JP3010460B2 - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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- JP3010460B2 JP3010460B2 JP5206120A JP20612093A JP3010460B2 JP 3010460 B2 JP3010460 B2 JP 3010460B2 JP 5206120 A JP5206120 A JP 5206120A JP 20612093 A JP20612093 A JP 20612093A JP 3010460 B2 JP3010460 B2 JP 3010460B2
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント基板、樹脂成
型部品、及び金属加工部品などの被洗浄物から汚れを除
去し、極めて清浄な状態にする洗浄装置に関し、より詳
しくは脱フロン脱エタンの洗浄装置に関する。
型部品、及び金属加工部品などの被洗浄物から汚れを除
去し、極めて清浄な状態にする洗浄装置に関し、より詳
しくは脱フロン脱エタンの洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から用いられている洗浄液であるC
FC−113や1,1,1−トリクロロエタンには、
化学的、熱的安定性が高い適当な溶解性がある不燃
性で火災の危険性がない適当な沸点を有し、蒸発熱が
小さく蒸気洗浄に適している表面張力、粘度が小さく
狭い隙間にも浸透性を有する毒性が低く、作業環境へ
の配慮が容易である揮発性が高く乾燥が容易である
洗浄液の使用済液(汚染液)は蒸留により再生利用が容
易である等々の特長があり、これらの洗浄液の洗浄度は
洗浄液そのものの洗浄性によるところが大きく、洗浄装
置の洗浄機能によるところは少なかった。
FC−113や1,1,1−トリクロロエタンには、
化学的、熱的安定性が高い適当な溶解性がある不燃
性で火災の危険性がない適当な沸点を有し、蒸発熱が
小さく蒸気洗浄に適している表面張力、粘度が小さく
狭い隙間にも浸透性を有する毒性が低く、作業環境へ
の配慮が容易である揮発性が高く乾燥が容易である
洗浄液の使用済液(汚染液)は蒸留により再生利用が容
易である等々の特長があり、これらの洗浄液の洗浄度は
洗浄液そのものの洗浄性によるところが大きく、洗浄装
置の洗浄機能によるところは少なかった。
【0003】地球環境保護の目的でCFC−113や
1,1,1−トリクロロエタンなどの特定フロンの全廃
(1995年末)が決定され、脱フロン脱エタン洗浄に
ついて高性能な代替洗浄装置の必要性が高まってきた。
前記の状況下にあって代替洗浄剤も各種のものが市販さ
れるようになってきているが、前記の〜の特長を全
て備えているものは出現しておらず、今後においても出
現は期待できないと言われている。
1,1,1−トリクロロエタンなどの特定フロンの全廃
(1995年末)が決定され、脱フロン脱エタン洗浄に
ついて高性能な代替洗浄装置の必要性が高まってきた。
前記の状況下にあって代替洗浄剤も各種のものが市販さ
れるようになってきているが、前記の〜の特長を全
て備えているものは出現しておらず、今後においても出
現は期待できないと言われている。
【0004】一方技術の高度化は年々着実に進み、その
背景にはCFC−113や1,1,1−トリクロロエタ
ンによる高洗浄度によることころが大であった。脱フロ
ン脱エタン時代の代替洗浄剤で従来の高洗浄度を確保す
るためには脱フロン脱エタン洗浄装置の洗浄機能の改善
に頼らざるを得ない現状にある。
背景にはCFC−113や1,1,1−トリクロロエタ
ンによる高洗浄度によることころが大であった。脱フロ
ン脱エタン時代の代替洗浄剤で従来の高洗浄度を確保す
るためには脱フロン脱エタン洗浄装置の洗浄機能の改善
に頼らざるを得ない現状にある。
【0005】従来の洗浄装置においては、洗浄液(CF
C−113や1,1,1−トリクロロエタン)を収容す
る洗浄槽の側壁に超音波振動子を装着するか、槽内に投
げ込み型の超音波振動子ユニットを装備し、被洗浄物を
静かに揺動させ、超音波の照射効果を被洗浄物に一様に
与え、洗浄液の洗浄性とともに超音波による洗浄性によ
って洗浄工程を進行させていた。
C−113や1,1,1−トリクロロエタン)を収容す
る洗浄槽の側壁に超音波振動子を装着するか、槽内に投
げ込み型の超音波振動子ユニットを装備し、被洗浄物を
静かに揺動させ、超音波の照射効果を被洗浄物に一様に
与え、洗浄液の洗浄性とともに超音波による洗浄性によ
って洗浄工程を進行させていた。
【0006】従来の超音波洗浄においては、超音波洗浄
時に液流がない方が洗浄性がよいとされ、被洗浄物の揺
動は静かに行うのが原則とされており、各種の洗浄装置
においてこの原則が忠実に守られてきた。
時に液流がない方が洗浄性がよいとされ、被洗浄物の揺
動は静かに行うのが原則とされており、各種の洗浄装置
においてこの原則が忠実に守られてきた。
【0007】洗浄後の被洗浄物は、洗浄液中から静かに
引き上げ、被洗浄物上に液滴を残さず(乾燥後液中の汚
れが残る)に洗浄液の比熱が低く蒸発しやすいことを利
用して、引き上げ途中で乾燥し蒸気は冷却器により槽内
に回収される。
引き上げ、被洗浄物上に液滴を残さず(乾燥後液中の汚
れが残る)に洗浄液の比熱が低く蒸発しやすいことを利
用して、引き上げ途中で乾燥し蒸気は冷却器により槽内
に回収される。
【0008】この場合、洗浄液の付着液被膜中に含有さ
れた汚れが、洗浄液の蒸発によって洗浄後に被洗浄物の
表面に残留することになる。このようにして第1槽目で
洗浄された被洗浄物は第2槽目(例えば、すすぎ槽)に
移されることになるが、液付着量(液被膜が少ないた
め)汚れの第2槽目への持ち込み量は極めて少ない。汚
れた洗浄液が、そのまま第2槽目に汚れを一緒に持ち込
むことがなく、洗浄槽から引き上げられるときに被洗浄
物が濡れていた洗浄液の被膜中に含まれた汚れだけが移
動するのみである。
れた汚れが、洗浄液の蒸発によって洗浄後に被洗浄物の
表面に残留することになる。このようにして第1槽目で
洗浄された被洗浄物は第2槽目(例えば、すすぎ槽)に
移されることになるが、液付着量(液被膜が少ないた
め)汚れの第2槽目への持ち込み量は極めて少ない。汚
れた洗浄液が、そのまま第2槽目に汚れを一緒に持ち込
むことがなく、洗浄槽から引き上げられるときに被洗浄
物が濡れていた洗浄液の被膜中に含まれた汚れだけが移
動するのみである。
【0009】このため、第2槽目の汚れの進行は充分に
遅く、第2槽目の洗浄(またはすすぎ)が汚れの少ない
液によって極めて効果的に行える。
遅く、第2槽目の洗浄(またはすすぎ)が汚れの少ない
液によって極めて効果的に行える。
【0010】第3槽目以降においては、更に汚れの少な
い液中ですすぎ(または洗浄)が行われることになる。
い液中ですすぎ(または洗浄)が行われることになる。
【0011】洗浄槽中で被洗浄物から汚れを落とし、第
2槽目へ移動する汚れの量を最小限に抑えるのが第2槽
目以降の洗浄度を高くするポイントであり、CFC−1
13や1,1,1−トリクロロエタンであればこそ可能
であった。
2槽目へ移動する汚れの量を最小限に抑えるのが第2槽
目以降の洗浄度を高くするポイントであり、CFC−1
13や1,1,1−トリクロロエタンであればこそ可能
であった。
【0012】脱フロン脱エタン洗浄液、例えば炭化水素
系洗浄剤や水系洗浄剤においては、沸点が高く蒸発熱も
大きいため揮発性が低い。従って、汚れた洗浄液を確実
に液きりして第2槽目へ被洗浄物を移さないと、第2槽
目の液は持ち込まれた液によって洗浄度が容易に低下す
ることになり、第2槽目以降の汚れも順次進行する。洗
浄後の乾燥槽へも多くの液滴が持ち込まれる結果、乾燥
後の高洗浄度が得られにくい。
系洗浄剤や水系洗浄剤においては、沸点が高く蒸発熱も
大きいため揮発性が低い。従って、汚れた洗浄液を確実
に液きりして第2槽目へ被洗浄物を移さないと、第2槽
目の液は持ち込まれた液によって洗浄度が容易に低下す
ることになり、第2槽目以降の汚れも順次進行する。洗
浄後の乾燥槽へも多くの液滴が持ち込まれる結果、乾燥
後の高洗浄度が得られにくい。
【0013】CFC−113や1,1,1−トリクロロ
エタンは溶解性および浸透性が高いために、被洗浄物の
汚れを容易に液中へ溶解し、そして液中への分散化を図
る性質を有するので、被洗浄物から離脱した汚れは液中
に容易に分散し、次から次へと被洗浄物より汚れを離脱
させ液中分散を図るから、洗浄が効果的に進行する。す
なわち洗浄理論の原則である、被洗浄物から汚れを離
脱させる離脱した汚れを分散させる汚れの分散によ
って被洗浄物周辺に汚れ度の高い液層を作らず、被洗浄
物が液中汚れにより再汚染されることなく洗浄度を低下
させない等が極めて有利に作用するために、物理的な洗
浄機能としては静止液中で超音波を照射することで十分
であった。
エタンは溶解性および浸透性が高いために、被洗浄物の
汚れを容易に液中へ溶解し、そして液中への分散化を図
る性質を有するので、被洗浄物から離脱した汚れは液中
に容易に分散し、次から次へと被洗浄物より汚れを離脱
させ液中分散を図るから、洗浄が効果的に進行する。す
なわち洗浄理論の原則である、被洗浄物から汚れを離
脱させる離脱した汚れを分散させる汚れの分散によ
って被洗浄物周辺に汚れ度の高い液層を作らず、被洗浄
物が液中汚れにより再汚染されることなく洗浄度を低下
させない等が極めて有利に作用するために、物理的な洗
浄機能としては静止液中で超音波を照射することで十分
であった。
【0014】脱フロン脱エタン洗浄剤では、溶解性、分
散性を同時に備えたものはなく、特に多量に付着した汚
れに対しては被洗浄物の被膜汚れが露出され、超音波洗
浄効果が現れるまでに長い時間を要する。離脱した汚れ
は、汚れ濃度の高い液層を被洗浄物周辺に形成し、汚れ
濃度が分散しないまま浮遊するため被洗浄物の表面洗浄
の進行が緩やかになる。
散性を同時に備えたものはなく、特に多量に付着した汚
れに対しては被洗浄物の被膜汚れが露出され、超音波洗
浄効果が現れるまでに長い時間を要する。離脱した汚れ
は、汚れ濃度の高い液層を被洗浄物周辺に形成し、汚れ
濃度が分散しないまま浮遊するため被洗浄物の表面洗浄
の進行が緩やかになる。
【0015】脱フロン脱エタン洗浄剤は、前述の通り洗
浄性はCFC−113や1,1,1−トリクロロエタン
に比べはるかに劣るものである。液の性状も異なるため
に従来の洗浄装置で洗浄を行うことは不可能である。従
来レベルの洗浄度を確保するためには洗浄装置の洗浄機
能の改善によって洗浄度を補う必要がある。
浄性はCFC−113や1,1,1−トリクロロエタン
に比べはるかに劣るものである。液の性状も異なるため
に従来の洗浄装置で洗浄を行うことは不可能である。従
来レベルの洗浄度を確保するためには洗浄装置の洗浄機
能の改善によって洗浄度を補う必要がある。
【0016】また、洗浄槽(またはすすぎ槽)の構造
は、第1槽(洗浄)より第2槽(洗浄またはすすぎ槽)
を多くの場合高位置にし、第3槽は第2槽より高く、第
4槽は第3槽より高くというようにして複数個の洗浄又
はすすぎ槽を隣接させ、最終槽へ新液を補給すると順次
隣接槽へオーバーフロー流入する構造を有している。第
1槽目の洗浄液は被洗浄物に付着して次槽へ持ち込まれ
る液量や被洗浄物を洗浄後に引き上げるときに揮発する
液量が順次減量される。第2槽、第3槽・・・において
も同様の液の減量が起こるが、最終槽に供給された新液
が順次第1槽までオーバーフローして供給されるから後
の槽ほど液の清浄度は高く保たれる。
は、第1槽(洗浄)より第2槽(洗浄またはすすぎ槽)
を多くの場合高位置にし、第3槽は第2槽より高く、第
4槽は第3槽より高くというようにして複数個の洗浄又
はすすぎ槽を隣接させ、最終槽へ新液を補給すると順次
隣接槽へオーバーフロー流入する構造を有している。第
1槽目の洗浄液は被洗浄物に付着して次槽へ持ち込まれ
る液量や被洗浄物を洗浄後に引き上げるときに揮発する
液量が順次減量される。第2槽、第3槽・・・において
も同様の液の減量が起こるが、最終槽に供給された新液
が順次第1槽までオーバーフローして供給されるから後
の槽ほど液の清浄度は高く保たれる。
【0017】かかる洗浄槽(またはすすぎ槽)の構造で
は、被洗浄物は槽の数に等しい回数だけ移送工程が伴う
ことになる。
は、被洗浄物は槽の数に等しい回数だけ移送工程が伴う
ことになる。
【0018】
【発明が解決しようとする課題】従来、万能洗浄剤とい
われたCFC−113や1,1,1−トリクロロエタン
は地球環境保護の立場から全廃が決定されることになっ
たのは当然の成り行きとして、受け止められている。脱
フロン脱エタン洗浄剤の低洗浄性を洗浄装置の洗浄機能
の改善で補って、従来の洗浄度を維持し、かつ洗浄のイ
ニシャルコスト及びランニングコストの高騰を防ぐ新た
な洗浄装置の開発が望まれている。
われたCFC−113や1,1,1−トリクロロエタン
は地球環境保護の立場から全廃が決定されることになっ
たのは当然の成り行きとして、受け止められている。脱
フロン脱エタン洗浄剤の低洗浄性を洗浄装置の洗浄機能
の改善で補って、従来の洗浄度を維持し、かつ洗浄のイ
ニシャルコスト及びランニングコストの高騰を防ぐ新た
な洗浄装置の開発が望まれている。
【0019】その開発にあたっての課題として、従来
の洗浄剤プラス超音波洗浄に相当する洗浄性が確保でき
る新洗浄方式の開発超音波の照射効果を被洗浄物に一
様に与えて、超音波洗浄効果を確保すること・・等があ
り、このように洗浄機能の改善によって代替洗浄液その
ものがもつ洗浄性の低さを補う必要がある。
の洗浄剤プラス超音波洗浄に相当する洗浄性が確保でき
る新洗浄方式の開発超音波の照射効果を被洗浄物に一
様に与えて、超音波洗浄効果を確保すること・・等があ
り、このように洗浄機能の改善によって代替洗浄液その
ものがもつ洗浄性の低さを補う必要がある。
【0020】さらに、複数個の洗浄又はすすぎ槽を並設
して被洗浄物を槽の数に等しい回数移送するといった工
程を不要とし、装置を簡略化してイニシャルコストおよ
びランニングコスト(消費電力等)の低減を図ることも
求められている。
して被洗浄物を槽の数に等しい回数移送するといった工
程を不要とし、装置を簡略化してイニシャルコストおよ
びランニングコスト(消費電力等)の低減を図ることも
求められている。
【0021】本発明は、このような事情に鑑みて創案さ
れたもので、高洗浄度および均一洗浄性を確保するとと
もに、装置構成を簡素化して省スペースおよびコストの
低減を図った洗浄装置を提供することを目的とする。
れたもので、高洗浄度および均一洗浄性を確保するとと
もに、装置構成を簡素化して省スペースおよびコストの
低減を図った洗浄装置を提供することを目的とする。
【0022】
【課題を解決するための手段】本発明では、上述の目的
を達成するために、次のように構成している。
を達成するために、次のように構成している。
【0023】(1)請求項第1項に記載の本発明の洗浄
装置は、超音波振動子が取り付けられた液槽と、この液
槽へ供給される液体が貯えられた複数の貯液タンクとを
備え、前記液槽内に収納された被洗浄物を回転させて液
流を発生させながら、超音波を照射して洗浄を行う洗浄
装置であって、前記液槽と前記複数の貯液タンクとが、
高低差をもって配置され、高位置の液槽(または複数の
貯液タンク)から低位置の複数の貯液タンク(または液
槽)へ液体をそれぞれ移送する複数の第1管路には、開
閉弁がそれぞれ設けられるとともに、低位置の複数の貯
液タンク(または液槽)から高位置の液槽(または複数
の貯液タンク)へ液体をそれぞれ移送する複数の第2管
路には、複数の貯液タンクに対応したいずれの液体も移
送される共通な管路部分に、移送方向を反転できる正逆
回転可能なポンプが設けられ、前記第1管路による高位
置から低位置への液体の移送は、重力を利用した自然落
下によって行い、前記第2管路による低位置から高位置
への液体の移送は、前記ポンプの回転によって行うよう
にしている。
装置は、超音波振動子が取り付けられた液槽と、この液
槽へ供給される液体が貯えられた複数の貯液タンクとを
備え、前記液槽内に収納された被洗浄物を回転させて液
流を発生させながら、超音波を照射して洗浄を行う洗浄
装置であって、前記液槽と前記複数の貯液タンクとが、
高低差をもって配置され、高位置の液槽(または複数の
貯液タンク)から低位置の複数の貯液タンク(または液
槽)へ液体をそれぞれ移送する複数の第1管路には、開
閉弁がそれぞれ設けられるとともに、低位置の複数の貯
液タンク(または液槽)から高位置の液槽(または複数
の貯液タンク)へ液体をそれぞれ移送する複数の第2管
路には、複数の貯液タンクに対応したいずれの液体も移
送される共通な管路部分に、移送方向を反転できる正逆
回転可能なポンプが設けられ、前記第1管路による高位
置から低位置への液体の移送は、重力を利用した自然落
下によって行い、前記第2管路による低位置から高位置
への液体の移送は、前記ポンプの回転によって行うよう
にしている。
【0024】(2)請求項第2項に記載の本発明の洗浄
装置は、請求項第1項記載の構成に加え、重力を利用し
た自然落下によって液体を移送する第1管路の配管径
を、前記ポンプの回転によって液体を移送する第2管路
の配管径よりも大きくしている。
装置は、請求項第1項記載の構成に加え、重力を利用し
た自然落下によって液体を移送する第1管路の配管径
を、前記ポンプの回転によって液体を移送する第2管路
の配管径よりも大きくしている。
【0025】(3)請求項第3項に記載の本発明の洗浄
装置は、請求項第1項または第2項記載の構成に加え、
第2管路には、前記ポンプに近接して逆止弁を設け、前
記共通な管路部分を短くしている。
装置は、請求項第1項または第2項記載の構成に加え、
第2管路には、前記ポンプに近接して逆止弁を設け、前
記共通な管路部分を短くしている。
【0026】
【作用】(1)請求項第1項記載の洗浄装置によれば、
被洗浄物が回転されることと、その回転よって生じる液
流に被洗浄物がさらされることとによって、被洗浄物に
付着している汚れを液流という物理力で離脱させる。し
かも、超音波を照射することにより汚れの離脱作用を隅
々までわたらせるとともに、離脱した汚れを分散させて
被洗浄物への汚れの再付着を防止する。表面液流の作用
により被洗浄物上の汚れと液流との界面が活性化されて
汚れが液中に溶出し、溶出した汚れは直ちに液流により
分散し、界面の汚れの濃度を高めることがないために継
続的に汚れが離脱する。被洗浄物の界面の汚れ濃度が局
部的に高まることがないので、再汚染によって洗浄度が
低くなるという不都合な結果を避けることができる。ま
た、小さな加工穴やスリットの内部など液流が届きにく
く液流のみでは充分な洗浄性を発揮しにくい部分に対し
ては、超音波振動が作用することとなって良好に汚れを
離脱させることができ、離脱した汚れは液流によって直
ちに分散させることができる。
被洗浄物が回転されることと、その回転よって生じる液
流に被洗浄物がさらされることとによって、被洗浄物に
付着している汚れを液流という物理力で離脱させる。し
かも、超音波を照射することにより汚れの離脱作用を隅
々までわたらせるとともに、離脱した汚れを分散させて
被洗浄物への汚れの再付着を防止する。表面液流の作用
により被洗浄物上の汚れと液流との界面が活性化されて
汚れが液中に溶出し、溶出した汚れは直ちに液流により
分散し、界面の汚れの濃度を高めることがないために継
続的に汚れが離脱する。被洗浄物の界面の汚れ濃度が局
部的に高まることがないので、再汚染によって洗浄度が
低くなるという不都合な結果を避けることができる。ま
た、小さな加工穴やスリットの内部など液流が届きにく
く液流のみでは充分な洗浄性を発揮しにくい部分に対し
ては、超音波振動が作用することとなって良好に汚れを
離脱させることができ、離脱した汚れは液流によって直
ちに分散させることができる。
【0027】ところで、液流なしの超音波のみを、層状
に堆積した汚れに物理作用させた場合には、汚れを離脱
させるのに時間を要するし、離脱した汚れが分散されな
いので界面の汚れ濃度が高まって離脱効果が低下し、局
部的な再汚染現象も起きるといったことから洗浄度が上
がらない。また、目視的には滑らかな金属表面でもミク
ロ的には多くの凹凸があって液流だけでは洗浄度が充分
でない。これに対して、上記のように液流と超音波振動
という全く異なった物理作用を同時に与える複合洗浄に
より、高い洗浄度を確保できるとともに、均一な洗浄性
を確保することができるようになる。
に堆積した汚れに物理作用させた場合には、汚れを離脱
させるのに時間を要するし、離脱した汚れが分散されな
いので界面の汚れ濃度が高まって離脱効果が低下し、局
部的な再汚染現象も起きるといったことから洗浄度が上
がらない。また、目視的には滑らかな金属表面でもミク
ロ的には多くの凹凸があって液流だけでは洗浄度が充分
でない。これに対して、上記のように液流と超音波振動
という全く異なった物理作用を同時に与える複合洗浄に
より、高い洗浄度を確保できるとともに、均一な洗浄性
を確保することができるようになる。
【0028】さらに、請求項第1項に記載の洗浄装置で
は、液槽に対して、複数の貯液タンクから、例えば、洗
浄液あるいはすすぎ液を給液できるので、従来のよう
に、洗浄槽、すすぎ槽というように、複数の液槽を並設
して被洗浄物を各液槽に移送するといった工程が不要に
なる。
は、液槽に対して、複数の貯液タンクから、例えば、洗
浄液あるいはすすぎ液を給液できるので、従来のよう
に、洗浄槽、すすぎ槽というように、複数の液槽を並設
して被洗浄物を各液槽に移送するといった工程が不要に
なる。
【0029】しかも、液槽と複数の貯液タンクとを高低
差をもって配置し、高位置から低位置への給液は、重力
を利用した自然落下にて行い、低位置から高位置へは、
正逆回転可能なポンプによって移送方向を反転させるこ
とにより、異なる液体の給液を行うようにしているの
で、ポンプの数および配管系を簡素化できることにな
り、省スペース化が図れるとともに、イニシャルコスト
およびランニングコストの低減を図ることができる。
差をもって配置し、高位置から低位置への給液は、重力
を利用した自然落下にて行い、低位置から高位置へは、
正逆回転可能なポンプによって移送方向を反転させるこ
とにより、異なる液体の給液を行うようにしているの
で、ポンプの数および配管系を簡素化できることにな
り、省スペース化が図れるとともに、イニシャルコスト
およびランニングコストの低減を図ることができる。
【0030】(2)請求項第2項に記載の洗浄装置で
は、重力を利用した自然落下によって液体を移送する第
1管路の配管径を、前記ポンプの回転によって液体を移
送する第2管路の配管径よりも大きくしているので、液
体の移送に要する時間を短くすることができる。
は、重力を利用した自然落下によって液体を移送する第
1管路の配管径を、前記ポンプの回転によって液体を移
送する第2管路の配管径よりも大きくしているので、液
体の移送に要する時間を短くすることができる。
【0031】(3)請求項第3項に記載の洗浄装置で
は、前記ポンプに近接して逆止弁を設け、前記共通な管
路部分を短くしているので、異なる液体が混合するのを
極力抑制することができる。
は、前記ポンプに近接して逆止弁を設け、前記共通な管
路部分を短くしているので、異なる液体が混合するのを
極力抑制することができる。
【0032】
【実施例】以下、図面によって本発明の実施例につい
て、詳細に説明する。
て、詳細に説明する。
【0033】図1は、本発明の一実施例の正面図であ
り、図2はその側面図である。
り、図2はその側面図である。
【0034】この実施例の洗浄装置では、外装ケーシン
グ1に洗浄槽2が内蔵されるとともに、2つの貯液タン
ク101,102が内蔵されており、しかも、2つの貯
液タンク101,102を、洗浄槽の下方の低位置に配
置している。洗浄槽2は有底の4角筒形をなしており、
その上部4隅に連設されたフック3が防振用スプリング
4を介して外装ケーシング1の上部に吊り下げられてい
る。洗浄槽2の底部の4隅と外装ケーシング1の底部と
の間にショックアブソーバー5が掛けわたされている。
洗浄槽2には液が収容されてその液中で被洗浄物が回転
するため、洗浄槽2に振動が生ずるが、防振用スプリン
グ4とショックアブソーバー5とが洗浄槽2に生じる振
動を吸収して緩衝する。
グ1に洗浄槽2が内蔵されるとともに、2つの貯液タン
ク101,102が内蔵されており、しかも、2つの貯
液タンク101,102を、洗浄槽の下方の低位置に配
置している。洗浄槽2は有底の4角筒形をなしており、
その上部4隅に連設されたフック3が防振用スプリング
4を介して外装ケーシング1の上部に吊り下げられてい
る。洗浄槽2の底部の4隅と外装ケーシング1の底部と
の間にショックアブソーバー5が掛けわたされている。
洗浄槽2には液が収容されてその液中で被洗浄物が回転
するため、洗浄槽2に振動が生ずるが、防振用スプリン
グ4とショックアブソーバー5とが洗浄槽2に生じる振
動を吸収して緩衝する。
【0035】洗浄槽2の上方空間を角筒状に囲むファイ
バー入りラバーなどからなる可撓伸縮性カーテン6の下
部が洗浄槽2の上部に外嵌されリング状コイルスプリン
グ7によって締め付け固定され、その上部は外装ケーシ
ング1の上面板8における洗浄槽口部9下部に外嵌さ
れ、リング状コイルスプリング10によって締め付け固
定されている。可撓伸縮性カーテン6は洗浄槽2の振動
が外装ケーシング1に伝わるのを避けながら、洗浄液が
飛散することや洗浄液の蒸気が外部に流出するのを防止
する。洗浄槽口部9は、2つの把手11が固設された洗
浄槽蓋体12によって着脱開閉自在に閉塞されるように
なっている。
バー入りラバーなどからなる可撓伸縮性カーテン6の下
部が洗浄槽2の上部に外嵌されリング状コイルスプリン
グ7によって締め付け固定され、その上部は外装ケーシ
ング1の上面板8における洗浄槽口部9下部に外嵌さ
れ、リング状コイルスプリング10によって締め付け固
定されている。可撓伸縮性カーテン6は洗浄槽2の振動
が外装ケーシング1に伝わるのを避けながら、洗浄液が
飛散することや洗浄液の蒸気が外部に流出するのを防止
する。洗浄槽口部9は、2つの把手11が固設された洗
浄槽蓋体12によって着脱開閉自在に閉塞されるように
なっている。
【0036】4角筒状の洗浄槽2の1つの側壁の中央か
ら下側にかけて開口部13が形成され、開口部13の外
側に対向させて振動板14が配置され、開口部13の周
囲において洗浄槽2と振動板14との間にパッキング1
5が狭着された状態で振動板14が洗浄槽2にボルトナ
ットで液密的に取り付けられている。
ら下側にかけて開口部13が形成され、開口部13の外
側に対向させて振動板14が配置され、開口部13の周
囲において洗浄槽2と振動板14との間にパッキング1
5が狭着された状態で振動板14が洗浄槽2にボルトナ
ットで液密的に取り付けられている。
【0037】振動板14には複数個の超音波振動子16
が固定され、超音波振動ユニット17を構成している。
この超音波振動ユニット17は、外装ケーシング1の内
壁面に設けられた発振ユニット18にリード線を介して
接続され、例えば38kHzの超音波周波数で駆動制御
される。駆動された振動板14は洗浄槽2内の液に対し
てほぼ水平方向に超音波を照射する。
が固定され、超音波振動ユニット17を構成している。
この超音波振動ユニット17は、外装ケーシング1の内
壁面に設けられた発振ユニット18にリード線を介して
接続され、例えば38kHzの超音波周波数で駆動制御
される。駆動された振動板14は洗浄槽2内の液に対し
てほぼ水平方向に超音波を照射する。
【0038】洗浄槽2の底部下面に取り付け板19が固
定され、この取り付け板19にインバータ制御モータ2
0が固定されている。モータ20は外装ケーシング1内
に設けられたインバータ制御装置21にリード線を介し
て接続され、低速から高速まで回転速度が設定できるよ
うになっている。モータ20の回転軸22が洗浄層2の
底部中央から洗浄槽2の内部へ貫通されている。ターン
テーブル23の下面中央に固定されたボス24がモータ
20の回転軸22に対して嵌合されている。この嵌合は
セレーションを介して行われており、周方向においては
一体回転するように結合され、軸方向においては挿抜自
在となっている。洗浄槽2は洗浄液を供給したときや、
被洗浄物25を投入したときに重力によって下降し、ま
たモータ20を駆動したときに上下左右に振動するが、
防振動用スプリング4、ショックアブソーバー5及び可
撓伸縮性カーテン6はこれらを吸収する。
定され、この取り付け板19にインバータ制御モータ2
0が固定されている。モータ20は外装ケーシング1内
に設けられたインバータ制御装置21にリード線を介し
て接続され、低速から高速まで回転速度が設定できるよ
うになっている。モータ20の回転軸22が洗浄層2の
底部中央から洗浄槽2の内部へ貫通されている。ターン
テーブル23の下面中央に固定されたボス24がモータ
20の回転軸22に対して嵌合されている。この嵌合は
セレーションを介して行われており、周方向においては
一体回転するように結合され、軸方向においては挿抜自
在となっている。洗浄槽2は洗浄液を供給したときや、
被洗浄物25を投入したときに重力によって下降し、ま
たモータ20を駆動したときに上下左右に振動するが、
防振動用スプリング4、ショックアブソーバー5及び可
撓伸縮性カーテン6はこれらを吸収する。
【0039】ターンテーブル23は単数または複数の被
洗浄物25を収納するバスケット26を載置した状態で
回転するものであり、ターンテーブル23の外周部には
複数の脱落防止ガード27が立ちあげられている。28
はバスケット26の把手である。バスケット26は、洗
浄槽蓋体12を開けた洗浄槽口部9を通して洗浄槽2の
内部に挿入可能であり、また取り出し可能である。ター
ンテーブル23は、それに設置したバスケット26が振
動板14の横側部に位置するように位置設定されてい
る。ターンテーブル23は、洗浄槽2内に洗浄液が収容
された状態で回転自在であるとともに、洗浄液がない状
態でも回転可能となっている。
洗浄物25を収納するバスケット26を載置した状態で
回転するものであり、ターンテーブル23の外周部には
複数の脱落防止ガード27が立ちあげられている。28
はバスケット26の把手である。バスケット26は、洗
浄槽蓋体12を開けた洗浄槽口部9を通して洗浄槽2の
内部に挿入可能であり、また取り出し可能である。ター
ンテーブル23は、それに設置したバスケット26が振
動板14の横側部に位置するように位置設定されてい
る。ターンテーブル23は、洗浄槽2内に洗浄液が収容
された状態で回転自在であるとともに、洗浄液がない状
態でも回転可能となっている。
【0040】モータ回転軸22の周囲近傍において、洗
浄槽2の底部が絞り加工等によって膨出され、上向き円
周突起部29が形成されている。この上向き突起部29
に液密的に嵌合されたオイルシール30が上向き円周突
起部29とモータ回転軸22との間の環状スペース31
内に延出され、その内端部がモータ回転軸22の外周面
に液密的に圧接されている。上向き円周突起部29は汚
れのうちの固形分(切り粉)などが環状スペース31内
に侵入することを防止し、オイルシール30の摩耗を抑
制している。洗浄槽2の底部の外周側に排液口32、3
3が設けられ、さらに、各排液口32,33に連通した
排液ホース34、35が設けられている。排液口32、
33と排液ホース34,35との間には、後述する排液
弁36、37が介在している。38はドレンパンで、3
9はドレンコックである。
浄槽2の底部が絞り加工等によって膨出され、上向き円
周突起部29が形成されている。この上向き突起部29
に液密的に嵌合されたオイルシール30が上向き円周突
起部29とモータ回転軸22との間の環状スペース31
内に延出され、その内端部がモータ回転軸22の外周面
に液密的に圧接されている。上向き円周突起部29は汚
れのうちの固形分(切り粉)などが環状スペース31内
に侵入することを防止し、オイルシール30の摩耗を抑
制している。洗浄槽2の底部の外周側に排液口32、3
3が設けられ、さらに、各排液口32,33に連通した
排液ホース34、35が設けられている。排液口32、
33と排液ホース34,35との間には、後述する排液
弁36、37が介在している。38はドレンパンで、3
9はドレンコックである。
【0041】図3は、この実施例の配管系統図であり、
図1,図2に対応する部分には、同一の参照符号を付
す。
図1,図2に対応する部分には、同一の参照符号を付
す。
【0042】この実施例では、洗浄槽2は、2つの貯液
タンク101,102の上方位置に配置されており、洗
浄槽2内のすすぎ液あるいは洗浄液を、各貯液タンク1
01,102にそれぞれ重力による自然落下を利用して
回収するための第1管路として上述の排液ホース34,
35が設けられるとともに、その途中に開閉弁としての
排液弁36,37がそれぞれ介装されている。
タンク101,102の上方位置に配置されており、洗
浄槽2内のすすぎ液あるいは洗浄液を、各貯液タンク1
01,102にそれぞれ重力による自然落下を利用して
回収するための第1管路として上述の排液ホース34,
35が設けられるとともに、その途中に開閉弁としての
排液弁36,37がそれぞれ介装されている。
【0043】この排液弁36,37は、図4に示される
ように、Oリング103付き弁体104を、マグネット
105、106によってコイルスプリング107の付勢
力に抗して、開弁方向(マグネット105,106側)
にシャフト108を介して吸引し、矢符で示される液路
を形成し、重力によって貯液タンク101、102に液
回収を行い、液回収が完了すると、マグネット105、
106への通電を解除して液路を遮断するものである。
なお、この排液弁36,37では、シャフト108は、
シャフト支持ボス109によって支持されるとともに、
弁体Oリング110及びスピンドルOリング111によ
って液密が図られており、支持ボス109は、ネジ11
2によって排液弁36、37に固定されている。
ように、Oリング103付き弁体104を、マグネット
105、106によってコイルスプリング107の付勢
力に抗して、開弁方向(マグネット105,106側)
にシャフト108を介して吸引し、矢符で示される液路
を形成し、重力によって貯液タンク101、102に液
回収を行い、液回収が完了すると、マグネット105、
106への通電を解除して液路を遮断するものである。
なお、この排液弁36,37では、シャフト108は、
シャフト支持ボス109によって支持されるとともに、
弁体Oリング110及びスピンドルOリング111によ
って液密が図られており、支持ボス109は、ネジ11
2によって排液弁36、37に固定されている。
【0044】再び、図3を参照して、この実施例では、
洗浄槽2よりも下方位置の各貯液タンク101,102
から前記洗浄槽2へすすぎ液あるいは洗浄液をそれぞれ
給液するための第2管路の共通管路部分に、正逆回転可
能なリバーシブル機能を有するポンプ117を設けてお
り、このポンプ117は、装置外からすすぎ液および洗
浄液を、貯液タンク101,102にそれぞれ給液する
ときにも駆動される。115,115’,116,11
6’は、装置外から各貯液タンク101,102に給液
するか、あるいは、各貯液タンク101,102から洗
浄槽2に給液するかに応じて流路を切換える手動の三方
弁、119〜122は、共通管路部分を短くして洗浄液
とすすぎ液との混合を極力抑制するための逆止弁、15
0〜152は、各貯液タンク101,102および洗浄
槽2の液量を検知するフロートスイッチ、123,12
4は不純物や汚れを除去するフィルタ、113,114
は貯液タンク101,102の液を排出するためのドレ
ンバルブである。
洗浄槽2よりも下方位置の各貯液タンク101,102
から前記洗浄槽2へすすぎ液あるいは洗浄液をそれぞれ
給液するための第2管路の共通管路部分に、正逆回転可
能なリバーシブル機能を有するポンプ117を設けてお
り、このポンプ117は、装置外からすすぎ液および洗
浄液を、貯液タンク101,102にそれぞれ給液する
ときにも駆動される。115,115’,116,11
6’は、装置外から各貯液タンク101,102に給液
するか、あるいは、各貯液タンク101,102から洗
浄槽2に給液するかに応じて流路を切換える手動の三方
弁、119〜122は、共通管路部分を短くして洗浄液
とすすぎ液との混合を極力抑制するための逆止弁、15
0〜152は、各貯液タンク101,102および洗浄
槽2の液量を検知するフロートスイッチ、123,12
4は不純物や汚れを除去するフィルタ、113,114
は貯液タンク101,102の液を排出するためのドレ
ンバルブである。
【0045】次に、以上の構成を有する洗浄装置の動作
を説明する。
を説明する。
【0046】先ず、三方弁115,116を、手動操作
してすすぎ液の給液口160からポンプ117を介して
貯液タンク101に至る流路を形成し、ポンプ117を
正転駆動させることにより、すすぎ液を、前記給液口1
60から三方弁115,逆止弁119,ポンプ117,
逆止弁120,三方弁116を介して貯液タンク101
に給液し、フロートスイッチ150にて所定の液量にな
ったときに、ポンプ117を停止して給液を終了する。
してすすぎ液の給液口160からポンプ117を介して
貯液タンク101に至る流路を形成し、ポンプ117を
正転駆動させることにより、すすぎ液を、前記給液口1
60から三方弁115,逆止弁119,ポンプ117,
逆止弁120,三方弁116を介して貯液タンク101
に給液し、フロートスイッチ150にて所定の液量にな
ったときに、ポンプ117を停止して給液を終了する。
【0047】同様に、三方弁115’,116’を手動
操作して洗浄液の給液口161からポンプ117を介し
て貯液タンク102に至る流路を形成し、ポンプ117
を逆転駆動させることにより、洗浄液を、給液口161
から三方弁115’,逆止弁121,ポンプ117,逆
止弁122,三方弁116’を介して貯液タンク102
に給液し、フロートスイッチ151にて所定の液量にな
ったときに、ポンプ117を停止して給液を終了する。
操作して洗浄液の給液口161からポンプ117を介し
て貯液タンク102に至る流路を形成し、ポンプ117
を逆転駆動させることにより、洗浄液を、給液口161
から三方弁115’,逆止弁121,ポンプ117,逆
止弁122,三方弁116’を介して貯液タンク102
に給液し、フロートスイッチ151にて所定の液量にな
ったときに、ポンプ117を停止して給液を終了する。
【0048】次に、貯液タンク102から洗浄槽2に洗
浄液を給液するときには、三方弁115,116を手動
操作して貯液タンク102の給液口162からポンプ1
17を介して洗浄槽2の給液口125に至る第2管路に
よる流路を形成し、ポンプ117を正転駆動させること
により、貯液タンク102から三方弁115,逆止弁1
19,ポンプ117,逆止弁120,三方弁116,フ
ィルタ123を介して矢符Aで示されるように洗浄槽2
へ洗浄液が給液されて被洗浄物25が洗浄液に没し、フ
ロートスイッチ152により所定の液量になったとき
に、ポンプ117を停止して給液を終了する。
浄液を給液するときには、三方弁115,116を手動
操作して貯液タンク102の給液口162からポンプ1
17を介して洗浄槽2の給液口125に至る第2管路に
よる流路を形成し、ポンプ117を正転駆動させること
により、貯液タンク102から三方弁115,逆止弁1
19,ポンプ117,逆止弁120,三方弁116,フ
ィルタ123を介して矢符Aで示されるように洗浄槽2
へ洗浄液が給液されて被洗浄物25が洗浄液に没し、フ
ロートスイッチ152により所定の液量になったとき
に、ポンプ117を停止して給液を終了する。
【0049】その後、モータ20が回転し、これに応じ
てターンテーブル23が、例えば、10rpm程度の低
速で回転しながら超音波振動子ユニット17から被洗浄
物25に超音波が照射されて洗浄が行われる。すなわ
ち、被洗浄物25を収納したバスケット26およびター
ンテーブル23の低速回転により洗浄液中に弱い液流が
発生する。これにより、液流洗浄と超音波洗浄との複合
洗浄が行われ、汚れの離脱,分散,再付着阻止によって
高洗浄度での洗浄が行われる。所定の超音波洗浄時間が
経過すると、モータ20および超音波振動子ユニット1
7の駆動を停止して洗浄を完了し、排液弁37を開弁し
て洗浄液を、下方の貯液タンク102に重力による自然
落下を利用して回収する。
てターンテーブル23が、例えば、10rpm程度の低
速で回転しながら超音波振動子ユニット17から被洗浄
物25に超音波が照射されて洗浄が行われる。すなわ
ち、被洗浄物25を収納したバスケット26およびター
ンテーブル23の低速回転により洗浄液中に弱い液流が
発生する。これにより、液流洗浄と超音波洗浄との複合
洗浄が行われ、汚れの離脱,分散,再付着阻止によって
高洗浄度での洗浄が行われる。所定の超音波洗浄時間が
経過すると、モータ20および超音波振動子ユニット1
7の駆動を停止して洗浄を完了し、排液弁37を開弁し
て洗浄液を、下方の貯液タンク102に重力による自然
落下を利用して回収する。
【0050】次に、貯液タンク101から洗浄槽2にす
すぎ液を給液するときには、三方弁115’,116’
を手動操作して貯液タンク101の給液口163からポ
ンプ117を介して洗浄槽2の給液口126に至る第2
管路による流路を形成し、ポンプ117を逆転駆動させ
ることにより、貯液タンク101から三方弁115’,
逆止弁121,ポンプ117,逆止弁122,三方弁1
16’,フィルタ124を介して矢符Bで示されるよう
に洗浄槽2へすすぎ液が給液されて被洗浄物25がすす
ぎ液に没し、フロートスイッチ152により所定の液量
になったときに、ポンプ117を停止して給液を終了す
る。
すぎ液を給液するときには、三方弁115’,116’
を手動操作して貯液タンク101の給液口163からポ
ンプ117を介して洗浄槽2の給液口126に至る第2
管路による流路を形成し、ポンプ117を逆転駆動させ
ることにより、貯液タンク101から三方弁115’,
逆止弁121,ポンプ117,逆止弁122,三方弁1
16’,フィルタ124を介して矢符Bで示されるよう
に洗浄槽2へすすぎ液が給液されて被洗浄物25がすす
ぎ液に没し、フロートスイッチ152により所定の液量
になったときに、ポンプ117を停止して給液を終了す
る。
【0051】その後、モータ20が回転し、これに応じ
てターンテーブル23が、低速で回転しながら超音波振
動子ユニット17から被洗浄物25に超音波が照射され
て液流と超音波振動との複合すすぎが行われる。所定の
すすぎ時間が経過すると、モータ20および超音波振動
子ユニット17の駆動を停止してすすぎを完了し、排液
弁36を開弁してすすぎ液を、下方の貯液タンク101
に重力による自然落下を利用して回収する。
てターンテーブル23が、低速で回転しながら超音波振
動子ユニット17から被洗浄物25に超音波が照射され
て液流と超音波振動との複合すすぎが行われる。所定の
すすぎ時間が経過すると、モータ20および超音波振動
子ユニット17の駆動を停止してすすぎを完了し、排液
弁36を開弁してすすぎ液を、下方の貯液タンク101
に重力による自然落下を利用して回収する。
【0052】すすぎ液が回収されると、被洗浄物25が
高速回転されて液きりが行われる。
高速回転されて液きりが行われる。
【0053】このように、洗浄液中で被洗浄物25を回
転させて液流を生じさせるとともに、超音波を回転する
被洗浄物25に照射するようにし、液流と超音波振動と
いう異なった物理作用を同時に与える複合洗浄を行うの
で、高い洗浄度と均一な洗浄性を確保することができ
る。
転させて液流を生じさせるとともに、超音波を回転する
被洗浄物25に照射するようにし、液流と超音波振動と
いう異なった物理作用を同時に与える複合洗浄を行うの
で、高い洗浄度と均一な洗浄性を確保することができ
る。
【0054】さらに、1つの洗浄槽2内で洗浄、すす
ぎ、液切りが行えるので、従来のように、洗浄槽、すす
ぎ槽というように、複数の液槽を並設して被洗浄物を各
液槽に移送するといった工程が不要になり、全体として
の能率が向上し、また、スペース効率もよい。
ぎ、液切りが行えるので、従来のように、洗浄槽、すす
ぎ槽というように、複数の液槽を並設して被洗浄物を各
液槽に移送するといった工程が不要になり、全体として
の能率が向上し、また、スペース効率もよい。
【0055】しかも、洗浄槽2と貯液タンク101,1
02とを高低差をもって配置し、洗浄槽2から各貯液タ
ンク101,102への液回収を重力を利用した自然落
下にて行い、各貯液タンク101,102から洗浄槽2
への給液は、正逆回転可能な単一のポンプ117によっ
て移送方向を反転させることにより行うので、ポンプの
数を少なくできるとともに、配管系を簡素化できること
になり、設置スペース、イニシャルコストおよびランニ
ングコストの大幅な削減が可能となる。
02とを高低差をもって配置し、洗浄槽2から各貯液タ
ンク101,102への液回収を重力を利用した自然落
下にて行い、各貯液タンク101,102から洗浄槽2
への給液は、正逆回転可能な単一のポンプ117によっ
て移送方向を反転させることにより行うので、ポンプの
数を少なくできるとともに、配管系を簡素化できること
になり、設置スペース、イニシャルコストおよびランニ
ングコストの大幅な削減が可能となる。
【0056】また、この実施例では、重力を利用した液
回収の配管を、ポンプ117による供給系の配管よりも
太くしているので、液回収の時間を短縮することができ
る。
回収の配管を、ポンプ117による供給系の配管よりも
太くしているので、液回収の時間を短縮することができ
る。
【0057】さらに、この実施例では、逆止弁119〜
122を、ポンプ117にできる限り近接して配置して
おり、洗浄液とすすぎ液との共通な管路部分は、ポンプ
117内と逆止弁119、120、121、122で囲
まれた配管内に限られることになり、2つの液の混合を
抑制することができる。これによって、すすぎ液の清浄
度を長く保持できるため高清浄度が得られ、かつ液の長
期使用が可能となってランニングコストの低減が図れ
る。
122を、ポンプ117にできる限り近接して配置して
おり、洗浄液とすすぎ液との共通な管路部分は、ポンプ
117内と逆止弁119、120、121、122で囲
まれた配管内に限られることになり、2つの液の混合を
抑制することができる。これによって、すすぎ液の清浄
度を長く保持できるため高清浄度が得られ、かつ液の長
期使用が可能となってランニングコストの低減が図れ
る。
【0058】上述の実施例では、洗浄槽2を2つの貯液
タンク101,102よりも高位置に配置するようにし
たけれども、本発明の他の実施例として、2つの貯液タ
ンク101,102を、洗浄槽2よりも高位置に配置
し、上述の実施例とは逆に、各タンク101,102か
ら洗浄槽2への給液を重力による自然落下を利用して行
うようにしてもよい。
タンク101,102よりも高位置に配置するようにし
たけれども、本発明の他の実施例として、2つの貯液タ
ンク101,102を、洗浄槽2よりも高位置に配置
し、上述の実施例とは逆に、各タンク101,102か
ら洗浄槽2への給液を重力による自然落下を利用して行
うようにしてもよい。
【0059】また、上述の実施例では、単一の洗浄槽2
に対して、2つの貯液タンク101,102を設けたけ
れども、本発明の他の実施例として、貯液タンク10
1,102およびポンプ117の数を増加させてもよい
のは勿論である。
に対して、2つの貯液タンク101,102を設けたけ
れども、本発明の他の実施例として、貯液タンク10
1,102およびポンプ117の数を増加させてもよい
のは勿論である。
【0060】また、本発明の他の実施例として、洗浄液
中での複合洗浄を行う給液段階において、ターンテーブ
ル23を回転させながら、ターンテーブル23上のバス
ケット26内の被洗浄物25に対して、洗浄液をシャワ
ーリングし、回転する被洗浄物25へのシャワーリング
の衝撃力により被洗浄物25の洗浄を行い、このシャワ
ーリングに供されて初期汚れを含んだ洗浄液を洗浄槽2
外へ排出した後に、洗浄液中での複合洗浄を行うように
してもよい。
中での複合洗浄を行う給液段階において、ターンテーブ
ル23を回転させながら、ターンテーブル23上のバス
ケット26内の被洗浄物25に対して、洗浄液をシャワ
ーリングし、回転する被洗浄物25へのシャワーリング
の衝撃力により被洗浄物25の洗浄を行い、このシャワ
ーリングに供されて初期汚れを含んだ洗浄液を洗浄槽2
外へ排出した後に、洗浄液中での複合洗浄を行うように
してもよい。
【0061】さらに、本発明の他の実施例として、各貯
液タンク101,102に、温度センサとヒータとをそ
れぞれ設置するとともに、各タンク101,102内の
液をポンプによって循環させる管路を形成し、洗浄槽2
に給液しない貯液時には、各液を循環させながら所定温
度に保持するように構成してもよく、かかる構成によれ
ば、一層高い洗浄性が得られる。
液タンク101,102に、温度センサとヒータとをそ
れぞれ設置するとともに、各タンク101,102内の
液をポンプによって循環させる管路を形成し、洗浄槽2
に給液しない貯液時には、各液を循環させながら所定温
度に保持するように構成してもよく、かかる構成によれ
ば、一層高い洗浄性が得られる。
【0062】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、被洗浄物
が回転されて生じる液流と超音波とによる複合洗浄が行
われるので、高洗浄度と均一洗浄性を確保することがで
き、また、液槽に対して、複数の貯液タンクから給液で
きるので、従来のように、洗浄槽、すすぎ槽というよう
に、複数の液槽を並設して被洗浄物を各液槽に移送する
といった工程が不要になり、全体としての能率が向上す
るとともに、スペース効率もよい。
が回転されて生じる液流と超音波とによる複合洗浄が行
われるので、高洗浄度と均一洗浄性を確保することがで
き、また、液槽に対して、複数の貯液タンクから給液で
きるので、従来のように、洗浄槽、すすぎ槽というよう
に、複数の液槽を並設して被洗浄物を各液槽に移送する
といった工程が不要になり、全体としての能率が向上す
るとともに、スペース効率もよい。
【0063】しかも、液槽と複数の貯液タンクとを高低
差をもって配置し、高位置から低位置への給液は、重力
を利用した自然落下にて行い、低位置から高位置へは、
正逆回転可能なポンプによって移送方向を反転させるこ
とにより、異なる液体の給液を行うようにしているの
で、ポンプの数および配管系を簡素化できることにな
り、省スペース化が図れるとともに、イニシャルコスト
およびランニングコストの低減を図ることができる。
差をもって配置し、高位置から低位置への給液は、重力
を利用した自然落下にて行い、低位置から高位置へは、
正逆回転可能なポンプによって移送方向を反転させるこ
とにより、異なる液体の給液を行うようにしているの
で、ポンプの数および配管系を簡素化できることにな
り、省スペース化が図れるとともに、イニシャルコスト
およびランニングコストの低減を図ることができる。
【0064】さらに、自然落下を利用した配管径を大き
くしているので、液の移送に要する時間の短縮化を図る
ことができる。
くしているので、液の移送に要する時間の短縮化を図る
ことができる。
【0065】しかも、逆止弁をポンプに近接して配置し
て異なる液体が流れる共通の管路部分を短くしているの
で、異なる液体が混合するのを極力抑制することがで
き、液体の清浄度を高く保つことができる。
て異なる液体が流れる共通の管路部分を短くしているの
で、異なる液体が混合するのを極力抑制することがで
き、液体の清浄度を高く保つことができる。
【図1】本発明の一実施例の洗浄装置の正面図である。
【図2】図1の実施例の側面図である。
【図3】図1の実施例の配管系統図である。
【図4】図1の実施例の排液弁の断面図である。
2 洗浄槽 16 超音波振動子 17 超音波振動子ユニット 20 インバータ制御モータ 23 ターンテーブル 25 被洗浄物 36,37 排液バルブ 101,102 貯液タンク 117 ポンプ 119〜122 逆止弁
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平7−51643(JP,A) 実開 昭63−103786(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/304 B08B 3/00 - 3/14
Claims (3)
- 【請求項1】 超音波振動子が取り付けられた液槽と、
この液槽へ供給される液体が貯えられた複数の貯液タン
クとを備え、前記液槽内に収納された被洗浄物を回転さ
せて液流を発生させながら、超音波を照射して洗浄を行
う洗浄装置であって、 前記液槽と前記複数の貯液タンクとが、高低差をもって
配置され、高位置の液槽(または複数の貯液タンク)か
ら低位置の複数の貯液タンク(または液槽)へ液体をそ
れぞれ移送する複数の第1管路には、開閉弁がそれぞれ
設けられるとともに、低位置の複数の貯液タンク(また
は液槽)から高位置の液槽(または複数の貯液タンク)
へ液体をそれぞれ移送する複数の第2管路には、複数の
貯液タンクに対応したいずれの液体も移送される共通な
管路部分に、移送方向を反転できる正逆回転可能なポン
プが設けられ、 前記第1管路による高位置から低位置への液体の移送
は、重力を利用した自然落下によって行い、前記第2管
路による低位置から高位置への液体の移送は、前記ポン
プの回転によって行うことを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項2】 重力を利用した自然落下によって液体を
移送する第1管路の配管径を、前記ポンプの回転によっ
て液体を移送する第2管路の配管径よりも大きくした前
記請求項第1項に記載の洗浄装置。 - 【請求項3】 前記第2管路には、前記ポンプに近接し
て逆止弁を設け、前記共通な管路部分を短くした請求項
第1項または第2項に記載の洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5206120A JP3010460B2 (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5206120A JP3010460B2 (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | 洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0758073A JPH0758073A (ja) | 1995-03-03 |
JP3010460B2 true JP3010460B2 (ja) | 2000-02-21 |
Family
ID=16518129
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5206120A Expired - Lifetime JP3010460B2 (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3010460B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19913918C1 (de) | 1999-03-26 | 2000-10-19 | Siemens Ag | Anlage zur Fertigung von Halbleiterprodukten, insbesondere zur Bearbeitung von Wafern |
CN109239380B (zh) * | 2018-07-19 | 2024-07-26 | 江西美康盛德生物科技有限公司 | 脂血分型检测仪自动减压液路系统 |
CN109748228A (zh) * | 2019-01-25 | 2019-05-14 | 红云红河烟草(集团)有限责任公司 | 液体可选择性存储供给装置及液体切换供给方法 |
-
1993
- 1993-08-20 JP JP5206120A patent/JP3010460B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0758073A (ja) | 1995-03-03 |
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