JP3030479B2 - セラミックパッケージ - Google Patents

セラミックパッケージ

Info

Publication number
JP3030479B2
JP3030479B2 JP4130137A JP13013792A JP3030479B2 JP 3030479 B2 JP3030479 B2 JP 3030479B2 JP 4130137 A JP4130137 A JP 4130137A JP 13013792 A JP13013792 A JP 13013792A JP 3030479 B2 JP3030479 B2 JP 3030479B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
brazing
package
ceramic package
brazing material
melting point
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP4130137A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH05294744A (ja
Inventor
晴彦 村田
賀津雄 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NGK Spark Plug Co Ltd
Original Assignee
NGK Spark Plug Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NGK Spark Plug Co Ltd filed Critical NGK Spark Plug Co Ltd
Priority to JP4130137A priority Critical patent/JP3030479B2/ja
Publication of JPH05294744A publication Critical patent/JPH05294744A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3030479B2 publication Critical patent/JP3030479B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Ceramic Products (AREA)
  • Die Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はろう材を用いたセラミッ
クパッケージに係り、特に比較的低温でのろう付け作業
が可能ら銀ろう材を用い、パッケージ本体とヒートシン
クとまたはリードフレームとをろう付けしてなるセラミ
ックパッケージに関する。
【0002】
【従来の技術】半導体回路用セラミックパッケージにあ
って、パッケージ本体とリードフレームのろう付け、あ
るいは使用中に半導体集積回路より発生する熱を外部に
放散してパッケージを冷却する窒化アルミニウム製ヒー
トシンクとのろう付けには、一般に重量比でAg72%
−Cu28%の銀ろう材(BAg−8)が使用されてい
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前記銀ろう(BAg−
8)は、融点が780℃と比較的高く、高い温度でろう
付け作業を行う必要があった。そのためパッケージ本体
とヒートシンクとの熱膨張差による熱応力が大きくな
り、ろう付け中にヒートシンクが剥離または破壊する恐
れがあるので、従来はパッケージとこれにろう付けすべ
き部材との中間の熱膨張係数を有する金属材料あるいは
弾性変形(塑性変形)の容易な軟質金属材料をスペーサ
としてろう付け部に挿入し、このスペーサにより熱応力
を緩和するようにしていたが、このスペーサの使用によ
りろう付け工程が甚だ煩雑化する欠点があった。
【0004】またパッケージ本体とリードフレームとの
熱膨張差によりリード位置ズレが生じ、パッケージの大
型化、リードフレームのファインピッチ化に対し障害と
なっていた。更にCuまたはCu合金よりなるリードフ
レームにあっては、ろう付け温度の高熱により軟化、変
形する等の問題があって、その使用が阻まれていた。
【0005】またBAg−1(Ag45%−Cu15%
−Zn16%−Cd24%)は、銀ろう内で最も低い融
点(605℃)を有するが、安全衛生上問題のあるカド
ミウムを含むため余り推奨されるものでない。しかし
て、本発明は比較的低い融点を有し低温でろう付け可能
なろう材を用いて、パッケージ本体とヒートシンクとお
よびパッケージ本体とCuまたはCu合金からなるリー
ドフレームとをろう付けしてなるセラミックパッケージ
を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明のセラミックパッ
ケージは、パッケージ本体とヒートシンクとをろう材に
よりろう付けしてなるセラミックパッケージであって、
前記ろう材は、重量%でAg25〜65%とCu15〜
45%、更にInまたはInおよびSn20〜40%か
らなり、600℃以下の融点を有することを特徴とす
る。
【0007】このようなパッケージにおいては、従来よ
りも低い融点を有するろう材を用いるので、従来必須で
あった熱応力緩衝用スペーサを省いてヒートシンクのろ
う付け工程を簡略化することができる。
【0008】また、パッケージ本体と窒化アルミニウム
製ヒートシンクとをろう材によりろう付けしてなるセラ
ミックパッケージであって、前記ろう材は、重量%でA
g25〜65%とCu15〜45%、更にInまたはI
nおよびSn20〜40%からなり、600℃以下の融
点を有することを特徴とするものをも含む。
【0009】このようなパッケージにおいては、従来よ
りも低い融点を有するろう材を用いるので、従来必須で
あった熱応力緩衝用スペーサを省いて窒化アルミニウム
製ヒートシンクのろう付け工程を簡略化することができ
る。
【0010】さらに、パッケージ本体とCuまたはCu
合金からなるリードフレームとをろう付けしてなるセラ
ミックパッケージであって、前記ろう材は、重量%でA
g25〜65%とCu15〜45%、更にInまたはI
nおよびSn20〜40%からなり、600℃以下の融
点を有することを特徴とするものをも含む。
【0011】このようなパッケージを用いれば、ろう付
け温度が低くなるので、従来のろう付け温度では熱変形
等の問題により使用が困難であったCuまたはCu合金
からなるリードフレームのろう付けも容易になる。
【0012】なお、本発明で用いるろう材において、主
成分たるAg−Cu合金に含有するIn、Snは、Ag
−Cu合金の融点を低下させる温度であって、その含有
量が20%に満たないものは融点低下効果が余りなく、
20%以上の添加え初めて融点を600℃以下に下げる
ことができる。また含有量を40%以上とすると主成分
たるAg−Cu合金本来の加工性、流動性を損なうこと
になるので40%を最大限とした。
【0013】
【実施例】Ag、Cu、In、Snをそれぞれ第1表に
示す組成になるように秤量し、得られた銀ろう組成につ
いて、その融点を測定した結果を表1に示す。
【0014】
【表1】
【0015】表1より明らかなように、本発明に用いる
ろう材組成(試料番号1〜5)は、600℃以下の低い
融点を呈し、従来の銀ろうBAg−8(試料番号6)に
比し約200℃も低いことが分かる。
【0016】次に図1に示すように、アルミナよりなる
パッケージ本体1とその下面に配した窒化アルミニウム
よりなるヒートシンク2とをろう付けする構成の半導体
集積回路用セラミックパッケージ;更に図2に示すよう
に、アルミナよりなるパッケージ本体の表面に印刷形成
した配線パターン3のパッド部3aと、Cu合金よりな
るリードフレーム4とをろう付けする構成の半導体集積
回路用セラミックパッケージ製品;の二種類について、
これらのろう付け材5に前記第1表に示す本発明のろう
材組成(試料番号1〜5)を用いた処、いずれも600
℃以下の低いろう付け温度で強固、かつ確実にろう付け
することができた。
【0017】
【効果】以上の通り本発明に用いるろう材によれば、B
Ag−8より約200℃も低い融点を有するので、ろう
付け温度を低くすることが可能となる。
【0018】したがって、このようなろう材によりパッ
ケージ本体と窒化アルミニウム製ヒートシンクとをろう
付けしたセラミックパッケージを用いることにより、従
来必須であった熱応力緩衝用スペーサを省いてろう付け
工程を簡略化し、消費電力量の低減化と相俟って製造コ
ストを大幅に下げることができる。
【0019】また、本発明のろう材によりパッケージ本
体とリードフレームを接続したセラミックパッケージを
用いることにより、従来では熱変形等の問題によりろう
付けが困難であったCuまたはCu合金リードフレーム
のろう付けも容易にすることができる。
【0020】さらに、BAg−1のように有害なカドミ
ウム(Cd)を一切含有しないので、安全にろう付け作
業を行うことができる等、セラミックパッケージ用ろう
材として幾多の利益をもたらすことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のヒートシンク付き半導体集積回路用セ
ラミックパッケージの態様を示す側断面図。
【図2A】本発明のリードフレーム付半導体集積回路用
セラミックパッケージの適用した態様を示す側断面図。
【図2B】その要部を拡大して示す側断面図。
【符号の説明】
1 パッケージ本体 2 ヒートシンク 4 リードフレーム 5 ろう材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C04B 37/00 B23K 35/30 310 H01L 21/52

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】パッケージ本体とヒートシンクとをろう材
    によりろう付けしてなるセラミックパッケージであっ
    て、 前記ろう材は、重量%でAg25〜65%とCu15〜
    45%、更にInまたはInおよびSn20〜40%か
    らなり、600℃以下の融点を有することを特徴とする
    セラミックパッケージ。
  2. 【請求項2】パッケージ本体と窒化アルミニウム製ヒー
    トシンクとをろう材によりろう付けしてなるセラミック
    パッケージであって、 前記ろう材は、重量%でAg25〜65%とCu15〜
    45%、更にInまたはInおよびSn20〜40%か
    らなり、600℃以下の融点を有することを特徴とする
    セラミックパッケージ。
  3. 【請求項3】パッケージ本体とCuまたはCu合金から
    なるリードフレームとをろう付けしてなるセラミックパ
    ッケージであって、 前記ろう材は、重量%でAg25〜65%とCu15〜
    45%、更にInまたはInおよびSn20〜40%か
    らなり、600℃以下の融点を有することを特徴とする
    セラミックパッケージ。
JP4130137A 1992-04-23 1992-04-23 セラミックパッケージ Expired - Lifetime JP3030479B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4130137A JP3030479B2 (ja) 1992-04-23 1992-04-23 セラミックパッケージ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4130137A JP3030479B2 (ja) 1992-04-23 1992-04-23 セラミックパッケージ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05294744A JPH05294744A (ja) 1993-11-09
JP3030479B2 true JP3030479B2 (ja) 2000-04-10

Family

ID=15026847

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4130137A Expired - Lifetime JP3030479B2 (ja) 1992-04-23 1992-04-23 セラミックパッケージ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3030479B2 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100342589B1 (ko) 1999-10-01 2002-07-04 김덕중 반도체 전력 모듈 및 그 제조 방법
US7019394B2 (en) 2003-09-30 2006-03-28 Intel Corporation Circuit package and method of plating the same
DE102004040311B4 (de) * 2004-08-19 2006-08-31 Umicore Ag & Co. Kg Ringscheibe aus gebogenem Bandmaterial
EP2474383B1 (en) * 2009-09-04 2013-11-27 Senju Metal Industry Co., Ltd Lead-free solder alloy, joining member and manufacturing method thereof, and electronic component
JP6018297B2 (ja) * 2013-04-26 2016-11-02 京セラ株式会社 複合積層体および電子装置
JP6575301B2 (ja) * 2014-10-31 2019-09-18 三菱マテリアル株式会社 封止用ペースト、ろう接合材とその製造方法、封止用蓋材とその製造方法、及びパッケージ封止方法
WO2016068272A1 (ja) * 2014-10-31 2016-05-06 三菱マテリアル株式会社 封止用ペースト、ろう接合材とその製造方法、封止用蓋材とその製造方法、及びパッケージ封止方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH05294744A (ja) 1993-11-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101276917B1 (ko) 인듐, 비스무트 및/또는 카드뮴을 포함한 저온 활성 땜납을사용하여 제조된 전자 패키지
JP3461829B2 (ja) 緩衝層を有する電力半導体素子
KR920003594B1 (ko) 반도체용 ain 패키지
US5490627A (en) Direct bonding of copper composites to ceramics
JPH07202063A (ja) セラミックス回路基板
JP4915011B2 (ja) 金属−セラミックス接合基板
JP3030479B2 (ja) セラミックパッケージ
KR920007121B1 (ko) 전자회로 장치
JP2007141948A (ja) 半導体装置
KR100595037B1 (ko) 솔더링 충전재 금속, 이를 이용하는 반도체 디바이스에대한 조립 방법 및 반도체 디바이스
JP2008147309A (ja) セラミックス基板およびこれを用いた半導体モジュール
JPH08102570A (ja) セラミックス回路基板
JP4557398B2 (ja) 電子素子
JPH08274423A (ja) セラミックス回路基板
JP2005177842A (ja) ろう材、これを用いた半導体装置の製造方法並びに半導体装置
JPS6233336Y2 (ja)
JP4601796B2 (ja) 端子付きセラミックス回路基板
JP4528510B2 (ja) 半導体レーザ素子用サブマウント
JP3147601B2 (ja) 高温強度に優れた半導体装置組立用Pb合金はんだ材
JPH0955392A (ja) 半導体装置の半田付け方法
JP3070176B2 (ja) 窒化アルミニウム基板と銅板の接合方法
JP3099541B2 (ja) 放熱フィン用スタッドの処理方法
JPS582755B2 (ja) ハンドウタイソウチヨウロウザイ
JPH01249669A (ja) セラミックス回路基板
JPS6373651A (ja) 半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090210

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090210

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100210

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100210

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110210

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110210

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120210

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120210

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130210

Year of fee payment: 13

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130210

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130210

Year of fee payment: 13