JP3021330B2 - 液晶カラーフィルタの溝加工方法 - Google Patents
液晶カラーフィルタの溝加工方法Info
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- JP3021330B2 JP3021330B2 JP25310595A JP25310595A JP3021330B2 JP 3021330 B2 JP3021330 B2 JP 3021330B2 JP 25310595 A JP25310595 A JP 25310595A JP 25310595 A JP25310595 A JP 25310595A JP 3021330 B2 JP3021330 B2 JP 3021330B2
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- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/362—Laser etching
- B23K26/364—Laser etching for making a groove or trench, e.g. for scribing a break initiation groove
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- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
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- Liquid Crystal (AREA)
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- Microscoopes, Condenser (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶カラーフィルタ
の溝加工方法に関し、特に複数本の微小幅の溝を均一に
形成する場合に用いて有用なものである。
の溝加工方法に関し、特に複数本の微小幅の溝を均一に
形成する場合に用いて有用なものである。
【0002】
【従来の技術】液晶カラーフィルタは、例えばラップト
ップ形パソコンの表示部として利用されている。この種
の液晶カラーフィルタは、図5(a)に示すように、三
原色である赤(R),青(B),緑(G)に対応する三
種類の高分子材料で形成した着色層1,2,3を有して
おり、R,B,Gの各要素をガラス基板4上に透明電極
5を介して順に規則正しくマトリックス状に並べたもの
である。
ップ形パソコンの表示部として利用されている。この種
の液晶カラーフィルタは、図5(a)に示すように、三
原色である赤(R),青(B),緑(G)に対応する三
種類の高分子材料で形成した着色層1,2,3を有して
おり、R,B,Gの各要素をガラス基板4上に透明電極
5を介して順に規則正しくマトリックス状に並べたもの
である。
【0003】かかる液晶カラーフィルタは、図5(b)
に示すように、線状の各着色層1,2,3がその幅方向
で順次隣接するように、ガラス基板4上に透明電極5を
介して交互に平行に並べて形成した複数本の着色層1,
2,3に、線状の各着色層1,2,3の幅方向に伸びる
溝6を複数本形成してマトリックス化したものである。
に示すように、線状の各着色層1,2,3がその幅方向
で順次隣接するように、ガラス基板4上に透明電極5を
介して交互に平行に並べて形成した複数本の着色層1,
2,3に、線状の各着色層1,2,3の幅方向に伸びる
溝6を複数本形成してマトリックス化したものである。
【0004】このとき、マトリックス状の着色層1,
2,3の一辺は、例えば数10μmと微小であり、また
この溝6は例えばその幅が25μmで、±2μmの加工
精度が要求され、その数は例えば480本という多数本
が必要とされる。
2,3の一辺は、例えば数10μmと微小であり、また
この溝6は例えばその幅が25μmで、±2μmの加工
精度が要求され、その数は例えば480本という多数本
が必要とされる。
【0005】かかる微小で均質な多数本の溝6を複数本
づつ能率良く形成するための微細加工は、従来、フォト
リソグラフィの技術を利用して実現していた。
づつ能率良く形成するための微細加工は、従来、フォト
リソグラフィの技術を利用して実現していた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところが、フォトリソ
グラフィではレジストの塗布からはじまり露光,現像,
エッチング等、多段のウェット工程を必要とするため製
造効率が悪いばかりでなく、これに要する装置の設備費
も膨大なものとなる。
グラフィではレジストの塗布からはじまり露光,現像,
エッチング等、多段のウェット工程を必要とするため製
造効率が悪いばかりでなく、これに要する装置の設備費
も膨大なものとなる。
【0007】本発明は、上記従来技術に鑑み、安価な設
備費で効率良く高精度の溝を微細加工し得る液晶カラー
フィルタの溝加工方法を提供することを目的とする。ま
た、このとき、透明電極は残し、着色層のみに溝を形成
する液晶カラーフィルタの溝加工方法を提供することを
他の目的とする。
備費で効率良く高精度の溝を微細加工し得る液晶カラー
フィルタの溝加工方法を提供することを目的とする。ま
た、このとき、透明電極は残し、着色層のみに溝を形成
する液晶カラーフィルタの溝加工方法を提供することを
他の目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の構成は次の点を特徴とする。
明の構成は次の点を特徴とする。
【0009】1)三原色である赤,青,緑に対応する線
状の高分子顔料で形成するとともに、各高分子顔料をそ
の幅方向で順次隣接するように交互に並べ、基板上に透
明電極を介して形成した複数本の着色層に、その幅方向
に伸びる溝を、複数本形成してマトリックス状の着色層
を形成する場合における液晶カラーフィルタの溝加工方
法において、レーザ光をビーム均一化素子としての矩形
波導波管を通すことにより均一な矩形のレーザ光を形成
し、この矩形のレーザ光を複数本のスリットを有するス
リット状マスクを通した後、縮小投影光学系を介して投
影することにより複数本の線状ビームを形成するととも
に、この線状ビームを上記着色層に照射する一方、線状
ビーム若しくは液晶カラーフィルタを線状の着色層の長
手方向に移動することにより一度に複数本の上記溝を形
成すること。
状の高分子顔料で形成するとともに、各高分子顔料をそ
の幅方向で順次隣接するように交互に並べ、基板上に透
明電極を介して形成した複数本の着色層に、その幅方向
に伸びる溝を、複数本形成してマトリックス状の着色層
を形成する場合における液晶カラーフィルタの溝加工方
法において、レーザ光をビーム均一化素子としての矩形
波導波管を通すことにより均一な矩形のレーザ光を形成
し、この矩形のレーザ光を複数本のスリットを有するス
リット状マスクを通した後、縮小投影光学系を介して投
影することにより複数本の線状ビームを形成するととも
に、この線状ビームを上記着色層に照射する一方、線状
ビーム若しくは液晶カラーフィルタを線状の着色層の長
手方向に移動することにより一度に複数本の上記溝を形
成すること。
【0010】2)1)において、レーザ光はその波長が
193nm乃至308nmであること。
193nm乃至308nmであること。
【0011】3)1)又は2)において、溝は、線状ビ
ームの照射による着色層の蒸発加工により透明電極部分
が残るように着色層の部分のみに形成すること。
ームの照射による着色層の蒸発加工により透明電極部分
が残るように着色層の部分のみに形成すること。
【0012】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を図面に
基づき詳細に説明する。
基づき詳細に説明する。
【0013】図1は本発明の実施の形態に係る溝加工方
法を実現する装置を概念的に示す説明図、図2はそのカ
ライドスコープ13を抽出して示す斜視図、図3はマス
ク16を抽出して示す平面図、図4(a)はマスク1
6、縮小投影光学系17及び液晶カラーフィルタIの部
分を抽出して示す斜視図、図4(b)はその液晶カラー
フィルタIの部分を抽出・拡大して示す平面図である。
法を実現する装置を概念的に示す説明図、図2はそのカ
ライドスコープ13を抽出して示す斜視図、図3はマス
ク16を抽出して示す平面図、図4(a)はマスク1
6、縮小投影光学系17及び液晶カラーフィルタIの部
分を抽出して示す斜視図、図4(b)はその液晶カラー
フィルタIの部分を抽出・拡大して示す平面図である。
【0014】図1に示すように、本装置は、レーザ光の
光源としてのエキシマレーザ11、カライド入射光学系
12、カライドスコープ13、マスク16の照明用光学
系14、反射ミラー15、マスク16、縮小投影光学系
17及び被加工物である液晶カラーフィルタIを載置す
る加工テーブル18を有する。
光源としてのエキシマレーザ11、カライド入射光学系
12、カライドスコープ13、マスク16の照明用光学
系14、反射ミラー15、マスク16、縮小投影光学系
17及び被加工物である液晶カラーフィルタIを載置す
る加工テーブル18を有する。
【0015】これらのうち、カライドスコープ13は、
図2に示すように、矩形の入射部及び出射部を有するビ
ーム均一化素子である矩形状導波管であり、カライド入
射光学系12を介して入射するレーザ光を矩形で均一密
度のレーザ光に整形するものである。このため、カライ
ドスコープ13の内周面には反射コート13aが形成し
てある。マスク16は、図3に示すように、相互に平行
な多数のスリット16aを等間隔に設けたものである。
このスリット16aは、縮小投影光学系17を介して液
晶カラーフィルタIに投影し、溝6を形成するレーザビ
ームを拡大した相似形に形成してある。
図2に示すように、矩形の入射部及び出射部を有するビ
ーム均一化素子である矩形状導波管であり、カライド入
射光学系12を介して入射するレーザ光を矩形で均一密
度のレーザ光に整形するものである。このため、カライ
ドスコープ13の内周面には反射コート13aが形成し
てある。マスク16は、図3に示すように、相互に平行
な多数のスリット16aを等間隔に設けたものである。
このスリット16aは、縮小投影光学系17を介して液
晶カラーフィルタIに投影し、溝6を形成するレーザビ
ームを拡大した相似形に形成してある。
【0016】かくして、エキシマレーザ11が照射する
レーザ光は、カライド入射光学系12を介してカライド
スコープ13に入射し、このカライドスコープ13で、
均一密度で矩形形状に広がるレーザ光に整形される。そ
の後、この矩形形状のレーザ光は、照明用光学系14及
び反射ミラー15を介してマスク16に照射される。
レーザ光は、カライド入射光学系12を介してカライド
スコープ13に入射し、このカライドスコープ13で、
均一密度で矩形形状に広がるレーザ光に整形される。そ
の後、この矩形形状のレーザ光は、照明用光学系14及
び反射ミラー15を介してマスク16に照射される。
【0017】この結果、矩形形状のレーザ光は、さらに
スリット状のレーザ光に整形され、縮小投影光学系17
を介してマスク16のスリット16aの形状を縮小した
多数の線状ビームからなるレーザ光となり、この線状ビ
ームが液晶カラーフィルタ上に投射される。
スリット状のレーザ光に整形され、縮小投影光学系17
を介してマスク16のスリット16aの形状を縮小した
多数の線状ビームからなるレーザ光となり、この線状ビ
ームが液晶カラーフィルタ上に投射される。
【0018】かかる装置を用いて液晶カラーフィルタを
形成する場合には次の様な手順で行なう。
形成する場合には次の様な手順で行なう。
【0019】1)エキシマレーザ11よりレーザ光を照
射する。この場合のレーザ光はその波長が193nm〜
308nmのパルス波で、そのパルス幅はナノsec オー
ダの非常に幅狭の尖頭値が高い波形の光である。この場
合の193nm〜308nmという波長の範囲は、三種
類(R,B,G)の異なる高分子顔料の各着色層1,
2,3を同一エネルギー密度のレーザ光で同時に加工し
た場合の加工深さがほぼ同一になるという波長範囲を追
求した結果の知見を基礎として決定したものである。す
なわち、この範囲の波長であれば液晶カラーフィルタI
に加工する溝6の均質化を保証し得る。したがって、同
範囲の波長であればエキシマレーザ光に限定する必要は
なく、例えばYAGレーザ光の4倍波であっても同様の
効果を得る。
射する。この場合のレーザ光はその波長が193nm〜
308nmのパルス波で、そのパルス幅はナノsec オー
ダの非常に幅狭の尖頭値が高い波形の光である。この場
合の193nm〜308nmという波長の範囲は、三種
類(R,B,G)の異なる高分子顔料の各着色層1,
2,3を同一エネルギー密度のレーザ光で同時に加工し
た場合の加工深さがほぼ同一になるという波長範囲を追
求した結果の知見を基礎として決定したものである。す
なわち、この範囲の波長であれば液晶カラーフィルタI
に加工する溝6の均質化を保証し得る。したがって、同
範囲の波長であればエキシマレーザ光に限定する必要は
なく、例えばYAGレーザ光の4倍波であっても同様の
効果を得る。
【0020】2)エキシマレーザ11の出射光をカライ
ド入射光学系12を介してカライドスコープ13に入射
し、矩形形状の均一密度のレーザ光を得る。このように
均一密度とすることにより、最終的に液晶カラーフィル
タIに投射する線状ビームのそれぞれのエネルギー密度
を均一にすることができ、均一な溝6の形成が保証され
る。
ド入射光学系12を介してカライドスコープ13に入射
し、矩形形状の均一密度のレーザ光を得る。このように
均一密度とすることにより、最終的に液晶カラーフィル
タIに投射する線状ビームのそれぞれのエネルギー密度
を均一にすることができ、均一な溝6の形成が保証され
る。
【0021】3)カライドスコープ13で矩形に整形し
たレーザ光を照明用光学系14及び反射ミラー15を介
してマスク16に照射し、このマスク16により相互に
平行な多数のスリット状のレーザ光を形成する。
たレーザ光を照明用光学系14及び反射ミラー15を介
してマスク16に照射し、このマスク16により相互に
平行な多数のスリット状のレーザ光を形成する。
【0022】4) マスク16を透過したレーザ光を縮小
投影光学系17により液晶カラーフィルタIに縮小投影
する。この結果、液晶カラーフィルタIにはレーザ光が
多数の線状ビームとなって照射され、この照射部分の着
色層1,2,3が蒸発して一度に多数(実際には40〜
80本程度)の溝6が形成される。すなわち、線状ビー
ムのレーザ光により多数の溝6を同時に蒸発加工(Abla
tion)する。
投影光学系17により液晶カラーフィルタIに縮小投影
する。この結果、液晶カラーフィルタIにはレーザ光が
多数の線状ビームとなって照射され、この照射部分の着
色層1,2,3が蒸発して一度に多数(実際には40〜
80本程度)の溝6が形成される。すなわち、線状ビー
ムのレーザ光により多数の溝6を同時に蒸発加工(Abla
tion)する。
【0023】このとき、一度の投影で形成される溝の長
さは、液晶カラーフィルタIに最終的に形成する溝6の
数分の1とする。このため、溝6は液晶カラーフィルタ
I若しくは線状ビームをその長手方向に移動させ乍ら形
成する。すなわち、1本の溝6は複数本の線状ビームで
形成する。こうすることにより液晶カラーフィルタI若
しくは線状ビームを高速で移動しても溝6がその長手方
向の途中で途切れることなく連続して形成される。すな
わち、エキシマレーザ11のパルス状レーザ光の繰り返
し周期(例えば200Hz)に制限されることなく当該
技術分野で特に肝要とされる溝6の加工時間の短縮化が
実現される。
さは、液晶カラーフィルタIに最終的に形成する溝6の
数分の1とする。このため、溝6は液晶カラーフィルタ
I若しくは線状ビームをその長手方向に移動させ乍ら形
成する。すなわち、1本の溝6は複数本の線状ビームで
形成する。こうすることにより液晶カラーフィルタI若
しくは線状ビームを高速で移動しても溝6がその長手方
向の途中で途切れることなく連続して形成される。すな
わち、エキシマレーザ11のパルス状レーザ光の繰り返
し周期(例えば200Hz)に制限されることなく当該
技術分野で特に肝要とされる溝6の加工時間の短縮化が
実現される。
【0024】また、本方法によれば着色層1,2,3の
みを蒸発加工し、透明電極5は残すことも可能である。
そこで、このように溝6を形成していも良い。エキシマ
レーザ光は尖頭値の高い幅狭で短波長のパルス状レーザ
光であるため、表層部(本例では着色層1,2,3)の
みの加工が可能であるからである。
みを蒸発加工し、透明電極5は残すことも可能である。
そこで、このように溝6を形成していも良い。エキシマ
レーザ光は尖頭値の高い幅狭で短波長のパルス状レーザ
光であるため、表層部(本例では着色層1,2,3)の
みの加工が可能であるからである。
【0025】このように透明電極5を残した場合、着色
層1,2,3の処理工程でこれの一部を損傷した場合で
あっても、透明電極5上に棒状の着色層1,2,3を形
成する工程に戻せば良く、その分、製品分溜まりを向上
させることができる。
層1,2,3の処理工程でこれの一部を損傷した場合で
あっても、透明電極5上に棒状の着色層1,2,3を形
成する工程に戻せば良く、その分、製品分溜まりを向上
させることができる。
【0026】なお、溝6の本数が多い場合には液晶カラ
ーフィルタI若しくは線状ビームを溝6の幅方向に適宜
移動して同様の加工を繰り返す。
ーフィルタI若しくは線状ビームを溝6の幅方向に適宜
移動して同様の加工を繰り返す。
【0027】
【発明の効果】以上実施の形態とともに具体的に説明し
たように本発明によればレーザ光の投影だけで液晶カラ
ーフィルタに充分な精度で所望の溝を形成することが可
能となるため、当該溝加工のための設備費が大幅に削除
されるばかりでなく、加工時間の大幅な短縮化も実現し
得る。
たように本発明によればレーザ光の投影だけで液晶カラ
ーフィルタに充分な精度で所望の溝を形成することが可
能となるため、当該溝加工のための設備費が大幅に削除
されるばかりでなく、加工時間の大幅な短縮化も実現し
得る。
【図1】本発明の実施の形態に係る溝加工方法を実現す
る装置を概念的に示す説明図。
る装置を概念的に示す説明図。
【図2】図1に示す装置のカライドスコープ13を抽出
して示す斜視図。
して示す斜視図。
【図3】図1に示す装置のマスク16を抽出して示す平
面図。
面図。
【図4】図1に示す装置のマスク16、縮小投影光学系
17及び液晶カラーフィルタIの部分を抽出して示す平
面図(a)及びその液晶カラーフィルタIの部分を抽出
・拡大して示す平面図(b)。
17及び液晶カラーフィルタIの部分を抽出して示す平
面図(a)及びその液晶カラーフィルタIの部分を抽出
・拡大して示す平面図(b)。
【図5】液晶カラーフィルタを示す斜視図(a)及びそ
の加工途中の製品の状態を示す斜視図(b)。
の加工途中の製品の状態を示す斜視図(b)。
I 液晶カラーフィルタ 1,2,3 着色層 4 ガラス基板 5 透明電極 6 溝 11 エキシマレーザ 13 カライドスコープ 16 マスク 16a スリット 17 縮小投影光学系
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 赤羽 崇 兵庫県神戸市兵庫区和田崎町一丁目1番 1号 三菱重工業株式会社 神戸造船所 内 (56)参考文献 特開 平2−92476(JP,A) 特開 平3−193289(JP,A) 特開 平4−100685(JP,A) 特開 平7−308788(JP,A) 特開 平2−263589(JP,A) 特開 平7−230057(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1335 505 B23K 26/00 - 26/06
Claims (3)
- 【請求項1】 三原色である赤,緑,青に対応する線状
の高分子顔料で形成するとともに、各高分子顔料をその
幅方向で順次隣接するように交互に並べ、基板上に透明
電極を介して形成した複数本の着色層に、その幅方向に
伸びる溝を、複数本形成してマトリックス状の着色層を
形成する場合における液晶カラーフィルタの溝加工方法
において、 レーザ光をビーム均一化素子としての矩形波導波管を通
すことにより均一な矩形のレーザ光を形成し、 この矩形のレーザ光を複数本のスリットを有するスリッ
ト状マスクを通した後、縮小投影光学系を介して投影す
ることにより複数本の線状ビームを形成するとともに、
この線状ビームを上記着色層に照射する一方、線状ビー
ム若しくは液晶カラーフィルタを線状の着色層の長手方
向に移動することにより一度に複数本の上記溝を形成す
ることを特徴とする液晶カラーフィルタの溝加工方法。 - 【請求項2】 レーザ光はその波長が193nm乃至3
08nmであることを特徴とする[請求項1]に記載す
る液晶カラーフィルタの溝加工方法。 - 【請求項3】 溝は、線状ビームの照射による着色層の
蒸発加工により透明電極部分が残るように着色層の部分
のみに形成することを特徴とする[請求項1]又は[請
求項2]に記載する液晶カラーフィルタの溝加工方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25310595A JP3021330B2 (ja) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | 液晶カラーフィルタの溝加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25310595A JP3021330B2 (ja) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | 液晶カラーフィルタの溝加工方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0994683A JPH0994683A (ja) | 1997-04-08 |
JP3021330B2 true JP3021330B2 (ja) | 2000-03-15 |
Family
ID=17246571
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25310595A Expired - Fee Related JP3021330B2 (ja) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | 液晶カラーフィルタの溝加工方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3021330B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1376100A (zh) * | 1999-09-28 | 2002-10-23 | 住友重机械工业株式会社 | 激光钻孔的加工方法及其加工装置 |
JP2001105164A (ja) * | 1999-10-07 | 2001-04-17 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ穴あけ加工方法及び加工装置 |
-
1995
- 1995-09-29 JP JP25310595A patent/JP3021330B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0994683A (ja) | 1997-04-08 |
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