JP3012547B2 - 光記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
光記録媒体及びその製造方法Info
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- JP3012547B2 JP3012547B2 JP9056860A JP5686097A JP3012547B2 JP 3012547 B2 JP3012547 B2 JP 3012547B2 JP 9056860 A JP9056860 A JP 9056860A JP 5686097 A JP5686097 A JP 5686097A JP 3012547 B2 JP3012547 B2 JP 3012547B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- thin film
- recording medium
- optical recording
- solvent
- Prior art date
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S427/00—Coating processes
- Y10S427/101—Liquid Source Chemical Depostion, i.e. LSCVD or Aerosol Chemical Vapor Deposition, i.e. ACVD
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は高密度記録用光記録
媒体に関し、特に、有機化合物を含有する層を有する、
再生専用型、追記型あるいは書き換え可能型の光記録媒
体（光ディスク）及びその製造方法に関する。
媒体に関し、特に、有機化合物を含有する層を有する、
再生専用型、追記型あるいは書き換え可能型の光記録媒
体（光ディスク）及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、ＣＤ（コンパクトディスク）を筆
頭に、高密度に記録された再生専用型光ディスク、一度
だけの記録が可能なライトワンス型光ディスク、あるい
は、書き換え可能な光磁気（ＭＯ）ディスクや相変化
（ＰＣ）ディスクなどが急速に普及し始めている。その
中で、記録層などとして有機物を含有する層を使用した
光ディスクも種々開発され、実用に供されている。有機
化合物は、金属や無機化合物に比べ、種類が非常に多い
ため、分子レベルで構造設計することにより多数の機能
を発現させることができ、高密度化、高感度化が容易で
ある。例えば、追記可能なＣＤ（ＣＤ−Ｒ）では、螺旋
状の連続溝を有する透明樹脂基板上に、溶剤に溶解した
有機色素をスピンコートして記録層を形成することによ
り、安価で生産性の良好な光ディスクが提供されてい
る。
頭に、高密度に記録された再生専用型光ディスク、一度
だけの記録が可能なライトワンス型光ディスク、あるい
は、書き換え可能な光磁気（ＭＯ）ディスクや相変化
（ＰＣ）ディスクなどが急速に普及し始めている。その
中で、記録層などとして有機物を含有する層を使用した
光ディスクも種々開発され、実用に供されている。有機
化合物は、金属や無機化合物に比べ、種類が非常に多い
ため、分子レベルで構造設計することにより多数の機能
を発現させることができ、高密度化、高感度化が容易で
ある。例えば、追記可能なＣＤ（ＣＤ−Ｒ）では、螺旋
状の連続溝を有する透明樹脂基板上に、溶剤に溶解した
有機色素をスピンコートして記録層を形成することによ
り、安価で生産性の良好な光ディスクが提供されてい
る。
【０００３】また、あらかじめ情報がピットとして記録
された透明基板上に、サーモクロミック化合物やフォト
クロミック化合物などの可逆性色素を有するマスク層を
形成した光ディスク、いわゆる、超解像光ディスクの研
究も進められている。このようなマスク層が形成された
光ディスクにおいては、サーモクロミック化合物やフォ
トクロミック化合物などの可逆性色素が有する、光強度
に対する光透過率の非線形変化を利用して、照射するレ
ーザの波長とピックアップレンズの開口度（ＮＡ）で制
限されるレーザ光のスポット径を、このレーザ光の光強
度分布の強い領域のみを透過させることによって、照射
した光をより小さいスポット径に絞り、より小さいピッ
トの再生を可能にし、結果として、より一層の高密度化
が達成されている。
された透明基板上に、サーモクロミック化合物やフォト
クロミック化合物などの可逆性色素を有するマスク層を
形成した光ディスク、いわゆる、超解像光ディスクの研
究も進められている。このようなマスク層が形成された
光ディスクにおいては、サーモクロミック化合物やフォ
トクロミック化合物などの可逆性色素が有する、光強度
に対する光透過率の非線形変化を利用して、照射するレ
ーザの波長とピックアップレンズの開口度（ＮＡ）で制
限されるレーザ光のスポット径を、このレーザ光の光強
度分布の強い領域のみを透過させることによって、照射
した光をより小さいスポット径に絞り、より小さいピッ
トの再生を可能にし、結果として、より一層の高密度化
が達成されている。
【０００４】従来、上記のような有機化合物を含有する
層を基板上に形成する方法としては、前述のスピンコー
ト法が知られている。例えば、ＣＤ−Ｒのような記録層
に有機色素を使用した追記型光ディスクにおいては、通
常、螺旋状の連続溝を有する透明樹脂基板上に、溶剤に
溶解させた有機色素をスピンコートして記録層を形成し
ている。ところが、従来のコンパクトディスクなどの光
ディスクの記録密度よりも更に高密度化が図られている
次世代の光ディスクにおいては、ピットの大きさ、深
さ、あるいは、連続溝の溝幅、深さなどの寸法はより小
さくなる傾向にあるため、このような小さく浅いピット
や細く浅い溝が形成された基板上に、有機溶剤に溶解さ
せた色素などをスピンコートして層を形成すると、この
ピットや溝が埋まってしまい、記録あるいは再生時にト
ラッキングを取ることが困難になるなど、信号特性の劣
化の原因になるという問題がある。
層を基板上に形成する方法としては、前述のスピンコー
ト法が知られている。例えば、ＣＤ−Ｒのような記録層
に有機色素を使用した追記型光ディスクにおいては、通
常、螺旋状の連続溝を有する透明樹脂基板上に、溶剤に
溶解させた有機色素をスピンコートして記録層を形成し
ている。ところが、従来のコンパクトディスクなどの光
ディスクの記録密度よりも更に高密度化が図られている
次世代の光ディスクにおいては、ピットの大きさ、深
さ、あるいは、連続溝の溝幅、深さなどの寸法はより小
さくなる傾向にあるため、このような小さく浅いピット
や細く浅い溝が形成された基板上に、有機溶剤に溶解さ
せた色素などをスピンコートして層を形成すると、この
ピットや溝が埋まってしまい、記録あるいは再生時にト
ラッキングを取ることが困難になるなど、信号特性の劣
化の原因になるという問題がある。
【０００５】さらに、最近の大部分の光ディスク類は、
コストや量産性の点から、基板として、ポリカーボネー
トに代表される非結晶性かつ光透過性の熱可塑性高分子
材料が使用されている。しかしながら、この非結晶性の
熱可塑性高分子材料は有機溶剤に対する耐溶剤性が低い
場合が多く、そのため、次のような問題が生じる。 （１）基板上に有機物を含有する層をスピンコート法に
より形成する際に使用し得る、基板を侵さない有機溶剤
の種類が限定されてしまう。 （２）その基板を侵さない有機溶剤に溶解する色素など
の有機物の種類が、一層限定されてしまう。
コストや量産性の点から、基板として、ポリカーボネー
トに代表される非結晶性かつ光透過性の熱可塑性高分子
材料が使用されている。しかしながら、この非結晶性の
熱可塑性高分子材料は有機溶剤に対する耐溶剤性が低い
場合が多く、そのため、次のような問題が生じる。 （１）基板上に有機物を含有する層をスピンコート法に
より形成する際に使用し得る、基板を侵さない有機溶剤
の種類が限定されてしまう。 （２）その基板を侵さない有機溶剤に溶解する色素など
の有機物の種類が、一層限定されてしまう。
【０００６】一方、上述したスピンコート法以外に、有
機化合物を含有する層の形成方法として、真空蒸着法を
利用した光ディスクも研究されている。例えば、特開平
７−１８６９３号公報には、基板上に、加熱真空蒸着法
によりサーモクロミック化合物などの可逆性色素を有す
るマスク層が形成された光ディスク、いわゆる、超解像
光ディスクの例が開示されている。超解像光ディスクの
ような小さなピットを有する基板上に、サーモクロミッ
ク化合物などの可逆性色素を有するマスク層を加熱真空
蒸着法を使用して形成することにより、前述のスピンコ
ート法のように、ピットが埋められてしまうことがな
く、良好な超解像光ディスクを実現することが可能とな
る。
機化合物を含有する層の形成方法として、真空蒸着法を
利用した光ディスクも研究されている。例えば、特開平
７−１８６９３号公報には、基板上に、加熱真空蒸着法
によりサーモクロミック化合物などの可逆性色素を有す
るマスク層が形成された光ディスク、いわゆる、超解像
光ディスクの例が開示されている。超解像光ディスクの
ような小さなピットを有する基板上に、サーモクロミッ
ク化合物などの可逆性色素を有するマスク層を加熱真空
蒸着法を使用して形成することにより、前述のスピンコ
ート法のように、ピットが埋められてしまうことがな
く、良好な超解像光ディスクを実現することが可能とな
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この加
熱真空蒸着法にあっても、以下に示すような制約があ
り、必ずしも満足すべきものではない。 （１）安定して蒸着可能な有機化合物の種類が限定され
る。例えば、シアニン色素などの有機イオン性色素や高
分子化合物は昇華性を示さないため、加熱真空蒸着法で
成膜することはできない。 （２）昇華性を有する有機化合物であっても、無機物に
比べて、一般的に加熱によって分解しやすいため、成膜
速度をあまり上げられず成膜に長時間を要する。 （３）複数の種類の有機化合物を混合して単一の蒸発源
から、各々の昇華速度を制御しながら蒸着することは困
難であるため、複数種の有機化合物を同時に蒸着させる
ためには、有機化合物の種類ごとに蒸着源を用意しなけ
ればならない。
熱真空蒸着法にあっても、以下に示すような制約があ
り、必ずしも満足すべきものではない。 （１）安定して蒸着可能な有機化合物の種類が限定され
る。例えば、シアニン色素などの有機イオン性色素や高
分子化合物は昇華性を示さないため、加熱真空蒸着法で
成膜することはできない。 （２）昇華性を有する有機化合物であっても、無機物に
比べて、一般的に加熱によって分解しやすいため、成膜
速度をあまり上げられず成膜に長時間を要する。 （３）複数の種類の有機化合物を混合して単一の蒸発源
から、各々の昇華速度を制御しながら蒸着することは困
難であるため、複数種の有機化合物を同時に蒸着させる
ためには、有機化合物の種類ごとに蒸着源を用意しなけ
ればならない。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、従来のス
ピンコート法のように基板に溶剤を直接接触させること
を避け、また、加熱真空蒸着法のように使用する有機化
合物の数と同数の蒸発源を用意する煩雑さを避けるため
に種々検討を重ねた結果、真空容器内で、液体状態の有
機化合物を基板上に噴霧するに際し、この噴霧によって
気化した薄膜形成材料の溶剤を捕捉することにより基板
表面の微小なピット又は溝が埋められることがないよう
に溶剤を除いた材料のみが基板の一方の面上に堆積され
るので、こうして得られた薄膜が上記の課題を解消し得
ることを見出した。すなわち、本発明によれば、微小な
ピット又は溝があらかじめ形成されている基板の一方の
面上に、薄膜層を直接形成した光記録媒体であって、真
空容器内で有機化合物を含有する液体状態の薄膜形成材
料を噴霧ノズルから前記基板の一方の面上に噴霧すると
ともに、この噴霧によって気化した前記薄膜形成材料の
溶剤を捕捉して、この溶剤を除く前記薄膜形成材料を前
記基板の一方の面上に堆積させることにより、前記微小
なピット又は溝を埋めることなく前記基板の一方の面上
に前記薄膜層を形成した光記録媒体が提供される。また
本発明によれば、微小なピット又は溝があらかじめ形成
されている基板の一方の面上に、薄膜層を直接形成した
光記録媒体の製造方法であって、真空容器内で有機化合
物を含有する液体状態の薄膜形成材料を噴霧ノズルから
前記基板の一方の面上に噴霧するとともに、この噴霧に
よって気化した前記薄膜形成材料の溶剤を捕捉して、こ
の溶剤を除く前記薄膜形成材料を前記基板の一方の面上
に堆積させることにより、前記微小なピット又は溝を埋
めることなく前記基板の一方の面上に前記薄膜層を形成
する光記録媒体の製造方法が提供される。そして、上記
の光記録媒体において、基板は光透過性を有することが
好ましい。さらに、これらの光記録媒体において、基板
は熱可塑性高分子材料により形成されていることが好ま
しい。
ピンコート法のように基板に溶剤を直接接触させること
を避け、また、加熱真空蒸着法のように使用する有機化
合物の数と同数の蒸発源を用意する煩雑さを避けるため
に種々検討を重ねた結果、真空容器内で、液体状態の有
機化合物を基板上に噴霧するに際し、この噴霧によって
気化した薄膜形成材料の溶剤を捕捉することにより基板
表面の微小なピット又は溝が埋められることがないよう
に溶剤を除いた材料のみが基板の一方の面上に堆積され
るので、こうして得られた薄膜が上記の課題を解消し得
ることを見出した。すなわち、本発明によれば、微小な
ピット又は溝があらかじめ形成されている基板の一方の
面上に、薄膜層を直接形成した光記録媒体であって、真
空容器内で有機化合物を含有する液体状態の薄膜形成材
料を噴霧ノズルから前記基板の一方の面上に噴霧すると
ともに、この噴霧によって気化した前記薄膜形成材料の
溶剤を捕捉して、この溶剤を除く前記薄膜形成材料を前
記基板の一方の面上に堆積させることにより、前記微小
なピット又は溝を埋めることなく前記基板の一方の面上
に前記薄膜層を形成した光記録媒体が提供される。また
本発明によれば、微小なピット又は溝があらかじめ形成
されている基板の一方の面上に、薄膜層を直接形成した
光記録媒体の製造方法であって、真空容器内で有機化合
物を含有する液体状態の薄膜形成材料を噴霧ノズルから
前記基板の一方の面上に噴霧するとともに、この噴霧に
よって気化した前記薄膜形成材料の溶剤を捕捉して、こ
の溶剤を除く前記薄膜形成材料を前記基板の一方の面上
に堆積させることにより、前記微小なピット又は溝を埋
めることなく前記基板の一方の面上に前記薄膜層を形成
する光記録媒体の製造方法が提供される。そして、上記
の光記録媒体において、基板は光透過性を有することが
好ましい。さらに、これらの光記録媒体において、基板
は熱可塑性高分子材料により形成されていることが好ま
しい。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の光記録媒体において、基
板上に形成される薄膜層に含有される有機化合物として
は、例えば、有機色素として、一般的な色素、蛍光色
素、赤外線吸収色素、紫外線吸収色素、フォトクロミッ
ク色素、サーモクロミック色素など、公知のものをあげ
ることができる。これらの色素の具体例としては、例え
ば、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、エオシン、フロキ
シンＢなどのキサンテン系色素、アクリジンオレンジ、
アクリジンレッドなどのアクリジン系色素、エチルレッ
ド、メチルレッドなどのアゾ色素、ポルフィリン系色
素、フタロシアニン系色素、３、３’−ジエチルチアカ
ルボシアニンヨージド、３、３’−ジエチルオキサジカ
ルボシアニンヨージドなどのシアニン色素、メロシアニ
ン色素、スチリル色素、オキソノール色素、トリアリー
ルメタン色素などが好適なものとしてあげられる。
板上に形成される薄膜層に含有される有機化合物として
は、例えば、有機色素として、一般的な色素、蛍光色
素、赤外線吸収色素、紫外線吸収色素、フォトクロミッ
ク色素、サーモクロミック色素など、公知のものをあげ
ることができる。これらの色素の具体例としては、例え
ば、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、エオシン、フロキ
シンＢなどのキサンテン系色素、アクリジンオレンジ、
アクリジンレッドなどのアクリジン系色素、エチルレッ
ド、メチルレッドなどのアゾ色素、ポルフィリン系色
素、フタロシアニン系色素、３、３’−ジエチルチアカ
ルボシアニンヨージド、３、３’−ジエチルオキサジカ
ルボシアニンヨージドなどのシアニン色素、メロシアニ
ン色素、スチリル色素、オキソノール色素、トリアリー
ルメタン色素などが好適なものとしてあげられる。
【００１０】本発明においては、上述したような色素を
単独で、若しくは、２種以上を混合して使用することが
できる。さらに、これらの色素をバインダー樹脂と組み
合せて使用することも可能である。このバインダー樹脂
としては、特に限定されるものではないが、例えば、熱
可塑性有機高分子化合物が好ましく、具体的には、ポリ
スチレン、ポリ（α−メチルスチレン）、ポリインデ
ン、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）、ポリビニルピ
リジン、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセター
ル、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニ
ルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルエチルエーテ
ル、ポリビニルベンジルエーテル、ポリビニルメチルケ
トン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、ポリ（Ｎ−ビ
ニルピロリドン）、ポリアクリル酸メチル、ポリアクリ
ル酸エチル、ポリアクリル酸、ポリアクリロニトリル、
ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポ
リメタクリル酸ブチル、ポリメタクリル酸ベンジル、ポ
リメタクリル酸シクロヘキシル、ポリメタクリル酸、ポ
リメタクリル酸アミド、ポリメタクリロニトリル、ポリ
アセトアルデヒド、ポリクロラール、ポリエチレンオキ
シド、ポリプロピレンオキシド、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネー
ト類（ビスフェノール類＋炭酸）、ポリ（ジエチレング
リコール・ビスアルリカーボネート）類、６−ナイロ
ン、６，６−ナイロン、１２−ナイロン、６，１２−ナ
イロン、ポリアスパラギン酸エチル、ポリグルタミン酸
エチル、ポリリジン、ポリプロリン、ポリ（γ−ベンジ
ル−Ｌ−グルタメート）、メチルセルロース、エチルセ
ルロース、ベンジルセルロース、ヒドロキシエチルセル
ロース、ヒドロキシプロピルセルロース、アセチルセル
ロース、セルローストリアセテート、、セルローストリ
ブチレート、ポリウレタン樹脂などの樹脂、ポリ（フェ
ニルメチルシラン）などの有機ポリシラン、有機ポリゲ
ルマン、並びに、これらの共重合体若しくは共重縮合体
などをあげることができる。
単独で、若しくは、２種以上を混合して使用することが
できる。さらに、これらの色素をバインダー樹脂と組み
合せて使用することも可能である。このバインダー樹脂
としては、特に限定されるものではないが、例えば、熱
可塑性有機高分子化合物が好ましく、具体的には、ポリ
スチレン、ポリ（α−メチルスチレン）、ポリインデ
ン、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）、ポリビニルピ
リジン、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセター
ル、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニ
ルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルエチルエーテ
ル、ポリビニルベンジルエーテル、ポリビニルメチルケ
トン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、ポリ（Ｎ−ビ
ニルピロリドン）、ポリアクリル酸メチル、ポリアクリ
ル酸エチル、ポリアクリル酸、ポリアクリロニトリル、
ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポ
リメタクリル酸ブチル、ポリメタクリル酸ベンジル、ポ
リメタクリル酸シクロヘキシル、ポリメタクリル酸、ポ
リメタクリル酸アミド、ポリメタクリロニトリル、ポリ
アセトアルデヒド、ポリクロラール、ポリエチレンオキ
シド、ポリプロピレンオキシド、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネー
ト類（ビスフェノール類＋炭酸）、ポリ（ジエチレング
リコール・ビスアルリカーボネート）類、６−ナイロ
ン、６，６−ナイロン、１２−ナイロン、６，１２−ナ
イロン、ポリアスパラギン酸エチル、ポリグルタミン酸
エチル、ポリリジン、ポリプロリン、ポリ（γ−ベンジ
ル−Ｌ−グルタメート）、メチルセルロース、エチルセ
ルロース、ベンジルセルロース、ヒドロキシエチルセル
ロース、ヒドロキシプロピルセルロース、アセチルセル
ロース、セルローストリアセテート、、セルローストリ
ブチレート、ポリウレタン樹脂などの樹脂、ポリ（フェ
ニルメチルシラン）などの有機ポリシラン、有機ポリゲ
ルマン、並びに、これらの共重合体若しくは共重縮合体
などをあげることができる。
【００１１】また、上記の各成分を含有する薄膜が形成
される基板材料としては、特に限定されるものではない
が、光透過性の材料で形成されたものが好ましく、具体
的には、例えば、ガラス、又はポリカーボネート、ポリ
メタクリル酸メチルなどの熱可塑性樹脂、エポキシ樹脂
などの熱硬化性樹脂をあげることができる。中でも、ポ
リカーボネートのような光透過性の熱可塑性樹脂は好適
なものである。
される基板材料としては、特に限定されるものではない
が、光透過性の材料で形成されたものが好ましく、具体
的には、例えば、ガラス、又はポリカーボネート、ポリ
メタクリル酸メチルなどの熱可塑性樹脂、エポキシ樹脂
などの熱硬化性樹脂をあげることができる。中でも、ポ
リカーボネートのような光透過性の熱可塑性樹脂は好適
なものである。
【００１２】本発明の光記録媒体は次のようにして製造
することができる。すなわち、先ず、前述した薄膜に含
有される有機化合物単独、あるいは、有機化合物と熱可
塑性有機高分子化合物の混合物とを溶媒に溶解させる
か、あるいは、分散させて液体状態の薄膜形成材料を調
製する。
することができる。すなわち、先ず、前述した薄膜に含
有される有機化合物単独、あるいは、有機化合物と熱可
塑性有機高分子化合物の混合物とを溶媒に溶解させる
か、あるいは、分散させて液体状態の薄膜形成材料を調
製する。
【００１３】このとき使用される溶媒としては、上記の
薄膜形成材料を溶解または分散させることが可能で、揮
発性を有し、かつ、腐食性のないものであれば任意のも
のを使用することができる。具体的には、例えば、メタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブ
チルアルコール、アミルアルコール、シクロヘキサノー
ル、ベンジルアルコールなどのアルコール類、エチレン
グリコール、ジエチレングリコール、グリセリンなどの
多価アルコール類、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸
アミル、酢酸イソプロピルなどのエステル類、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノンなどのケトン類、ジエチルエーテル、ジ
ブチルエーテル、メトキシエタノール、エトキシエタノ
ール、ブトキシエタノール、カルビトールなどのエーテ
ル類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，
３−ジオキソランなどの環状エーテル類、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタ
ン、１，１，２−トリクロロエタン、トリクレンなどの
ハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、ニトロベ
ンゼン、アニソール、α−クロロナフタレンなどの芳香
属炭化水素類、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプ
タン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホリックトリアミドなどのアミド
類、Ｎ−メチルピロリドンなどの環状アミド類、テトラ
メチル尿素、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン
などの尿素誘導体類、ジメチルスルホキシドなどのスル
ホキシド類、炭酸エチル、炭酸プロピルなどの炭酸エス
テル類、アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニ
トリルなどのニトリル類、ピリジン、キノリンなどの含
窒素複素環化合物類、トリエチルアミン、トリエタノー
ルアミン、ジエチルアミノアルコール、アニリンなどの
アミン類などの他、ニトロメタン、二硫化炭素、スルホ
ラン、水、アンモニア水などの溶剤をあげることができ
る。これらの溶剤は、１種のみを使用しても、あるい
は、２種以上を混合して使用してもよい。
薄膜形成材料を溶解または分散させることが可能で、揮
発性を有し、かつ、腐食性のないものであれば任意のも
のを使用することができる。具体的には、例えば、メタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブ
チルアルコール、アミルアルコール、シクロヘキサノー
ル、ベンジルアルコールなどのアルコール類、エチレン
グリコール、ジエチレングリコール、グリセリンなどの
多価アルコール類、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸
アミル、酢酸イソプロピルなどのエステル類、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノンなどのケトン類、ジエチルエーテル、ジ
ブチルエーテル、メトキシエタノール、エトキシエタノ
ール、ブトキシエタノール、カルビトールなどのエーテ
ル類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，
３−ジオキソランなどの環状エーテル類、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタ
ン、１，１，２−トリクロロエタン、トリクレンなどの
ハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、ニトロベ
ンゼン、アニソール、α−クロロナフタレンなどの芳香
属炭化水素類、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプ
タン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホリックトリアミドなどのアミド
類、Ｎ−メチルピロリドンなどの環状アミド類、テトラ
メチル尿素、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン
などの尿素誘導体類、ジメチルスルホキシドなどのスル
ホキシド類、炭酸エチル、炭酸プロピルなどの炭酸エス
テル類、アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニ
トリルなどのニトリル類、ピリジン、キノリンなどの含
窒素複素環化合物類、トリエチルアミン、トリエタノー
ルアミン、ジエチルアミノアルコール、アニリンなどの
アミン類などの他、ニトロメタン、二硫化炭素、スルホ
ラン、水、アンモニア水などの溶剤をあげることができ
る。これらの溶剤は、１種のみを使用しても、あるい
は、２種以上を混合して使用してもよい。
【００１４】図１は、本発明の光記録媒体において、基
板上に有機化合物を含有する薄膜を形成する工程に使用
される真空成膜装置の一例を示す概略構成図である。図
において、真空容器８内に回転機構を有する基板支持台
３が配設され、この基板支持台３に基板２が回転可能に
取り付けられている。基板２と対向する真空容器８の壁
部には、噴霧ノズル１が配設され、加圧送液ポンプ６か
らこの噴霧ノズル１へ液体状態の薄膜形成材料が送られ
る。なお、この噴霧ノズル１は図示しない噴霧ノズル加
熱ヒータにより温度制御されている。基板支持台３の後
部には気化した溶剤を捕捉するための溶剤トラップ４が
配設され、又、真空容器８の下方には排気系として、タ
ーボポンプ５及び真空ポンプ７が配設されている。
板上に有機化合物を含有する薄膜を形成する工程に使用
される真空成膜装置の一例を示す概略構成図である。図
において、真空容器８内に回転機構を有する基板支持台
３が配設され、この基板支持台３に基板２が回転可能に
取り付けられている。基板２と対向する真空容器８の壁
部には、噴霧ノズル１が配設され、加圧送液ポンプ６か
らこの噴霧ノズル１へ液体状態の薄膜形成材料が送られ
る。なお、この噴霧ノズル１は図示しない噴霧ノズル加
熱ヒータにより温度制御されている。基板支持台３の後
部には気化した溶剤を捕捉するための溶剤トラップ４が
配設され、又、真空容器８の下方には排気系として、タ
ーボポンプ５及び真空ポンプ７が配設されている。
【００１５】図２は、基板支持台３の回転機構の概略を
示し、基板２は歯車１１と一体に回転するように取り付
けられており、歯車１１はこれより大径の歯車１２に噛
合し、この状態でアーム１３に、歯車１１、１２はそれ
ぞれ回転軸１３ｂ、１３ａにより軸支されている。アー
ム１３が回転軸１３ａを中心に回転すると、歯車１１は
自らも回転しながら、歯車１２の外周に沿って回転す
る。これにより、基板２は自転しながら、歯車１２の周
囲を公転することとなり、この基板２上へ有機化合物を
堆積させることにより形成される薄膜の膜厚を均一にす
ることが可能となる。図１及び２に示した真空成膜装置
において、先ず、ターボポンプ５及び真空ポンプ７によ
り真空容器８内を排気した後、溶剤トラップ４を液体窒
素若しくはヘリウム循環式冷凍機などにより冷却する。
次に、前述の有機化合物を含有する液体状態の薄膜形成
材料を加圧送液ポンプ６により加圧送液し、噴霧ノズル
加熱ヒータ（図示せず）により温度制御された噴霧ノズ
ル１から、高真空状態の真空容器８内へミスト状に噴霧
する。
示し、基板２は歯車１１と一体に回転するように取り付
けられており、歯車１１はこれより大径の歯車１２に噛
合し、この状態でアーム１３に、歯車１１、１２はそれ
ぞれ回転軸１３ｂ、１３ａにより軸支されている。アー
ム１３が回転軸１３ａを中心に回転すると、歯車１１は
自らも回転しながら、歯車１２の外周に沿って回転す
る。これにより、基板２は自転しながら、歯車１２の周
囲を公転することとなり、この基板２上へ有機化合物を
堆積させることにより形成される薄膜の膜厚を均一にす
ることが可能となる。図１及び２に示した真空成膜装置
において、先ず、ターボポンプ５及び真空ポンプ７によ
り真空容器８内を排気した後、溶剤トラップ４を液体窒
素若しくはヘリウム循環式冷凍機などにより冷却する。
次に、前述の有機化合物を含有する液体状態の薄膜形成
材料を加圧送液ポンプ６により加圧送液し、噴霧ノズル
加熱ヒータ（図示せず）により温度制御された噴霧ノズ
ル１から、高真空状態の真空容器８内へミスト状に噴霧
する。
【００１６】このとき、使用する溶剤の種類に応じて、
液体状態の薄膜形成材料が噴霧される時の温度を上記の
噴霧ノズル加熱ヒータによって制御する。また、液体状
態の薄膜形成材料の噴霧速度を加圧送液ポンプ６によっ
て調整する。さらに、真空容器８内の圧力を排気系、す
なわちターボポンプ５及び真空ポンプ７の排気速度によ
り調節する。さらに又、噴霧ノズル１と基板２との間の
距離を調節することによって、ミスト状に噴霧された液
体状態の薄膜形成材料が、真空容器８内を噴霧ノズル１
から基板２に至るまで飛散する間に大部分の溶媒が気化
するように設定することが可能となる。その結果、基板
２上に溶剤をほとんど含有しない薄膜形成材料を堆積さ
せることができる。なお、気化した溶剤は、トラップ４
に捕捉される。この噴霧終了後に、基板２上の堆積物中
に残留した溶剤などの揮発成分を完全に除去するため
に、基板２の加熱を行う。
液体状態の薄膜形成材料が噴霧される時の温度を上記の
噴霧ノズル加熱ヒータによって制御する。また、液体状
態の薄膜形成材料の噴霧速度を加圧送液ポンプ６によっ
て調整する。さらに、真空容器８内の圧力を排気系、す
なわちターボポンプ５及び真空ポンプ７の排気速度によ
り調節する。さらに又、噴霧ノズル１と基板２との間の
距離を調節することによって、ミスト状に噴霧された液
体状態の薄膜形成材料が、真空容器８内を噴霧ノズル１
から基板２に至るまで飛散する間に大部分の溶媒が気化
するように設定することが可能となる。その結果、基板
２上に溶剤をほとんど含有しない薄膜形成材料を堆積さ
せることができる。なお、気化した溶剤は、トラップ４
に捕捉される。この噴霧終了後に、基板２上の堆積物中
に残留した溶剤などの揮発成分を完全に除去するため
に、基板２の加熱を行う。
【００１７】このような工程により基板上に有機化合物
を含有する薄膜層を形成すると、基板を侵す可能性のあ
る溶剤が基板と直接接触することがなく、又、基板上に
既に形成されている小さいピットや浅い溝などを埋める
ことが防止される。
を含有する薄膜層を形成すると、基板を侵す可能性のあ
る溶剤が基板と直接接触することがなく、又、基板上に
既に形成されている小さいピットや浅い溝などを埋める
ことが防止される。
【００１８】
【実施例】以下に示す実施例により、本発明を具体的に
説明する。 ＜実施例１＞シアニン色素として、１，３，３，１’，
３’，３’−ヘキサメチル−２，２’−（４，５，
４’，５’−ジベンゾ）インドジカルボシアニンパーク
ロレートをアセトンに溶解させ、１重量％の濃度の溶液
を調製した。通常のコンパクトディスクの約４倍密度の
ＥＦＭ信号が微小なピット（最短ピット長０．４μｍ、
ピット深さ８０ｎｍ）として形成されているポリカーボ
ネート樹脂射出成形基板上に、上記の色素溶液を図１及
び２に示した真空成膜装置を使用して、膜厚約２５０ｎ
ｍの色素薄膜を形成した。このときの真空成膜装置の条
件は以下に示すとおりであった。
説明する。 ＜実施例１＞シアニン色素として、１，３，３，１’，
３’，３’−ヘキサメチル−２，２’−（４，５，
４’，５’−ジベンゾ）インドジカルボシアニンパーク
ロレートをアセトンに溶解させ、１重量％の濃度の溶液
を調製した。通常のコンパクトディスクの約４倍密度の
ＥＦＭ信号が微小なピット（最短ピット長０．４μｍ、
ピット深さ８０ｎｍ）として形成されているポリカーボ
ネート樹脂射出成形基板上に、上記の色素溶液を図１及
び２に示した真空成膜装置を使用して、膜厚約２５０ｎ
ｍの色素薄膜を形成した。このときの真空成膜装置の条
件は以下に示すとおりであった。
【００１９】 （１）真空容器内圧 １×１０-4 Ｐａ （２）色素溶液の噴霧速度 １００ μｌ／分 （３）真空容器排気速度 ４５０ ｌ／分（１気圧、２０℃換算） （４）噴霧ノズルと基板との距離 １８０ｍｍ （５）噴霧ノズル加熱温度 ４０℃
【００２０】基板上にシアニン色素を含有する薄膜形成
後に、基板を約６０℃で１時間加熱した。しかるのち、
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で基板表面のピットを観察
したところ、図３に示したように、色素薄膜形成後にお
いてもピットは埋められていないことが確認された。
後に、基板を約６０℃で１時間加熱した。しかるのち、
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で基板表面のピットを観察
したところ、図３に示したように、色素薄膜形成後にお
いてもピットは埋められていないことが確認された。
【００２１】＜比較例１＞実施例１と同じシアニン色素
をエチルセロソルブに溶解させ、３重量％の濃度の溶液
を調製した。次いで、実施例１において使用したのと同
じピットが形成されたポリカーボネート樹脂射出形成基
板上に、スピンコート法により塗布し、膜厚約３００ｎ
ｍの色素薄膜を形成した。上記と同様に基板表面のピッ
トをＳＥＭにより観察したところ、図４に示したよう
に、色素薄膜形成後のピットは色素により埋められてい
ることが確認された。
をエチルセロソルブに溶解させ、３重量％の濃度の溶液
を調製した。次いで、実施例１において使用したのと同
じピットが形成されたポリカーボネート樹脂射出形成基
板上に、スピンコート法により塗布し、膜厚約３００ｎ
ｍの色素薄膜を形成した。上記と同様に基板表面のピッ
トをＳＥＭにより観察したところ、図４に示したよう
に、色素薄膜形成後のピットは色素により埋められてい
ることが確認された。
【００２２】＜実施例２＞基板上に可逆性色素であるサ
ーモクロミック化合物を有するマスク層を形成して超解
像光ディスクを製造した。すなわち、電子供与性呈色化
合物としてフルオランテン系化合物、顕色剤としてビス
フェノールＡをモル比率１：３の割合でアセトンに溶解
させ、１重量％の濃度の混合溶液を調製した。通常のコ
ンパクトディスクの約４倍密度のＥＦＭ信号が微小なピ
ット（最短ピット長０．４μｍ、ピット深さ８０ｎｍ）
として形成されているポリカーボネート樹脂射出成形基
板上に、上記の色素溶液を図１及び２に示した真空成膜
装置を使用して、膜厚約８００ｎｍの色素薄膜よりなる
マスク層を形成した。このときの真空成膜装置の条件は
以下に示すとおりであった。
ーモクロミック化合物を有するマスク層を形成して超解
像光ディスクを製造した。すなわち、電子供与性呈色化
合物としてフルオランテン系化合物、顕色剤としてビス
フェノールＡをモル比率１：３の割合でアセトンに溶解
させ、１重量％の濃度の混合溶液を調製した。通常のコ
ンパクトディスクの約４倍密度のＥＦＭ信号が微小なピ
ット（最短ピット長０．４μｍ、ピット深さ８０ｎｍ）
として形成されているポリカーボネート樹脂射出成形基
板上に、上記の色素溶液を図１及び２に示した真空成膜
装置を使用して、膜厚約８００ｎｍの色素薄膜よりなる
マスク層を形成した。このときの真空成膜装置の条件は
以下に示すとおりであった。
【００２３】 （１）真空容器内圧 １×１０-4 Ｐａ （２）色素溶液の噴霧速度 ３６０ μｌ／分 （３）真空容器排気速度 ４５０ ｌ／分（１気圧、２０℃換算） （４）噴霧ノズルと基板との距離 １８０ｍｍ （５）噴霧ノズル加熱温度 ４０℃
【００２４】さらに、このマスク層上に反射層としてア
ルミニウムを真空スパッタリング法により約７０ｎｍの
厚さに形成し、その上に、保護層として紫外線硬化樹脂
セイカビームＶＤＡＬ−３９２（大日精化工業製）を約
７μｍの厚さで形成し、超解像光ディスクを得た。この
超解像光ディスクを、波長６８０ｎｍの半導体レーザを
搭載したプレーヤーにより再生した。なお、このときの
ピックアップレンズの開口度（ＮＡ）は０．６、再生条
件として線速度（ＣＬＶ）３ｍ／ｓ、回転数１０００ｒ
ｐｍ、再生パワー約３．０ｍＷとした。再生したディス
クの再生信号波形（アイパターン）は超解像により、図
５のオシロ波型に示したように、１１Ｔ信号振幅に対す
る３Ｔ信号振幅の比が８２．２％となり、極めて良好な
周波数特性を示すことが確認された。
ルミニウムを真空スパッタリング法により約７０ｎｍの
厚さに形成し、その上に、保護層として紫外線硬化樹脂
セイカビームＶＤＡＬ−３９２（大日精化工業製）を約
７μｍの厚さで形成し、超解像光ディスクを得た。この
超解像光ディスクを、波長６８０ｎｍの半導体レーザを
搭載したプレーヤーにより再生した。なお、このときの
ピックアップレンズの開口度（ＮＡ）は０．６、再生条
件として線速度（ＣＬＶ）３ｍ／ｓ、回転数１０００ｒ
ｐｍ、再生パワー約３．０ｍＷとした。再生したディス
クの再生信号波形（アイパターン）は超解像により、図
５のオシロ波型に示したように、１１Ｔ信号振幅に対す
る３Ｔ信号振幅の比が８２．２％となり、極めて良好な
周波数特性を示すことが確認された。
【００２５】＜比較例２＞実施例２で使用したフルオラ
ンテン系化合物とビスフェノールＡとをモル比率１：３
の割合にアセトンに溶解させ、４重量％の濃度の混合溶
液を調製した。次いで、実施例２において使用したのと
同じピットが形成されたポリカーボネート樹脂射出形成
基板上に、スピンコート法により塗布し、膜厚約７００
ｎｍの色素薄膜を形成した。さらに、実施例２と同様に
色素薄膜上に反射膜及び保護膜を形成し、光ディスクを
得た。得られた光ディスクについて、実施例２と同様の
プレーヤーで再生を試みたが、サーモクロミック材料が
基板のピットを埋めてしまったため、再生することが不
可能であった。
ンテン系化合物とビスフェノールＡとをモル比率１：３
の割合にアセトンに溶解させ、４重量％の濃度の混合溶
液を調製した。次いで、実施例２において使用したのと
同じピットが形成されたポリカーボネート樹脂射出形成
基板上に、スピンコート法により塗布し、膜厚約７００
ｎｍの色素薄膜を形成した。さらに、実施例２と同様に
色素薄膜上に反射膜及び保護膜を形成し、光ディスクを
得た。得られた光ディスクについて、実施例２と同様の
プレーヤーで再生を試みたが、サーモクロミック材料が
基板のピットを埋めてしまったため、再生することが不
可能であった。
【００２６】このように、本発明においては、基板とし
て耐溶剤性の比較的低いポリカーボネート樹脂を使用し
た場合でも、溶剤により基板が侵されることなく、又、
ピットが埋められることなく、有機化合物を含有する薄
膜を形成することができる。さらに、昇華性を示さない
ため、加熱真空蒸着法で成膜できないシアニン色素を容
易に成膜することができるという利点を有する。
て耐溶剤性の比較的低いポリカーボネート樹脂を使用し
た場合でも、溶剤により基板が侵されることなく、又、
ピットが埋められることなく、有機化合物を含有する薄
膜を形成することができる。さらに、昇華性を示さない
ため、加熱真空蒸着法で成膜できないシアニン色素を容
易に成膜することができるという利点を有する。
【００２７】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の光
記録媒体及びその製造方法によれば、有機化合物を含有
する薄膜よりなる層として、真空容器内で有機化合物を
含有する液体状態の薄膜形成材料を噴霧ノズルから噴霧
し、かつ、この噴霧によって気化した薄膜形成材料の溶
剤を捕捉することにより、基板表面の微小なピット又は
溝が埋められることがないように、溶剤を除いた材料の
みが基板の一方の面上に堆積されるので、溶剤が直接基
板に接触することが防止され、高密度の記録又は再生が
可能となる。
記録媒体及びその製造方法によれば、有機化合物を含有
する薄膜よりなる層として、真空容器内で有機化合物を
含有する液体状態の薄膜形成材料を噴霧ノズルから噴霧
し、かつ、この噴霧によって気化した薄膜形成材料の溶
剤を捕捉することにより、基板表面の微小なピット又は
溝が埋められることがないように、溶剤を除いた材料の
みが基板の一方の面上に堆積されるので、溶剤が直接基
板に接触することが防止され、高密度の記録又は再生が
可能となる。
【図１】本発明の光記録媒体の製造に使用される真空成
膜装置の構成の一例を示す概略構成図である。
膜装置の構成の一例を示す概略構成図である。
【図２】図１の真空成膜装置における基板支持台の回転
機構を説明するための概略構成図である。
機構を説明するための概略構成図である。
【図３】実施例１により得られた光記録媒体の表面をピ
ットの形状がわかるように撮影した走査型電子顕微鏡写
真である。
ットの形状がわかるように撮影した走査型電子顕微鏡写
真である。
【図４】比較例１により得られた光記録媒体の表面をピ
ットの形状がわかるように撮影した走査型電子顕微鏡写
真である。
ットの形状がわかるように撮影した走査型電子顕微鏡写
真である。
【図５】実施例２により得られた光記録媒体の再生信号
のアイパターンを撮影したオシロ波型の写真である。
のアイパターンを撮影したオシロ波型の写真である。
【符号の説明】 １ 噴霧ノズル ２ 基板 ３ 回転機構を有する基板支持台 ４ 溶剤トラップ ５ ターボポンプ ６ 加圧送液ポンプ ７ 真空ポンプ ８ 真空容器 １１、１２ 歯車 １３ アーム １３ａ、１３ｂ 回転軸
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 上野 一郎 神奈川県横浜市神奈川区守屋町３丁目12 番地 日本ビクター株式会社内 (72)発明者 田中 教雄 東京都足立区堀之内１−９−４ (56)参考文献 特開 平８−36789（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−242527（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 7/26 G11B 7/24
Claims (4)
- 【請求項１】 微小なピット又は溝があらかじめ形成さ
れている基板の一方の面上に、薄膜層を直接形成した光
記録媒体であって、 真空容器内で有機化合物を含有する液体状態の薄膜形成
材料を噴霧ノズルから前記基板の一方の面上に噴霧する
とともに、この噴霧によって気化した前記薄膜形成材料
の溶剤を捕捉して、この溶剤を除く前記薄膜形成材料を
前記基板の一方の面上に堆積させることにより、前記微
小なピット又は溝を埋めることなく前記基板の一方の面
上に前記薄膜層を形成した光記録媒体。 - 【請求項２】 前記基板が光透過性を有する請求項１記
載の光記録媒体。 - 【請求項３】 前記基板が熱可塑性高分子材料により形
成されている請求項１又は２記載の光記録媒体。 - 【請求項４】 微小なピット又は溝があらかじめ形成さ
れている基板の一方の面上に、薄膜層を直接形成した光
記録媒体の製造方法であって、 真空容器内で有機化合物を含有する液体状態の薄膜形成
材料を噴霧ノズルから前記基板の一方の面上に噴霧する
とともに、この噴霧によって気化した前記薄膜形成材料
の溶剤を捕捉して、この溶剤を除く前記薄膜形成材料を
前記基板の一方の面上に堆積させることにより、前記微
小なピット又は溝を埋めることなく前記基板の一方の面
上に前記薄膜層を形成する光記録媒体の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9056860A JP3012547B2 (ja) | 1997-02-25 | 1997-02-25 | 光記録媒体及びその製造方法 |
| US09/476,122 US6355311B1 (en) | 1997-02-25 | 2000-01-03 | Method for making an optical recording medium and an optical recording medium obtained by the method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9056860A JP3012547B2 (ja) | 1997-02-25 | 1997-02-25 | 光記録媒体及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10241217A JPH10241217A (ja) | 1998-09-11 |
| JP3012547B2 true JP3012547B2 (ja) | 2000-02-21 |
Family
ID=13039179
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9056860A Expired - Fee Related JP3012547B2 (ja) | 1997-02-25 | 1997-02-25 | 光記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6355311B1 (ja) |
| JP (1) | JP3012547B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3682465B2 (ja) * | 1999-03-31 | 2005-08-10 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 樹脂成形物表面層の改質方法およびそのための装置および表面層が改質された樹脂成形物、および樹脂成形物表面層の着色方法およびそのための装置および表面層が着色された樹脂成形物、および表面層の改質により機能性を付与された樹脂成形物 |
| JP4172982B2 (ja) * | 2002-09-24 | 2008-10-29 | 富士通株式会社 | 固体材料のガス化方法及び装置ならびに薄膜形成方法及び装置 |
| RU2007103842A (ru) * | 2004-07-07 | 2008-08-20 | ЭнЭмЕ, ИНК. (GB) | Многослойный оптический диск, способ и устройство для его изготовления |
| CN102400133A (zh) * | 2011-11-09 | 2012-04-04 | 东莞上海大学纳米技术研究院 | 一种制备光散射薄膜的方法 |
| CN109207932A (zh) * | 2017-06-30 | 2019-01-15 | 株式会社新柯隆 | 成膜装置 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5688565A (en) * | 1988-12-27 | 1997-11-18 | Symetrix Corporation | Misted deposition method of fabricating layered superlattice materials |
| NL9000323A (nl) * | 1990-02-12 | 1991-09-02 | Philips & Du Pont Optical | Werkwijze voor het vanuit een metalliseringsvloeistof stroomloos neerslaan van een metaallaag op een vlak voorwerp. |
| JP3059972B2 (ja) * | 1993-03-12 | 2000-07-04 | 工業技術院長 | 有機系光学薄膜の製造法とその装置 |
| JPH0718693A (ja) * | 1993-06-30 | 1995-01-20 | Kubota Corp | バックホーの油圧配管構造 |
| DE4329651A1 (de) * | 1993-09-03 | 1995-03-09 | Goldschmidt Ag Th | Verfahren zur Herstellung elektrisch leitfähiger, infrarotreflektierender Schichten auf Glas-, Glaskeramik- oder Emailoberflächen |
| JP2599569B2 (ja) * | 1994-03-09 | 1997-04-09 | 工業技術院長 | 複合型光学薄膜の製造方法とその製造装置 |
| JP3734228B2 (ja) * | 1995-07-14 | 2006-01-11 | パイオニア株式会社 | 光記録媒体及びその製造方法 |
| GB9515439D0 (en) * | 1995-07-27 | 1995-09-27 | Isis Innovation | Method of producing metal quantum dots |
| US5820942A (en) * | 1996-12-20 | 1998-10-13 | Ag Associates | Process for depositing a material on a substrate using light energy |
| US6143370A (en) * | 1997-08-27 | 2000-11-07 | Northeastern University | Process for producing polymer coatings with various porosities and surface areas |
-
1997
- 1997-02-25 JP JP9056860A patent/JP3012547B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-01-03 US US09/476,122 patent/US6355311B1/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6355311B1 (en) | 2002-03-12 |
| JPH10241217A (ja) | 1998-09-11 |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19991102 |
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| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071210 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081210 Year of fee payment: 9 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101210 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111210 Year of fee payment: 12 |
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| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| R350 | Written notification of registration of transfer |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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