JP3027497B2

JP3027497B2 - きのこの栽培方法

Info

Publication number: JP3027497B2
Application number: JP5352660A
Authority: JP
Inventors: 修士足立; 隆彦馬場; 政明山内
Original assignee: 鐘紡株式会社
Priority date: 1993-12-28
Filing date: 1993-12-28
Publication date: 2000-04-04
Anticipated expiration: 2015-04-04
Also published as: JPH07194246A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、原木榾木や人工榾木か
らきのこを発茸させる際に、簡便かつ確実に集中して発
茸させることができる、きのこの栽培方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、原木榾木や人工榾木（菌床、培
養基）からのきのこの発生（発茸）を促すためには、菌
糸が蔓延した原木や完熟培養基を、栄養生長から生殖生
長へ転換し、子実体（きのこ）原基形成をすることが必
要である。発茸を促す方法は、きのこの種類毎に異なっ
ており、例えば、エノキタケやヒラタケでは、菌掻き操
作が実施されている。この方法は、容器に収容された培
養基の上面を掻き取って刺激を与え、発茸させるもので
ある。しかしながら、この方法では、菌掻き操作と共
に、低温刺激を与える必要があり、菌掻き操作の手間が
かかると同時に、低温に保持するための多大な設備が必
要であり、簡易な方法とは言い難い。また、しいたけの
場合には、発茸を促す方法として、従来、低温刺激処理
が実施されている。この方法は、原木や培養基を冷水に
一定時間浸漬する等の低温刺激処理を施して、原木や培
養基の品温を変化させることによって発茸させるもので
ある。しかしながら、この方法では、冷水に浸漬する作
業に多大な労力がかかり、労働生産性の点で問題があ
る。

【０００３】また、一般にハウスを用いたしいたけ栽培
においては、ハウス内の温度を空調により下げて、低温
刺激を与えることが行われている。しかしながら、この
方法においては、空調設備が必要であり、コスト高とな
ることに加え、ハウス内温度のばらつきによって、発茸
が不揃いになり易いという問題があった。

【０００４】また、その他の物理的な発茸方法として
は、きのこ人工榾木を多段積みにして、加重、加圧によ
り刺激を与える方法（特開昭６３−１５７９１９号公
報）が実施されている。しかしながら、この方法では、
発茸に有効な榾木表面積が減少し、栽培効率の点で好ま
しくなく、かつ発茸が不確実であるという欠点がある。

【０００５】また、子実体の原基形成には、種々のガス
環境が影響を与えることが知られており、培養基を培養
する際の酸素、炭酸ガス、雰囲気温度に関して研究が行
われている。しかしながら、これらの研究は未だ確立さ
れていないため、最適条件としては、自然界のガス環境
に近い条件が無難であると考えられているのが実情であ
る。

【０００６】また、ガス環境に着目した発茸誘起方法と
しては、例えば、５〜１００ｐｐｍの濃度に制御したエ
チレンガス含有の雰囲気条件で培養もしくは栽培する方
法（特公昭５２−８６１号公報）が提案されている。し
かしながら、エチレンガス処理による増収効果は、１０
〜２０℃の変温環境（発茸温度帯）下においては得られ
るものの、２０℃恒温（未発茸温度帯）下では、発茸が
全く見られない。このため、実際には限られた温度条件
で発茸し得る種類のきのこにしか用いることができず、
汎用性に乏しいという欠点がある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
事情に鑑みなされたものであって、その目的とするとこ
ろは、子実体の誘起発生を短期間で、簡便かつ確実に行
うことができ、また、高収量できのこが得られ、更には
各種きのこに対して広く用いることができる汎用性の高
いきのこの栽培方法を提供するにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記の目的は、きのこ種
菌を接種し培養して菌糸を蔓延させた榾木を、揮発性の
ベンゼン系炭化水素もしくはフェノール類を含有する雰
囲気条件下で栽培することを特徴とするきのこの栽培方
法によって達成される。

【０００９】次に本発明を詳しく説明する。本発明の栽
培方法が適用されるきのこは、食用きのこ全般を適用す
ることができ、例えば、しいたけ、なめこ、まいたけ、
ヒラタケ、ブナシメジ、ヤナギマツタケ、エノキタケ、
マッシュルーム等が挙げられる。

【００１０】本発明のきのこ栽培方法は、例えば、次の
ようにして行われる。すなわち、まず、原木もしくは滅
菌済み培地原料に、きのこ種菌を接種して培養を行い、
きのこ菌糸を蔓延させる。きのこを培養する方法として
は、従来知られている方法を用いればよく、原木を用い
た培養でも、鋸屑や栄養剤等を混合して得られる培地を
用いた培養でもよい。

【００１１】次に、上記菌糸蔓延した原木もしくは培養
基、すなわち、原木榾木もしくは人工榾木を栽培に供
し、きのこを発茸させる。このとき、栽培の雰囲気を揮
発性のベンゼン系炭化水素もしくはフェノール類を含有
する雰囲気条件とする。

【００１２】本発明で用いる揮発性のベンゼン系炭化水
素としては、下記化１、化２に示されるトルエン、キシ
レン等が挙げられる。また、フェノール類としては、ベ
ンゼン環の置換基の少なくとも１個が、水酸基（−Ｏ
Ｈ）のものであり、更には、メチル基（−ＣＨ₃）、メ
トキシ基（−ＯＣＨ₃）等で置換された構造式をもつも
のが挙げられる。このようなフェノール類としては、例
えば、下記化３〜化８に示される、ジメチルフェノール
（キシレノール）、ジメトキシフェノール、バニリン、
クレゾール、グアヤコール（メトキシフェノール）等が
挙げられる。これらは単独でも数種併用してもよい。ま
た、上記揮発性のベンゼン系炭化水素もしくはフェノー
ル類は、下記化１〜８に示される化合物の異性体でもよ
い。

【００１３】これらの中でも、特に、キシレンは発茸促
進効果が低濃度でも優れている点で好適である。また、
バニリンは、高濃度でもきのこの変形を生じにくく、ま
た、作業環境上も安全である点で好適である。また、こ
れらは、各々精製品を用いても良いが、これらを含有す
る塗料、ラッカー、香料等の加工品を用いるようにして
もよい。

【００１４】

【化１】

【００１５】

【化２】

【００１６】

【化３】

【００１７】

【化４】

【００１８】

【化５】

【００１９】

【化６】

【００２０】

【化７】

【００２１】

【化８】

【００２２】上記揮発性のベンゼン系炭化水素もしくは
フェノール類が雰囲気体中に占める総濃度は、好ましく
は５〜２００ｐｐｍ、更に好ましくは１０〜１００ｐｐ
ｍとすることが望ましい。５ｐｐｍ未満だと、発茸促進
効果が得られにくい傾向にあり、２００ｐｐｍを超える
と、奇形きのこが発生したり、作業環境上、人体に影響
が出易い傾向にある。また、上記揮発性のベンゼン系炭
化水素もしくはフェノール類含有雰囲気条件の処理時間
は、きのこの種類、栽培温度、湿度、揮発性のベンゼン
系炭化水素もしくはフェノール類の種類や濃度、榾木の
数等に併せて適宜設定すれば良く、例えば、上記の濃度
範囲で、１０〜２５℃であれば、２４〜４８時間前後に
設定すれば良い。処理時間は、栽培温度が高温になる
程、短時間で発茸促進効果が得られる。

【００２３】また、上記揮発性のベンゼン系炭化水素も
しくはフェノール類含有の雰囲気条件に調整する方法と
しては、揮発性のベンゼン系炭化水素もしくはフェノー
ル類を、適当量容器に注いで、栽培ハウス内に並べる方
法や、揮発性のベンゼン系炭化水素もしくはフェノール
類を注いだ容器等と榾木とを容器内に一緒に収容、密閉
した後、容器から榾木を取り出して栽培する方法や、揮
発性のベンゼン系炭化水素もしくはフェノール類の希釈
溶液を榾木もしくは大気中に噴霧する方法や、希釈溶液
を榾木や栽培棚、栽培ハウス内の適当な場所に塗布する
方法等が挙げられる。これらの方法は、単独でも、数種
併用してもよい。

【００２４】また、上記雰囲気条件処理は、栽培の初期
から、継続的あるいは断続的に行えばよく、あるいは栽
培収量が低下する時期に行うようにしてもよい。もしく
は栽培の適当な時期に集中して発茸を揃える目的で行っ
てもよい。あるいは、他の発茸促進方法（浸水刺激、低
温刺激、打撃、加圧等）と併用もしくは交互に行うよう
にしてもよい。

【００２５】

【発明の効果】以上のように、本発明のきのこの栽培方
法は、きのこや人体に悪影響のない濃度で充分効果を発
揮する揮発性のベンゼン系炭化水素もしくはフェノール
類を含有する雰囲気条件で栽培することにより、従来の
発茸促進方法に比べ、発茸が確実で、また、短期間に集
中して、多量に、大きなきのこを収穫することができ
る。従って、栽培期間を短縮したり、収穫の時期を集中
化する事ができるので、栽培工程管理がし易くなる。ま
た、適用できるきのこの種類が多く、汎用性のある栽培
方法である。また、特別な設備や労力を要することなく
簡便に行うことができる。また、発茸のための低温刺激
条件を得るための特別な設備や労力を要することなく簡
便に行うことができる。

【００２６】次に実施例を挙げて、本発明を具体的に説
明する。〈実施例１〜１０〉鋸屑と米糠と麩とを８：１：１で混
合した後、加水し、含水率を６３％に調整した培地１ｋ
ｇをポリプロピレン製の培養袋に充填し、加熱滅菌し
た。次に、シイタケ種菌を上記培地中に植菌し、培養袋
上部を閉じて培養を行った。そして、菌糸が蔓延した
後、菌糸塊を取り出し、人工榾木化した。次に、空調制
御及び各揮発成分のガス濃度検出機構、及びガス供給制
御機構を備えた蓋付きのプラスチック製密閉容器に人工
榾木を収容し、密閉容器内の温度を２０℃に保持し、表
１に示すガスを用い、ガス濃度を所定濃度になるように
調整し、２４時間処理した。そして、人工榾木を密閉容
器から取り出し、表１に示す条件で２０℃恒温の栽培ハ
ウス内で栽培した。使用した人工榾木は、各３０本であ
り、処理後の子実体発生収量は、処理後３０日における
総収量を１本当たりの平均収量で算出した。また、発生
率とは、全供試本数に対するシイタケ子実体が発生した
榾木本数の比率を示すものである。

【００２７】〈比較例１〉揮発性のベンゼン系炭化水素
もしくはフェノール類の代わりに、エチレンを用いる他
は実施例１と同様とした。

【００２８】〈比較例２〉揮発性のベンゼン系炭化水素
もしくはフェノール類を用いた雰囲気条件下とする代わ
りに、７℃（水温）の浸水槽に人工榾木を８時間浸水処
理する他は実施例１と同様とした。

【００２９】〈比較例３〉揮発性のベンゼン系炭化水素
もしくはフェノール類を用いた雰囲気条件下とする代わ
りに、栽培ハウス内の雰囲気温度を２０℃恒温にして栽
培する他は実施例１と同様にした。

【００３０】〈比較例４〉揮発性のベンゼン系炭化水素
もしくはフェノール類を用いた雰囲気条件下とする代わ
りに、栽培ハウス内の雰囲気温度を２０℃（昼間）、１
０℃（夜間）に空調制御して栽培する他は実施例１と同
様にした。以上の結果を表１に示す。

【００３１】

【表１】

【００３２】

【表２】＊２０℃は恒温条件。１０〜２０℃は昼間２０℃、夜
間１０℃。

【００３３】表１、表２の結果から、実施例は、他の揮
発性炭化水素（エチレン）を用いた場合や、従来の発茸
促進方法に比べて発茸促進効果が高く、また、収量、初
回発茸開始時期の短縮化においても高い効果が得られ、
低温による温度刺激がなくても発茸が良好であることが
わかる。

【００３４】〈実施例１１〜２１〉揮発性のベンゼン系
炭化水素としてキシレンを用い、栽培条件を表３に示す
条件とする他は実施例１と同様とし、栽培２０日間の平
均収量を求めた。その結果を表３に示す。

【００３５】

【表３】

【００３６】表３の結果から、キシレンの濃度、処理時
間、栽培温度を変えることで、収穫量を増加させ得るこ
とがわかる。

【００３７】〈実施例２２、比較例５〉１０〜２０℃の
空調栽培ハウスで、既に１本当たり３００ｇ〜４００ｇ
の子実体を得た人工榾木６０本を用い、そのうち３０本
を実施例１５と同様にキシレンガス（５０ｐｐｍ）雰囲
気条件下で２４時間処理した後、２０℃恒温の栽培ハウ
スに移動させて栽培し、実施例２２とした。その結果、
得られた処理後２０日間の平均子実体収量は８４ｇ／本
であった。一方、残り３０本の榾木をそのまま２０℃恒
温の栽培ハウスに移して栽培し、比較例５とした。その
結果、得られた栽培後２０日間の平均子実体収量は５ｇ
／本であった。以上の結果から、栽培途中の人工榾木に
対しても、本発明の栽培方法は有効であることがわか
る。

【００３８】〈実施例２３〉シイタケ種菌を植菌し、完
熟榾木とした原木を、浸水処理によって芽出し（発茸誘
起）し、発茸のピークを１回終了した後、３か月間休止
させた。次に、この原木榾木２０本にキシレンのアルコ
ール１００倍希釈液を塗布して２０℃恒温の栽培ハウス
で栽培した。このときの処理後２０日間の平均子実体収
量は１８２ｇ／本であった。

【００３９】〈実施例２４〉鋸屑と米糠を３：１で混合
した後、加水し、含水率６５％に調整した培地６６０ｇ
を１０００ｍｌ容のポリプロピレン製の培養瓶に充填
し、加熱滅菌した。次いで、ヒラタケ種菌を上記培地上
に接種し、２５℃で３０日間培養した後、更に１０日間
追熟させ、完熟菌床とした。次いで、このヒラタケ菌床
の種菌部分と菌床部分を菌掻き機によって掻き取り、直
ちに２０℃の水をボトル上面まで注ぎ、３時間後に排水
した。次に、実施例１と同様にしてキシレンガス濃度５
０ｐｐｍに調整した蓋付きプラスチック製密閉容器内に
３０本収容し、２４時間処理した。次いで、菌床を容器
から取り出して、１３℃の低温刺激を与えた状態で、湿
度９０％以上の栽培室で栽培した。

【００４０】〈実施例２５〉菌掻き、注水操作及び低温
刺激を実施せず、２０℃で栽培する他は、実施例２４と
同様とした。〈比較例６〉キシレン処理を施さず、１３℃、湿度９０
％の低温環境下で栽培する他は実施例２４と同様とし
た。〈比較例７〉キシレン処理を施さず、２０℃で栽培する
他は、実施例２４と同様とした。以上の結果を表４に示
す。

【００４１】

【表４】＊ ○；有り −；無し

【００４２】表４の結果から、ヒラタケにおいても、キ
シレンガス処理（実施例２５）は、従来の菌掻き・注水
操作や低温刺激処理（比較例６、７）に比べ、発茸促進
効果が高かった。また、菌掻き・注水操作及び低温刺激
処理とキシレンガス処理とを併用した実施例２４は、更
に発茸促進効果が高く、収量も多かった。

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) A01G 1/04 ＪＩＣＳＴファイル（ＪＯＩＳ)

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】きのこ種菌を接種し培養して菌糸を蔓延
させた榾木を、揮発性のベンゼン系炭化水素もしくはフ
ェノール類を含有する雰囲気条件下で栽培することを特
徴とするきのこの栽培方法。