JP3040307B2 - 蒸気洗浄方法 - Google Patents
蒸気洗浄方法Info
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- JP3040307B2 JP3040307B2 JP6099231A JP9923194A JP3040307B2 JP 3040307 B2 JP3040307 B2 JP 3040307B2 JP 6099231 A JP6099231 A JP 6099231A JP 9923194 A JP9923194 A JP 9923194A JP 3040307 B2 JP3040307 B2 JP 3040307B2
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、被洗浄体表面を蒸気洗
浄するための蒸気洗浄方法に関する。
浄するための蒸気洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、シリコンウェハやマスクなどの半
導体基板の表面には、その加工工程に於いて種々の不純
物が付着しており、それらを除去する洗浄法に蒸気洗浄
法がある（例えば特開平２−１７７３２７号・特開平５
−４１１３９号公報）。蒸気中に含まれる金属は液中よ
りも１桁少ない量であり、蒸気洗浄により極めて清浄な
液による洗浄を行うことができ、高集積化に好適に対応
し得る。
導体基板の表面には、その加工工程に於いて種々の不純
物が付着しており、それらを除去する洗浄法に蒸気洗浄
法がある（例えば特開平２−１７７３２７号・特開平５
−４１１３９号公報）。蒸気中に含まれる金属は液中よ
りも１桁少ない量であり、蒸気洗浄により極めて清浄な
液による洗浄を行うことができ、高集積化に好適に対応
し得る。
【０００３】しかしながら、従来の蒸気洗浄に於いて
は、任意の薬液を用いて蒸気洗浄を行った後に水洗いを
するが、蒸気洗浄後の乾燥時に薬液が残ると、その後の
水洗浄時に水中の不純物が基板表面に付着し易く、高集
積化に対応し難いという問題がある。
は、任意の薬液を用いて蒸気洗浄を行った後に水洗いを
するが、蒸気洗浄後の乾燥時に薬液が残ると、その後の
水洗浄時に水中の不純物が基板表面に付着し易く、高集
積化に対応し難いという問題がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このような従来技術の
問題点に鑑み、本発明の主な目的は、高清浄な洗浄結果
を得られる蒸気洗浄方法を提供することにある。
問題点に鑑み、本発明の主な目的は、高清浄な洗浄結果
を得られる蒸気洗浄方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】このような目的は、本発
明によれば、第１の洗浄室にて酸・塩・塩基・酸化剤の
各薬液の少なくとも１種を含む洗浄液の蒸気により被洗
浄体を洗浄する過程と、第２の洗浄室にて前記蒸気洗浄
後の前記被洗浄体を水蒸気により洗浄する過程とを有す
ることを特徴とする蒸気洗浄方法を提供することにより
達成される。
明によれば、第１の洗浄室にて酸・塩・塩基・酸化剤の
各薬液の少なくとも１種を含む洗浄液の蒸気により被洗
浄体を洗浄する過程と、第２の洗浄室にて前記蒸気洗浄
後の前記被洗浄体を水蒸気により洗浄する過程とを有す
ることを特徴とする蒸気洗浄方法を提供することにより
達成される。
【０００６】
【作用】このようにすれば、第１の洗浄室にて金属や付
着粒子（パーティクル）の除去に応じた薬液を用いた蒸
気洗浄を行い、その後第２の洗浄室で水蒸気による洗浄
を行うことにより、被洗浄体表面に残った薬液を水に置
換することができ、その後乾燥することにより、水のみ
を乾燥することができる。
着粒子（パーティクル）の除去に応じた薬液を用いた蒸
気洗浄を行い、その後第２の洗浄室で水蒸気による洗浄
を行うことにより、被洗浄体表面に残った薬液を水に置
換することができ、その後乾燥することにより、水のみ
を乾燥することができる。
【０００７】
【実施例】以下、本発明の好適実施例を添付の図面につ
いて詳しく説明する。
いて詳しく説明する。
【０００８】図１は、本発明が適用された蒸気洗浄装置
の全体を示す模式的側断面図である。本蒸気洗浄装置
は、図では４つの部屋が直列に連設された構造であり、
被洗浄体としての半導体基板であるウェハ１を、キャリ
ア２により保持したまま各部屋を図の左から右に向けて
順次搬送するようになっている。
の全体を示す模式的側断面図である。本蒸気洗浄装置
は、図では４つの部屋が直列に連設された構造であり、
被洗浄体としての半導体基板であるウェハ１を、キャリ
ア２により保持したまま各部屋を図の左から右に向けて
順次搬送するようになっている。
【０００９】キャリア２は、図２に併せて示されるよう
に、搬送方向に延在する左右一対の連結骨２ａと、連結
骨２ａの両端部と結合されて搬送方向に間隔をおいて互
いに対峙する一対の側板２ｂと、両側板２ｂ間に複数枚
のウェハ１を並列に略立てた状態に保持するべく、ウェ
ハ１の下端と中心よりやや低い位置の左右端とを支持す
る３本の保持棒２ｃとにより組み立てられている。従っ
て、キャリア２の下端面のほとんどが上下方向に開口状
態である。
に、搬送方向に延在する左右一対の連結骨２ａと、連結
骨２ａの両端部と結合されて搬送方向に間隔をおいて互
いに対峙する一対の側板２ｂと、両側板２ｂ間に複数枚
のウェハ１を並列に略立てた状態に保持するべく、ウェ
ハ１の下端と中心よりやや低い位置の左右端とを支持す
る３本の保持棒２ｃとにより組み立てられている。従っ
て、キャリア２の下端面のほとんどが上下方向に開口状
態である。
【００１０】本装置には、ウェハ１の搬送方向上流側
（図１の左側）から下流側（右側）に向けて、ウェハ冷
却室３、第１の洗浄室４、第２の洗浄室５、乾燥室６が
この順に連設されており、各部屋３〜６の上部には、搬
送ベルト７が搬送方向に貫通して設けられている。搬送
ベルト７は、図３に示されるように、左右一対のベルト
ガイド７ａ内にそれぞれ複数のベアリング７ｂを受容し
てなり、図示されない駆動手段により回転ベルト７ｃを
適宜移動させるようになっている。そして、左右の回転
ベルト７ｃ上に、連結骨２ａ及び側板２ｂの下面の適所
に突設された脚部を介してキャリア２が載置されてお
り、回転ベルト７ｃの移動に伴って各キャリア２が各部
屋３〜６間を搬送される。なお、各部屋の搬送方向両端
壁にはキャリアを通過可能にするための各開口３ａ・４
ａ・５ａ・６ａが開設されている。
（図１の左側）から下流側（右側）に向けて、ウェハ冷
却室３、第１の洗浄室４、第２の洗浄室５、乾燥室６が
この順に連設されており、各部屋３〜６の上部には、搬
送ベルト７が搬送方向に貫通して設けられている。搬送
ベルト７は、図３に示されるように、左右一対のベルト
ガイド７ａ内にそれぞれ複数のベアリング７ｂを受容し
てなり、図示されない駆動手段により回転ベルト７ｃを
適宜移動させるようになっている。そして、左右の回転
ベルト７ｃ上に、連結骨２ａ及び側板２ｂの下面の適所
に突設された脚部を介してキャリア２が載置されてお
り、回転ベルト７ｃの移動に伴って各キャリア２が各部
屋３〜６間を搬送される。なお、各部屋の搬送方向両端
壁にはキャリアを通過可能にするための各開口３ａ・４
ａ・５ａ・６ａが開設されている。
【００１１】本装置の最初の処理室であるウェハ冷却室
３には、搬送されるウェハ１の左右の側方位置に冷却板
が設けられている。
３には、搬送されるウェハ１の左右の側方位置に冷却板
が設けられている。
【００１２】次の第１の洗浄室４には、図３に併せて示
されるように、その底面に互いに個別に凹設された複数
（図では４つ）の貯留槽８が設けられており、各貯留槽
８内にはそれぞれ別個の薬液が貯留されている。これら
薬液は、酸・塩・塩基・酸化剤の各薬液の少なくとも１
種を含むものであって良く、酸としては弗酸・塩酸・燐
酸・硝酸・トリクロル酢酸・ジクロル酢酸・モノクロル
酢酸の内の少なくとも１種以上から、塩としてはアンモ
ニウム塩・アミン塩類の内の少なくとも１種以上から、
塩基としてはアンモニア・アミン類の内の少なくとも１
種以上から、酸化剤としては過酸化水素及びオゾンの少
なくとも１種以上からそれぞれ選択されると良い。
されるように、その底面に互いに個別に凹設された複数
（図では４つ）の貯留槽８が設けられており、各貯留槽
８内にはそれぞれ別個の薬液が貯留されている。これら
薬液は、酸・塩・塩基・酸化剤の各薬液の少なくとも１
種を含むものであって良く、酸としては弗酸・塩酸・燐
酸・硝酸・トリクロル酢酸・ジクロル酢酸・モノクロル
酢酸の内の少なくとも１種以上から、塩としてはアンモ
ニウム塩・アミン塩類の内の少なくとも１種以上から、
塩基としてはアンモニア・アミン類の内の少なくとも１
種以上から、酸化剤としては過酸化水素及びオゾンの少
なくとも１種以上からそれぞれ選択されると良い。
【００１３】上記貯留槽８内には、図４に併せて示され
るように複数のヒータ板９が配設されている。これらヒ
ータ板９は、貯留槽８の底面に立設して互いに間隔をあ
けて並列に配設され板状のガラス管内またはテフロン板
内に電熱線を受容してなる。また、ガラス管を用いる場
合には材質を石英ガラス製にし、その外表面を耐薬液性
を高めるべくテフロン加工すると良い。電熱線は、まと
められて図示されない電熱制御装置に電気的に接続され
ている。なお、ヒータ板９間に洗浄液Ｓが容易に回り込
めるように、各ヒータ板９の下部に貫通孔９ａが設けら
れている。
るように複数のヒータ板９が配設されている。これらヒ
ータ板９は、貯留槽８の底面に立設して互いに間隔をあ
けて並列に配設され板状のガラス管内またはテフロン板
内に電熱線を受容してなる。また、ガラス管を用いる場
合には材質を石英ガラス製にし、その外表面を耐薬液性
を高めるべくテフロン加工すると良い。電熱線は、まと
められて図示されない電熱制御装置に電気的に接続され
ている。なお、ヒータ板９間に洗浄液Ｓが容易に回り込
めるように、各ヒータ板９の下部に貫通孔９ａが設けら
れている。
【００１４】貯留槽８の側壁の上側部分には薬液供給管
１１が接続されており、貯留槽８の側壁の下端部には薬
液排出管１２が接続されている。この薬液供給管１１か
ら薬液を貯留槽８内に供給し、ヒータ板９をほぼ水没状
態にしてヒータ板９を加熱すると、薬液の所定量の蒸気
を発生させることができる。その蒸気発生を停止させる
場合には、貯留槽８内の薬液を薬液排出管１２から排出
することにより、直ちに蒸気の発生を止めることができ
る。
１１が接続されており、貯留槽８の側壁の下端部には薬
液排出管１２が接続されている。この薬液供給管１１か
ら薬液を貯留槽８内に供給し、ヒータ板９をほぼ水没状
態にしてヒータ板９を加熱すると、薬液の所定量の蒸気
を発生させることができる。その蒸気発生を停止させる
場合には、貯留槽８内の薬液を薬液排出管１２から排出
することにより、直ちに蒸気の発生を止めることができ
る。
【００１５】また、第１の洗浄室４内であって図３に良
く示されるように保持位置のウェハ１と各貯留槽８との
間には、ウェハ１から落ちてくる滴下液を回収しかつ貯
留槽８に落とすことなく外部へ排出するための滴下液回
収手段が設けられている。この滴下液回収手段は、滴下
液を３段階にガイドして回収するように構成されてお
り、ウェハ１側から下方に互いに間隔をあけて配設され
た第１の回収板１３と第２の回収板１４と第３の回収板
１５とにより構成されている。これら各回収板１３〜１
５は、搬送方向に沿って延在し、各長手方向両端縁を第
１の洗浄室４の搬送方向端壁と結合されている。
く示されるように保持位置のウェハ１と各貯留槽８との
間には、ウェハ１から落ちてくる滴下液を回収しかつ貯
留槽８に落とすことなく外部へ排出するための滴下液回
収手段が設けられている。この滴下液回収手段は、滴下
液を３段階にガイドして回収するように構成されてお
り、ウェハ１側から下方に互いに間隔をあけて配設され
た第１の回収板１３と第２の回収板１４と第３の回収板
１５とにより構成されている。これら各回収板１３〜１
５は、搬送方向に沿って延在し、各長手方向両端縁を第
１の洗浄室４の搬送方向端壁と結合されている。
【００１６】第１の回収板１３は、第１の洗浄室４の図
３に於ける左右の側壁内面から中央部に向けて斜め下方
にかつ両ベルトガイド７ａの下方近傍まで延出している
左右一対のガイド体からなる。第２の回収板１４は、第
１の回収板１３の左右の延出端縁間の下方にて２枚の板
を上に突状をなすように曲折した屋根状に形成され、第
３の回収板１５は、第２の回収板１４により上方を覆わ
れる開口１５ａを形成するように、第１の洗浄室４の図
３に於ける左右の側壁内面の下部から第２の回収板１４
の下方に向けて斜め上方に延出する左右一対のガイド板
からなる。なお、これら各回収板１３〜１５は、疎水性
の材料により例えばふっ素樹脂材により表面加工されて
いる。
３に於ける左右の側壁内面から中央部に向けて斜め下方
にかつ両ベルトガイド７ａの下方近傍まで延出している
左右一対のガイド体からなる。第２の回収板１４は、第
１の回収板１３の左右の延出端縁間の下方にて２枚の板
を上に突状をなすように曲折した屋根状に形成され、第
３の回収板１５は、第２の回収板１４により上方を覆わ
れる開口１５ａを形成するように、第１の洗浄室４の図
３に於ける左右の側壁内面の下部から第２の回収板１４
の下方に向けて斜め上方に延出する左右一対のガイド板
からなる。なお、これら各回収板１３〜１５は、疎水性
の材料により例えばふっ素樹脂材により表面加工されて
いる。
【００１７】このようにして滴下液回収手段が構成され
ていることから、ウェハ１からの滴下液は、第１の回収
板１３により中央部に集められて第２の回収板１４上に
落ち、第２の回収板１４から第３の回収板１５上に落ち
て、第３の回収板１５の最下端である第１の洗浄室４の
図３に於ける左右の側壁内面との接合部に達する。第１
の洗浄室４の左右の側壁の第３の回収板１５との接合部
の直上部分には回収薬液排出管１６がそれぞれ接続され
ており、上記回収された不純物を含む滴下液が洗浄室の
外部に排出されるようになっている。
ていることから、ウェハ１からの滴下液は、第１の回収
板１３により中央部に集められて第２の回収板１４上に
落ち、第２の回収板１４から第３の回収板１５上に落ち
て、第３の回収板１５の最下端である第１の洗浄室４の
図３に於ける左右の側壁内面との接合部に達する。第１
の洗浄室４の左右の側壁の第３の回収板１５との接合部
の直上部分には回収薬液排出管１６がそれぞれ接続され
ており、上記回収された不純物を含む滴下液が洗浄室の
外部に排出されるようになっている。
【００１８】また、第１の洗浄室４の左右の側壁の外面
であって第３の回収板１５との接合部の上方近傍には外
部冷却板１７が設けられている。これにより、下方の蒸
気により温められ易い開口１５ａ近傍には滴下液が留ま
ることがないため、各回収板１３〜１５上に落下した滴
下液が再蒸発することを防止できる。特に、排出管１６
に集められた滴下液は、第１の洗浄室４の外面に設けら
れた冷却板１７により冷却されるため、下方の蒸気によ
り温められて再蒸発することをより一層確実に防止され
る。
であって第３の回収板１５との接合部の上方近傍には外
部冷却板１７が設けられている。これにより、下方の蒸
気により温められ易い開口１５ａ近傍には滴下液が留ま
ることがないため、各回収板１３〜１５上に落下した滴
下液が再蒸発することを防止できる。特に、排出管１６
に集められた滴下液は、第１の洗浄室４の外面に設けら
れた冷却板１７により冷却されるため、下方の蒸気によ
り温められて再蒸発することをより一層確実に防止され
る。
【００１９】なお、第１の洗浄室４内の上部であって保
持位置にあるウェハ１の図３に於ける左右の両側方位置
にはそれぞれ加熱板１８が設けられている。また、第１
の洗浄室４の天板部にはガス抜き口１９が設けられてい
る。
持位置にあるウェハ１の図３に於ける左右の両側方位置
にはそれぞれ加熱板１８が設けられている。また、第１
の洗浄室４の天板部にはガス抜き口１９が設けられてい
る。
【００２０】第１の洗浄室４に連設された第２の洗浄室
５の構造は第１の洗浄室４と同様であり、同一の符号を
付してその詳しい説明を省略する。この第２の洗浄室５
の貯留槽には純水が貯留されている。従って、第１の洗
浄室４内で前記薬液の混合された蒸気による蒸気洗浄を
行われたウェハ１が、この第２の洗浄室５に移動した
ら、薬液洗浄に替わって水蒸気による洗浄を行われるこ
とになる。すると、ウェハ１表面に残っている薬液が水
置換されることになる。また、水置換後、蒸気発生部か
ら純水を抜き、加熱板１８で加熱すると乾燥まで行え
る。
５の構造は第１の洗浄室４と同様であり、同一の符号を
付してその詳しい説明を省略する。この第２の洗浄室５
の貯留槽には純水が貯留されている。従って、第１の洗
浄室４内で前記薬液の混合された蒸気による蒸気洗浄を
行われたウェハ１が、この第２の洗浄室５に移動した
ら、薬液洗浄に替わって水蒸気による洗浄を行われるこ
とになる。すると、ウェハ１表面に残っている薬液が水
置換されることになる。また、水置換後、蒸気発生部か
ら純水を抜き、加熱板１８で加熱すると乾燥まで行え
る。
【００２１】なお、この第２の洗浄室５に於いて、貯留
槽８の一部に過酸化水素を貯留して、水蒸気中に過酸化
水素を含ませるようにしても良い。このようにすること
により、ウェハ１表面に有機物が残っていても、その有
機物を容易に取り除くことができると共に、水蒸気のみ
の場合よりも酸化膜形成速度が大となる。
槽８の一部に過酸化水素を貯留して、水蒸気中に過酸化
水素を含ませるようにしても良い。このようにすること
により、ウェハ１表面に有機物が残っていても、その有
機物を容易に取り除くことができると共に、水蒸気のみ
の場合よりも酸化膜形成速度が大となる。
【００２２】第２の洗浄室５に続けて連設された乾燥室
６内には、その中を横切る搬送ベルト７の下方にて搬送
方向に沿って延在する乾燥ガス吹き出しノズル２０が設
けられている。この乾燥ガス吹き出しノズル２０から
は、図示されない乾燥空気供給装置からの乾燥空気が上
方のウェハ１に向けて吹き出される。従って、前記第２
の洗浄室５によってウェハ１表面またはキャリア３表面
に残ったわずかな結露液を好適に乾燥することができ
る。なお、乾燥空気の替わりに乾燥窒素であっても良
い。また、この乾燥室６の天板部にもガス抜き口２１が
設けられている。
６内には、その中を横切る搬送ベルト７の下方にて搬送
方向に沿って延在する乾燥ガス吹き出しノズル２０が設
けられている。この乾燥ガス吹き出しノズル２０から
は、図示されない乾燥空気供給装置からの乾燥空気が上
方のウェハ１に向けて吹き出される。従って、前記第２
の洗浄室５によってウェハ１表面またはキャリア３表面
に残ったわずかな結露液を好適に乾燥することができ
る。なお、乾燥空気の替わりに乾燥窒素であっても良
い。また、この乾燥室６の天板部にもガス抜き口２１が
設けられている。
【００２３】このようにして構成された蒸気洗浄装置に
あっては、キャリア２の搬送方向全長と各部屋３〜６の
搬送方向長さとが同一にされている。従って、図１に示
されるように、各キャリア２の側板２ｂ同士を密接させ
つつ搬送することにより、各部屋３〜６毎の処理を同時
に行ってバッチ処理を行うことができる。また、前記各
開口３ａ〜６ａの大きさが、キャリア２の側板２ｂより
若干大きい程度にされており、処理のために各部屋３〜
６内に各キャリア２が保持されている状態では側板２ｂ
により各部屋３〜６の開口３ａ〜６ａをほぼ閉塞するこ
とができ、別個に遮蔽板などを設けることなく、隣接す
る部屋の影響を受けることのない処理を行うことができ
る。
あっては、キャリア２の搬送方向全長と各部屋３〜６の
搬送方向長さとが同一にされている。従って、図１に示
されるように、各キャリア２の側板２ｂ同士を密接させ
つつ搬送することにより、各部屋３〜６毎の処理を同時
に行ってバッチ処理を行うことができる。また、前記各
開口３ａ〜６ａの大きさが、キャリア２の側板２ｂより
若干大きい程度にされており、処理のために各部屋３〜
６内に各キャリア２が保持されている状態では側板２ｂ
により各部屋３〜６の開口３ａ〜６ａをほぼ閉塞するこ
とができ、別個に遮蔽板などを設けることなく、隣接す
る部屋の影響を受けることのない処理を行うことができ
る。
【００２４】このように蒸気洗浄を行うことにより、液
体に比べて蒸気中の汚染金属が１桁少なく、極めて純度
の高い洗浄液による洗浄を行うことができる。また、水
蒸気洗浄によりほぼ完全に薬液を水に置換でき、薬液の
乾燥を行わないため、薬液を乾燥した際に薬液が残って
水中の不純物が付着するという問題が生じない。
体に比べて蒸気中の汚染金属が１桁少なく、極めて純度
の高い洗浄液による洗浄を行うことができる。また、水
蒸気洗浄によりほぼ完全に薬液を水に置換でき、薬液の
乾燥を行わないため、薬液を乾燥した際に薬液が残って
水中の不純物が付着するという問題が生じない。
【００２５】
【発明の効果】このように本発明によれば、第１の洗浄
室にて金属や付着粒子（パーティクル）の除去に応じた
薬液を用いた蒸気洗浄を行い、その後第２の洗浄室で水
蒸気による洗浄を行って水に置換した後乾燥することに
より、水のみを乾燥することができるため、薬液乾燥に
より生じる虞のある薬液が残って、水洗浄時に水中の不
純物が付着してしまうことを防止でき、蒸気洗浄による
高清浄度を好適に保持し得る。
室にて金属や付着粒子（パーティクル）の除去に応じた
薬液を用いた蒸気洗浄を行い、その後第２の洗浄室で水
蒸気による洗浄を行って水に置換した後乾燥することに
より、水のみを乾燥することができるため、薬液乾燥に
より生じる虞のある薬液が残って、水洗浄時に水中の不
純物が付着してしまうことを防止でき、蒸気洗浄による
高清浄度を好適に保持し得る。
【図１】本発明が適用された蒸気洗浄装置の全体を示す
模式的側断面図。
模式的側断面図。
【図２】キャリアを示す斜視図。
【図３】図１のIII−III線に沿って見た断面図。
【図４】貯留槽を示す部分斜視図。
１ ウェハ ２ キャリア ２ａ 連結骨 ２ｂ 側板 ２ｃ 保持棒 ３ ウェハ冷却室 ４ 第１の洗浄室 ５ 第２の洗浄室 ６ 乾燥室 ３ａ〜６ａ 開口 ７ 搬送ベルト ７ａ ベルトガイド ７ｂ ベアリング ７ｃ 回転ベルト ８ 貯留槽 ９ ヒータ板 ９ａ 貫通孔 １１ 薬液供給管 １２ 薬液排出管 １３ 第１の回収板 １４ 第２の回収板 １５ 第３の回収板 １５ａ 開口 １６ 回収薬液排出管 １７ 外部冷却板 １８ 加熱板 １９ ガス抜き口 ２０ 乾燥ガス吹き出しノズル ２１ ガス抜き口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 上村 賢一 光市大字島田3434番地 新日本製鐵株式 会社 光製鐵所内 (72)発明者 森 良弘 光市大字島田3434番地 新日本製鐵株式 会社 光製鐵所内 (56)参考文献 特開 平４−79325（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/304 B08B 3/00 - 3/14
Claims (1)
- 【請求項１】 第１の洗浄室にて酸・塩・塩基・酸化剤
の各薬液の少なくとも１種を含む洗浄液の蒸気により被
洗浄体を洗浄する過程と、第２の洗浄室にて前記蒸気洗
浄後の前記被洗浄体を水蒸気により洗浄する過程とを有
することを特徴とする蒸気洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6099231A JP3040307B2 (ja) | 1994-04-12 | 1994-04-12 | 蒸気洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6099231A JP3040307B2 (ja) | 1994-04-12 | 1994-04-12 | 蒸気洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07283192A JPH07283192A (ja) | 1995-10-27 |
| JP3040307B2 true JP3040307B2 (ja) | 2000-05-15 |
Family
ID=14241910
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6099231A Expired - Lifetime JP3040307B2 (ja) | 1994-04-12 | 1994-04-12 | 蒸気洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3040307B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1057910A (ja) * | 1996-08-20 | 1998-03-03 | Tokuyama Corp | 物品の洗浄方法 |
| JP3037915B2 (ja) | 1997-09-09 | 2000-05-08 | キヤノン販売株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
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-
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