JP3054239B2 - ブランケット、およびそのブランケットを用いたカラーフィルターの製造方法 - Google Patents
ブランケット、およびそのブランケットを用いたカラーフィルターの製造方法Info
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- JP3054239B2 JP3054239B2 JP17550791A JP17550791A JP3054239B2 JP 3054239 B2 JP3054239 B2 JP 3054239B2 JP 17550791 A JP17550791 A JP 17550791A JP 17550791 A JP17550791 A JP 17550791A JP 3054239 B2 JP3054239 B2 JP 3054239B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はインキの受理性および転
移性に優れたブランケット、およびそのブランケットを
用いたカラーフィルタの製造方法に関する。
移性に優れたブランケット、およびそのブランケットを
用いたカラーフィルタの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般にブランケットは版からインキを受
理し、そのインキを被印刷物に転移するという役割を担
っており、ブランケットの特性は印刷画素形状の再現性
や連続印刷時の安定性に大きな影響を与える。このよう
なブランケットの特性としては、インキに対するぬれ
性、ゴム硬度、および表面粗度等が挙げられる。
理し、そのインキを被印刷物に転移するという役割を担
っており、ブランケットの特性は印刷画素形状の再現性
や連続印刷時の安定性に大きな影響を与える。このよう
なブランケットの特性としては、インキに対するぬれ
性、ゴム硬度、および表面粗度等が挙げられる。
【０００３】このなかでも、インキに対するぬれ性は、
版からブランケットへのインキ転移率およびブランケッ
トがら被印刷物へのインキ転移率の大枠を決定し、この
インキ転移率は連続印刷適性を略支配するため、特に重
要である。
版からブランケットへのインキ転移率およびブランケッ
トがら被印刷物へのインキ転移率の大枠を決定し、この
インキ転移率は連続印刷適性を略支配するため、特に重
要である。
【０００４】また、インキに対するぬれ性は、印刷画素
形状にも大きな影響を及ぼす。すなわち、極端にインキ
ぬれ性が悪いブランケットにおいては、版から転移した
インキがブランケット上ではじかれ、このため線幅２０
μｍ程度の細線を印刷する場合、線が切れ切れになって
しまう。また、逆に極端にインキぬれ性が良いブランケ
ットにおいては、版からブランケットにインキがベタ着
きしてしまい、線幅２０μｍ程度の細線の再現が困難と
なってしまう。
形状にも大きな影響を及ぼす。すなわち、極端にインキ
ぬれ性が悪いブランケットにおいては、版から転移した
インキがブランケット上ではじかれ、このため線幅２０
μｍ程度の細線を印刷する場合、線が切れ切れになって
しまう。また、逆に極端にインキぬれ性が良いブランケ
ットにおいては、版からブランケットにインキがベタ着
きしてしまい、線幅２０μｍ程度の細線の再現が困難と
なってしまう。
【０００５】しかし、インキに対するブランケット、特
にその表面ゴム層のぬれ性を数値的に測定し、それを基
にブランケットを設計するということは、従来行われて
いなかった。
にその表面ゴム層のぬれ性を数値的に測定し、それを基
にブランケットを設計するということは、従来行われて
いなかった。
【０００６】すなわち、従来のブランケット設計は、使
用インキに対する表面ゴム層の膨潤性や感覚的なインキ
転移性を基に行われていた。したがって、液晶カラーフ
ィルターのブラックマトリックス層のような線幅の細い
（２０μｍ程度）パターンを印刷する超精密印刷には、
従来のブランケットは不適切なものであった。
用インキに対する表面ゴム層の膨潤性や感覚的なインキ
転移性を基に行われていた。したがって、液晶カラーフ
ィルターのブラックマトリックス層のような線幅の細い
（２０μｍ程度）パターンを印刷する超精密印刷には、
従来のブランケットは不適切なものであった。
【０００７】例えば、エチレンプロピレンゴム（ＥＰＤ
Ｍ）、ニトリルブタジエンゴム（ＮＢＲ）等を用いて液
晶カラーフィルターの着色層（線幅約１００μｍ）を平
版オフセットにより印刷する場合、最小解像度は３０〜
４０μｍと悪く、また、ＥＰＤＭおよびＮＢＲはインキ
ぬれ性が高いためブランケットから被印刷物であるガラ
ス板へのインキ転移率が低く（５０％以下）、ブランケ
ットでのインキのパイリングを生じる。このため、連続
印刷を行った場合、線幅や印刷膜厚の増大、分光透過率
の低下傾向がみられ、使用に供し得ないものであった。
Ｍ）、ニトリルブタジエンゴム（ＮＢＲ）等を用いて液
晶カラーフィルターの着色層（線幅約１００μｍ）を平
版オフセットにより印刷する場合、最小解像度は３０〜
４０μｍと悪く、また、ＥＰＤＭおよびＮＢＲはインキ
ぬれ性が高いためブランケットから被印刷物であるガラ
ス板へのインキ転移率が低く（５０％以下）、ブランケ
ットでのインキのパイリングを生じる。このため、連続
印刷を行った場合、線幅や印刷膜厚の増大、分光透過率
の低下傾向がみられ、使用に供し得ないものであった。
【０００８】また、シリコーンのブランケットを使用し
て液晶カラーフィルター用の着色層（線幅約１００〜３
００μｍ）を凹版オフセットにより印刷する例が報告さ
れている（特開昭６２−８５２０２号）。シリコーンの
ブランケットは、インキに対するぬれ性が低いため、ブ
ランケットからガラス板へのインキ転移率が高く、連続
印刷における安定性が増すことになる。しかし、同時
に、インキに対するぬれ性が低いことに起因して、ブラ
ンケット上でインキがはじかれる傾向にあり、ブラック
マトリックス層のような線幅の細い（２０μｍ程度）パ
ターンを鮮明に再現することは困難である。
て液晶カラーフィルター用の着色層（線幅約１００〜３
００μｍ）を凹版オフセットにより印刷する例が報告さ
れている（特開昭６２−８５２０２号）。シリコーンの
ブランケットは、インキに対するぬれ性が低いため、ブ
ランケットからガラス板へのインキ転移率が高く、連続
印刷における安定性が増すことになる。しかし、同時
に、インキに対するぬれ性が低いことに起因して、ブラ
ンケット上でインキがはじかれる傾向にあり、ブラック
マトリックス層のような線幅の細い（２０μｍ程度）パ
ターンを鮮明に再現することは困難である。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
のブランケット設計段階においては、ブランケットの表
面ゴム層のインキに対するぬれ性を数値化して正確に制
御することはなされておらず、このため、ブランケット
から被印刷物へのインキ転移率が低くブランケット上で
インキのパイリングが生じて連続印刷ができなかった
り、逆にインキ転移率が高いためにブランケット上でイ
ンキがはじかれて細線が鮮明に再現できないという問題
があった。そして、このようなブランケットを用いた印
刷法は、近年のカラーフィルターに要求される製造コス
トの低減に対応し得るものとして重要視されており、線
幅１００μｍ程度の着色層と線幅２０μｍ程度のブラッ
クマトリックス層とを鮮明に再現できることが要求され
ている。
のブランケット設計段階においては、ブランケットの表
面ゴム層のインキに対するぬれ性を数値化して正確に制
御することはなされておらず、このため、ブランケット
から被印刷物へのインキ転移率が低くブランケット上で
インキのパイリングが生じて連続印刷ができなかった
り、逆にインキ転移率が高いためにブランケット上でイ
ンキがはじかれて細線が鮮明に再現できないという問題
があった。そして、このようなブランケットを用いた印
刷法は、近年のカラーフィルターに要求される製造コス
トの低減に対応し得るものとして重要視されており、線
幅１００μｍ程度の着色層と線幅２０μｍ程度のブラッ
クマトリックス層とを鮮明に再現できることが要求され
ている。
【００１０】本発明は上述のような事情に鑑みてなされ
たものであり、高いインキ転移率と細線再現性を兼ね備
えたブランケットおよびそのブランケットを用いたカラ
ーフィルターの製造方法を提供することを目的とする。
たものであり、高いインキ転移率と細線再現性を兼ね備
えたブランケットおよびそのブランケットを用いたカラ
ーフィルターの製造方法を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は、透明基板上に着色層及びブラック
マトリックス層を形成してカラーフィルターを製造する
ために用いられるブランケットを、ブランケット胴の最
表面を構成する表面ゴム層と使用するインキ樹脂のモノ
マーとの接触角が５０°〜７０°の範囲にあり、前記表
面ゴム層の硬度が５０°以上であり、前記表面ゴム層の
表面粗度の最大高さ（Ｒmax）が１．０μｍ以下であ
り、前記表面ゴム層は基布上に圧縮層を介して形成され
ているような構成とした。
るために、本発明は、透明基板上に着色層及びブラック
マトリックス層を形成してカラーフィルターを製造する
ために用いられるブランケットを、ブランケット胴の最
表面を構成する表面ゴム層と使用するインキ樹脂のモノ
マーとの接触角が５０°〜７０°の範囲にあり、前記表
面ゴム層の硬度が５０°以上であり、前記表面ゴム層の
表面粗度の最大高さ（Ｒmax）が１．０μｍ以下であ
り、前記表面ゴム層は基布上に圧縮層を介して形成され
ているような構成とした。
【００１２】さらに、本発明はカラーフィルターの所望
のパターンが形成された凹版に保持されたインキを、上
記のブランケットを用いたブランケット胴の表面ゴム層
に転移させ、その後、該ブランケット胴上から透明基板
上にインキを転移させるような構成とした。
のパターンが形成された凹版に保持されたインキを、上
記のブランケットを用いたブランケット胴の表面ゴム層
に転移させ、その後、該ブランケット胴上から透明基板
上にインキを転移させるような構成とした。
【００１３】
【作用】ブランケットは、表面ゴム層と使用するインキ
樹脂のモノマーとの接触角が５０°〜７０°とされ、表
面ゴム層の硬度が５０°以上とされ、表面ゴム層の表面
粗度の最大高さ（Ｒmax）が１．０μｍ以下とされ、且
つ、表面ゴム層を基布上に圧縮層を介して形成されるこ
とにより、高いインキ転移率を有するとともにインキの
はじきが極めて少ないブランケットである。そして、こ
のようなブランケットを装着したブランケット胴を用い
た凹版オフセット印刷により線幅１００μｍ程度の着色
層と線幅２０μｍ程度のブラックマトリックス層とが鮮
明に再現できるとともに、安定した連続印刷が可能であ
る。
樹脂のモノマーとの接触角が５０°〜７０°とされ、表
面ゴム層の硬度が５０°以上とされ、表面ゴム層の表面
粗度の最大高さ（Ｒmax）が１．０μｍ以下とされ、且
つ、表面ゴム層を基布上に圧縮層を介して形成されるこ
とにより、高いインキ転移率を有するとともにインキの
はじきが極めて少ないブランケットである。そして、こ
のようなブランケットを装着したブランケット胴を用い
た凹版オフセット印刷により線幅１００μｍ程度の着色
層と線幅２０μｍ程度のブラックマトリックス層とが鮮
明に再現できるとともに、安定した連続印刷が可能であ
る。
【００１４】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図１は本発明のブランケットの一例を示す
断面図である。図１においてブランケット１は基布２
と、この基布２上に圧縮層３を介して形成された表面ゴ
ム層４とを備えている。
て説明する。図１は本発明のブランケットの一例を示す
断面図である。図１においてブランケット１は基布２
と、この基布２上に圧縮層３を介して形成された表面ゴ
ム層４とを備えている。
【００１５】基布２はブランケット１を印刷機のブラン
ケット胴に装着する際に、ブランケット１が張力を受け
て伸びるのを防止する役目をもち、従来のブランケット
に使用されている公知の基布を使用することができる。
ケット胴に装着する際に、ブランケット１が張力を受け
て伸びるのを防止する役目をもち、従来のブランケット
に使用されている公知の基布を使用することができる。
【００１６】圧縮層３はスポンジ状の構造を有してお
り、外部から表面ゴム層４に圧力が加わった時に、この
圧縮層３が圧縮され応力を吸収して表面ゴム層４の変形
（バルジ現象）の発生を防止し、印刷パターンの寸法精
度の低下を防ぐ役目をもっている。
り、外部から表面ゴム層４に圧力が加わった時に、この
圧縮層３が圧縮され応力を吸収して表面ゴム層４の変形
（バルジ現象）の発生を防止し、印刷パターンの寸法精
度の低下を防ぐ役目をもっている。
【００１７】表面ゴム層４は、凹版に保持されているイ
ンキを受理し、その後、受理したインキを被印刷物に転
移する機能を有している。そして、本発明のブランケッ
ト１は、この表面ゴム層４の界面化学的性質（インキに
対するぬれ性）と物理的性質（硬度、表面粗度）を適性
化したことを特徴としている。
ンキを受理し、その後、受理したインキを被印刷物に転
移する機能を有している。そして、本発明のブランケッ
ト１は、この表面ゴム層４の界面化学的性質（インキに
対するぬれ性）と物理的性質（硬度、表面粗度）を適性
化したことを特徴としている。
【００１８】まず、表面ゴム層４のインキに対するぬれ
性は、使用するインキ樹脂のモノマーと表面ゴム層４と
の接触角の許容範囲を５０°〜７０°と定めることによ
り数値化した。例えば、エステル変性アクリレートモノ
マー、エポキシ変性アクリレートモノマー等のインキ樹
脂のモノマーに対して、このモノマーとの接触角が５０
°〜７０°の範囲内に入るようなゴム材料を選定して表
面ゴム層４を形成するものである。接触角が５０°未満
では、表面ゴム層４のインキに対するぬれ性が高すぎて
ブランケットから被印刷物へのインキ転移率が低くなり
パイリングの原因となる。また、接触角が７０°を越え
ると、版からブランケットに受理されたインキがブラン
ケット上ではじかれ細線再現性が低下してしまい好まし
くない。
性は、使用するインキ樹脂のモノマーと表面ゴム層４と
の接触角の許容範囲を５０°〜７０°と定めることによ
り数値化した。例えば、エステル変性アクリレートモノ
マー、エポキシ変性アクリレートモノマー等のインキ樹
脂のモノマーに対して、このモノマーとの接触角が５０
°〜７０°の範囲内に入るようなゴム材料を選定して表
面ゴム層４を形成するものである。接触角が５０°未満
では、表面ゴム層４のインキに対するぬれ性が高すぎて
ブランケットから被印刷物へのインキ転移率が低くなり
パイリングの原因となる。また、接触角が７０°を越え
ると、版からブランケットに受理されたインキがブラン
ケット上ではじかれ細線再現性が低下してしまい好まし
くない。
【００１９】ここで、インキ樹脂のモノマーと表面ゴム
層との接触角の測定は、以下のようにして行なわれる。
測定対象のゴムを適当なサイズに切断し、接触角計（協
和界面化学（株）製）に装着する。そして、インキモノ
マーをインキディスペンサー ＡＤ３００ＶＨにて正確
に以下の条件で滴下した後、接触角を測定する。
層との接触角の測定は、以下のようにして行なわれる。
測定対象のゴムを適当なサイズに切断し、接触角計（協
和界面化学（株）製）に装着する。そして、インキモノ
マーをインキディスペンサー ＡＤ３００ＶＨにて正確
に以下の条件で滴下した後、接触角を測定する。
【００２０】 温度：２３℃ 圧力：４kg／cm2 排出時間：１．７秒 ディスペンサーゲージ：２６Ｇ 一般にインキ樹脂のモノマーとの接触角が５０°〜７０
°の範囲にあるゴム材料としては、シリコーンゴム、フ
ッ素ゴム、シリコーンゴムと他のゴム（例えばＮＢＲ、
ＥＰＤＭ、スチレンブタジエンゴム（ＳＢＲ）のような
接触角の小さいゴム）とのブレンド系、ＮＢＲ、ＥＰＤ
Ｍ、ＳＢＲにジシロキサン等のインキ反発性物質を練り
込んだゴム等が挙げられる。
°の範囲にあるゴム材料としては、シリコーンゴム、フ
ッ素ゴム、シリコーンゴムと他のゴム（例えばＮＢＲ、
ＥＰＤＭ、スチレンブタジエンゴム（ＳＢＲ）のような
接触角の小さいゴム）とのブレンド系、ＮＢＲ、ＥＰＤ
Ｍ、ＳＢＲにジシロキサン等のインキ反発性物質を練り
込んだゴム等が挙げられる。
【００２１】次に、上述のようにしてインキに対するぬ
れ性から選択されたゴム材料の硬度を適正化する。すな
わち、表面ゴム層４の硬度がＪＩＳＡ硬度で５０°以
上、好ましくは５０°〜９０°の範囲となるようにす
る。表面ゴム層４の硬度が５０°未満であると、外部応
力による表面ゴム層４のバルジ現象が生じて印刷パター
ンの寸法精度が低下してしまい好ましくない。
れ性から選択されたゴム材料の硬度を適正化する。すな
わち、表面ゴム層４の硬度がＪＩＳＡ硬度で５０°以
上、好ましくは５０°〜９０°の範囲となるようにす
る。表面ゴム層４の硬度が５０°未満であると、外部応
力による表面ゴム層４のバルジ現象が生じて印刷パター
ンの寸法精度が低下してしまい好ましくない。
【００２２】ここで、ＪＩＳＡ硬度は、１２ｍｍ以上の
厚みを持つサンプルを作成し、ＪＩＳＡ硬度計にて測定
される。このようなゴム材料の硬度は、生ゴム中の架橋
基密度、充填剤の種類、含有量、粒径等により調整する
ことができる。使用する充填剤としては煙霧質シリカ、
粉砕シリカ、沈殿シリカ、炭酸カルシウム、ケイソウ土
粉、石英粉等を挙げることができる。
厚みを持つサンプルを作成し、ＪＩＳＡ硬度計にて測定
される。このようなゴム材料の硬度は、生ゴム中の架橋
基密度、充填剤の種類、含有量、粒径等により調整する
ことができる。使用する充填剤としては煙霧質シリカ、
粉砕シリカ、沈殿シリカ、炭酸カルシウム、ケイソウ土
粉、石英粉等を挙げることができる。
【００２３】また、表面ゴム層４の表面粗度は、最大高
さ（Ｒmax ）が１．０μｍ以下であることが好ましい。
この表面粗度のＲmax は以下のようにして測定される。
さ（Ｒmax ）が１．０μｍ以下であることが好ましい。
この表面粗度のＲmax は以下のようにして測定される。
【００２４】触針式表面粗さ測定装着デックタック１６
０００（Veeco 社製）にて測定する。この時の針圧は、
１０ｍｇｆとする。その後、測定データーを解析してＲ
maxを求める。
０００（Veeco 社製）にて測定する。この時の針圧は、
１０ｍｇｆとする。その後、測定データーを解析してＲ
maxを求める。
【００２５】表面粗度のＲmax が上記の範囲外にある
と、細線の解像度が低下してしまう。しかしながら、通
常のブランケット作成工程に従って表面ゴムを加硫した
後、この表面ゴムを研磨して表面ゴム層を形成した場
合、研磨材のメッシュをいかに細かくしても表面粗度の
Ｒmax を３μｍ程度にするのが限度である。そこで、本
発明のブランケット１の表面ゴム層４は、基布２および
圧縮層３上に表面ゴムを塗布した後、表面が平滑なフィ
ルムを表面ゴム塗布面に圧着させた状態で加硫を行い、
その後、フィルムを剥離して作成されるものである。表
面が平滑なフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）フィルム、ポリエチレン（ＰＥ）フィル
ム等が好ましい。
と、細線の解像度が低下してしまう。しかしながら、通
常のブランケット作成工程に従って表面ゴムを加硫した
後、この表面ゴムを研磨して表面ゴム層を形成した場
合、研磨材のメッシュをいかに細かくしても表面粗度の
Ｒmax を３μｍ程度にするのが限度である。そこで、本
発明のブランケット１の表面ゴム層４は、基布２および
圧縮層３上に表面ゴムを塗布した後、表面が平滑なフィ
ルムを表面ゴム塗布面に圧着させた状態で加硫を行い、
その後、フィルムを剥離して作成されるものである。表
面が平滑なフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）フィルム、ポリエチレン（ＰＥ）フィル
ム等が好ましい。
【００２６】尚、上述の例においては、ブランケット１
はいわゆるコンプレッシブル型のブランケットである
が、本発明はこれに限定されるものではなく、圧縮層を
備えていないソリッド型のブランケットであってもよ
い。
はいわゆるコンプレッシブル型のブランケットである
が、本発明はこれに限定されるものではなく、圧縮層を
備えていないソリッド型のブランケットであってもよ
い。
【００２７】そして、上述のような本発明のブランケッ
ト１を装着したブランケット胴を用いて凹版オフセット
印刷により解像度の高いカラーフィルターを連続して印
刷することができる。図２は本発明のブランケットを用
いたカラーフィルター製造における微細パターン形成を
説明する図である。図２において、まず、凹版１０に所
定のパターンで形成された凹部１１にインキ１２を充填
する（図２（ａ））。次に、本発明のブランケット１を
装着したブランケット胴１５を凹版１１上に回転移動さ
せながら圧着させて凹部１１内のインキ１２をブランケ
ット胴１５上に転写する（図２（ｂ））。そして、この
ブランケット胴１５を被印刷物である透明ガラス基板２
０に圧着することにより、ブランケット胴１５上のイン
キ１２を透明ガラス基板２０に転移させて微細パターン
を形成する（図２（ｃ））。
ト１を装着したブランケット胴を用いて凹版オフセット
印刷により解像度の高いカラーフィルターを連続して印
刷することができる。図２は本発明のブランケットを用
いたカラーフィルター製造における微細パターン形成を
説明する図である。図２において、まず、凹版１０に所
定のパターンで形成された凹部１１にインキ１２を充填
する（図２（ａ））。次に、本発明のブランケット１を
装着したブランケット胴１５を凹版１１上に回転移動さ
せながら圧着させて凹部１１内のインキ１２をブランケ
ット胴１５上に転写する（図２（ｂ））。そして、この
ブランケット胴１５を被印刷物である透明ガラス基板２
０に圧着することにより、ブランケット胴１５上のイン
キ１２を透明ガラス基板２０に転移させて微細パターン
を形成する（図２（ｃ））。
【００２８】このような凹版オフセット印刷における凹
版の版深は、好ましくは８μｍ以下であり、より好まし
くは３〜８μｍの範囲である。次に、実験例を示して本
発明を更に詳細に説明する。 （実験例１）基布と圧縮層とからなる基材上に表面ゴム
を塗布した後、ＰＥＴフィルムを表面ゴム塗布面に圧着
させた状態で加硫を行い、その後、フィルムを剥離して
表面ゴム層（厚さ約１００μｍ）を形成してブランケッ
ト（試料１〜６、１３〜１６、比較試料７〜１２）を作
成した。この場合、各試料についての表面ゴム層のイン
キ樹脂のモノマーとの接触角、硬度、および表面粗度
（Ｒmax）は下記の表１に示されるとおりであった。
版の版深は、好ましくは８μｍ以下であり、より好まし
くは３〜８μｍの範囲である。次に、実験例を示して本
発明を更に詳細に説明する。 （実験例１）基布と圧縮層とからなる基材上に表面ゴム
を塗布した後、ＰＥＴフィルムを表面ゴム塗布面に圧着
させた状態で加硫を行い、その後、フィルムを剥離して
表面ゴム層（厚さ約１００μｍ）を形成してブランケッ
ト（試料１〜６、１３〜１６、比較試料７〜１２）を作
成した。この場合、各試料についての表面ゴム層のイン
キ樹脂のモノマーとの接触角、硬度、および表面粗度
（Ｒmax）は下記の表１に示されるとおりであった。
【００２９】
【表１】 次に、上記の各ブランケットを用いてブランケット胴を
作成した。そして、このようなブランケット胴とライン
アンドスペース（Ｌ＆Ｓ）の異なる凹版（版深は表１に
示されている）を使用してガラス基板上に凹版オフセッ
ト印刷を行い、Ｌ＆Ｓでの解像度（μｍ）を測定した。
また、ブランケット胴からガラス基板へのインキ転移率
を測定した。この測定結果は表１に示した。尚、使用し
たインキの樹脂モノマーはエステルアクリレートモノマ
ーであり、インキ組成は下記に示したものであった。
（インキの組成） ・エステルアクリレートモノマー ６５ｗｔ％ ・ジアリルフタレート ２０ｗｔ％ ・シアニンブルー １５ｗｔ％ （インキ転移率の測定方法）版からブランケットへのイ
ンキ転移膜厚をブランケット上で走査型レーザー顕微鏡
（ｌＬＭｌｌ，ｌＺＣｌ（レーザーテック（株））にて
測定する。これを版からブランケットへの転移膜厚＝
ａ（μｍ）とする。
作成した。そして、このようなブランケット胴とライン
アンドスペース（Ｌ＆Ｓ）の異なる凹版（版深は表１に
示されている）を使用してガラス基板上に凹版オフセッ
ト印刷を行い、Ｌ＆Ｓでの解像度（μｍ）を測定した。
また、ブランケット胴からガラス基板へのインキ転移率
を測定した。この測定結果は表１に示した。尚、使用し
たインキの樹脂モノマーはエステルアクリレートモノマ
ーであり、インキ組成は下記に示したものであった。
（インキの組成） ・エステルアクリレートモノマー ６５ｗｔ％ ・ジアリルフタレート ２０ｗｔ％ ・シアニンブルー １５ｗｔ％ （インキ転移率の測定方法）版からブランケットへのイ
ンキ転移膜厚をブランケット上で走査型レーザー顕微鏡
（ｌＬＭｌｌ，ｌＺＣｌ（レーザーテック（株））にて
測定する。これを版からブランケットへの転移膜厚＝
ａ（μｍ）とする。
【００３０】次に、同一条件でガラスへの印刷を行い、
ガラス上のインキ膜厚を走査型レーザー顕微鏡にて測定
する。これをブランケットからガラスへ転移したイン
キ膜厚＝ｂ（μｍ）とする。
ガラス上のインキ膜厚を走査型レーザー顕微鏡にて測定
する。これをブランケットからガラスへ転移したイン
キ膜厚＝ｂ（μｍ）とする。
【００３１】，により、インキ転移率＝ｂ／ａ
（％）を求める。
（％）を求める。
【００３２】表１に示されるように、本発明のブランケ
ットである試料１〜６を用いた場合、ブランケット胴か
らガラス基板へのインキ転移率が高く、かつＬ＆Ｓでの
解像度は１５μｍが確保され良好な結果が得られた。こ
れに対して、比較試料７〜１２を用いた場合では、イン
キ転移率とＬ＆Ｓでの解像度が共に良好であるものがな
かった。また、試料１３〜１６から明らかなように、凹
版の版深が８μｍを越えると、インキ転移率とＬ＆Ｓで
の解像度が悪くなってしまった。（実験例２）実験例１
において作成した２種のブランケット（試料２、比較試
料７）を用いてブランケット胴を作成した。そして、こ
のブランケット胴とＬ＆Ｓが１２０μｍの凹版（版深は
６μｍ）を使用してガラス基板上への凹版オフセット印
刷を連続して行った。その結果、図３に示されるよう
に、本発明のブランケットである試料２を用いた場合、
ブランケット胴からガラス基板へのインキ転移率（９１
％）が高いため、安定した線幅で連続印刷が可能であっ
た。しかし、比較試料７を用いた場合では、インキ転移
率（５７％）が低いため、線幅が急激に増加してしま
い、印刷を続けることができなかった。
ットである試料１〜６を用いた場合、ブランケット胴か
らガラス基板へのインキ転移率が高く、かつＬ＆Ｓでの
解像度は１５μｍが確保され良好な結果が得られた。こ
れに対して、比較試料７〜１２を用いた場合では、イン
キ転移率とＬ＆Ｓでの解像度が共に良好であるものがな
かった。また、試料１３〜１６から明らかなように、凹
版の版深が８μｍを越えると、インキ転移率とＬ＆Ｓで
の解像度が悪くなってしまった。（実験例２）実験例１
において作成した２種のブランケット（試料２、比較試
料７）を用いてブランケット胴を作成した。そして、こ
のブランケット胴とＬ＆Ｓが１２０μｍの凹版（版深は
６μｍ）を使用してガラス基板上への凹版オフセット印
刷を連続して行った。その結果、図３に示されるよう
に、本発明のブランケットである試料２を用いた場合、
ブランケット胴からガラス基板へのインキ転移率（９１
％）が高いため、安定した線幅で連続印刷が可能であっ
た。しかし、比較試料７を用いた場合では、インキ転移
率（５７％）が低いため、線幅が急激に増加してしま
い、印刷を続けることができなかった。
【００３３】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば表
面ゴム層のインキに対するぬれ性、硬度、表面粗度を制
御することにより高いインキ転移率と高解像力を兼ね備
えたブランケットが可能となり、また、このブランケッ
トを使用して印刷法により細線精度の高いカラーフィル
ターの製造が可能となり、さらに連続印刷時の線幅、イ
ンキ膜厚が安定しているという効果が奏される。
面ゴム層のインキに対するぬれ性、硬度、表面粗度を制
御することにより高いインキ転移率と高解像力を兼ね備
えたブランケットが可能となり、また、このブランケッ
トを使用して印刷法により細線精度の高いカラーフィル
ターの製造が可能となり、さらに連続印刷時の線幅、イ
ンキ膜厚が安定しているという効果が奏される。
【図１】本発明のブランケットの一例を示す断面図であ
る。
る。
【図２】本発明のブランケットを用いたカラーフィルタ
ー製造における微細パターン形成を説明する図である。
ー製造における微細パターン形成を説明する図である。
【図３】凹版オフセット印刷を連続して行った場合の線
幅の変化を示す図である。
幅の変化を示す図である。
１…ブランケット ２…基布 ３…圧縮層 ４…表面ゴム層 １０…凹版 １５…ブランケット胴 ２０…ガラス基板
Claims (6)
- 【請求項１】 透明基板上に着色層及びブラックマトリ
ックス層を形成してカラーフィルターを製造するために
用いられるブランケットであって、ブランケット胴の最
表面を構成する表面ゴム層と使用するインキ樹脂のモノ
マーとの接触角が５０°〜７０°の範囲にあり、前記表
面ゴム層の硬度が５０°以上であり、前記表面ゴム層の
表面粗度の最大高さ（Ｒmax）が１．０μｍ以下であ
り、前記表面ゴム層は基布上に圧縮層を介して形成され
ていることを特徴とするブランケット。 - 【請求項２】 前記表面ゴム層は、基布上に表面ゴムを
塗布した後、表面が平滑なフィルムを表面ゴム塗布面に
圧着させた状態で加硫を行い、その後、前記フィルムを
剥離して作成されたことを特徴とする請求項１記載のブ
ランケット。 - 【請求項３】 前記ブランケット胴から前記透明基板へ
のインキ転移率が８０％以上で、且つ、２０μｍまたは
２０μｍよりも精細な解像度で着色層及びブラックマト
リックス層を形成し得ることを特徴とする、請求項１ま
たは２に記載のブランケット。 - 【請求項４】 カラーフィルターの所望のパターンが形
成された凹版に保持されたインキを、請求項１乃至３の
いずれかに記載のブランケットのブランケット胴の表面
ゴム層に転移させ、その後、該ブランケット胴上から透
明基板上にインキを転移させることを特徴とするカラー
フィルターの製造方法。 - 【請求項５】 前記凹版の版深が８μｍ以下であること
を特徴とする請求項４記載のカラーフィルターの製造方
法。 - 【請求項６】 前記ブランケット胴から前記透明基板へ
のインキ転移率が８０％以上で且つ２０μｍまたは２０
μｍよりも精細な解像度でインキを転移させて着色層及
びブラックマトリックス層を形成することを特徴とする
請求項４または５に記載のカラーフィルターの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17550791A JP3054239B2 (ja) | 1991-07-16 | 1991-07-16 | ブランケット、およびそのブランケットを用いたカラーフィルターの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17550791A JP3054239B2 (ja) | 1991-07-16 | 1991-07-16 | ブランケット、およびそのブランケットを用いたカラーフィルターの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0519116A JPH0519116A (ja) | 1993-01-29 |
| JP3054239B2 true JP3054239B2 (ja) | 2000-06-19 |
Family
ID=15997258
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17550791A Expired - Fee Related JP3054239B2 (ja) | 1991-07-16 | 1991-07-16 | ブランケット、およびそのブランケットを用いたカラーフィルターの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3054239B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016043230A (ja) * | 2014-08-25 | 2016-04-04 | 井上 博喜 | 使い捨て容器型のまな板 |
-
1991
- 1991-07-16 JP JP17550791A patent/JP3054239B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016043230A (ja) * | 2014-08-25 | 2016-04-04 | 井上 博喜 | 使い捨て容器型のまな板 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0519116A (ja) | 1993-01-29 |
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