のように隣接する走査線
間隔の補正と走査線の湾曲の補正も同時に実現すること
ができる。

【００６２】このように出口部２２Ａを密閉するように
プリズム３０を配置するという簡単な構成で、筐体２２
の防塵効果と、走査線間隔及び走査線の湾曲の補正効果
とが同時に得られる。

【００６３】なお、上記各種実施形態では、主に光源１
が２ビームのアレーで構成された場合について説明した
が、光源１が３ビーム以上のアレーで構成された場合に
おいても成立し、同様の効果を得ることができる。

【００６４】また、上記各種実施形態で説明した光走査
装置は、レーザビームプリンタ等の画像形成装置に適用
することができ、安定した高レベルの光走査性能によ
り、高速な画像形成処理を実現し高画質な画像を得るこ
とができる。また、上記光走査装置は、原稿面に光ビー
ムを照射して画像を読み取る画像読取装置等にも適用可
能である。

【００６５】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の発
明によれば、湾曲量が大きい走査線の湾曲と、変化量が
小さい隣接する走査線間隔の変化の両方を、それぞれ適
正な補正量で簡易な構造で同時に補正することができ
る。

【００６６】また、請求項２記載の発明によれば、プリ
ズムを、主走査面に対する光ビームの傾斜に起因した走
査線の湾曲量を補正する角度だけ回転した状態で配置し
たので、上記傾斜に起因した走査線の湾曲を初期状態で
補正することができる。

【００６７】また、請求項３記載の発明によれば、プリ
ズムを、第２の結像光学系を構成するレンズのうち偏向
器に最も近いレンズの光ビーム進行方向側近傍に配置し
たので、主走査方向に沿ったプリズムの寸法を短くする
ことが可能となり、プリズムの小型化及びコスト削減を
図ることができる。

【００６８】また、請求項４記載の発明によれば、プリ
ズムを、第２の結像光学系を構成するレンズのうち偏向
器に最も近いレンズの光ビーム進行方向下流側近傍に配
置したので、副走査方向に沿ったプリズムの寸法を短く
することが可能となり、プリズムの小型化及びコスト削
減を図ることができる。

【００６９】また、請求項５記載の発明によれば、プリ
ズムを、筐体の光ビーム出口部分に隙間が形成されない
ように設置したので、塵や埃等が筐体内に侵入すること
を防止でき、隣接する走査線間隔の補正と走査線の湾曲
の補正に加え、防塵効果を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１実施形態の光走査装置の概略構成を示す平
面図である。

【図２】ミラーの角度変動に対するボー及び走査線間隔
の変動を示すグラフである。

【図３】プリズムの調整角度に対するボー及び走査線間
隔の変動を示すグラフである。

【図４】第２実施形態の光走査装置の概略構成を示す平
面図である。

【図５】図４の光走査装置でのプリズムの配置を示す側
面図である。

【図６】第３実施形態の光走査装置の概略構成を示す側
面図である。

【図７】（Ａ）は光源と回転多面鏡との間の光路上にプ
リズムを配置した従来の光走査装置の構成図であり、
（Ｂ）は（Ａ）のプリズムの角度調整を示す図であり、
（Ｃ）は隣接する走査線の間隔にバラツキが生じた状態
を示す図であり、（Ｄ）は隣接する走査線の間隔のバラ
ツキを補正した後の状態を示す図である。

【図８】光路上にプリズムを配置して、設計上発生する
ボーを補正する従来の光走査装置の構成図である。

【図９】回転多面鏡に最も近い走査レンズの光ビーム進
行方向下流側近傍にプリズムを配置した場合の側面図で
ある。

【符号の説明】

１光源３回転多面鏡（偏向器）１５Ａ、１５Ｂ走査レンズ１９被走査面２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃ光走査装置２２筐体２４感光体ドラム３０、３０Ｓプリズム

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】独立に駆動可能な複数の発光源を有する
光源部と、前記複数の発光源から発光された複数の光ビームを偏向
する偏向器と、前記光源部から射出された光ビームを前記偏向器の偏向
面上に結像させる第１の結像光学系と、前記偏向面により偏向された光ビームを、所定方向に移
動する被走査面上に結像させる第２の結像光学系と、を有し、前記複数の光ビームで前記被走査面を同時に主走査方向
に走査する光走査装置であって、前記第２の結像光学系と前記被走査面との間の光路上又
は前記第２の結像光学系内の光路上に、前記主走査方向
に垂直な平面内で回転可能に配置され、光ビームによる
走査線の所定位置での湾曲量が該所定位置での隣接する
走査線間隔の変化量以上となるよう回転され、前記走査
線が前記所定方向に凸となるよう湾曲する場合、前記走
査線間隔が狭くなるよう回転され、前記走査線が前記所
定方向と逆方向に凸となるよう湾曲する場合、前記走査
線間隔が広くなるよう回転されるプリズムを備えた光走
査装置。
【請求項２】前記光源部からの光ビームが、前記第２
の結像光学系の光軸を含み前記主走査方向に平行な主走
査面に対し傾斜して前記第２の結像光学系の略正面から
入射し、該第２の結像光学系を通過した光ビームが前記
偏向器で偏向され、偏向された光ビームが該第２の結像
光学系に再度入射し、前記プリズムは、前記光源部からの光ビームの前記主走
査面に対する傾斜により発生する走査線の湾曲量を補正
する角度だけ回転した状態で配置されたことを特徴とす
る請求項１記載の光走査装置。
【請求項３】前記プリズムは、前記第２の結像光学系
を構成するレンズのうち前記偏向器に最も近いレンズの
光ビーム進行方向側近傍に配置されたことを特徴とする
請求項１又は請求項２に記載の光走査装置。
【請求項４】前記プリズムは、前記第２の結像光学系
を構成するレンズのうち前記偏向器に最も近いレンズの
光ビーム進行方向下流側近傍に配置されたことを特徴と
する請求項１又は請求項２に記載の光走査装置。
【請求項５】前記光源部、前記偏向器、前記第１の結
像光学系及び前記第２の結像光学系は筐体に収納され、前記プリズムは、前記光ビームが前記筐体内から射出さ
れる該筐体の出口部分に、隙間が形成されないように設
置されたことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載
の光走査装置。