JP2983276B2 - グラビア印刷版の研摩方法 - Google Patents
グラビア印刷版の研摩方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は，グラビア印刷版の表面の研摩方法に関す
る。
る。
一般に，グラビア印刷に用いる版は，第６図に示すよ
うにして作られている。すなわち，版５を構成する鉄芯
１の外周面に銅メッキを施して銅メッキ層２を形成し，
その銅面上に銀の薄膜を形成し，その上に銅メッキを施
して銅メッキ層２′を形成し，その銅メッキ層２′に絵
柄となる穴を掘ってセル３を形成し、その後，版の耐摩
耗性向上のため，外周全面にクロム メッキを施してク
ロムメッキ層４を形成している。このようにして形成し
た版５を用いてグラビア印刷を行うには，第７図に示す
ように，版５にインキパン６のインキ７を供給し，セル
の中に入ったインキ以外の余剰のインキをドクター８に
よりかき落とし，セルの中に入ったインキを，圧胴９に
よって版５に押し付けられた被印刷材10に転写し，印刷
している。
うにして作られている。すなわち，版５を構成する鉄芯
１の外周面に銅メッキを施して銅メッキ層２を形成し，
その銅面上に銀の薄膜を形成し，その上に銅メッキを施
して銅メッキ層２′を形成し，その銅メッキ層２′に絵
柄となる穴を掘ってセル３を形成し、その後，版の耐摩
耗性向上のため，外周全面にクロム メッキを施してク
ロムメッキ層４を形成している。このようにして形成し
た版５を用いてグラビア印刷を行うには，第７図に示す
ように，版５にインキパン６のインキ７を供給し，セル
の中に入ったインキ以外の余剰のインキをドクター８に
よりかき落とし，セルの中に入ったインキを，圧胴９に
よって版５に押し付けられた被印刷材10に転写し，印刷
している。
ところが，このグラビア印刷において，版５の非画線
部表面のインキをドクターでかき落としているにもかか
わらず，被印刷材の非画線部にインキが転写し，印刷不
良（いわゆるかぶり）を生じるという問題があった。こ
のかぶりは版表面が粗いと生じやすいため，版表面を研
摩して平滑にすることが行われており，通常，銅メッキ
後の銅メッキ層２′の表面を研摩するか，或いはクロム
メッキ後のクロムメッキ層４の表面を研摩し，表面粗さ
を0.1S制度に仕上げていた。研摩方法としては，砥石研
摩，バフ研摩，ペーパ・テープ研摩，遊離砥粒研摩，ホ
ーニング等の砥粒を用いた機械研摩や腐食液を用いた化
学研摩が行われていた。
部表面のインキをドクターでかき落としているにもかか
わらず，被印刷材の非画線部にインキが転写し，印刷不
良（いわゆるかぶり）を生じるという問題があった。こ
のかぶりは版表面が粗いと生じやすいため，版表面を研
摩して平滑にすることが行われており，通常，銅メッキ
後の銅メッキ層２′の表面を研摩するか，或いはクロム
メッキ後のクロムメッキ層４の表面を研摩し，表面粗さ
を0.1S制度に仕上げていた。研摩方法としては，砥石研
摩，バフ研摩，ペーパ・テープ研摩，遊離砥粒研摩，ホ
ーニング等の砥粒を用いた機械研摩や腐食液を用いた化
学研摩が行われていた。
しかし，上記した従来の方法によって版表面を研摩し
ても，依然としてかぶりが生じる場合があった。
ても，依然としてかぶりが生じる場合があった。
本発明者等は，このかぶりを防止すべく鋭意検討の結
果，版表面を更に平滑に，例えば，粗さ0.08S程度或い
はそれ以上の平滑さに仕上げることが有効であることを
見出した。ところが，版面を上記した従来の機械研摩に
よって粗さ0.08S程度の平滑さに仕上げるには，微細な
砥粒を用いなければならず，そのため，極めて長時間
（例えば,2〜３時間／本）かかってしまい，実用的では
ないという問題が生じた。また，化学研摩を行っても不
働態被膜により，やはり研摩に時間がかかり，しかも腐
食むらによって必要な平滑さを得ることが困難であっ
た。
果，版表面を更に平滑に，例えば，粗さ0.08S程度或い
はそれ以上の平滑さに仕上げることが有効であることを
見出した。ところが，版面を上記した従来の機械研摩に
よって粗さ0.08S程度の平滑さに仕上げるには，微細な
砥粒を用いなければならず，そのため，極めて長時間
（例えば,2〜３時間／本）かかってしまい，実用的では
ないという問題が生じた。また，化学研摩を行っても不
働態被膜により，やはり研摩に時間がかかり，しかも腐
食むらによって必要な平滑さを得ることが困難であっ
た。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので，印刷
不良（かぶり）を防止すべく版表面を平滑に短時間で研
摩することの可能なグラビア印刷版の研摩方法を提供す
ることを目的とする。
不良（かぶり）を防止すべく版表面を平滑に短時間で研
摩することの可能なグラビア印刷版の研摩方法を提供す
ることを目的とする。
本発明者等はかぶりを防止すべく鋭意検討の結果，版
表面に存在している微小な凹凸のうち，その凸部を小さ
くすることがかぶり防止に極めて有効であり，また，化
学研摩と機械研摩を同時に行うとその凸部を極めて短時
間で小さくすることができることを見出し，本発明を完
成した。
表面に存在している微小な凹凸のうち，その凸部を小さ
くすることがかぶり防止に極めて有効であり，また，化
学研摩と機械研摩を同時に行うとその凸部を極めて短時
間で小さくすることができることを見出し，本発明を完
成した。
すなわち，本発明は，グラビア印刷版表面を，腐食液
による化学研摩と砥粒による機械研摩を同時に行う化学
機械研摩によって平滑に仕上げることを特徴とするグラ
ビア印刷版の研摩方法を要旨とする。
による化学研摩と砥粒による機械研摩を同時に行う化学
機械研摩によって平滑に仕上げることを特徴とするグラ
ビア印刷版の研摩方法を要旨とする。
本発明に使用する腐食液としては，研摩面に対して腐
食性を有するものであればよく，例えば，塩酸，硫酸等
を使用できる。本発明ではこのような腐食液を研摩面に
かけながら，機械研摩を行うものであるが，その際の機
械研摩としては，バフ，遊離砥粒，固定砥粒等なんでも
よい。使用する砥粒としては，研摩面を平滑にする上か
ら微細なものが好ましく，例えば，＃2000〜＃6000のも
のが好適である。
食性を有するものであればよく，例えば，塩酸，硫酸等
を使用できる。本発明ではこのような腐食液を研摩面に
かけながら，機械研摩を行うものであるが，その際の機
械研摩としては，バフ，遊離砥粒，固定砥粒等なんでも
よい。使用する砥粒としては，研摩面を平滑にする上か
ら微細なものが好ましく，例えば，＃2000〜＃6000のも
のが好適である。
研摩面に対して所定時間の化学機械研摩を行った後
は，その研摩面を水洗して腐食液を洗い流すか，中和剤
を供給して中和させ，腐食の進行を止めることが必要で
ある。
は，その研摩面を水洗して腐食液を洗い流すか，中和剤
を供給して中和させ，腐食の進行を止めることが必要で
ある。
版に対する化学機械研摩は，絵柄となるセルを形成す
る前の銅メッキ層に対して行ってもよいし，或いはその
銅メッキ層に絵柄となるセルを形成した後に行っても良
いし，更にはクロムメッキ層を形成した後に行ってもよ
い。
る前の銅メッキ層に対して行ってもよいし，或いはその
銅メッキ層に絵柄となるセルを形成した後に行っても良
いし，更にはクロムメッキ層を形成した後に行ってもよ
い。
上記本発明方法によれば、腐食液による版表面の金属
溶出作用と，研摩面に生じる不働態酸化被膜の砥粒によ
る除去作用との複合により，極めて敏速に，例えば数分
で表面仕上げを行うことができる。特に化学研摩では，
表面の微小な凹凸のうち，凸部先端から優先的に金属溶
出が生じるので，凸部先端が平坦化した極めて平滑な表
面が得られる。
溶出作用と，研摩面に生じる不働態酸化被膜の砥粒によ
る除去作用との複合により，極めて敏速に，例えば数分
で表面仕上げを行うことができる。特に化学研摩では，
表面の微小な凹凸のうち，凸部先端から優先的に金属溶
出が生じるので，凸部先端が平坦化した極めて平滑な表
面が得られる。
この表面はかぶり防止に極めて有効である。すなわ
ち，従来行われていた砥石研摩，バフ研摩等の機械研摩
では，一般に第５図に誇張して示すように，版５の表面
は微小な凹凸を有しており，その凸部12は比較的尖って
いる。このような凹凸のある表面のインキ７をドクター
によってかき落とす際，ドクターが凸部にぶつかって跳
ね上がり，良好なインキのかき落としができず，インキ
７は図示したように微小な凹部内のみならずその表面全
体に残留する可能性があり，このインキ７が被印刷材に
転写してかぶりとなっていた。これに対し，本発明方法
で研摩した版表面は，第４図に誇張して示すように，凹
凸を有しているものの，その凸部13の頂部は比較的平坦
になっており，このため，ドクターでのインキかき落と
しが良好であり，インキ７は凹部内のみに残留する。こ
の凹部内の微量なインキ７は被印刷材に接触するまでに
乾燥してしまうため被印刷材に対して転写することはな
く，このため，かぶりを生じることはほとんどない。か
くして，かぶり防止を行うことができる。
ち，従来行われていた砥石研摩，バフ研摩等の機械研摩
では，一般に第５図に誇張して示すように，版５の表面
は微小な凹凸を有しており，その凸部12は比較的尖って
いる。このような凹凸のある表面のインキ７をドクター
によってかき落とす際，ドクターが凸部にぶつかって跳
ね上がり，良好なインキのかき落としができず，インキ
７は図示したように微小な凹部内のみならずその表面全
体に残留する可能性があり，このインキ７が被印刷材に
転写してかぶりとなっていた。これに対し，本発明方法
で研摩した版表面は，第４図に誇張して示すように，凹
凸を有しているものの，その凸部13の頂部は比較的平坦
になっており，このため，ドクターでのインキかき落と
しが良好であり，インキ７は凹部内のみに残留する。こ
の凹部内の微量なインキ７は被印刷材に接触するまでに
乾燥してしまうため被印刷材に対して転写することはな
く，このため，かぶりを生じることはほとんどない。か
くして，かぶり防止を行うことができる。
第１図は本発明方法を実施するための装置の１例を示
す概略斜視図，第２図はその概略断面図，第３図はその
概略側面図である。５は研摩されるべき版であり，その
両端を回転軸（図示せず）で保持され，矢印Ａで示す方
向に回転するようになっている。15は，表面に研摩用の
砥粒を有する帯状の研摩材であり，供給ロール（図示せ
ず）から繰り出され，巻取ロール（図示せず）に巻取ら
れるようになっている。16は研摩材15を版５表面に押付
けるゴムロール,17は研摩材15で研摩される版表面に腐
食液を供給する腐食液供給ノズル,18は，研摩材15によ
る研摩領域から適当な距離だけ離れた位置に配置された
洗浄液供給ノズルである。これらの研摩材15,ゴムロー
ル16,腐食液供給ノズル17,洗浄液供給ノズル18等は，版
５に沿って移動する移動台（図示せず）に保持されてい
る。
す概略斜視図，第２図はその概略断面図，第３図はその
概略側面図である。５は研摩されるべき版であり，その
両端を回転軸（図示せず）で保持され，矢印Ａで示す方
向に回転するようになっている。15は，表面に研摩用の
砥粒を有する帯状の研摩材であり，供給ロール（図示せ
ず）から繰り出され，巻取ロール（図示せず）に巻取ら
れるようになっている。16は研摩材15を版５表面に押付
けるゴムロール,17は研摩材15で研摩される版表面に腐
食液を供給する腐食液供給ノズル,18は，研摩材15によ
る研摩領域から適当な距離だけ離れた位置に配置された
洗浄液供給ノズルである。これらの研摩材15,ゴムロー
ル16,腐食液供給ノズル17,洗浄液供給ノズル18等は，版
５に沿って移動する移動台（図示せず）に保持されてい
る。
次に，上記装置による化学機械研摩方法を説明する。
版５に研摩材15がゴムロール16によって押付けられた状
態で，版５が矢印Ａ方向に回転し，同時に腐食液例えば
希塩酸，希硫酸が腐食液供給ノズル17から版面に供給さ
れる。腐食液の供給量としては，研摩材15による研摩面
をわずかに濡らす程度でよい。これにより，砥粒によっ
て機械的に研摩されると共に，版表面が腐食液によって
腐食され，版表面に形成される不働態酸化被膜が砥粒に
より除去され，版表面の凸部の金属が腐食液中に溶出す
る。かくして，版表面が敏速に研摩され，特に版表面の
凹凸の凸部が平滑化され，平滑な研摩面から得られる。
なお，この時，研摩材15は新たな部分で研摩するように
矢印Ｂ方向に少しずつ移動している。研摩材15,ゴムロ
ール16,腐食液供給ノズル17,洗浄液供給ノズル18等は，
研摩の進行につれて矢印Ｃで示すように版５に沿って移
動し，これにより版５の全面が研摩される。この時，洗
浄液供給ノズル18は研摩材15及び腐食液によって研摩さ
れた面に洗浄液例えば水或いは腐食液の中和剤を供給
し，残留している腐食液を洗い流すか或いは中和する。
これにより，それ以後の腐食の進行が阻止され，版表面
は平滑状態に保たれる。洗浄液供給ノズル18の位置とし
ては，供給した洗浄液が研摩位置にある腐食液に干渉し
ない程度に離れた位置とすることが好ましい。
版５に研摩材15がゴムロール16によって押付けられた状
態で，版５が矢印Ａ方向に回転し，同時に腐食液例えば
希塩酸，希硫酸が腐食液供給ノズル17から版面に供給さ
れる。腐食液の供給量としては，研摩材15による研摩面
をわずかに濡らす程度でよい。これにより，砥粒によっ
て機械的に研摩されると共に，版表面が腐食液によって
腐食され，版表面に形成される不働態酸化被膜が砥粒に
より除去され，版表面の凸部の金属が腐食液中に溶出す
る。かくして，版表面が敏速に研摩され，特に版表面の
凹凸の凸部が平滑化され，平滑な研摩面から得られる。
なお，この時，研摩材15は新たな部分で研摩するように
矢印Ｂ方向に少しずつ移動している。研摩材15,ゴムロ
ール16,腐食液供給ノズル17,洗浄液供給ノズル18等は，
研摩の進行につれて矢印Ｃで示すように版５に沿って移
動し，これにより版５の全面が研摩される。この時，洗
浄液供給ノズル18は研摩材15及び腐食液によって研摩さ
れた面に洗浄液例えば水或いは腐食液の中和剤を供給
し，残留している腐食液を洗い流すか或いは中和する。
これにより，それ以後の腐食の進行が阻止され，版表面
は平滑状態に保たれる。洗浄液供給ノズル18の位置とし
ては，供給した洗浄液が研摩位置にある腐食液に干渉し
ない程度に離れた位置とすることが好ましい。
なお，上記実施例では，版５全長に比べて狭い幅の研
摩材15を用い，この研摩材15を版５に沿って移動させる
構成としたが，本発明はこの場合に限らず，版５全長と
同じ幅の研摩材を用い，版５全体を同時に研摩するよう
に構成してもよい。この場合には，版５全体に腐食液を
供給する必要があるが，複数の腐食液供給ノズルを設け
ることにより，容易に実施可能である。
摩材15を用い，この研摩材15を版５に沿って移動させる
構成としたが，本発明はこの場合に限らず，版５全長と
同じ幅の研摩材を用い，版５全体を同時に研摩するよう
に構成してもよい。この場合には，版５全体に腐食液を
供給する必要があるが，複数の腐食液供給ノズルを設け
ることにより，容易に実施可能である。
次に，第１図〜第３図に示す装置を用いて実際に版５
に対する化学機械研摩を行った結果を示す。
に対する化学機械研摩を行った結果を示す。
版５として，セルメイクした銅メッキ層上にクロムメ
ッキ層を形成したものを用意した。その版５の直径は20
0mm,長さは700mm,表面粗さは0.1Sであった。
ッキ層を形成したものを用意した。その版５の直径は20
0mm,長さは700mm,表面粗さは0.1Sであった。
この版５を第１図に示す装置にセットし，版５の回転
数を100rpm,研摩材15の幅を50mm,研摩材15と洗浄液供給
ノズル18との間隔を50mm,研摩材15,腐食液供給ノズル17
等の矢印Ａ方向の送り速度を100mm/分で研摩を行った。
使用腐食液は５重量％の希硫酸，供給量は約15cc/分，
洗浄液は水，供給量は約150cc/分であった。以上の条件
で研摩を行い,1本の版を７分で研摩できた。得られた版
表面の粗さを測定したところ,0.05Sであった。
数を100rpm,研摩材15の幅を50mm,研摩材15と洗浄液供給
ノズル18との間隔を50mm,研摩材15,腐食液供給ノズル17
等の矢印Ａ方向の送り速度を100mm/分で研摩を行った。
使用腐食液は５重量％の希硫酸，供給量は約15cc/分，
洗浄液は水，供給量は約150cc/分であった。以上の条件
で研摩を行い,1本の版を７分で研摩できた。得られた版
表面の粗さを測定したところ,0.05Sであった。
この版５を用いて印刷テスト（油性インキ，水性イン
キ使用）を行ったところ，油性インキ，水性インキのい
ずれにおいても印刷不良（かぶり）は生じなかった。
キ使用）を行ったところ，油性インキ，水性インキのい
ずれにおいても印刷不良（かぶり）は生じなかった。
以上のように，本発明はグラビア印刷版に化学研摩と
機械研摩を同時に施すことにより，きわめて短時間で目
的とする表面を得ることができ，印刷不良（かぶり）を
防止できるという効果を有している。
機械研摩を同時に施すことにより，きわめて短時間で目
的とする表面を得ることができ，印刷不良（かぶり）を
防止できるという効果を有している。
第１図は本発明方法を実施するための装置の１例を示す
概略斜視図，第２図はその概略断面図，第３図はその概
略側面図，第４図は本発明方法によって得られる表面状
態を誇張して示す概略断面図，第５図は従来の機械研摩
によって得られる表面状態を誇張して示す概略断面図，
第６図は一般的な版の製造工程を示す概略側面図，第７
図はグラビア印刷方式を概略的に示す側面図である。 １……鉄芯,2,2′……銅メッキ層,3……セル,4……クロ
ムメッキ層,5……版,6……インキパン,7……インキ,8…
…ドクター,9……圧胴,10……被印刷材,12,13……凸部,
15……研摩材,16……ゴムロール,17……腐食液供給ノズ
ル,18……洗浄液供給ノズル。
概略斜視図，第２図はその概略断面図，第３図はその概
略側面図，第４図は本発明方法によって得られる表面状
態を誇張して示す概略断面図，第５図は従来の機械研摩
によって得られる表面状態を誇張して示す概略断面図，
第６図は一般的な版の製造工程を示す概略側面図，第７
図はグラビア印刷方式を概略的に示す側面図である。 １……鉄芯,2,2′……銅メッキ層,3……セル,4……クロ
ムメッキ層,5……版,6……インキパン,7……インキ,8…
…ドクター,9……圧胴,10……被印刷材,12,13……凸部,
15……研摩材,16……ゴムロール,17……腐食液供給ノズ
ル,18……洗浄液供給ノズル。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三島 秀明 東京都新宿区市谷加賀町１丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−184854（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−305640（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−185634（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−146107（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−121805（ＪＰ，Ａ) 特開 昭53−110948（ＪＰ，Ａ) 特開 昭51−48887（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−105603（ＪＰ，Ａ) 特公 昭34−5463（ＪＰ，Ｂ１) 実公 昭26−1536（ＪＰ，Ｙ１) 特表 昭63−502096（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B41N 1/06 B41N 3/04 B41N 3/03 B41C 1/18
Claims (1)
- 【請求項１】グラビア印刷版表面を，腐食液による化学
研摩と砥粒による機械研摩を同時に行う化学機械研摩に
よって平滑に仕上げることを特徴とするグラビア印刷版
の研摩方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2274270A JP2983276B2 (ja) | 1990-10-12 | 1990-10-12 | グラビア印刷版の研摩方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2274270A JP2983276B2 (ja) | 1990-10-12 | 1990-10-12 | グラビア印刷版の研摩方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04148932A JPH04148932A (ja) | 1992-05-21 |
| JP2983276B2 true JP2983276B2 (ja) | 1999-11-29 |
Family
ID=17539322
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2274270A Expired - Fee Related JP2983276B2 (ja) | 1990-10-12 | 1990-10-12 | グラビア印刷版の研摩方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2983276B2 (ja) |
-
1990
- 1990-10-12 JP JP2274270A patent/JP2983276B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
| JPH04148932A (ja) | 1992-05-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |