JPS582755B2 - ハンドウタイソウチヨウロウザイ - Google Patents
ハンドウタイソウチヨウロウザイInfo
- Publication number
- JPS582755B2 JPS582755B2 JP10825475A JP10825475A JPS582755B2 JP S582755 B2 JPS582755 B2 JP S582755B2 JP 10825475 A JP10825475 A JP 10825475A JP 10825475 A JP10825475 A JP 10825475A JP S582755 B2 JPS582755 B2 JP S582755B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gold
- brazing
- silicon
- tin
- filler metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
- B23K35/22—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
- B23K35/24—Selection of soldering or welding materials proper
- B23K35/30—Selection of soldering or welding materials proper with the principal constituent melting at less than 1550 degrees C
- B23K35/3013—Au as the principal constituent
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Die Bonding (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、半導体装置における半導体素子のろう付けに
使用される半導体装置用ろう材に関する。
使用される半導体装置用ろう材に関する。
トランジスタ、集積回路等の半導体装置においてゲルマ
ニウムあるいはシリコン半導体素子をステムへろう付け
する際に使用されるろう材には、金一錫共晶合金(金8
0%、錫20φ融点280℃)、金一ゲルマニウム共晶
合金(金88%、ゲルマニウム12%M点356℃)、
金−シリコン共晶合金(金96.85%、シリコン3.
15%、融点370℃)、および金箔(金100%、融
点1063℃)などがある。
ニウムあるいはシリコン半導体素子をステムへろう付け
する際に使用されるろう材には、金一錫共晶合金(金8
0%、錫20φ融点280℃)、金一ゲルマニウム共晶
合金(金88%、ゲルマニウム12%M点356℃)、
金−シリコン共晶合金(金96.85%、シリコン3.
15%、融点370℃)、および金箔(金100%、融
点1063℃)などがある。
金−錫共晶合金ろう材は融点が低く、作業性がよいだめ
多用されている。
多用されている。
しかしながら、半導体素子とのぬれ性が悪いという欠点
があり、このだめの熱的、機械的衝撃による半導体素子
のステム面よりの剥離が度々問題になる。
があり、このだめの熱的、機械的衝撃による半導体素子
のステム面よりの剥離が度々問題になる。
一方、金−ゲルマニウム共晶合金ろう材、金一シリコン
共晶合金ろう材は半導体素子とのぬれ性においては金−
錫共晶合金ろう材よりも優れているが、融点が高いため
若干作業性が劣る。
共晶合金ろう材は半導体素子とのぬれ性においては金−
錫共晶合金ろう材よりも優れているが、融点が高いため
若干作業性が劣る。
前記四種のろう材中、ぬれ性が最も良好なのは金箔ろう
材である。
材である。
特に金−錫共晶合金ろう材はもちろん、金一ゲルマニウ
ム、金−シリコン共晶合金ろう材でも困難な裏面にボロ
ン、リン、アンチモン等の不純物拡散層を残している半
導体素子さえもぬれ性よくステム面にろう付けずること
ができる。
ム、金−シリコン共晶合金ろう材でも困難な裏面にボロ
ン、リン、アンチモン等の不純物拡散層を残している半
導体素子さえもぬれ性よくステム面にろう付けずること
ができる。
しかし、金箔ろう材によるろう付けは金箔自身の融点が
1063℃のため、半導体素子と金箔との間で金一シリ
コン共晶反応が生ずるまでピンセットにより半導体素子
を挾持しこすり続けなければならず、極めて作業性が悪
く、ピンセットにより半導体素子の表面を損傷し易いと
いう欠点がある。
1063℃のため、半導体素子と金箔との間で金一シリ
コン共晶反応が生ずるまでピンセットにより半導体素子
を挾持しこすり続けなければならず、極めて作業性が悪
く、ピンセットにより半導体素子の表面を損傷し易いと
いう欠点がある。
本発明は上記従来のろう材の欠点を改善するためになさ
れたもので、ぬれ性が良くかつ作業性が良いろう材を得
るものである、すなわち本発明の半導体装置用ろう材は
金85.9〜2.9wt%、錫13.9〜90.5wt
%、アルミニウム0.2〜6.6wt%よりなることを
特徴とする。
れたもので、ぬれ性が良くかつ作業性が良いろう材を得
るものである、すなわち本発明の半導体装置用ろう材は
金85.9〜2.9wt%、錫13.9〜90.5wt
%、アルミニウム0.2〜6.6wt%よりなることを
特徴とする。
本発明のろう材は、従来の金一錫合金ろう材と比べて半
導体に対するぬれ性と接着強度が改善され、しかも融点
が低く作業性が良い。
導体に対するぬれ性と接着強度が改善され、しかも融点
が低く作業性が良い。
これは融点が低くかつ活性であるアルミニウムを添加し
たことによるものである。
たことによるものである。
シリコン表面は通常極めて薄いシリコン酸化物で覆われ
ていて、この酸化物がシリコンとろう材のぬれ性を悪く
している。
ていて、この酸化物がシリコンとろう材のぬれ性を悪く
している。
アルミニウムはシリコン酸化物の酸素と反応してシリコ
ン酸化物を還元し、シリコン表面に活性金属シリコンを
形成してろう材とシリコンとの合金化を容易にし、ろう
材のぬれ性を改善すると考えられる。
ン酸化物を還元し、シリコン表面に活性金属シリコンを
形成してろう材とシリコンとの合金化を容易にし、ろう
材のぬれ性を改善すると考えられる。
従ってアルミニウムの添加は小量でよく、実験によれば
0.2%〜6.6%の添加でぬれ性改善の効果があるこ
とが確認された。
0.2%〜6.6%の添加でぬれ性改善の効果があるこ
とが確認された。
この発明の組成をもつ金−錫−アルミニウム合金ろう材
の実施例をあげ、同時にそれぞれの組成について行なっ
た引張強度の試験結果を表に示す。
の実施例をあげ、同時にそれぞれの組成について行なっ
た引張強度の試験結果を表に示す。
ろう付けの強度はシリコン板とろう付対象物とをろう付
けしてシリコン板とろう付対象物とにろう付面に平行で
かつ互に逆向きの引張り力を与え、破断するときの引張
強度で示しだ。
けしてシリコン板とろう付対象物とにろう付面に平行で
かつ互に逆向きの引張り力を与え、破断するときの引張
強度で示しだ。
第1図は引張強度試験を説明する斜視図である。
シリコン板1とろう付対象物2をろう材3により3.6
mm×4.1mmの重なりになるよう固着した後、図の
矢印4の方向に引張る。
mm×4.1mmの重なりになるよう固着した後、図の
矢印4の方向に引張る。
第2図は従来の金−錫共晶合金ろう材を用いた工ときの
引張試験後のシリコン半導体素子ろう付け面の顕微鏡写
真(倍率30倍)であり、第3図は実施例3の本発明ろ
う材を用いたときの引張試験後のシリコン半導体素子ろ
う付け面の顕微鏡写真(倍率30倍)である。
引張試験後のシリコン半導体素子ろう付け面の顕微鏡写
真(倍率30倍)であり、第3図は実施例3の本発明ろ
う材を用いたときの引張試験後のシリコン半導体素子ろ
う付け面の顕微鏡写真(倍率30倍)である。
第2図、第3図において、黒い部分が引張試験の際えぐ
り取られた部分であり、ろう材と合金を形成していた部
分を示す。
り取られた部分であり、ろう材と合金を形成していた部
分を示す。
第2図と第3図とを比較すれば明らかなように、従来の
ろう材では所所しかぬれていないが、本発明のろう材で
はほぼ全面にわたってシリコンえぐり、取られており、
本発明のろう材のぬれ性が良好であることが示される。
ろう材では所所しかぬれていないが、本発明のろう材で
はほぼ全面にわたってシリコンえぐり、取られており、
本発明のろう材のぬれ性が良好であることが示される。
以上の実施例で明らかなように、本発明の半導体装置用
ろう材は種々の利点を有する。
ろう材は種々の利点を有する。
第一に、シリコン半導体素子に対するぬれ性がよく、接
着,強度は従来の金−錫共晶合金ろう材に比較して2〜
5倍強い。
着,強度は従来の金−錫共晶合金ろう材に比較して2〜
5倍強い。
また錫を含有していることによりろう付対称物上面の金
メッキ、銀メッキへのひろがり性がよく作業性は従来品
と同程度に保持される。
メッキ、銀メッキへのひろがり性がよく作業性は従来品
と同程度に保持される。
第二に、銀メツキろう付け可能な点である。
銀メツキステムに対しては、従来金−ゲルマニウム共晶
合金ろう材、金−シリコン共晶合金ろう材、金箔ろう材
によるろう付けはろう付け時溶融した金が急速に銀メッ
キ内に拡散するため、ろう付けが容易ではなかった。
合金ろう材、金−シリコン共晶合金ろう材、金箔ろう材
によるろう付けはろう付け時溶融した金が急速に銀メッ
キ内に拡散するため、ろう付けが容易ではなかった。
一方、本発明の金−錫−アルミニウムろう材では第3図
で示したように銀メツキステムに対してぬれ性よく、か
つ作業性よくろう付けできる。
で示したように銀メツキステムに対してぬれ性よく、か
つ作業性よくろう付けできる。
第三にセラミックとのなじみがよくセラミックに直接ろ
う付け可能な点である。
う付け可能な点である。
セラミックに対しては、錫−鉛ハンタをはじめ金−錫、
金−シリコン、金−ゲルマニウム共晶合金ろう材などは
なじまないため、セラミック上にあらかじめモリブデン
ーマンガンメタライズ層等を設け、その上に金メッキ等
を施してろう付けしていたが、本発明のろう材ではその
必要はない。
金−シリコン、金−ゲルマニウム共晶合金ろう材などは
なじまないため、セラミック上にあらかじめモリブデン
ーマンガンメタライズ層等を設け、その上に金メッキ等
を施してろう付けしていたが、本発明のろう材ではその
必要はない。
これもろう材中のアルミニウムがアルミナと反応し、セ
ラミック表面を活性化しろう材とのなじみをよくすると
考えられる。
ラミック表面を活性化しろう材とのなじみをよくすると
考えられる。
本発明の構成元素のうちアルミニウムは前記したように
ぬれ性改善の役割を果たすが、残りの元素である金と錫
は合金の母体を成すもので、金は半導体素子との金−シ
リコン共晶反応を生ぜしめる役割、錫は合金の融点を下
げ固着作業を容易にする役割をそれぞれ担っている。
ぬれ性改善の役割を果たすが、残りの元素である金と錫
は合金の母体を成すもので、金は半導体素子との金−シ
リコン共晶反応を生ぜしめる役割、錫は合金の融点を下
げ固着作業を容易にする役割をそれぞれ担っている。
この金と錫は次の理由により、金の含有量を85,9〜
2.9重量%、錫の含有量を13.9〜90.5重量%
とし7なければならない。
2.9重量%、錫の含有量を13.9〜90.5重量%
とし7なければならない。
すなわち、金の含有量が85.9重量%より多くなると
合金の融点が高くなり、固着作業が出来なくなり、一方
金の含有量が2.9重量係より少くなくなると半導体素
子と金−シリコン共晶反応が小となり固着強度の低下を
もたらす。
合金の融点が高くなり、固着作業が出来なくなり、一方
金の含有量が2.9重量係より少くなくなると半導体素
子と金−シリコン共晶反応が小となり固着強度の低下を
もたらす。
又、錫の含有量が90.5重量係より多くなると合金の
強度が低下し、半導体素子の固着強度の低下をもたらし
、一方、錫の含有量が13,9重量係より少くなくなる
と合金の融点が高くなり、固着作業が出来なくなるから
である。
強度が低下し、半導体素子の固着強度の低下をもたらし
、一方、錫の含有量が13,9重量係より少くなくなる
と合金の融点が高くなり、固着作業が出来なくなるから
である。
同、本発明の金−錫−アルミニウム合金ろう材に銀、シ
リコンをそれぞれ添加したものとぬれ性、作業性は全く
変わらなかった。
リコンをそれぞれ添加したものとぬれ性、作業性は全く
変わらなかった。
第1図は引張強度試験を説明する斜視図、第2図は従来
の金−錫共晶合金ろう材を用いたときの引張試験後のシ
リコン半導体素子ろう付け面の顕微鏡写真(倍率30倍
)、第3図は本発明のろう材の実施例3を用いたときの
引張試験後のシリコン半導体素子ろう付け面の顕微鏡写
真(倍率30倍)である。 1:シリコン板、2:ろう付対象物、3:ろう材、4:
引張方向。
の金−錫共晶合金ろう材を用いたときの引張試験後のシ
リコン半導体素子ろう付け面の顕微鏡写真(倍率30倍
)、第3図は本発明のろう材の実施例3を用いたときの
引張試験後のシリコン半導体素子ろう付け面の顕微鏡写
真(倍率30倍)である。 1:シリコン板、2:ろう付対象物、3:ろう材、4:
引張方向。
Claims (1)
- 1金が85.9〜2,9重量%、錫が13.9〜90,
5重量%のろう材であって、さらに0.2〜6.6重量
%のアルミニウムが添加されていることを特徴とする半
導体装置用ろう材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10825475A JPS582755B2 (ja) | 1975-09-05 | 1975-09-05 | ハンドウタイソウチヨウロウザイ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10825475A JPS582755B2 (ja) | 1975-09-05 | 1975-09-05 | ハンドウタイソウチヨウロウザイ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5232266A JPS5232266A (en) | 1977-03-11 |
JPS582755B2 true JPS582755B2 (ja) | 1983-01-18 |
Family
ID=14479989
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10825475A Expired JPS582755B2 (ja) | 1975-09-05 | 1975-09-05 | ハンドウタイソウチヨウロウザイ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS582755B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014200794A (ja) * | 2013-04-01 | 2014-10-27 | 住友金属鉱山株式会社 | Au−Sn系はんだ合金 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5770099A (en) * | 1980-10-20 | 1982-04-30 | Seiko Epson Corp | Gold brazing filler metal |
JPH0726941B2 (ja) * | 1986-05-30 | 1995-03-29 | 光洋精工株式会社 | 軸受寿命予知方法 |
-
1975
- 1975-09-05 JP JP10825475A patent/JPS582755B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014200794A (ja) * | 2013-04-01 | 2014-10-27 | 住友金属鉱山株式会社 | Au−Sn系はんだ合金 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5232266A (en) | 1977-03-11 |
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