JPS62158359A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPS62158359A JPS62158359A JP61000396A JP39686A JPS62158359A JP S62158359 A JPS62158359 A JP S62158359A JP 61000396 A JP61000396 A JP 61000396A JP 39686 A JP39686 A JP 39686A JP S62158359 A JPS62158359 A JP S62158359A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chip
- memory cell
- wiring
- drive circuit
- word
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 21
- 238000003491 array Methods 0.000 abstract description 22
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B12/00—Dynamic random access memory [DRAM] devices
- H10B12/30—DRAM devices comprising one-transistor - one-capacitor [1T-1C] memory cells
Landscapes
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、半導体装置に係わり、特にメモリセルアレイ
とデコーダ回路との接続等の改良をはかった半導体装置
に関する。
とデコーダ回路との接続等の改良をはかった半導体装置
に関する。
歴史的にダイナミックRAMは、アドレスマルチブレラ
スフ方式の採用によって、アドレス入力ビンの数が1/
2になり、16に〜256にビットまでのダイナミック
RAMでは16ビン。
スフ方式の採用によって、アドレス入力ビンの数が1/
2になり、16に〜256にビットまでのダイナミック
RAMでは16ビン。
300 mil (7,62mm >幅のパッケージ
に収納することが可能であった。従って、ビン数の多い
スタティックRAM等に比べ、ICの実装密度が大きい
と云うメリットがある。さらに、プラスチック型パッケ
ージにすると、大量生産及びコストの低減化に大きなメ
リットが生じるので、現在のダイナミックRAMの母産
品はプラスチック型が主流となっている。しかし、この
プラスチック型パッケージに更に記憶容最の大きなダイ
ナミックRAMを収納しようとすると、以下のような理
由によりいくつかの不具合が生じてくる。
に収納することが可能であった。従って、ビン数の多い
スタティックRAM等に比べ、ICの実装密度が大きい
と云うメリットがある。さらに、プラスチック型パッケ
ージにすると、大量生産及びコストの低減化に大きなメ
リットが生じるので、現在のダイナミックRAMの母産
品はプラスチック型が主流となっている。しかし、この
プラスチック型パッケージに更に記憶容最の大きなダイ
ナミックRAMを収納しようとすると、以下のような理
由によりいくつかの不具合が生じてくる。
まず、プラスチック型パッケージはセラミック型パッケ
ージより機械的強度が弱りため、リードビンをパッケー
ジ内に埋込まなければならない。
ージより機械的強度が弱りため、リードビンをパッケー
ジ内に埋込まなければならない。
このため、リードビンのためのスペースを確保しなけれ
ばならず、ICチップの横幅が制限される。
ばならず、ICチップの横幅が制限される。
従って、チップ内のメモリセル及び周辺回路のレイアウ
トに制限が加わる。これは、ダイナミックRAMの容量
が256にビットから1Mビット更に4Mビットへと向
上するに従い、微細な加工技術を使用してもなお増大す
るチップサイズに上限を与えることになる。このことは
、単位メモリセルのサイズを小さくしてしまい、1トラ
ンジスタ/1キヤパシタ型のメモリセルであれば、情報
を蓄えるキャパシタ面積の減少を招く。従って、ダイナ
ミックRAMのデータ保持特性の劣化及びソフトエラー
率の増大を引起こし、信頼性が低く商品両値の低いもの
となってしまう。
トに制限が加わる。これは、ダイナミックRAMの容量
が256にビットから1Mビット更に4Mビットへと向
上するに従い、微細な加工技術を使用してもなお増大す
るチップサイズに上限を与えることになる。このことは
、単位メモリセルのサイズを小さくしてしまい、1トラ
ンジスタ/1キヤパシタ型のメモリセルであれば、情報
を蓄えるキャパシタ面積の減少を招く。従って、ダイナ
ミックRAMのデータ保持特性の劣化及びソフトエラー
率の増大を引起こし、信頼性が低く商品両値の低いもの
となってしまう。
また、プラスチック型のパッケージでは、リードピンと
ICチップのポンディングパッドとの間の金属細線によ
るボンディング長を長くすることは、金属細線の断線或
いはボンディング部の接続不良を引起こし好ましくない
。
ICチップのポンディングパッドとの間の金属細線によ
るボンディング長を長くすることは、金属細線の断線或
いはボンディング部の接続不良を引起こし好ましくない
。
従来、チップ面積の有効利用及び金属細線との接続の信
頼性の両方を確保するため、第6図に示す如く、矩形の
チップ1の長辺に沿って隣接するアレイ2のチップ1の
長辺に平行な中心線を互いにずらした状態で、複数列の
アレイ2を配設する。
頼性の両方を確保するため、第6図に示す如く、矩形の
チップ1の長辺に沿って隣接するアレイ2のチップ1の
長辺に平行な中心線を互いにずらした状態で、複数列の
アレイ2を配設する。
゛さらに、チップ1の長辺に沿う周縁部のうちアレイ2
とチップ1の長辺との間の距離が大きい方の周縁部、及
びチップ1の短辺に沿う周縁部に、ポンディングパッド
3を設けた配列を取り、中央部にデコーダ41とワード
線駆動回路42より構成されるデコーダ回路を配列する
。そして、デコーダ回路とずれたアレイ2との接続は、
配線5を斜めにすることによって行っていた。
とチップ1の長辺との間の距離が大きい方の周縁部、及
びチップ1の短辺に沿う周縁部に、ポンディングパッド
3を設けた配列を取り、中央部にデコーダ41とワード
線駆動回路42より構成されるデコーダ回路を配列する
。そして、デコーダ回路とずれたアレイ2との接続は、
配線5を斜めにすることによって行っていた。
しかしながら、第6図に示すこの従来例のようにアレイ
2との斜めの接続を配線5によってのみ行うことは、次
の2点で問題がある。以下、この問題について、デコー
ダ回路1ピツチ分6の一部拡大図である第7図を参照し
て説明する。なお、第7図中71はV ccl ill
線、72はアドレス線、8はコンタクト部、9はゲート
電極を示している。
2との斜めの接続を配線5によってのみ行うことは、次
の2点で問題がある。以下、この問題について、デコー
ダ回路1ピツチ分6の一部拡大図である第7図を参照し
て説明する。なお、第7図中71はV ccl ill
線、72はアドレス線、8はコンタクト部、9はゲート
電極を示している。
第1の問題点は、配[15を斜めにしてアレイ2とずら
して接続する分dだけ、必ず配線領域を確保しなければ
ならないことである。この領域を確保するため、配線の
田度と斜めにする確度によって決まる分だけチップ1の
長辺方向長が増大してしまうのである。例えば、ずれ分
dが200[μm]であり、斜め確度が45度である場
合には、長辺方向長が200 [μTrL]伸びてしま
い、プラスチック型パッケージに収納するため確保しな
ければならない上限値を越えることが生じてしまう。仮
に、上限を満足しようとすると、周辺回路やセルレイア
ウト等に制限が加わり、前述した理由によりダイナミッ
クRAMの性能劣化を招いてしまう。従って、チップ長
辺長に対しても無駄な領域を作らないことが必要なので
ある。
して接続する分dだけ、必ず配線領域を確保しなければ
ならないことである。この領域を確保するため、配線の
田度と斜めにする確度によって決まる分だけチップ1の
長辺方向長が増大してしまうのである。例えば、ずれ分
dが200[μm]であり、斜め確度が45度である場
合には、長辺方向長が200 [μTrL]伸びてしま
い、プラスチック型パッケージに収納するため確保しな
ければならない上限値を越えることが生じてしまう。仮
に、上限を満足しようとすると、周辺回路やセルレイア
ウト等に制限が加わり、前述した理由によりダイナミッ
クRAMの性能劣化を招いてしまう。従って、チップ長
辺長に対しても無駄な領域を作らないことが必要なので
ある。
第2の問題点は、配線のピッチに関してである。
デコーダの出力は、ワード線駆動回路42につながって
おり、従来例では斜めの配線5を経由してワード線につ
ながる。高集積化に伴ってワード線のピッチqも短くな
ってきており、そのピッチの範囲内で斜め配線5とワー
ド線との接続を考えなければならない。少なくとも斜め
にしないでワード線と接続する場合に比べa@不利であ
る。ワード線駆動回路42と斜めの配線5との接続に関
しても同様である。斜めの配[15とワード線とが異種
の配線層(例えばAj2配線とポリシリコン配線)で接
続される場合は、更に厳しくなる。何とかワード線ピッ
チに納めようとすると、配線のデザインルールを厳しく
しなければならず、製造上非常に難しくなってきて、配
線の断線を生じる場合もある。。
おり、従来例では斜めの配線5を経由してワード線につ
ながる。高集積化に伴ってワード線のピッチqも短くな
ってきており、そのピッチの範囲内で斜め配線5とワー
ド線との接続を考えなければならない。少なくとも斜め
にしないでワード線と接続する場合に比べa@不利であ
る。ワード線駆動回路42と斜めの配線5との接続に関
しても同様である。斜めの配[15とワード線とが異種
の配線層(例えばAj2配線とポリシリコン配線)で接
続される場合は、更に厳しくなる。何とかワード線ピッ
チに納めようとすると、配線のデザインルールを厳しく
しなければならず、製造上非常に難しくなってきて、配
線の断線を生じる場合もある。。
なお、上記の問題は半導体記憶装置に限るものではなく
、中心線が偏心して配列された複数のアレイとこれらを
駆動する駆動回路とを有する半導体装置であれば、同様
に言えることである。
、中心線が偏心して配列された複数のアレイとこれらを
駆動する駆動回路とを有する半導体装置であれば、同様
に言えることである。
本発明は上記事情を考慮してなされたもので、その目的
とするところは、チップ長辺長に対して無駄な領域を作
ることなく、且つ斜め配線を用いることなく駆動回路と
中心線のずれた複数のアレイとの接続を行うことができ
、集積度の向上及び信頼性の向上をはかり得る半導体装
置を提供することにある。
とするところは、チップ長辺長に対して無駄な領域を作
ることなく、且つ斜め配線を用いることなく駆動回路と
中心線のずれた複数のアレイとの接続を行うことができ
、集積度の向上及び信頼性の向上をはかり得る半導体装
置を提供することにある。
〔発明の概要)
本発明の骨子は、斜め配線を用いる代りに、駆動回路の
一部に斜形パターンを形成することにある。
一部に斜形パターンを形成することにある。
即ち本発明は、矩形のチップ内に中心線が偏心して分割
された複数のアレイ群と、これらのアレイ群に接続され
る駆動回路とを有する半導体装置において、前記駆動回
路を構成する素子を斜形に配列・配線し、該駆動回路パ
ターンブロック自体を一部斜形にすることにより、偏心
する該アレイ群への接続を行うようにしたものである。
された複数のアレイ群と、これらのアレイ群に接続され
る駆動回路とを有する半導体装置において、前記駆動回
路を構成する素子を斜形に配列・配線し、該駆動回路パ
ターンブロック自体を一部斜形にすることにより、偏心
する該アレイ群への接続を行うようにしたものである。
ここで、本発明を半導体記憶装置に適用した場合を例に
とると、この装置は、前述した問題点を改良したもので
あり、中心線をずらして配列された複数個のアレイを接
続する場合、デコーダとワード線駆動回路の一部でずれ
分だけ斜形パターンで構成し、ワード線駆動回路とワー
ド線の接続は、中心線を同一とするようにしたパターン
で構成することを特徴とするものである。
とると、この装置は、前述した問題点を改良したもので
あり、中心線をずらして配列された複数個のアレイを接
続する場合、デコーダとワード線駆動回路の一部でずれ
分だけ斜形パターンで構成し、ワード線駆動回路とワー
ド線の接続は、中心線を同一とするようにしたパターン
で構成することを特徴とするものである。
〔発明の効果ン
本発明によれば、チップ長辺方向を増大させてしまう無
駄な配線領域がなくなり、且つワード線との接続で斜め
の配線で接続されることが無くなる。従って、半導体装
置の集積度の向上及び信頼性の向上をはかり得る。
駄な配線領域がなくなり、且つワード線との接続で斜め
の配線で接続されることが無くなる。従って、半導体装
置の集積度の向上及び信頼性の向上をはかり得る。
ここで、本発明の効果を半導体記憶装置を例にとり説明
すると、次の通りである。メモリセルアレイの中心線を
ずらして配設させる方式において、従来斜めの配線を用
いて接続していたためにチップ長辺方向を伸長させ、斜
形配線のための無駄な面積を必要としていたが、本発明
の半導体記憶装置によれば、チップ長辺方向伸長させな
いばかりでなく、余裕を持たすことが可能となる。つま
り、本発明の半導体記憶装置を用いることにより、ポン
ディングパッドに要する面積を減少してチップを有効に
利用し、且つチップ長辺方向を伸長させることなく更に
有効利用できるようになった。これらのことなら、キャ
パシタの蓄積容量を増大でき、センスアンプに入力され
る入力信号口を増大させて感度の良い増幅作用を行わせ
ることが可能となるので、プロセスのバラツキによる特
性のバラツキを減少させることができる。また、300
m1lの幅狭なプラスチック型パッケージにも対応でき
、リードピンとポンディングパッドとの配線長を短くす
ることが可能であり、アッセンブリ後の配線の断線或い
は接続不良の問題を減少させることができる。
すると、次の通りである。メモリセルアレイの中心線を
ずらして配設させる方式において、従来斜めの配線を用
いて接続していたためにチップ長辺方向を伸長させ、斜
形配線のための無駄な面積を必要としていたが、本発明
の半導体記憶装置によれば、チップ長辺方向伸長させな
いばかりでなく、余裕を持たすことが可能となる。つま
り、本発明の半導体記憶装置を用いることにより、ポン
ディングパッドに要する面積を減少してチップを有効に
利用し、且つチップ長辺方向を伸長させることなく更に
有効利用できるようになった。これらのことなら、キャ
パシタの蓄積容量を増大でき、センスアンプに入力され
る入力信号口を増大させて感度の良い増幅作用を行わせ
ることが可能となるので、プロセスのバラツキによる特
性のバラツキを減少させることができる。また、300
m1lの幅狭なプラスチック型パッケージにも対応でき
、リードピンとポンディングパッドとの配線長を短くす
ることが可能であり、アッセンブリ後の配線の断線或い
は接続不良の問題を減少させることができる。
ざらに、デコーダ回路とメモリセル部の接続のための配
線ピッチを緩くすることができ、製造時の配線形成の歩
留りを向上させることができる。
線ピッチを緩くすることができ、製造時の配線形成の歩
留りを向上させることができる。
従って、信頼性の高い高集積メモリICを歩留り良く作
ることが可能となる。
ることが可能となる。
以下、本発明の詳細を図示の実施例によって説明する。
第1図は本発明の一実施例に係わる半導体メモリICの
配置を示す平面図である。図中において、矩形のチップ
11の中央部にはデコーダ121と、メモリセル内のワ
ード線を駆動するためのワード線駆動回路122とが形
成されている。ここで、デコーダ121とワード線駆動
回路122とからデコーダ回路が構成される。デコーダ
121゜122で分割された2つの領域には、それぞれ
メモリセルアレイ131とメモリセルアレイ132とが
チップ11の短辺に沿って2列づつ配列されている。メ
モリセルアレイ131とメモリセルアレイ132とは、
チップ11の長辺に沿□う中心線を互いにずらした状態
で配列されている。ポンディングパッド14は、チップ
11の短辺に沿う周縁部と、チップ11の長辺に沿う周
縁部のうちチップ11の長辺とメモリセルアレイ131
゜132との距離の大きい方に設けられている。ずれた
メモリセルアレイ131,132は、チップ中央部のデ
コーダ121を斜形にすることにより、ワード線駆動回
路122を蛙由してデコーダ121にそれぞれ接続され
る。このとき、メモリセルアレイ131.132と接す
るパターン部は、必ず斜形にならないよう、メモリセル
アレイ131.132の中心軸とワード線駆動回路12
2のパターンの中心軸を平行にするように構成する。
配置を示す平面図である。図中において、矩形のチップ
11の中央部にはデコーダ121と、メモリセル内のワ
ード線を駆動するためのワード線駆動回路122とが形
成されている。ここで、デコーダ121とワード線駆動
回路122とからデコーダ回路が構成される。デコーダ
121゜122で分割された2つの領域には、それぞれ
メモリセルアレイ131とメモリセルアレイ132とが
チップ11の短辺に沿って2列づつ配列されている。メ
モリセルアレイ131とメモリセルアレイ132とは、
チップ11の長辺に沿□う中心線を互いにずらした状態
で配列されている。ポンディングパッド14は、チップ
11の短辺に沿う周縁部と、チップ11の長辺に沿う周
縁部のうちチップ11の長辺とメモリセルアレイ131
゜132との距離の大きい方に設けられている。ずれた
メモリセルアレイ131,132は、チップ中央部のデ
コーダ121を斜形にすることにより、ワード線駆動回
路122を蛙由してデコーダ121にそれぞれ接続され
る。このとき、メモリセルアレイ131.132と接す
るパターン部は、必ず斜形にならないよう、メモリセル
アレイ131.132の中心軸とワード線駆動回路12
2のパターンの中心軸を平行にするように構成する。
第2図は、デコーダ回路1ピツチ分15のデコーダ12
1とワード線駆動回路122の斜形の中央部からメモリ
セル131の一部までを拡大して簡単に記述したもので
ある。放電トランジスタ、プリチャージ用トランジスタ
、アドレス線172及びVcc電源線171で構成され
るデコーダ部を斜形にし、その選択信号を受けるワード
線駆動回路122は、メモリセル131に対して斜形に
ならないように構成され、ワード線を駆動するA2配線
が中心軸を揃えて接続されている。なお、第2図中18
はコンタクト部、19はゲート電極を示している。
1とワード線駆動回路122の斜形の中央部からメモリ
セル131の一部までを拡大して簡単に記述したもので
ある。放電トランジスタ、プリチャージ用トランジスタ
、アドレス線172及びVcc電源線171で構成され
るデコーダ部を斜形にし、その選択信号を受けるワード
線駆動回路122は、メモリセル131に対して斜形に
ならないように構成され、ワード線を駆動するA2配線
が中心軸を揃えて接続されている。なお、第2図中18
はコンタクト部、19はゲート電極を示している。
このような構成であれば、メモリセルアレイ131.1
32の中心線のずれ分dを、A℃の配線で斜形に接続す
る必要がなくなる。このため、デコーダパターン部で(
f−f/42)、更にA℃の斜形配線がなくなった分で
(d/2)メモリセルまでの距離を縮めることができる
。チップ全体では の縮小に寄与することが可能となり、(b’ −b)分
譲方向に余裕を作ることができる。さらに、ワード線と
接続されるARn配線ピッチを緩めることが可能となる
。従来、An配線を斜形にするため、ワード線ピッチの
(1/M7>のピッチでA2配線を構成せざるを得なか
ったが、本実施例ではワード線ピッチQ1と同じピッチ
で八2の配線を構成することができるようになった。
32の中心線のずれ分dを、A℃の配線で斜形に接続す
る必要がなくなる。このため、デコーダパターン部で(
f−f/42)、更にA℃の斜形配線がなくなった分で
(d/2)メモリセルまでの距離を縮めることができる
。チップ全体では の縮小に寄与することが可能となり、(b’ −b)分
譲方向に余裕を作ることができる。さらに、ワード線と
接続されるARn配線ピッチを緩めることが可能となる
。従来、An配線を斜形にするため、ワード線ピッチの
(1/M7>のピッチでA2配線を構成せざるを得なか
ったが、本実施例ではワード線ピッチQ1と同じピッチ
で八2の配線を構成することができるようになった。
かくして本実施例によれば、An配線を斜形にすること
なく、メモリセルアレイ131.132とデコーダ回路
とを接続することができ、へλ配線の無駄な領域をなく
してチップの縮小化をはかり得る。さらに、へ2配線を
ワード線ピッチと同じピッチで形成することが可能とな
る。このため、半導体記憶装置の高集積化及び信頼性の
向上をはかることができる。
なく、メモリセルアレイ131.132とデコーダ回路
とを接続することができ、へλ配線の無駄な領域をなく
してチップの縮小化をはかり得る。さらに、へ2配線を
ワード線ピッチと同じピッチで形成することが可能とな
る。このため、半導体記憶装置の高集積化及び信頼性の
向上をはかることができる。
第3図乃至第5図はそれぞれ本発明の他の実施例を説明
するための平面図であり、メモリセルアレイ、ポンディ
ングパッド及びデコーダ回路等の配置を変えた例である
。第3図は矩形のチップ11の長辺長の約1/4.3/
4にデコーダ回路121.122が形成され、メモリセ
ルアレイ131.132を8分割し、ポンディングパッ
ド14を更に中央に近付けた場合である。また、第4図
はメモリセルアレイ13s 、132.133 。
するための平面図であり、メモリセルアレイ、ポンディ
ングパッド及びデコーダ回路等の配置を変えた例である
。第3図は矩形のチップ11の長辺長の約1/4.3/
4にデコーダ回路121.122が形成され、メモリセ
ルアレイ131.132を8分割し、ポンディングパッ
ド14を更に中央に近付けた場合である。また、第4図
はメモリセルアレイ13s 、132.133 。
134の長辺とチップ11の短辺が平行であり、そのセ
ルアレイ対が上下で左右にずれている場合である。この
場合も同様に、デコーダ回路121゜122を斜形にす
ることにより、メモリセルアレイ131.132に接続
することが可能である。
ルアレイ対が上下で左右にずれている場合である。この
場合も同様に、デコーダ回路121゜122を斜形にす
ることにより、メモリセルアレイ131.132に接続
することが可能である。
また、第5図はメモリセルアレイ131.132の長辺
とチップ11の短辺が平行であり、メモリセルアレイ1
31.132がチップ11の長辺長の約1/4.3/4
で左右にずれでおり、そのずれの中心にデコーダ回路1
,21.122が構成される場合であり、ポンディング
パッド14を更に中央部近くまで持って来ることが可能
である。
とチップ11の短辺が平行であり、メモリセルアレイ1
31.132がチップ11の長辺長の約1/4.3/4
で左右にずれでおり、そのずれの中心にデコーダ回路1
,21.122が構成される場合であり、ポンディング
パッド14を更に中央部近くまで持って来ることが可能
である。
これらのような配置の半導体記憶装置でも、先に説明し
た実施例と同様な効果を得ることができる。
た実施例と同様な効果を得ることができる。
なお、本発明は上述した各実施例に限定されるものでは
なく、その要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実施
することができる。前記実施例では、1つのデコーダで
4本のワード線を駆動する、部分デコード方式について
示したが、デコード方式にはよらず、本発明の接続法を
採用することができる。また、実施例ではデコーダパタ
ーンを斜形にしていたが、ワード線駆動回路の一部を斜
形にしても良く、メモリセルアレイのずれ分によってど
こまで斜形パターンにするかが決まるのであり、斜形パ
ターンの変曲点をどこに持っていっても構わない。また
、実施例では、ワード線との接続をAl1の配線の接続
によって行われることで説明したが、その接続はA2の
一層配線だけでなく、18!A℃、2層Affi或いは
ポリシリコン配線の組合わせで行われた場合でも同様の
効果を得ることができ、配線の接続に関して全ての場合
で有効である。
なく、その要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実施
することができる。前記実施例では、1つのデコーダで
4本のワード線を駆動する、部分デコード方式について
示したが、デコード方式にはよらず、本発明の接続法を
採用することができる。また、実施例ではデコーダパタ
ーンを斜形にしていたが、ワード線駆動回路の一部を斜
形にしても良く、メモリセルアレイのずれ分によってど
こまで斜形パターンにするかが決まるのであり、斜形パ
ターンの変曲点をどこに持っていっても構わない。また
、実施例では、ワード線との接続をAl1の配線の接続
によって行われることで説明したが、その接続はA2の
一層配線だけでなく、18!A℃、2層Affi或いは
ポリシリコン配線の組合わせで行われた場合でも同様の
効果を得ることができ、配線の接続に関して全ての場合
で有効である。
また、以上の説明では、アレイ群がメモリセルアレイで
ある場合について述べたが、ゲートアレイ、ロジック回
路等の回路ブロックについても本発明を同様に適用する
ことができる。つまり、半導体記憶装置に限らず、中心
線がずれて配置された複数のアレイ及びこれらのアレイ
に接続される駆動回路を有する半導体装置であれば、各
種の装置に適用することが可能である。
ある場合について述べたが、ゲートアレイ、ロジック回
路等の回路ブロックについても本発明を同様に適用する
ことができる。つまり、半導体記憶装置に限らず、中心
線がずれて配置された複数のアレイ及びこれらのアレイ
に接続される駆動回路を有する半導体装置であれば、各
種の装置に適用することが可能である。
第1図は本発明の一実施例における半導体メモリICの
配置を示す平面図、第2図は上記実施例における効果を
説明するためのデコーダ1ピツチ分の部分拡大図、第3
図乃至第5図はそれぞれ他の実施例を説明するための平
面図、第6図は従来例におけるメモリICの配置を示す
平面図、第7図は従来の問題点を説明するためのデコー
ダ1ピツチ分の部分拡大図である。 11・・・チップ、121・・・デコーダ、122・・
・ワード線駆動回路、131.〜,134・・・メモリ
セルアレイ、14・・・ポンディングパッド、15・・
・デコーダ回路1ピツチ分、171・・・Vcc電源線
、172・・・アドレス線、18・・・コンタクト部、
19・・・ゲート電極。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 才3図 才4図 牙5図 オ6図 オフ図
配置を示す平面図、第2図は上記実施例における効果を
説明するためのデコーダ1ピツチ分の部分拡大図、第3
図乃至第5図はそれぞれ他の実施例を説明するための平
面図、第6図は従来例におけるメモリICの配置を示す
平面図、第7図は従来の問題点を説明するためのデコー
ダ1ピツチ分の部分拡大図である。 11・・・チップ、121・・・デコーダ、122・・
・ワード線駆動回路、131.〜,134・・・メモリ
セルアレイ、14・・・ポンディングパッド、15・・
・デコーダ回路1ピツチ分、171・・・Vcc電源線
、172・・・アドレス線、18・・・コンタクト部、
19・・・ゲート電極。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 才3図 才4図 牙5図 オ6図 オフ図
Claims (2)
- (1)矩形のチップ内に中心線が偏心して分割された複
数のアレイ群と、これらのアレイ群に接続される駆動回
路とを有する半導体装置において、前記駆動回路を構成
する素子を斜形に配列・配線し、該駆動回路パターンブ
ロック自体を一部斜形にすることにより、偏心する該ア
レイ群への接続を行うことを特徴とする半導体装置。 - (2)前記アレイの単位構成要素が記憶素子であり、前
記駆動回路がデコーダ回路であることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61000396A JPS62158359A (ja) | 1986-01-06 | 1986-01-06 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61000396A JPS62158359A (ja) | 1986-01-06 | 1986-01-06 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62158359A true JPS62158359A (ja) | 1987-07-14 |
Family
ID=11472643
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61000396A Pending JPS62158359A (ja) | 1986-01-06 | 1986-01-06 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62158359A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0428247A2 (en) * | 1989-08-19 | 1991-05-22 | Fujitsu Limited | Semiconductor memory device with improved contact layout |
US5117277A (en) * | 1989-01-27 | 1992-05-26 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor integrated circuit device with improved connection pattern of signal wirings |
-
1986
- 1986-01-06 JP JP61000396A patent/JPS62158359A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5117277A (en) * | 1989-01-27 | 1992-05-26 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor integrated circuit device with improved connection pattern of signal wirings |
EP0428247A2 (en) * | 1989-08-19 | 1991-05-22 | Fujitsu Limited | Semiconductor memory device with improved contact layout |
EP0762502A1 (en) * | 1989-08-19 | 1997-03-12 | Fujitsu Limited | DRAM cell array layout |
US5812444A (en) * | 1989-08-19 | 1998-09-22 | Fujitsu Limited | Semiconductor memory device with bit line contact areas and storage capacitor contact areas |
US6026010A (en) * | 1989-08-19 | 2000-02-15 | Fujitsu Limited | Semiconductor memory device with bit line contact areas and storage capacitor contact areas |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3803050B2 (ja) | 半導体記憶装置、ダイナミックランダムアクセスメモリおよび半導体装置 | |
US5880531A (en) | Lead on chip semiconductor memory device with multiple bit configuration | |
US7638871B2 (en) | Semiconductor device | |
KR0141495B1 (ko) | 반도체 기억장치 및 그 결함구제방법 | |
US4660174A (en) | Semiconductor memory device having divided regular circuits | |
US20040145042A1 (en) | Semiconductor device | |
JPH02154391A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JP3679421B2 (ja) | 分散されたアドレス解読およびタイミング制御機能を有するメモリ | |
US8305833B2 (en) | Memory chip architecture having non-rectangular memory banks and method for arranging memory banks | |
US5184321A (en) | Semiconductor memory device comprising a plurality of memory arrays with improved peripheral circuit location and interconnection arrangement | |
JPH02246149A (ja) | 半導体集積回路装置とその欠陥救済法 | |
JPS62158359A (ja) | 半導体装置 | |
US4831433A (en) | Semiconductor device | |
JP2985479B2 (ja) | 半導体メモリおよび半導体メモリモジュール | |
KR100316619B1 (ko) | 반도체 기억 장치 | |
JPH0120536B2 (ja) | ||
US5724281A (en) | Semiconductor integrated circuit having improved wiring in input terminal | |
KR100552654B1 (ko) | 칩 상에서 평면적으로 비사각형의 메모리 뱅크를 갖는반도체 메모리 장치 | |
JP3048963B2 (ja) | 半導体メモリ装置 | |
KR100475740B1 (ko) | 신호 완결성 개선 및 칩 사이즈 감소를 위한 패드배치구조를 갖는 반도체 집적 회로장치 | |
JP2000058772A (ja) | 半導体メモリ装置 | |
JPH0358544B2 (ja) | ||
US6329678B1 (en) | Semiconductor memory array | |
JP2567855B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
JPH04284636A (ja) | 半導体装置 |