JP3061121B2 - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents

半導体装置およびその製造方法

Info

Publication number
JP3061121B2
JP3061121B2 JP9239945A JP23994597A JP3061121B2 JP 3061121 B2 JP3061121 B2 JP 3061121B2 JP 9239945 A JP9239945 A JP 9239945A JP 23994597 A JP23994597 A JP 23994597A JP 3061121 B2 JP3061121 B2 JP 3061121B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
semiconductor device
semiconductor chip
carrier tape
manufacturing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP9239945A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH1187433A (ja
Inventor
信夫 山下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP9239945A priority Critical patent/JP3061121B2/ja
Priority to KR1019980036059A priority patent/KR100304680B1/ko
Priority to TW087114793A priority patent/TW388972B/zh
Priority to CN98118597A priority patent/CN1211071A/zh
Publication of JPH1187433A publication Critical patent/JPH1187433A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3061121B2 publication Critical patent/JP3061121B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • H01L21/565Moulds
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • H01L2924/1815Shape

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Packaging Frangible Articles (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、キャリアテープ
等、強度の弱い基板を用いた半導体装置の製造方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】チップサイズパケージ(CPS)のよう
な、キャリアテープ基板を用いた半導体装置において
は、トランスファ方式で樹脂封入が行われる。この際、
従来では、次のようにしてトランスファー成形を行って
いる。
【0003】図5に従来の半導体装置の製造方法を示
す。
【0004】まず、図5(a)に示すように、下金型1
にキャリアテープ4をセットする。キャリアテープ4の
厚さは、例えば、約50ミクロンである。このキャリア
テープ4上にはチップ10が搭載されている。
【0005】引き続いて、図5(b)に示すように、そ
の上に封入樹脂でパケージ外形を形成する中金型2及び
上金型3をセットする。ここで、中金型2には半導体チ
ップ10を覆うキャビティ7がある。また、上金型3
は、このキャビティ7とゲート5を介して連通するライ
ナ6を備えている。セット完了後、熱硬化性樹脂を加熱
し、粘度が低下した時点で樹脂を加圧する。
【0006】図5(c)に移って、樹脂8はランナ6か
らゲート5を通り、キャビティ7内へ充填される。樹脂
充填完了後、樹脂8の硬化特性に応じた樹脂キュアを行
う。ここで、参照符号11で示すものはカルである。
【0007】引き続いて、図5(d)に示すように、上
金型3及び中金型2を取り外した際、中金型2に密着し
ている製品を治具9等を用いて取り外す。
【0008】これにより、図5(e)に示すように、キ
ャリアテープ4上の半導体チップ10が樹脂8で封入さ
れた製品が作製される。これが成形の1サイクルであ
る。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】この従来の樹脂封入完
了後の半導体の形態は、厚さの薄いキャリアテープ4を
用いているため強度が弱く、また、半導体チップ10を
封入する樹脂8の重量により水平に保持する事が困難で
ある。この為、ハンドリング時の取り扱い時に細心の注
意を払わなければならず、又、ピンセット等を用いた場
合でも取り扱いミスにより製品落下やキズによる不良等
が発生する。
【0010】一方、ピンセット等を用いず、吸着又はク
ランプで自動搬送を行う場合においては、吸着面積不足
やバランスが不安定であると、樹脂/テープ界面で剥が
れが発生する。
【0011】更に、製品クランプを行った場合、強度が
ないキャリアテープ1の形状を保持したまま搬送するこ
とは困難で、キャリアテープ変形やこれに伴う樹脂/テ
ープ界面の剥がれの要因となるという問題がある。
【0012】したがって、本発明の課題は、製品保持性
を安定させることができる半導体装置およびその製造方
法を提供することにある。
【0013】本発明の他の課題は、生産性に優れた半導
体装置およびその製造方法を提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、キャリ
アテープの片面上に搭載された半導体チップを保護する
ために前記半導体チップを樹脂封入してなる半導体装置
において、前記キャリアテープの外周部に前記半導体チ
ップを覆う樹脂と一体である搬送用の樹脂フレームを設
けたことを特徴とする半導体装置が得られる。
【0015】また、本発明によれば、キャリアテープ上
に半導体チップを搭載した半導体装置を製造する方法に
おいて、前記半導体チップを保護する為に前記半導体チ
ップを樹脂封止する際、前記キャリアテープの外周部に
封止樹脂を用いて搬送用の樹脂フレームを同時に形成す
ることを特徴とする半導体装置の製造方法が得られる。
【0016】
【作用】製品外形保持を目的とした樹脂フレームを形成
するので、製品保持性が安定する。また、この樹脂フレ
ームを、樹脂封入時に半導体チップを樹脂封入した同じ
樹脂を用いて同時に形成することにより、フレーム形成
がパケージ部の樹脂封入と同時にできる事から生産性が
優れる。
【0017】樹脂で形成されたフレームを用いる事で樹
脂封入後の製品外形強度が向上した事により、樹脂成形
から製品収納までを自動化できる。また、その時キャリ
アテープの変形が抑制されている事から、樹脂とキャリ
アテープとの界面の剥がれ等を防止する事が可能とな
る。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。
【0019】図1を参照して、本発明の第1の実施の形
態に係る半導体装置の製造方法について説明する。尚、
図1は後述する図2(a)のI−I線に沿った断面図で
ある。
【0020】図1(a)を参照して、キャリアテープd
上には半導体チップc(図示の例では2個)が搭載され
ている。半導体チップcが下側となる状態で、キャリア
テープdが下金型a上に搭載される。下金型aには、キ
ャリアテープdの外周部付近に位置する部分に、後述す
る樹脂フレームmを構築する為のランナ溝oが設けられ
ている。このランナ溝oからゲートe及びキャビティi
につながるサブランナhが複数枝分かれしている。ま
た、下金型aには半導体チップcと対応する位置に形成
された複数個の貫通孔に複数本のノックアウトピンfが
上下動可能に挿入されている。
【0021】図1(b)に移って、上金型bによって、
半導体チップcを搭載したキャリアテープdを、下金型
aとの間に挟み込む。
【0022】図1(c)に移って、溶融状態の樹脂lを
プランジャjで加圧する。すると、まず、ランナ溝oに
樹脂が注入され、ランナ溝oが樹脂で充填された後、サ
ブランナhへ樹脂lが流動し始める。この後、樹脂l
は、ゲートe、キャビティi内へと注入され、キャビテ
ィi内に樹脂lが充填されると樹脂lの注入が完了す
る。
【0023】この場合、樹脂フレームmがキャリアテー
プdの外周部に構築されている為、従来のパッケージ部
のコーナ等に設けていたエアーベントでは、キャビティ
i内の空気を排除する効率は低下する。この為に、本封
入金型では金型溝内の空気を脱気成形にて吸引する機構
(図示せず)を兼ね備えている。
【0024】図1(d)に移って、樹脂充填完了後は、
樹脂硬化特性に応じた成形時間を経過させてから封入金
型の型開きを行う。まず、上金型dを離す。パッケージ
部及び樹脂フレームm部の下金型aとの離型は、製品全
体の反り及び変形低減の為に、まず、パッケージ部と樹
脂フレームm部又はカルp部を吸着ヘッドkで複数押さ
えた後に、金型側ノックアウトピンfでパッケージ部と
樹脂フレームm部を下金型aから均等量離型させる。こ
れにより成形1サイクルが完了する。
【0025】図1(e)に移って、成形1サイクルが完
了した製品は、前記製品押さえ部である吸着ヘッドk又
は樹脂フレームmをクランプし、カルpの分離を行う。
【0026】図1(f)に移って、その後、収納側へ搬
送する。
【0027】封入樹脂は樹脂フレームm部と半導体装置
部を各々異なった樹脂を用いる事も可能である。しか
し、同一の樹脂を用いた方が生産性には有利である。但
し、樹脂コストが高くなる場合は、樹脂フレームm部に
低コストの樹脂を用いた方が良い場合もある。
【0028】図2に図1の製造方法により製造された半
導体装置を示し、(a)は平面図、(b)は側面図であ
る。図2(b)に示すように、ランナ溝oすなわち樹脂
フレームmの深さβは半導体チップcを覆う樹脂厚αよ
り深く設けている。これは樹脂封入後の製品搬送時の製
品保護を目的としている。
【0029】図3を参照して、本発明の第2の実施の形
態に係る半導体装置の製造方法について説明する。尚、
図3は後述する図4(a)のIII −III 線に沿った断面
図である。上述した第1の実施の形態との主な相違点
は、上金型bにもランナ溝oを形成したことである。
【0030】図3(a)を参照して、キャリアテープd
上には半導体チップc(図示の例では2個)が搭載され
ている。半導体チップcが下側となる状態で、キャリア
テープdが下金型aに搭載される。下金型aには、キャ
リアテープdの外周部付近に位置する部分に、後述する
樹脂フレームnを構築する為のランナ溝oが設けられて
いる。このランナ溝oからゲートe及びキャビティiに
つながるサブランナhが複数枝分かれしている。また、
下金型aには半導体チップcと対応する位置に形成され
た複数個の貫通孔に複数本のノックアウトピンfが上下
動可能に挿入されている。
【0031】図3(b)に移って、上金型bによって、
半導体チップcを搭載したキャリアテープdを、下金型
aとの間に挟み込む。この上金型bにも、樹脂フレーム
nを構築する為のランナ溝oが設けられている。すなわ
ち、ランナ溝oはキャリアテープdの表裏各々からキャ
リアテープdを挟み込む様に設けられている。また、上
金型bにはランナ溝oと対応する位置に形成された複数
個の貫通孔に複数本のイジェクタピンgが上下動可能に
設けられている。
【0032】図3(c)に移って、溶融状態の樹脂lを
プランジャjで加圧する。すると、まず、ランナ溝oに
樹脂が注入され、ランナ溝oが樹脂で充填された後、サ
ブランナhへ樹脂lが流動し始める。この後、樹脂l
は、ゲートe、キャビティi内へと注入され、キャビテ
ィi内に樹脂lが充填されると樹脂lの注入が完了す
る。
【0033】この場合、樹脂フレームnがキャリアテー
プdの外周部に構築されている為、従来のパッケージ部
のコーナ等に設けていたエアーベントでは、キャビティ
i内の空気を排除する効率は低下する。この為に、本封
入金型では金型溝内の空気を脱気成形にて吸引する機構
(図示せず)を兼ね備えている。
【0034】図3(d)に移って、樹脂充填完了後は、
樹脂硬化特性に応じた成形時間を経過させてから封入金
型の型開きを行う。まず、イジェクタピンgを用いて上
金型dを離す。パッケージ部及び樹脂フレームn部の下
金型aとの離型は、製品全体の反り及び変形低減の為
に、まず、パッケージ部と樹脂フレームn部又はカルp
部を吸着ヘッドkで複数押さえた後に、金型側ノックア
ウトピンfでパッケージ部と樹脂フレームn部を下金型
aから均等量離型させる。これにより成形1サイクルが
完了する。
【0035】図3(e)に移って、成形1サイクルが完
了した製品は、前記製品押さえ部である吸着ヘッドk又
は樹脂フレームnをクランプし、カルpの分離を行う。
【0036】図3(f)に移って、その後、収納側へ搬
送する。
【0037】封入樹脂は樹脂フレームn部と半導体装置
部を各々異なった樹脂を用いる事も可能である。しか
し、同一の樹脂を用いた方が生産性には有利である。但
し、樹脂コストが高くなる場合は、樹脂フレームm部に
低コストの樹脂を用いた方が良い場合もある。
【0038】図4に図3の製造方法により製造された半
導体装置を示し、(a)は平面図、(b)は側面図であ
る。図4(b)に示すように、ランナ溝oすなわち樹脂
フレームnの半導体チップc搭載側の深さβ´は半導体
チップcを覆う樹脂厚αより深く設けている。これは樹
脂封入後の製品搬送時の製品保護を目的としている。ま
た、樹脂フレームnの半導体チップc非搭載側の深さ
β”は樹脂フレームの反り低減の為に設けられてもので
あって、樹脂特性によって変動するものとする。
【0039】本発明は上述した実施の形態に限定せず、
本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の変更・変形が
可能である。
【0040】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
キャリアテープ上に搭載された半導体チップを保護する
ために半導体チップを樹脂封入してなる半導体装置にお
いて、キャリアテープの外周部に半導体チップを覆う樹
脂と一体である搬送用の樹脂フレームを形成しているの
で、製品の強度が向上するという利点がある。また、こ
の樹脂フレームを樹脂封入時にパッケージ部と同じ樹脂
同時に設けることによって、生産性が向上するという
利点もある。この為、テープ変形等による樹脂とテープ
界面の剥がれが低減し、又樹脂封入後の搬送性が向上す
る事で、歩留まりや生産性が向上する。また、樹脂フレ
ームの厚さを半導体チップを覆う厚さより厚くすること
により、樹脂封入後の製品搬送時に製品を保護すること
ができる。さらに、半導体チップの搭載側ばかりでなく
非搭載側にも樹脂フレームを設けることにより、樹脂フ
レームの反りを低減できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置の
製造工程を示す断面図である。
【図2】図1の製造方法により製造された半導体装置を
示す図である。
【図3】本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置の
製造工程を示す断面図である。
【図4】図3の製造方法により製造された半導体装置を
示す図である。
【図5】従来の半導体装置の製造工程を示す図である。
【符号の説明】
a 下金型 b 上金型 c 半導体チップ d キャリアテープ e ゲート f ノックアウトピン g イジェクタピン h サブランナ i キャビティ j プランジャ k 吸着ヘッド l 樹脂 m 樹脂フレーム(片面) n 樹脂フレーム(両面) o ランナ溝 p カル α 樹脂厚 β,β´,β” 樹脂フレーム厚

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 キャリアテープの片面上に搭載された半
    導体チップを保護するために前記半導体チップを樹脂封
    入してなる半導体装置において、 前記キャリアテープの外周部に前記半導体チップを覆う
    樹脂と一体である搬送用の樹脂フレームを設けたことを
    特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記半導体チップが複数個ある、請求項
    1に記載の半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記樹脂フレームが、前記半導体チップ
    が搭載された側の片面にのみ設けられている、請求項1
    又は2に記載の半導体装置。
  4. 【請求項4】 前記樹脂フレームが、前記半導体チップ
    が搭載された側および搭載されていない側の両側に設け
    られている、請求項1又は2に記載の半導体装置。
  5. 【請求項5】 前記樹脂フレームの厚さが前記半導体チ
    ップを覆う樹脂の厚さよりも厚いことを特徴とする、請
    求項1又は2に記載の半導体装置。
  6. 【請求項6】 キャリアテープ上に半導体チップを搭載
    した半導体装置を製造する方法において、 前記半導体チップを保護する為に前記半導体チップを樹
    脂封止する際、前記キャリアテープの外周部に封止樹脂
    を用いて搬送用の樹脂フレームを同時に形成することを
    特徴とする半導体装置の製造方法。
  7. 【請求項7】 前記半導体チップが複数個ある、請求項
    6に記載の半導体装置の製造方法。
  8. 【請求項8】 前記封止樹脂を用いて、前記半導体チッ
    プを覆う樹脂と一体である前記搬送用の樹脂フレーム
    を、前記半導体チップを覆う樹脂と一括に形成すること
    を特徴とする、請求項6又は7に記載の半導体装置の製
    造方法。
  9. 【請求項9】 前記封止樹脂を、前記キャリアテープ周
    辺部のランナ溝からサブランナおよびゲートを介して前
    記半導体チップ搭載部のキャビティに流し込むことを特
    徴とする、請求項8に記載の半導体装置の製造方法。
  10. 【請求項10】 前記樹脂フレームの厚さが前記半導体
    チップを覆う樹脂の厚さよりも厚いことを特徴とする、
    請求項6乃至9のいずれか1つに記載の半導体装置の製
    造方法。
JP9239945A 1997-09-04 1997-09-04 半導体装置およびその製造方法 Expired - Lifetime JP3061121B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9239945A JP3061121B2 (ja) 1997-09-04 1997-09-04 半導体装置およびその製造方法
KR1019980036059A KR100304680B1 (ko) 1997-09-04 1998-09-02 반도체장치및그제조방법
TW087114793A TW388972B (en) 1997-09-04 1998-09-03 Semiconductor device and method of manufacturing the same
CN98118597A CN1211071A (zh) 1997-09-04 1998-09-03 半导体器件及其制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9239945A JP3061121B2 (ja) 1997-09-04 1997-09-04 半導体装置およびその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH1187433A JPH1187433A (ja) 1999-03-30
JP3061121B2 true JP3061121B2 (ja) 2000-07-10

Family

ID=17052168

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9239945A Expired - Lifetime JP3061121B2 (ja) 1997-09-04 1997-09-04 半導体装置およびその製造方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP3061121B2 (ja)
KR (1) KR100304680B1 (ja)
CN (1) CN1211071A (ja)
TW (1) TW388972B (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6734571B2 (en) 2001-01-23 2004-05-11 Micron Technology, Inc. Semiconductor assembly encapsulation mold
JP3791501B2 (ja) 2003-02-26 2006-06-28 セイコーエプソン株式会社 回路基板、半導体装置、半導体製造装置、回路基板の製造方法および半導体装置の製造方法
WO2012002446A1 (ja) * 2010-07-02 2012-01-05 独立行政法人産業技術総合研究所 微小機械システム
JP6468455B1 (ja) * 2017-10-13 2019-02-13 第一精工株式会社 樹脂封止金型及び樹脂封止方法
DE102020201665A1 (de) * 2020-02-11 2021-08-12 Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung Mold-Vorrichtung

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0870082A (ja) * 1994-06-21 1996-03-12 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置およびその製造方法ならびにリードフレーム
JPH10116861A (ja) * 1996-10-09 1998-05-06 Texas Instr Japan Ltd キャリアテープ、及びキャリアテープ製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW388972B (en) 2000-05-01
KR100304680B1 (ko) 2001-11-02
KR19990029447A (ko) 1999-04-26
JPH1187433A (ja) 1999-03-30
CN1211071A (zh) 1999-03-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7377031B2 (en) Fabrication method of semiconductor integrated circuit device
US20050023583A1 (en) Multi media card formed by transfer molding
KR20020017986A (ko) 반도체장치 및 그 제조방법
US6630374B2 (en) Resin sealing method and resin sealing apparatus
US6372551B1 (en) Method of manufacturing an image-sensor integrated circuit package without resin flash on lead frame and with increased wire bondability
US6257857B1 (en) Molding apparatus for flexible substrate based package
US20070164425A1 (en) Thermally enhanced semiconductor package and method of producing the same
JP3456983B2 (ja) リードフレームおよび樹脂封止型半導体装置の製造方法
JP3061121B2 (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP3879823B2 (ja) 薄型半導体装置のモールド方法及びそのモールド金型
JP3129660B2 (ja) Sonパッケージの樹脂封止方法及び樹脂封止装置
JP3139981B2 (ja) チップサイズパッケージの樹脂封止方法及び樹脂封止装置
JP6034078B2 (ja) プリモールドリードフレームの製造方法、および、半導体装置の製造方法
TWI747568B (zh) 具有溝部的引線框、樹脂成形後的引線框的製造方法、樹脂成形品的製造方法及樹脂成形品
JP3793679B2 (ja) 電子部品の製造方法及び製造装置
US7211215B1 (en) Mould, encapsulating device and method of encapsulation
JP3092568B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置製造金型
JP2002118130A (ja) マトリクスパッケージの樹脂封止方法
KR20010037252A (ko) 반도체패키지 제조용 금형
JPH06177192A (ja) 樹脂モールド装置
JPH06151493A (ja) テープキャリアパッケージのモールド方法とそれに用いる搬送キャリア
JP3499269B2 (ja) カバーフレームと樹脂封止方法
JP2003203935A (ja) 半導体装置の封止方法およびそれに用いる封止装置
KR100526846B1 (ko) 반도체패키지용 금형
JP2006134923A (ja) 封止済基板の離型方法及び離型機構

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20000329