JP3048496B2 - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JP3048496B2 JP3048496B2 JP6050140A JP5014094A JP3048496B2 JP 3048496 B2 JP3048496 B2 JP 3048496B2 JP 6050140 A JP6050140 A JP 6050140A JP 5014094 A JP5014094 A JP 5014094A JP 3048496 B2 JP3048496 B2 JP 3048496B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lead member
- lead
- semiconductor device
- pad
- connection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 103
- 230000006870 function Effects 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 13
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000000881 depressing effect Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
- H01L21/4814—Conductive parts
- H01L21/4821—Flat leads, e.g. lead frames with or without insulating supports
- H01L21/4842—Mechanical treatment, e.g. punching, cutting, deforming, cold welding
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49541—Geometry of the lead-frame
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49541—Geometry of the lead-frame
- H01L23/49548—Cross section geometry
- H01L23/49551—Cross section geometry characterised by bent parts
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0555—Shape
- H01L2224/05552—Shape in top view
- H01L2224/05554—Shape in top view being square
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48253—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a potential ring of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/4912—Layout
- H01L2224/49171—Fan-out arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/494—Connecting portions
- H01L2224/4943—Connecting portions the connecting portions being staggered
- H01L2224/49431—Connecting portions the connecting portions being staggered on the semiconductor or solid-state body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01005—Boron [B]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01006—Carbon [C]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01033—Arsenic [As]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01082—Lead [Pb]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/14—Integrated circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/19—Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/1901—Structure
- H01L2924/1904—Component type
- H01L2924/19043—Component type being a resistor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/3011—Impedance
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Geometry (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Dram (AREA)
Description
特にインナ−・リ−ドの形状が改善された半導体装置に
関する。
処理速度の高速化を図るために、メモリ回路を、複数の
ブロックに分割したものがある。図23は、メモリ回路を
分割したタイプのダイナミック型RAMのチップの構成
図で、図24は、その等価回路図である。
は、複数のメモリ回路ブロックMB1〜MB4が設けら
れている。メモリ回路ブロックMB1〜MB4を動作さ
せるためには、電源が必要である。従来では、チップ1
の縁(boundary)に、高電位電源パッド2、低電位電源
パッド3をそれぞれ、一つずつ設け、これらのパッド
2,3にそれぞれ、高電位電源線4、低電位電源線5を
接続している。これら電源線4,5をメモリ回路ブロッ
クMB1〜MB4それぞれに接続し、動作のために必要
な高電位VCC、および低電位VSSを得ている。
すと、FIG.23に示すように、電源線4と電源線5と
の間に、スイッチと負荷とが直列接続されて成る抵抗成
分6-1〜6-4をそれぞれ、並列接続した形となる。この
ような回路では、各スイッチのオン、オフ、即ち各メモ
リ回路ブロックMB1〜MB4自体のオン、オフの状態
によって、並列回路における合成抵抗値が変化するた
め、電源電圧の変動をきたすことになる。
4の高集積化が進むことは確実で、これに伴ってメモリ
回路を構成する素子の感度もより高まる、と言える。こ
のため、たとえ微少な電源電圧の変動であっても、メモ
リ回路ブロックMB1〜MB4の誤動作の原因となり得
る。
するために、本願発明者らは、電源を、各メモリ回路ブ
ロック毎に分割することを試みた。この試みでは、その
等価回路が、電源線と電源線との間に、一つのメモリ回
路ブロックが直列接続されただけとなるので、上記並列
接続による合成抵抗値の変化、という問題が解消され、
電源電圧の変動を抑制することができた。
それぞれ設けるために、パッド数が増える、という困難
に直面した。パッド数が増えれば、必然的にリ−ド数
(ピン数)も増える。リ−ド数(ピン数)が増えれば、
半導体チップを収容するためのパッケ−ジのサイズを大
きくしなければならない。パッケ−ジのサイズの増大
は、半導体装置の大形化を意味するので、この半導体装
置を使用して生産した二次的な製品、例えばコンピュ−
タやワ−ドプロセッサ等の小形化を妨げる。また、ピン
数の無用な増加は、使い易さ、という面にも影響を与え
る。
で、その目的は、ピン数の無用な増加を防止でき、パッ
ケ−ジ・サイズの小形化を達成できる半導体装置を提供
することにある。
に、この発明に係る半導体装置では、複数の側面を有
し、外部電極として機能するパッドを含む半導体チップ
と、前記複数の側面のうちの一の側面に実質的に並行し
て延びる部分を有するとともに、少なくとも一つの凸
部、および少なくとも一つの凹部を有する第1のリード
部材と、前記第1のリード部材よりも前記外部電極から
離れるとともに前記第1のリード部材に隣接して配置さ
れた、前記第1のリード部材が有する少なくとも一つの
凹部に突出する少なくとも一つの凸部、および前記第1
のリード部材が有する少なくとも一つの凸部が突出され
る少なくとも一つの凹部を有する第2のリード部材と、
前記第1のリード部材が有する少なくとも一つの凸部に
接続された、この第1のリード部材と前記外部電極とし
て機能するパッドとを電気的に接続するための第1の接
続部材と、前記第2のリード部材が有する少なくとも一
つの凸部に接続された、この第2のリード部材と前記外
部電極として機能する他のパッドとを電気的に接続する
ための第2の接続部材とを具備することを特徴としてい
る。
有する少なくとも一つの凹部に突出する少なくとも一つ
の凸部、および第1のリード部材が有する少なくとも一
つの凸部が突出される少なくとも一つの凹部を有する第
2のリード部材を具備するので、第1のリード部材と第
2のリード部材とを、より狭い範囲中に隣接させること
ができる。これによりパッケージの小型化をより促進で
きる。
り説明する。この説明において全図にわたり共通の部分
には共通の参照符号を付すことで重複する説明を避ける
ことにする。
半導体装置の平面図、図2は、図1に示すダイナミック
型RAMチップの概略的な構成を示すブロック図、図3
は、図1に示す半導体装置をパッケ−ジングした後の斜
視図である。尚、図1に示す平面図には、チップがリ−
ド・フレ−ム上に載置された状態が示されている。
・フレ−ム10がある。このリ−ド・フレ−ム10は、
チップ11を載置するためのベット12、ベット12を
フレ−ムに繋いでおくための吊りピン14、後にピンと
成るリ−ド15、樹脂封止時にリ−ド15どうしの隙間
から樹脂が流出することを防ぐためのダム・バ−16等
から主に構成されている。参照符号17は、後にチップ
を封止するために形成されるモ−ルド樹脂を示してい
る。モ−ルド樹脂17によりチップ11を封止した後、
ダム・バ−16の切断、アウタ・リ−ドの切断および成
形を行うと、図3に示すように、SIP(Single In-lin
e Package)型の半導体装置となり、市場へ供給される。
脂17の中に取り込まれる部分は、インナ・リ−ドと呼
ばれ、また、モ−ルド樹脂17の外に露出される部分は
アウタ・リ−ドと呼ばれる。モ−ルド樹脂17外に露出
されたアウタ・リ−ドは、後に外部ピンとして機能する
(図3参照)。
・ワイヤ18…を接続するためのボンディング領域19
…が設けられており、これらのボンディング領域19…
におけるインナ・リ−ドの幅は、確実なワイヤ・ボンデ
ィングが行われるように、他の部分よりも広くされてい
る。
15A、15B、15Cおよび15Dは、他のリ−ドと
異なり、チップ11の側面と平行な方向に沿って延長形
成されている。最も端側のリ−ド15Aおよびリ−ド1
5Dには高電位VCCが印加される。さらにリ−ド15
Aに隣り合うリ−ド15Bには低電位VSS(例えば接
地)が印加され、リ−ド15Dに隣り合うリ−ド15C
には低電位VSS(例えば接地)が印加される。この結
果、図3に示すように、図1に示すチップ11を樹脂封
止した後においては、最も端側のピンが高電位VCCが
供給されるピンとなり、このピンに隣り合ったピンが低
電位VSSが供給されるピンとなる。
および凸部が連続して形成されている。リ−ド15A〜
15Dのそれぞれが有する凸部は、リ−ド15A〜15
Dの他の部分に比較して幅が広くなっており、ここにボ
ンディング領域19…が設けられる。このような凸部
は、リ−ド15A〜15Dそれぞれにおいて、複数個ず
つ設けられている。リ−ド15Aに隣り合ったリ−ド1
5Bは、互いの凹部および凸部が噛み合されるようにし
て配置されている。同様に、リ−ド15Dに隣り合った
リ−ド15Cにおいても、互いの凹部および凸部が噛み
合されるようにして配置されている。
設けられたボンディング領域19…の各々には、ボンデ
ィング・ワイヤ18…の一端が接続され、その他端はチ
ップ11の縁に沿って設けられたパッド2-1〜2-9、3
-1〜3-9および20…(図2参照)に接続される。
数のダイナミック型メモリ回路ブロックMB1〜MB9
が設けられている。メモリ回路ブロックMB1〜MB9
をそれぞれ動作させるための電源は、各メモリ回路ブロ
ック毎に分割して設けられている。
メモリ回路ブロック毎に設けるために、チップ11の縁
に沿って、各メモリ回路ブロックMB1〜MB9に各対
応する高電位(VCC)電源パッド2-1〜2-9、低電位
(VSS)電源パッド3-1〜3-9が設けられる。
高電位電源線4-1〜4-9を介して、各対応するメモリ回
路ブロックMB1〜MB9に接続される。また、低電位
電源パッド3-1〜3-9はそれぞれ、低電位電源線5-1〜
5-9を介して、各対応するメモリ回路ブロックMB1〜
MB9に接続される。
ボンディング・ワイヤ18…を介してリ−ド15Aに電
気的に接続され、高電位電源パッド2-6〜2-9はそれぞ
れ、ボンディング・ワイヤ18…を介してリ−ド15D
に電気的に接続される。また、高電位電源パッド2-5
は、ボンディング・ワイヤ18を介して他のリ−ド15
F(図1参照)に電気的に接続される。
ボンディング・ワイヤ18…を介してリ−ド15Bに電
気的に接続され、低電位電源パッド3-6〜3-9はそれぞ
れ、ボンディング・ワイヤ18…を介してリ−ド15C
に電気的に接続される。また、低電位電源パッド3-5
は、ボンディング・ワイヤ18を介して他のリ−ド15
E(図1参照)に電気的に接続される。
源供給は、ピン数の増加を抑制するために、極力、リ−
ド15A、15B、15Cおよび15Dを用いて行われ
ることが望ましい。しかし、チップ11内における回路
レイアウトが困難となる等の制約がある場合には、第1
の実施例のように、一部のメモリ回路ブロック、即ちメ
モリ回路ブロックMB5への電源供給を、他のリ−ド即
ちリ−ド15E、15Fを用いて行うようにしても良
い。この場合でも、メモリ回路ブロックMB1〜MB4
においてはリ−ド15A,15Bが共有され、メモリ回
路ブロックMB6〜MB9においてはリ−ド15C,1
5Dが共有されることになるので、ピン数の無用な増加
は避けられている。
パッドには、信号入力/出力パッド、および図示せぬメ
モリ周辺回路を動作させるために必要な電源を得るため
の高電位/低電位電源パッドが含まれている。尚、本明
細書では、入力信号、出力信号および周辺回路について
の詳細は省略する。
明する。図4は、この発明の第2の実施例に係わる半導
体装置を概略的に示す平面図である。
では、凹部および凸部を連続して有するリ−ド15A、
15Bが、チップ11の一つの辺に沿って延長形成さ
れ、この一つの辺に相対向する他辺に沿って、さらに凹
部および凸部を連続して有するリ−ド15C、15Dが
延長形成されている。
C、リ−ド15Dを設けず、凹部および凸部を連続して
有するリ−ド15A、15Bを、チップ11の一つの辺
のみに沿って延長形成されるようにしても良い。
も、第1の実施例と同様な効果を得ることができる。次
に、この発明の第3の実施例について説明する。
半導体装置を概略的に示す平面図、図6は図5に示す半
導体装置をパッケ−ジングした後の斜視図である。図1
〜図4を参照して説明した第1、第2の半導体装置はい
ずれも、SIP型の半導体装置であった。
すように、モ−ルド樹脂17の相対向する側面からそれ
ぞれ外部ピンが引き出された、SOP(Small Out-line
Package)型、あるいはDIP(Dual In-line Package)
型としても良い。
るリ−ド15Aと低電位VSSが印加されるリ−ド15
Bとが、互いに反対方向に引き出されている。同様に、
リ−ド15Dとリ−ド15Cとが、互いに反対方向に引
き出されている。
半導体装置を概略的に示す平面図、図8は図7に示す半
導体装置をパッケ−ジングした後の斜視図である。この
発明に係る半導体装置は、SIP型、DIP型の他、Q
FP型のように、4方向にピンが設けられるように変形
することも可能である。
明する。図9は、この発明の第5の実施例に係わる半導
体装置を示す図で、(a)図は主要な部分を拡大して示
した平面図、(b)図は(a)中の9b−9b線に沿う
断面図である。
−ド15Bは、リ−ド15Aとチップ11との間に配置
されている。ボンディング・ワイヤ18A…の一端は高
電位電源パッド2-1〜2-3に接続され、他端はリ−ド1
5Aの凸部に設けられたボンディング領域19…に接続
される。この時、ボンディング・ワイヤ18A…は、リ
−ド15Bの上を飛び越す。また、ボンディング・ワイ
ヤ18B…の一端は低電位電源パッド3-1〜3-3に接続
され、他端はリ−ド15Bの凸部に設けられたボンディ
ング領域19…に接続される。リ−ド15B上には絶縁
層30が形成されている。絶縁層30は、ボンディング
・ワイヤ18A…が飛び越える領域に対応して設けられ
ている。この実施例では、リ−ド15Bのうち、チップ
11と相対向し、かつ凸部を除いた部分に、絶縁層30
が設けられている。
される部材は、チップ11を、ベッド12上に接着させ
るための接着剤の層である。上記装置では、ワイヤ18
Aのボンディング長が、ワイヤ18Bのボンディング長
よりも長くなっている。ワイヤ・ボンディング法では、
ワイヤのボンディング長が長くなるにつれ、ル−プ高さ
HAおよびHBは徐々に低くなっていく。ル−プ高さH
AおよびHBが低くなるにつれ、モ−ルディング時にワ
イヤがモ−ルド樹脂により流され、ワイヤとリ−ドとが
接触する確率が高まってくる。この確率は、特にパッケ
−ジサイズの増加を抑制しつつ、ピン数を増加させるた
めに、リ−ドどうしの間隔が狭くされた装置、あるいは
パッドどうしの間隔が狭くされた装置において高くな
る。この発明に係る装置が、もし上記のような装置であ
った場合、ワイヤ18Aのル−プ高さHAは、ワイヤ1
8Bのル−プ高さHBよりも低いために、ワイヤ18A
がリ−ド15Bに接触する確率が高まる。
うに、リ−ド15Bの上に絶縁層30を設けた装置であ
れば、ワイヤ18Aが、モ−ルド樹脂により流されてリ
−ド15Bに接触したとしても、リ−ド15Bの上に絶
縁層30が形成されているために、ワイヤ18Aとリ−
ド15Bとが短絡することは無い。
層30は、ワイヤボンディング以前に、リ−ド15B上
に絶縁物をコ−ティングしたり、あるいは絶縁性テ−プ
を貼付することによって形成される。従って、パッケ−
ジングした後は、図10に示すように、リ−ド15B上
には、モ−ルド樹脂17以外の絶縁物で成る絶縁層30
が存在することとなる。
明する。図11は、この発明の第6の実施例に係わる半導
体装置を示す図で、(a)図は主要な部分を拡大して示
した平面図、(b)図は11b−11b線に沿う断面図であ
る。
中、最も端側に位置するリ−ド15Aとチップ11との
間に配置されたリ−ド15Bのうち、凸部を除いた部分
が、ボンディングワイヤ18Aおよび18Bから遠ざか
る方向に、押し下げられている。これにより、凸部を除
いたリ−ド15Bの部分が、これら凸部に設けられたボ
ンディング領域19の表面よりも、低くされている。
凸部を除いたリ−ド15Bの部分が、ワイヤ18Aおよ
び18Bから遠ざけられることで、ワイヤ18Aのル−
プ高さHAを、大きくすることができる。このために、
第5の実施例と同様に、ワイヤ18Aとリ−ド15Bと
が接触する確率を低くすることができる。よって、第4
の実施例と同様に、ワイヤ18Aがリ−ド15Bに接触
することにより発生する短絡不良を防止することができ
る。
形状を持つリ−ド15Bは、パッケ−ジの厚みを、極力
薄くするために行われるベッド12のディプレス工程に
おいて、ベッド12と同時にリ−ド15Bを、ディプレ
スすることで形成することができる。
明する。図12(a)および(b)は、この発明の第7の
実施例に係る半導体装置を示す図で、(a)図は主要な
部分を拡大して示した平面図、(b)図は(a)図中の
12b−12b線に沿う断面図である。
7の実施例に係る装置は、基本的に図11(a)および
(b)に示した装置に準ずるものである。相違点は、凸
部を除いたリ−ド15Bの部分の表面の位置がリ−ド1
5Aの表面の位置とベッド12の表面の位置との中間に
あることである。図12(b)には、リ−ド15Aの表面
の位置を表した直線41が図示されている。その直線4
1から凸部を除いたリ−ド15Bの部分の表面の位置ま
での距離はΔt1であり、同様にベッドの表面位置まで
の距離はΔt2である。そして、距離Δt1は距離Δt
2よりも小さい。
5Bとワイヤ18Aおよび18Bとの短絡を防止できる
とともに、リ−ド15Bの極端な塑性変形、あるいは破
断を防止できる、という効果を得ることができる。
−12b線に沿う方向において、フレ−ムに支持されてい
ない。既に説明した図1には、その詳細が示されてい
る。このようなリ−ドフレ−ムを用いてベッド12と同
時にリ−ド15Bをディプレスしたとする。ここで、も
し、ベッド12のディプレス量が大きかったとすると、
プレス時にリ−ド15Bは、12b−12b線に沿った方向
に支えがないために、ベッド12の方向に引張られてし
まう。この引張りによって、リ−ド15Bが極端な塑性
変形を起こしてくびれてしまったり、最悪の場合にはリ
−ド15Bが破断する。
の製造方法について説明する。図13(a)〜(c)はそ
れぞれ、この発明の第7の実施例に係る半導体装置の製
造工程途中における断面図である。
−ムを示している。図13(a)に示すリ−ドフレ−ム
を、図13(b)に示すように、ベッド12および凸部を
除いたリ−ド15Bを押し下げるためのポンチ42を有
する上型43と、凸部を含むリ−ド15A、およびリ−
ド15Bの凸部のみを押し上げるためのポンチ44を有
する下型45とによって、リ−ドフレ−ムをプレスす
る。
の型を代え、ベッド12のみを、さらに押し下げるため
のポンチ46を有する上型47と、凸部を含むリ−ド1
5A、およびリ−ド15Bの凸部のみを押し上げるため
のポンチ48を有する下型49とによって、リ−ドフレ
−ムを再度プレスする。
プレス量の小さい第1の工程と、その後にベッド12の
みをディプレスする、プレス量の大きい第2の工程との
2回の工程に分けることで、リ−ド15Bの極端な塑性
変形、あるいは破断を防止することができる。
明する。図14は、この発明の第8の実施例に係る半導体
装置を示す図で、(a)図は主要な部分を拡大して示し
た平面図、(b)図は(a)図中の14b−14b線に沿う
断面図である。
8の実施例に係る装置は、第5〜第7の実施例に係る装
置と、同様な目的、即ちリ−ド15Bとワイヤ18Aお
よび18Bとの短絡を防止しようとするものである。
部を除いたリ−ド15Bの表面が、ワイヤ18Aおよび
18Bから遠ざかる方向に、エッチングにより掘下げら
れている。
いたリ−ド15Bの部分を、ワイヤ18Aおよび18B
から遠ざけることができるので、第4の実施例などと同
様に、ワイヤ18Aとリ−ド15Bとの短絡を防止でき
る。
の製造方法について説明する。図15(a)は、この発明
の第8の実施例に係る装置の製造工程途中における平面
図、図15(b)は図15(a)中の15b−15b線に沿う断
面図、図16は、この発明の第8の実施例に係る装置の製
造工程途中における断面図である。
に、リ−ドフレ−ムの表面に、凸部を除いたリ−ド15
Bの部分に応じた開孔部51を有するマスキングテ−プ
50を貼る。この後、図16に示すように、エッチング液
53を噴霧する。これにより、エッチング液53が開孔
部51を介してリ−ド15Bの表面に達し、凸部を除い
たリ−ド15Bの表面のみがエッチングされる。このよ
うな製法により、図14(a)および(b)に示したリ
−ドフレ−ムが形成される。
明する。図17は、この発明の第9の実施例に係わる装
置を示す図で、(a)図は主要な部分を拡大して示した
平面図、(b)図は(a)図中17b−17b線に沿う断面
図である。
れも、リ−ド15Aおよび15Bがそれぞれ、連続した
凹部および凸部を有しており、かつリ−ド15Aと15
Bとは、互いの凹部および凸部が噛み合されるようにし
て隣り合って配置されている。
と、図17(a)および図17(b)に示すように、ワイヤ
18A…および18B…とボンディング領域19…との
接続位置を、一本の仮想線32上に設定することができ
る。
上に設定すると、各ワイヤのボンディング長をほぼ均一
化することができる。ボンディング長がほぼ均一化され
ると、各ワイヤにおけるル−プ高さHAとHBとのバラ
ツキが少なくなるので、リ−ド15Aに接続されるワイ
ヤ18Aが、リ−ド15Bに接触する問題を低減するこ
とができる。このため、第4〜第8の実施例と同様、ワ
イヤ18A…と、リ−ド15Bとの短絡を防止すること
ができる。
ワイヤ18Aおよび18Bの接続状態は、第1〜第8の
実施例に係る装置の全てで実現させることが可能であ
る。次に、この発明の第10の実施例に係る半導体装置
について説明する。
る半導体装置を示す図で、(a)図は主要な部分を拡大
して示した平面図、(b)図は(a)図の18b−18b線
に沿う断面図である。
10の実施例に係る装置は、第9の実施例に係る装置の
ように、ワイヤ18Aおよび18Bの長さをそれぞれ均
一にしようとするものである。
Aおよび第2のリ−ド15Bそれぞれが、凹部と凸部と
を連続して有している。このために、第9の実施例(図
17(a)および(b)参照)により説明した方式を積極
的に採用しないと、ワイヤ18Aのボンディング位置と
ワイヤ18Bのボンディング位置とが互いにずれ、ワイ
ヤ18Aの長さとワイヤ18Bの長さとが異なってしま
う。
施例に係る装置とは異なった方式により、ワイヤ18A
の長さとワイヤ18Bの長さを均一にする。図18(a)
および図18(b)に示すように、チップ11に設けられ
ている高電位側パッド群2-1〜2-3を形成する位置と、
低電位側パッド群3-1〜3-3を形成する位置とを互いに
ずらす。図18(a)では、互いに距離Dだけ離れてい
る。
置、即ちパッドの配置を、高電位側パッド群と低電位側
パッド群とで、互いにずらすことで、ワイヤ18Aの長
さとワイヤ18Bの長さとを、ほぼ均一に揃えることが
できる。
導体装置について説明する。図19は、この発明の第11
の実施例に係る装置の平面図である。図19に示すよう
に、リ−ド15Aの一つの凸部19にワイヤ18Aを複
数、同様にリ−ド15Bの一つの凸部19にワイヤ18
Bを複数接続するようにしても良い。この場合には、高
電位側電源パッド2-1〜2-4および低電位側電源パッド
3-1〜3-4は、交互ではなく、互いに一塊となってチッ
プ11中に設けられる。
半導体装置の平面図である。第12の実施例に係る装置
は、リ−ドフレ−ムの使い方の例に関している。図20に
示すように、互いに隣接したリ−ド15Aおよび15
B、および互いに隣接したリ−ド15Cおよび15Dを
それぞれ有する場合、ワイヤ18が接続されない場合も
ある。
源パッドのうち、高電位側電源パッド群2-1〜2-4のみ
が配置され、他の縁に、電源パッドのうち、低電位側電
源パッド群3-1〜3-4のみが配置されたものの時であ
る。
では、リ−ド15A、リ−ド15Dは、無接続(N.
C.)とすれば良い。図21は、この発明の第13の実施
例に係る半導体装置の平面図である。
Cチップの、他の例に関している。搭載されるチップ
は、ダイナミック型RAMチップの他、図21に示すよう
に、CPU、論理回路、メモリなどを集積したマイクロ
コンピュ−タチップ60でも良い。この時、マイクロコ
ンピュ−タチップ60では、各回路ブロック個々に、電
源が接続される。
半導体装置の平面図である。第14の実施例に係る装置
は、搭載するICチップの、他の例に関している。図22
に示されるチップ11は、ラムバスDRAM(以下、R
DRAMと称す)である。
には、通常のDRAMと同じ構成を持つメモリコア部
と、図示せぬCPU(MASTER)チップとメモリコア部との
インタ−フェ−スとしての機能を持つスレ−ブ(SLAVE)
ロジック部とが含まれている。RDRAMチップ11
は、通常のDRAMと異なり、スレ−ブロジック部を有
することが特徴である。
リコア部には、複数のメモリセルアレイ(図中では18
本)と、各メモリセルアレイ毎に設けられたロウデコ−
ダ(RD)と、各メモリセルアレイ毎に設けられたセン
スアンプ(S/A)群と、2つのメモリセルアレイで共
通に設けられたカラムデコ−ダ(C/D)とからなる複
数のメモリブロック(図中では9つ)が含まれている。
メモリコア部には、これらのメモリブロックに加え、メ
モリ周辺回路部が含まれている。メモリ周辺回路部に
は、ロウアドレスバッファなどを含むロウ系回路部と、
カラムアドレスバッファなどを含むカラム系回路部と、
入出力バッファと、カウンタ回路およびデ−タリフレッ
シュ回路などを含む制御回路部などが含まれている。
ック毎に設けられたインタ−フェ−ス回路(I/F)
と、クロック回路やインタ−フェ−ス回路の動作タイミ
ングを制御する制御回路などが含まれている。
に示したように電源を、メモリコア部内のメモリブロッ
ク毎に設ける。さらにスレ−ブロジイク回路部にも、メ
モリコア部の電源から独立された電源を設ける。そし
て、図1に示したようなリ−ドフレ−ムを用いる。これ
により、誤動作の少ないRDRAMが得られるうえに、
ピン数の増加を防止でき、パッケ−ジが小型化される。
示されている。即ち、図2に示した例では、メモリブロ
ック毎に電源を分割せず、メモリコア部に一つのVCC
電源線4-1と、一つのVSS電源線5-1とを設けてい
る。そして、電源線4-1、5-1それぞれに、複数のパッ
ドを接続する。これにより、電源線4-1、5-1それぞれ
が、たくさんの部分で、VCCリ−ドやVSSリ−ドと
電気的に接続されるようになり、電源線4-1、5-1にお
ける電位変動が防止される。よって、電源をメモリブロ
ック毎に分割した方式のチップと同様なる効果を得るこ
とができる。
線4-2、5-2それぞれが、クロック及び制御回路部の近
くに集中して、複数のパッド2-5〜2-7, 3-5〜3-7が
接続されている。クロック及び制御回路部は、デ−タ転
送速度が、例えば500メガバイト/秒という、高速な
るデ−タ転送制御を行うので、電源の、僅かな電位変動
が誤動作の要因となる。このような、電気的に繊細な回
路の近くで、電源線4-2、5-2と、VCCリ−ドやVS
Sリ−ドとを集中的に接続する。これにより、電気的に
繊細な回路を、誤動作し難くすることができる。
あると、まず、回路ブロック毎に、電源を分割して設け
ることにより、電源間に一つの回路ブロックが直列接続
された等価回路を実現している。これにより、従来の並
列接続による合成抵抗値の変化、という問題が無くな
り、電源電圧の変動が抑制され、誤動作の恐れが少なく
される。従って、ICチップは、誤動作が少なく、信頼
性が高まる。
位VCCが印加されるリ−ド、例えばリ−ド15A、お
よび低電位VSSが印加されるリ−ド、例えばリ−ド1
5Bを共有されているので、ピン数の無用な増加を防止
することができる。
かつ並行するリ−ド、例えばリ−ド15Aとリ−ド15
Bがそれぞれ、凹部および凸部を連続して有しており、
かつこれらの凹部および凸部が互いに噛み合わされるよ
うにして設けられている。そして、ボンディング領域1
9を凸部に設けている。この構成では、ボンディング領
域を確保するために、全体的に幅が広くされているリ−
ドを2本並行させるよりも、平面的な面積を縮小させる
ことができる。従って、パッケ−ジ・サイズの小形化を
達成できる。
した装置のように、例えばリ−ド15Aと並行し、かつ
チップ11と隣り合うリ−ド、例えばリ−ド15Bの上
に絶縁層30を設けることにより、リ−ド15Aにボン
ディングされるべきワイヤ18Aが、リ−ド15Bに接
触しても短絡しないので、信頼性を高めることができ
る。また、製造歩留りも向上させることができる。
凸部を除くリ−ド15Bの表面が、凸部(ボンディング
領域)19の表面位置よりも低くすることでも、リ−ド
15Aにボンディングされるべきワイヤが、リ−ド15
Bに接触し難くなるので、第5の実施例と同様に信頼性
を高めることができる。また、製造歩留りも向上させる
ことができる。
ように、この発明に関わるリ−ドの形状を有するもので
あると、ボンディング位置をほぼ一本の仮想線32上に
設定することができる。ボンディング位置をほぼ一本の
仮想線32上に設定し、リ−ド15Aおよび15Bにお
けるボンディング位置を一致させれば、ワイヤ18のル
−プ高さをほぼ均一化でき、リ−ドへのワイヤの無用な
接触を避けられるようになる。このため、第4、第5の
実施例と同様に、信頼性を高めることができる。また、
製造歩留りも向上させることができる。さらに、ワイヤ
18Aおよび18Bの長さも、ほぼ一定となるので、製
造が容易かつ効率的となる、という効果を得ることがで
きる。尚、ワイヤ18Aおよび18Bの長さを均一化す
る方式としては、図18(a)、(b)に示した装置のよ
うに、チップにおけるパッドの位置をずらすことでも達
成できる。
ではなく、その主旨を逸脱しない範囲において、種々の
変形実施も可能である。また、チップ11を封止するた
めの部材についても、モ−ルド樹脂の他、セラミック・
パッケ−ジを用いても良い。
ば、ピン数の無用な増加の防止、およびパッケ−ジ・サ
イズの小形化を達成できる半導体装置を提供することが
できる。
置の平面図。
置が有するダイナミック型RAMチップの構成図。
置の外観図。
置の平面図。
置の平面図。
置の外観図。
置の平面図。
置の外観図。
置を示す図で、(a)図は平面図、(b)図は(a)図
中の9b−9b線に沿う断面図。
体装置のパッケ−ジング後における断面図。
装置を示す図で、(a)図は平面図、(b)図は(a)
図中の 11b−11b 線に沿う断面図。
装置を示す図で、(a)図は平面図、(b)図は(a)
図中の 12b−12b 線に沿う断面図。
装置の製造方法を説明するための図で、(a)〜(c)
図はそれぞれ、主要な工程毎の断面図。
装置を示す図で、(a)図は平面図、(b)図は(a)
図中の 14b−14b 線に沿う断面図。
装置の製造方法を説明するための図で、(a)図は平面
図、(b)図は(a)図中 15b−15b 線に沿う断面図。
装置の製造方法を説明するための断面図。
装置を示す図で、(a)図は平面図、(b)図は(a)
図中の 17b−17b 線に沿う断面図。
装置を示す図で、(a)図は平面図、(b)図は(a)
図中の 18b−18b 線に沿う断面図。
装置の平面図。
装置の平面図。
装置の平面図。
装置の平面図。
の構成図。
の等価回路図。
低電位電源パッド、4,4-1〜4-9…高電位電源線、
5,5-1〜5-9…低電位電源線、10…リ−ドフレ−
ム、11…半導体チップ、12…ベッド、15、15A
〜15F…リ−ド、17…モ−ルド樹脂、18…ボンデ
ィング・ワイヤ、19…ボンディング領域、30…絶縁
層、31…接着剤層。
Claims (18)
- 【請求項1】 複数の側面を有し、外部電極として機能
する少なくとも第1、第2、第3、第4のパッドを含む
半導体チップと、 前記複数の側面のうちの一の側面に実質的に並行して延
びる部分を有するとともに、複数の凸部、および複数の
凹部を有する第1のリード部材と、 前記第1のリード部材よりも前記外部電極から離れると
ともに前記第1のリード部材に隣接して配置された、前
記第1のリード部材が有する複数の凹部の対応する一つ
に各々突出する複数の凸部、および前記第1のリード部
材が有する複数の凸部の対応する一つが各々突出される
複数の凹部を有する第2のリード部材と、 前記第1のリード部材が有する一の凸部に接続された、
この第1のリード部材と前記第1のパッドとを電気的に
接続するための第1の接続部材と、 前記第2のリード部材が有する一の凸部に接続された、
この第2のリード部材と前記第2のパッドとを前記第1
のリード部材を横断して電気的に接続するための第2の
接続部材と、 前記第1のリード部材が有する他の凸部に接続された、
この第1のリード部材と前記第3のパッドとを電気的に
接続するための第3の接続部材と、 前記第2のリード部材が有する他の凸部に接続された、
この第2のリード部材と前記第4のパッドとを前記第1
のリード部材を横断して電気的に接続するための第4の
接続部材と を具備することを特徴とする半導体装置。 - 【請求項2】 少なくとも前記第2の接続部材は、前記
第2のリード部材と前記第2のパッドとを電気的に接続
するために、前記第1のリード部材の上方に延長されて
いることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 【請求項3】 前記第1、第2、第3、第4のパッドは
電源パッドであることを特徴とする請求項1に記載の半
導体装置。 - 【請求項4】 複数の側面を有し、外部電極として機能
する少なくとも第1、第2、第3、第4のパッドを含む
半導体チップと、 前記複数の側面のうちの一の側面に実質的に並行して延
びる部分を有するとと もに、少なくとも一つの凸部、お
よび少なくとも一つの凹部を有する第1のリード部材
と、 前記第1のリード部材よりも前記外部電極から離れると
ともに前記第1のリード部材に隣接して配置された、前
記第1のリード部材が有する少なくとも一つの凹部に突
出する少なくとも一つの凸部、および前記第1のリード
部材が有する少なくとも一つの凸部が突出される少なく
とも一つの凹部を有する第2のリード部材と、 前記第1のリード部材が有する少なくとも一つの凸部に
接続された、この第1のリード部材と前記第1のパッド
とを電気的に接続するための第1の接続部材と、 前記第2のリード部材が有する少なくとも一つの凸部に
接続された、この第2のリード部材と前記第2のパッド
とを前記第1のリード部材を横断して電気的に接続する
ための第2の接続部材と、 前記第1のリード部材が有する少なくとも一つの凸部に
接続された、この第1のリード部材と前記第3のパッド
とを電気的に接続するための第3の接続部材と、 前記第2のリード部材が有する少なくとも一つの凸部に
接続された、この第2のリード部材と前記第4のパッド
とを前記第1のリード部材を横断して電気的に接続する
ための第4の接続部材と を具備する ことを特徴とする半
導体装置。 - 【請求項5】 複数の側面を有し、外部電極として機能
する少なくとも二つのパッドを含む半導体チップと、 前記複数の側面のうちの一の側面に実質的に並行して延
びる部分を有するとともに、少なくとも一つの凸部、お
よび少なくとも一つの凹部を有する第1のリード部材
と、 前記第1のリード部材よりも前記外部電極から離れると
ともに前記第1のリード部材に隣接して配置された、前
記第1のリード部材が有する少なくとも一つの凹部に突
出する少なくとも一つの凸部、および前記第1のリード
部材が有する少なくとも一つの凸部が突出される少なく
とも一つの凹部を有する第2のリード部 材と、 前記一の側面に相対する側面に実質的に並行して延びる
部分を有するとともに、少なくとも一つの凸部、および
少なくとも一つの凹部を有する第3のリード部材と、 前記第3のリード部材よりも前記外部電極から離れると
ともに前記第3のリード部材に隣接して配置された、前
記第3のリード部材が有する少なくとも一つの凹部に突
出する少なくとも一つの凸部、および前記第3のリード
部材が有する少なくとも一つの凸部が突出される少なく
とも一つの凹部を有する第4のリード部材と、 前記第1のリード部材が有する凸部に接続された、この
第1のリード部材と前記少なくとも二つのパッドのうち
の第1のパッドとを電気的に接続するための第1の接続
部材と、 前記第3のリード部材が有する凸部に接続された、この
第3のリード部材と前記少なくとも二つのパッドのうち
の第2のパッドとを電気的に接続するための第2の接続
部材とを具備する ことを特徴とする半導体装置。 - 【請求項6】 前記第1のパッドは前記一の側面の近く
に配置され、前記第2のパッドは前記一の側面に相対す
る側面の近くに配置されていることを特徴とする請求項
5に記載の半導体装置。 - 【請求項7】 複数の側面を有し、外部電極として機能
する少なくとも四つのパッドを含む半導体チップと、 前記複数の側面のうちの一の側面に実質的に並行して延
びる部分を有するとともに、少なくとも一つの凸部、お
よび少なくとも一つの凹部を有する第1のリード部材
と、 前記第1のリード部材よりも前記外部電極から離れると
ともに前記第1のリード部材に隣接して配置された、前
記第1のリード部材が有する少なくとも一つの凹部に突
出する少なくとも一つの凸部、および前記第1のリード
部材が有する少なくとも一つの凸部が突出される少なく
とも一つの凹部を有する第2のリード部材と、 前記一の側面に相対する側面に実質的に並行して延びる
部分を有するとともに、少なくとも一つの凸部、および
少なくとも一つの凹部を有する第3のリード部材と、 前記第3のリード部材よりも前記外部電極から離れると
ともに前記第3のリード部材に隣接して配置された、前
記第3のリード部材が有する少なくとも一つの凹部に突
出する少なくとも一つの凸部、および前記第3のリード
部材が有する少なくとも一つの凸部が突出される少なく
とも一つの凹部を有する第4のリード部材と、 前記第1のリード部材が有する少なくとも一つの凸部に
接続された、この第1のリード部材と前記少なくとも四
つのパッドのうちの第1のパッドとを電気的に接続する
ための第1の接続部材と、 前記第3のリード部材が有する少なくとも一つの凸部に
接続された、この第3のリード部材と前記少なくとも四
つのパッドのうちの第2のパッドとを電気的に接続する
ための第2の接続部材と、 前記第2のリード部材が有する少なくとも一つの凸部に
接続された、この第2のリード部材と前記少なくとも四
つのパッドのうちの第3のパッドとを前記第1のリード
部材を横断して電気的に接続するための第3の接続部材
と、 前記第4のリード部材が有する少なくとも一つの凸部に
接続された、この第4のリード部材と前記少なくとも四
つのパッドのうちの第4のパッドとを前記第3のリード
部材を横断して電気的に接続するための第4の接続部材
とを具備する ことを特徴とする半導体装置。 - 【請求項8】 前記第1、第3のパッドは前記一の側面
に沿って配置され、前記第2、第4のパッドは前記一の
側面に相対する側面に沿って配置されていることを特徴
とする請求項7に記載の半導体装置。 - 【請求項9】 前記第1のリード部材が有する複数の凹
部は各々、前記第1のリード部材が有する複数の凸部間
に設けられ、 前記第2のリード部材が有する複数の凹部は各々、前記
第2のリード部材が有する複数の凸部間に設けられる こ
とを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 【請求項10】 前記第1のリード部材が有する少なく
とも一つの凹部は、前記第1のリード部材が有する少な
くとも一つの凸部に隣接して設けられ、 前記第2のリード部材が有する少なくとも一つの凹部
は、前記第2のリード部材が有する少なくとも一つの凸
部に隣接して設けられる ことを特徴とする請求項4に記
載の半導体装置。 - 【請求項11】 前記第1のリード部材が有する少なく
とも一つの凹部は、前記第1のリード部材が有する少な
くとも一つの凸部に隣接して設けられ、 前記第2のリード部材が有する少なくとも一つの凹部
は、前記第2のリード部材が有する少なくとも一つの凸
部に隣接して設けられ、 前記第3のリード部材が有する少なくとも一つの凹部
は、前記第3のリード部材が有する少なくとも一つの凸
部に隣接して設けられ、 前記第4のリード部材が有する少なくとも一つの凹部
は、前記第4のリード部材が有する少なくとも一つの凸
部に隣接して設けられる ことを特徴とする請求項5およ
び請求項7いずれかに記載の半導体装置。 - 【請求項12】 列に配置された複数のパッドを有する
半導体チップと、 前記パッドの列に実質的に並行して延びる部分を有する
とともに、少なくとも第1、第2の凸部を有する第1の
リード部材と、 前記第1のリード部材よりも前記パッドから離れて配置
された、前記第1のリード部材が有する第1、第2の凸
部間に延びる延在部分を有する第2のリード部材と、 前記第1のリード部材が有する第1の凸部と前記複数の
パッドのうちの一のパッドとを電気的に接続するための
第1の接続部材と、 前記第1のリード部材が有する第2の凸部と前記複数の
パッドのうちの他のパッドとを電気的に接続するための
第2の接続部材と、 前記第2のリード部材が有する延在部分と前記複数のパ
ッドのうちのさらに他のパッドとを電気的に接続するた
めの、前記第1のリード部材と交差する第3の接続部材
とを具備する ことを特徴とする半導体装置。 - 【請求項13】 前記第1のリード部材の前記第3の接
続部材と交差する交 差部分には、少なくとも絶縁膜が形
成されていることを特徴とする請求項12に記載の半導
体装置。 - 【請求項14】 前記第3の接続部材と前記第1のリー
ド部材の交差部分の表面との間の間隔は、前記第1のリ
ード部材の第1、第2の凸部の表面間のいかなる間隔よ
りも大きいことを特徴とする請求項12に記載の半導体
装置。 - 【請求項15】 前記第1の接続部材と前記第1の凸部
との第1の接続点、前記第2の接続部材と前記第2の凸
部との第2の接続点、前記第3の接続部材と前記延長部
分との第3の接続点はそれぞれ、仮想的な一本の直線の
上に位置していることを特徴とする請求項12に記載の
半導体装置。 - 【請求項16】 ベッドと、 前記ベッド上の半導体チップと、 前記ベッドおよび前記半導体チップを収容するパッケー
ジと、 一端が前記パッケージ外に配置され、他端が前記パッケ
ージ内に配置される、前記半導体チップの第1の側面に
実質的に並行して延びる第1の延在部分、およびこの第
1の延在部分から前記第1の側面に向かって突出する少
なくとも一つの第1の凸部を有する第1のリード部材
と、 一端が前記パッケージ外に配置され、他端が前記パッケ
ージ内に配置される、前記半導体チップの第1の側面に
実質的に並行して延びるとともに前記パッケージ内の前
記第1のリード部材と前記チップとの間に配置される第
2の延在部分、およびこの第2の延在部分から前記第1
の延在部分に向かって突出するとともに、前記第1の凸
部と互いにずれあう少なくとも一つの第2の凸部を有す
る第2のリード部材と、 前記第1の凸部と、前記半導体チップに設けられ、一の
電圧が与えられる少なくとも一つの第1の電源パッドと
を電気的に接続するための少なくとも一つの第1の接続
部材と、 前記第2の凸部と、前記半導体チップに設けられ、前記
一の電圧と異なった他の電圧が与えられる少なくとも一
つの第2の電源パッドとを電気的に接続するための少な
くとも一つの第2の接続部材とを具備する ことを特徴と
する半導体装置。 - 【請求項17】 各々前記パッケージ外に配置される一
端と、前記パッケージ内に配置されるとともに前記半導
体チップの第1の側面に隣接する第2の側面に沿って並
ぶ他端とを有する複数の他のリード部材と、 前記複数の他のリード部材各々を、前記半導体チップに
設けられた他の電極パッド各々に電気的に接続するため
の複数の他の接続部とをさらに具備する ことを特徴とす
る請求項16に記載の半導体装置。 - 【請求項18】 前記第1、第2のリード部材は、前記
半導体チップの第1の側面と、この第1の側面に並行す
る前記パッケージの第1の側面との間の領域に配置され
ることを特徴とする請求項16に記載の半導体装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6050140A JP3048496B2 (ja) | 1993-04-16 | 1994-03-22 | 半導体装置 |
EP94105135A EP0620593B1 (en) | 1993-04-16 | 1994-03-31 | Semiconductor device with power-supply bus leads |
DE69414903T DE69414903T2 (de) | 1993-04-16 | 1994-03-31 | Halbleiteranordnung mit Versorgungsbusleitungen |
KR1019940008043A KR100246877B1 (ko) | 1993-04-16 | 1994-04-16 | 반도체장치 |
TW083103994A TW289148B (ja) | 1993-04-16 | 1994-05-03 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9003293 | 1993-04-16 | ||
JP5-90032 | 1993-04-16 | ||
JP6050140A JP3048496B2 (ja) | 1993-04-16 | 1994-03-22 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06350014A JPH06350014A (ja) | 1994-12-22 |
JP3048496B2 true JP3048496B2 (ja) | 2000-06-05 |
Family
ID=26390587
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6050140A Expired - Fee Related JP3048496B2 (ja) | 1993-04-16 | 1994-03-22 | 半導体装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0620593B1 (ja) |
JP (1) | JP3048496B2 (ja) |
KR (1) | KR100246877B1 (ja) |
DE (1) | DE69414903T2 (ja) |
TW (1) | TW289148B (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6129671B2 (ja) * | 2013-07-19 | 2017-05-17 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0754841B2 (ja) * | 1987-04-13 | 1995-06-07 | サンケン電気株式会社 | 絶縁物封止型回路装置 |
JPH01145842A (ja) * | 1987-12-01 | 1989-06-07 | Nec Ic Microcomput Syst Ltd | 半導体装置 |
JPH0231454A (ja) * | 1988-07-20 | 1990-02-01 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JPH03244149A (ja) * | 1990-02-21 | 1991-10-30 | Mitsubishi Electric Corp | リードフレーム |
JP2896223B2 (ja) * | 1990-11-15 | 1999-05-31 | 株式会社東芝 | 樹脂封止型半導体装置 |
JP2969301B2 (ja) * | 1991-08-09 | 1999-11-02 | 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社 | 半導体装置 |
JPH05160333A (ja) * | 1991-12-05 | 1993-06-25 | Sharp Corp | 半導体集積回路装置 |
-
1994
- 1994-03-22 JP JP6050140A patent/JP3048496B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1994-03-31 DE DE69414903T patent/DE69414903T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-03-31 EP EP94105135A patent/EP0620593B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-04-16 KR KR1019940008043A patent/KR100246877B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-05-03 TW TW083103994A patent/TW289148B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0620593B1 (en) | 1998-12-02 |
TW289148B (ja) | 1996-10-21 |
JPH06350014A (ja) | 1994-12-22 |
EP0620593A1 (en) | 1994-10-19 |
DE69414903D1 (de) | 1999-01-14 |
KR100246877B1 (ko) | 2000-03-15 |
DE69414903T2 (de) | 1999-05-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5801433A (en) | Semiconductor device with smaller package | |
US5539250A (en) | Plastic-molded-type semiconductor device | |
US7078824B2 (en) | Semiconductor device having a switch circuit | |
JPH05308136A (ja) | マスタスライス集積回路 | |
US6509632B1 (en) | Method of fabricating a redundant pinout configuration for signal enhancement in an IC package | |
JP3466064B2 (ja) | 半導体集積回路装置 | |
JP3048496B2 (ja) | 半導体装置 | |
KR100227120B1 (ko) | 엘오씨(loc)리드와 표준형 리드가 복합된 구조를 갖는 반도체 칩 패키지 | |
US6707142B2 (en) | Package stacked semiconductor device having pin linking means | |
KR100359591B1 (ko) | 반도체 장치 | |
JP2985479B2 (ja) | 半導体メモリおよび半導体メモリモジュール | |
JP2780355B2 (ja) | 半導体集積回路装置 | |
KR100475740B1 (ko) | 신호 완결성 개선 및 칩 사이즈 감소를 위한 패드배치구조를 갖는 반도체 집적 회로장치 | |
JP2728052B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP3052633B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2748940B2 (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
KR200319437Y1 (ko) | 핀 접속부를 구비하는 패키지 적층형 반도체 장치 | |
JPH0677273A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
JPH0671059B2 (ja) | メモリモジュール | |
JPS62158359A (ja) | 半導体装置 | |
KR0156330B1 (ko) | 적층이 가능한 고밀도 실장용 리드 프레임 | |
JP2919265B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPH10242378A (ja) | メモリモジュール | |
JPH05167000A (ja) | 半導体装置用パッケージのリード配線 | |
JPH0358544B2 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080324 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090324 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100324 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100324 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110324 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120324 Year of fee payment: 12 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |