JP3029660B2 - グラビア印刷の印刷不良防止方法 - Google Patents

グラビア印刷の印刷不良防止方法

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JP3029660B2 JP02275526A JP27552690A JP3029660B2 JP 3029660 B2 JP3029660 B2 JP 3029660B2 JP 02275526 A JP02275526 A JP 02275526A JP 27552690 A JP27552690 A JP 27552690A JP 3029660 B2 JP3029660 B2 JP 3029660B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はグラビア印刷の印刷不良防止方法に関し,特
に,非画線部に生じるかぶりと言われる印刷不良を防止
する方法に関する。
〔従来の技術〕
グラビア印刷に用いる版は,第4図に示すようにして
作られている。すなわち,版5を構成する鉄芯1の外周
面に銅メッキを施して銅メッキ層2を形成し,その銅面
上に銀の薄膜を形成し,その上に銅メッキを施して銅メ
ッキ層2′を形成し,その銅メッキ層2′に絵柄となる
穴を掘ってセル3を形成し,その後,版の耐摩耗性向上
のため,外周全面にクロムメッキを施してクロムメッキ
層4を形成している。このようにして形成した版5を用
いてグラビア印刷を行うには,第5図に示すように,版
5にインキパン6のインキ7を供給し,セルの中に入っ
たインキ以外の余剰のインキをドクター8によりかき落
とし,セルの中に入ったインキを,圧胴9によって版5
に押付けられた被印刷材10に転写し,印刷している。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが,このグラビア印刷において,版5の非画線
部表面のインキをドクターでかき落としているにもかか
わらず,被印刷材の非画線部にインキが転写し,いわゆ
るかぶりを生じるという問題があった。このかぶりに
は,面状にうすく生じるもの,線状に比較的濃く生じる
もの等,種々のものがある。
本発明はかかる従来の問題点に鑑みなされたもので,
主としてこの面状に生じるかぶりによる印刷不良を防止
することの可能なグラビア印刷の印刷不良防止方法を提
供することを目的とする。
本発明者等は,上記問題点を解決すべく鋭意検討の結
果,上記の面状のかぶりはグラビア印刷版の非画線部の
表面の微小な凸部によって生じていることを見出した。
一般に版表面は0.1S程度の表面粗さとされており,この
程度の表面粗さではかぶりは生じないものと考えられて
いた。これは次の理由による。すなわち,ドクターによ
って余剰のインキをかき落とした際表面の微小な凹み内
にはインキが残留するが,その残留インキが0.1μm程
度の凹み内に存在するのみであれば,被印刷材への転写
位置に達するまでに乾燥して転写することがなく,この
ため,表面粗さは0.1S程度で十分であり,それ以上の平
滑化は不要であると考えられていた。ところが,ドクタ
ーによって余剰インキをかき落とす際,ドクターが版表
面にある微小な凸部にぶつかって跳ね上がり,このた
め,良好なインキかき落としができず,版表面の凹部内
のみならずその凹部や凸部の上方にまでインキが残留し
てしまい,この残留インキが被印刷材に転写して面状の
うすいかぶりとなっていた。そして,この版表面の微小
な凸部によるドクターの跳ね上がりを防止するには,極
めて微小な砥粒を用いて研摩を行い,版表面の凸部先端
を平坦化することが有効であり,特に砥粒として#3000
以上のものを用いることが有効であることを見出した。
〔課題を解決するための手段〕
本発明はかかる知見に基づいてなされたもので,グラ
ビア印刷版表面の非画線部を#3000〜#5000の砥粒によ
って研摩し,版表面に生じている微細凹凸の凸部を小さ
くすることを特徴とするグラビア印刷の印刷不良防止方
法を要旨とする。
本発明の実施に際して,砥粒の使用形態は特に限定さ
れず,例えば,フィルム等の基材に砥粒を付けた研摩材
を使用する方法,砥石形態として使用する方法,遊離砥
粒として使用する方法等任意である。
本発明は,従来の0.1S程度の版表面を直接,#3000〜
#5000の砥粒によって研摩してもよいが,それに先立っ
て,#3000よりも小さい番手の砥粒(例えば,#2000)
による研摩を行ってもよい。
版に対する研摩の時期は,絵柄となるセルを形成する
前の銅メッキ層に対して行ってもよいし,或いはその銅
メッキ層に絵柄となるセルを形成した後に行ってもよい
し,更にはクロムメッキ層を形成した後に行ってもよ
い。また,これらの各工程のいずれかで1回行う場合に
限らず,複数の工程でそれぞれ行ってもよい。なお,上
記したように研摩の時期は特に限定されないが,研摩時
に表面を傷つけにくいという点から,クロムメッキ層に
対して研摩を行うことが好ましい。また,クロムメッキ
層に研摩を行うと,最終表面を研摩して所望の表面粗さ
を確保できるので,この点からも好ましい。
〔作用〕
上記した本発明方法によって版表面を研摩すると,被
画線部にある凹凸の凸部が小さくなり,かつ平滑化す
る。このため,ドクターが余剰インキをかき落とす際ド
クターの跳ね上がりがなくなり,インキの良好なかき落
としが可能となり,面状のかぶりを防止することができ
る。また,ドクターの摩耗も減らすことができるので,
長期間に渡って良好なインキのかき落としが可能であ
り,かぶりを防止できる。
以下,図面を参照して更に詳細に説明する。第2図は
従来の版5の表面(表面粗さ0.1S程度)を誇張して示す
ものである。この版5の表面は微小な凹凸を有してお
り,その凸部12は比較的尖っている。このような凹凸の
ある表面のインキ7をドクターによってかき落とす際,
ドクターが凸部12にぶつかって跳ね上がることがあり,
良好なインキのかき落としができず,インキ7は図示し
たように凹部内のみならずその凹部や凸部上方全体に残
留する可能性があり,このインキ7が被印刷材に転写し
てかぶりとなっていた。これに対し,上記したように微
小な砥粒で研摩した版表面は,第1図に示すように,凹
凸は有しているものの,その凸部13の頂部は比較的平坦
になっており,このため,ドクターでのインキかき落と
しが良好であり,インキ7は凹部内のみに残留する。こ
の凹部内の微量なインキ7は被印刷材に接触するまでに
乾燥してしまうため被印刷材に対して転写することはな
く,このため,かぶりを生じることはほとんどない。か
くして,かぶり防止を行うことができる。
本発明者等が確認した結果,#3000よりも小さい番手
の砥粒を用いた研摩では所望の平滑さが得られず,かぶ
りが生じやすい。従って,砥粒としては#3000以上のも
のを用いる必要がある。一方,#5000より大きい砥粒で
は,必要な平滑さを得てかぶり防止を行うことができる
ものの,研摩速度が遅くなり経済的ではない。これらの
結果,本発明では#3000〜#5000の砥粒を用いて研摩を
行うことを特徴とする。
凸部13の頂部を平坦化するのみならず,凹部の幅を小
さくすることもドクターの跳ね上がりを防止し,良好な
インキかき落としに効果がある。このため,表面粗さを
極力小さくすることも好ましい。表面粗さを小さくする
には,#3000以上の砥粒で研摩する前に,#2000程度の
砥粒で研摩することが有効である。
上記したように#3000〜#5000の砥粒を用いて研摩を
行い,かぶりを防止した版の表面粗さを測定したとこ
ろ,その表面粗さは0.08S〜0.05S程度であった。従っ
て,表面粗さを0.08S〜0.05Sとすることが好ましい。
〔実施例〕
第3図は本発明によって版表面を研摩する方法の1例
を示す概略斜視図である。5は研摩されるべき版であ
り,その両端を回転軸(図示せず)で保持され,矢印A
で示す方向に高速回転(例えば,400rpm)している。こ
の版5に,フィルム等の基材表面に研摩用の砥粒を付着
させてなる研摩材15をゴムロール16で押付け,研摩材15
を少しずつ矢印B方向に送る。同時に全体を矢印Cで示
すように揺動させながら,少しずつ矢印Dで示すように
版5の軸方向に移動させる。これにより,研摩材15に付
着させた砥粒によって版表面全体を研摩することができ
る。本発明では,この研摩材15に取付ける砥粒として,
#3000〜#5000の砥粒を使用するものである。
次に具体的な実施例及び比較例を説明する。
実施例1 クロムメッキ層4を形成した版5(表面粗さ約0.1S)
に,第3図に示す方法で,且つ研摩材15として#2000の
砥粒を取付けたものを用いて2分間(単位面積当たり)
研摩し,更にその後,第3図に示す方法で,且つ研摩材
15として#3000の砥粒を取付けたものを用いて2分間
(単位面積当たり)研摩した。
研摩後の表面粗さは,0.07Sであった。また,その版を
用いて印刷テスト(油性インク,水性インク使用)を行
い,かぶりの発生状況を調査したところ,ほとんどかぶ
りはみられなかった。
実施例2 クロムメッキ層4を形成した版5(表面粗さ約0.1S)
に,第3図に示す方法で,且つ研摩材15として#2000の
砥粒を取付けたものを用いて2分間(単位面積当たり)
研摩し,更にその後,第3図に示す方法で,且つ研摩材
15として#5000の砥粒を取付けたものを用いて2分間
(単位面積当たり)研摩した。
研摩後の表面粗さは0.05Sであった。また,その版を
用いて印刷テスト(油性インク,水性インク使用)を行
い,がぶりの発生状況を調査したところ,全くかぶりは
見られなかった。
比較例1 クロムメッキ層4を形成した版5(表面粗さ約0.1S)
に,第3図に示す方法で,且つ研摩材15として#2000の
砥粒を取付けたものを用いて2分間(単位面積当たり)
研摩した。
研摩後の表面粗さは0.09Sであった。また,その版を
用いて印刷テスト(油性インク,水性インク使用)を行
い,がぶりの発生状況を調査したところ,かぶりがすこ
し生じていた。
比較例2 クロムメッキ層4を形成した版5(表面粗さ約0.1S)
に,第3図に示す方法で,且つ研摩材15として#600の
砥粒を取付けたものを用いて0.5分間(単位面積当た
り)研摩した。
研摩後の表面粗さは0.15Sあった。また,その版を用
いて印刷テスト(油性インク,水性インク使用)を行
い,がぶりの発生状況を調査したところ,かなりのかぶ
りが生じた。
以上の結果から明らかなように,#3000〜#5000の砥
粒で研摩した実施例1,2の版では比較例1,2に比べてかぶ
り防止効果が大きかった。
〔発明の効果〕
以上のように,本発明はグラビア印刷版の表面を,非
常に微細な砥粒(#3000〜#5000)で研摩し,凸部を小
さく且つその頂部を平坦化することにより,ドクターに
よるインキかき落としを良好とし,かぶりによる印刷不
良を防止することができると共に,ドクターの摩耗を少
なくでき,生産コストを低減し,かつ常に良品を提供す
ることができるという効果を有している。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明方法によって得られる版の表面状態を誇
張して示す概略断面図,第2図は従来の版表面状態を誇
張して示す概略断面図,第3図は本発明方法を実施する
状態の1例を示す概略斜視図,第4図は一般的な版の製
造工程を示す概略側面図,第5図はグラビア印刷方式を
概略的に示す側面図である。 1……鉄芯,2,2′……銅メッキ層,3……セル,4……クロ
ムメッキ層,5……版,6……インキパン,7……インキ,8…
…ドクター,9……圧胴,10……被印刷材,12,13……凸部,
15……研摩材,16……ゴムロール。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三島 秀明 東京都新宿区市谷加賀町1丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (56)参考文献 特開 昭54−121805(JP,A) 特表 昭63−502096(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B41N 1/06 B41N 3/04

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】グラビア印刷版表面の非画線部を#3000〜
    #5000の砥粒によって研摩し,版表面に生じている微細
    凹凸の凸部を小さくすることを特徴とするグラビア印刷
    の印刷不良防止方法。
  2. 【請求項2】クロムメッキ層を形成した後のグラビア印
    刷版表面の非画線部を#3000〜#5000の砥粒によって研
    摩し,版表面に生じている微細凹凸の凸部を小さくする
    ことを特徴とするグラビア印刷の印刷不良防止方法。
  3. 【請求項3】研摩後の表面が,表面粗さで0.08〜0.05S
    となっていることを特徴とする請求項1又は2記載のグ
    ラビア印刷の印刷不良防止方法。
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