JP2999920B2 - イソニトロソアセトアニリド類の製造方法 - Google Patents
イソニトロソアセトアニリド類の製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、染料または医薬の合成
に有用な中間体であるイサチン誘導体の原料であるイソ
ニトロソアセトアニリド類の製造方法に関する。
に有用な中間体であるイサチン誘導体の原料であるイソ
ニトロソアセトアニリド類の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、イサチン誘導体を合成する方
法として、中間体であるイソニトロソアセトアニリド類
を脱水環化して製造する方法が知られている。アニリン
類からイソニトロソアセトアニリド類を製造する方法と
しては、アニリン類にクロラール及びヒドロキシルアミ
ンを反応させて合成する方法が一般的であり、いくつか
報告がなされている。（Ｚｈ．Ｏｒｇａｎ．Ｋｈｉ
ｍ．，１，１４３４（１９６５）、Ｐａｋ．Ｊ．Ｓｃ
ｉ．，８２（６），６０５−９、Ｒｅｖ．Ｒｏｕｍ．Ｃ
ｈｉｍ．，１８（６），１０１３−１８、特開昭５０−
１６０２２９号公報等。） 例えば特開昭５０−１６０２２９号公報には、反応マス
に塩基を添加して反応溶液のｐＨを０．２〜２の範囲に
て反応することにより、対応するイソニトロソアセトア
ニリド類を良好な収率ならびに純度で得られると記され
ている。ここで添加する塩基としては、第１級アミン、
第２級アミン、第３級アミン、アンモニア、アンモニウ
ム化合物、及びアルカリ金属やアルカリ土類金属の水酸
化物、酸化物、炭酸塩などの塩やアルコラート等の化合
物が好ましいとしている。
法として、中間体であるイソニトロソアセトアニリド類
を脱水環化して製造する方法が知られている。アニリン
類からイソニトロソアセトアニリド類を製造する方法と
しては、アニリン類にクロラール及びヒドロキシルアミ
ンを反応させて合成する方法が一般的であり、いくつか
報告がなされている。（Ｚｈ．Ｏｒｇａｎ．Ｋｈｉ
ｍ．，１，１４３４（１９６５）、Ｐａｋ．Ｊ．Ｓｃ
ｉ．，８２（６），６０５−９、Ｒｅｖ．Ｒｏｕｍ．Ｃ
ｈｉｍ．，１８（６），１０１３−１８、特開昭５０−
１６０２２９号公報等。） 例えば特開昭５０−１６０２２９号公報には、反応マス
に塩基を添加して反応溶液のｐＨを０．２〜２の範囲に
て反応することにより、対応するイソニトロソアセトア
ニリド類を良好な収率ならびに純度で得られると記され
ている。ここで添加する塩基としては、第１級アミン、
第２級アミン、第３級アミン、アンモニア、アンモニウ
ム化合物、及びアルカリ金属やアルカリ土類金属の水酸
化物、酸化物、炭酸塩などの塩やアルコラート等の化合
物が好ましいとしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、アンモ
ニアを使用すると多数の副生物が生成し、また炭酸塩を
使用すると発泡の問題があり、さらにアニリンを反応溶
媒に溶解させるに際し、適当な酸を使用するが、１級、
２級または３級のアミンを添加してｐＨを制御すると、
アニリンが溶媒より遊離して反応が止まり、結果として
目的物の収率が低くなるという問題があることを本発明
者らは見出した。また、前述の公知の文献においても、
特に置換アニリンを出発原料とした場合、反応系内で生
じる副生物が多く、カラムなどの精製工程が必要であ
り、そのため工業的製造法としては経済的にあまり好ま
しい製造法とは言えなかった。本発明の目的は、これら
の問題を解決し、高純度なイソニトロソアセトアニリド
類を良好な収率で製造する工業的に有利な方法を提供す
ることである。
ニアを使用すると多数の副生物が生成し、また炭酸塩を
使用すると発泡の問題があり、さらにアニリンを反応溶
媒に溶解させるに際し、適当な酸を使用するが、１級、
２級または３級のアミンを添加してｐＨを制御すると、
アニリンが溶媒より遊離して反応が止まり、結果として
目的物の収率が低くなるという問題があることを本発明
者らは見出した。また、前述の公知の文献においても、
特に置換アニリンを出発原料とした場合、反応系内で生
じる副生物が多く、カラムなどの精製工程が必要であ
り、そのため工業的製造法としては経済的にあまり好ま
しい製造法とは言えなかった。本発明の目的は、これら
の問題を解決し、高純度なイソニトロソアセトアニリド
類を良好な収率で製造する工業的に有利な方法を提供す
ることである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討した結果、アニリン類にクロ
ラール及びヒドロキシルアミンを反応させる際に、反応
系内に多水酸基置換３級アミンを加えることで、副生物
の生成を抑制し、高純度のイソニトロソアセトアニリド
類を良好な収率で製造し得ることを見出し、本発明を完
成するに至った。すなわち、本発明は下記一般式（１）
を解決するために鋭意検討した結果、アニリン類にクロ
ラール及びヒドロキシルアミンを反応させる際に、反応
系内に多水酸基置換３級アミンを加えることで、副生物
の生成を抑制し、高純度のイソニトロソアセトアニリド
類を良好な収率で製造し得ることを見出し、本発明を完
成するに至った。すなわち、本発明は下記一般式（１）
【０００５】
【化４】 〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は、各々独自に水素
原子、置換または非置換のアルキル基、アルコキシ基、
アリール基、アリールオキシ基、ハロゲン原子を示
す。〕で表されるアニリン類と、クロラールおよびヒド
ロキシルアミンを、酸を添加した溶媒中で、下記一般式
（２）
原子、置換または非置換のアルキル基、アルコキシ基、
アリール基、アリールオキシ基、ハロゲン原子を示
す。〕で表されるアニリン類と、クロラールおよびヒド
ロキシルアミンを、酸を添加した溶媒中で、下記一般式
（２）
【０００６】
【化５】 〔式中、Ｚは、アルキル基、アルコキシアルキル基、ヒ
ドロキシアルキル基、ヒドロキシアルコキシアルキル
基，ポリオキシエチレンアルキル基を示す。ｍおよびｎ
は１以上の整数を示す。〕で表される多水酸基置換の３
級アミンを添加して反応させ、一般式（３）
ドロキシアルキル基、ヒドロキシアルコキシアルキル
基，ポリオキシエチレンアルキル基を示す。ｍおよびｎ
は１以上の整数を示す。〕で表される多水酸基置換の３
級アミンを添加して反応させ、一般式（３）
【０００７】
【化６】 〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は、式（１）と同一
の意味を示す。〕で表されるイソニトロソアセトアニリ
ド類を製造する方法である。
の意味を示す。〕で表されるイソニトロソアセトアニリ
ド類を製造する方法である。
【０００８】本発明の一般式（１）及び一般式（３）
中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5はそれぞれ同一または独
立に、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ
ｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル
基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル
基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基など
の直鎖または分岐のアルキル基、シクロヘキシル基、４
−メチルシクロヘキシル基などの環状のアルキル基、メ
トキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポ
キシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブ
トキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ
基等の直鎖または分岐のアルコキシ基、シクロヘキシル
オキシ基などの環状のアルコキシ基、フェニル基、ｐ−
トリル基、ｍ−トリル基、ｏ−トリル基、ｐ−クロロフ
ェニル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−クロロフェニル
基等のアリール基、フェノキシ基、ｍ−メチルフェノキ
シ基、ｏ−メチルフェノキシ基、ｐ−クロロフェノキシ
基、ｍ−クロロフェノキシ基、ｏ−クロロフェノキシ
基、ｐ−ｎ−ブチルフェノキシ基等のアリールオキシ
基、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子等を示す。
中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5はそれぞれ同一または独
立に、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ
ｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル
基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル
基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基など
の直鎖または分岐のアルキル基、シクロヘキシル基、４
−メチルシクロヘキシル基などの環状のアルキル基、メ
トキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポ
キシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブ
トキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ
基等の直鎖または分岐のアルコキシ基、シクロヘキシル
オキシ基などの環状のアルコキシ基、フェニル基、ｐ−
トリル基、ｍ−トリル基、ｏ−トリル基、ｐ−クロロフ
ェニル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−クロロフェニル
基等のアリール基、フェノキシ基、ｍ−メチルフェノキ
シ基、ｏ−メチルフェノキシ基、ｐ−クロロフェノキシ
基、ｍ−クロロフェノキシ基、ｏ−クロロフェノキシ
基、ｐ−ｎ−ブチルフェノキシ基等のアリールオキシ
基、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子等を示す。
【０００９】またこれらのうち、アルキル基は置換され
ていてもよく、そのような置換基としては、例えば、メ
トキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポ
キシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブ
トキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ
基等の炭素数１〜６のアルコキシ基、メトキシメトキシ
基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキ
シプロポキシ基、エトキシプロポキシ基、プロポキシプ
ロポキシ基等の炭素数２〜６のアルコキシアルコキシ
基、フェノキシ基、ｍ−メチルフェノキシ基、ｏ−メチ
ルフェノキシ基、ｐ−クロロフェノキシ基、ｍ−クロロ
フェノキシ基、ｏ−クロロフェノキシ基、ｐ−ｎ−ブチ
ルフェノキシ基等の炭素数６〜１０のアリールオキシ
基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基、ｍ−
メチルフェニルチオ基，ｏ−メチルフェニルチオ基、ｏ
−エチルフェニルチオ基、ｐ−プロピルフェニルチオ
基、２，４，６−トリメチルフェニルチオ基等の炭素数
６〜９のアリールチオ基、メチルカルボニルアミノ基、
エチルカルボニルアミノ基、ｎ−プロピルカルボニルア
ミノ基、イソプロピルカルボニルアミノ基、ｎ−ブチル
カルボニルアミノ基等の炭素数２〜５のアルキルカルボ
ニルアミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシ
カルボニルアミノ基、ｎ−プロポキシカルボニルアミノ
基、イソプロポキシカルボニルアミノ基、ｎ−ブトキシ
カルボニルアミノ基等の炭素数２〜５のアルコキシカル
ボニルアミノ基、メチルカルボニル基、エチルカルボニ
ル基、ｎ−プロピルカルボニル基、イソプロピルカルボ
ニル基、ｎ−ブチルカルボニル基等の炭素数２〜５のア
ルキルカルボニル基、メチルカルボキシ基、エチルカル
ボキシ基、ｎ−プロピルカルボキシ基、イソプロピルカ
ルボキシ基、ｎ−ブチルカルボキシ基等の炭素数２〜５
のアルキルカルボキシ基、メトキシカルボキシ基、エト
キシカルボキシ基、ｎ−プロポキシカルボキシ基、イソ
プロポキシカルボキシ基、ｎ−ブトキシカルボキシ基等
の炭素数２〜５のアルコキシカルボキシ基、メトキシカ
ルボニルメトキシ基、エトキシカルボニルエトキシ基、
エトキシカルボニルメトキシ基、ｎ−プロポキシカルボ
ニルメトキシ基、イソプロポキシカルボニルメトキシ
基、ｎ−ブトキシカルボニルメトキシ基等の炭素数３〜
６のアルコキシカルボニルアルコキシ基、フェニル基や
トリル基等のアリール基、フッ素、塩素、臭素等のハロ
ゲン原子、シアノ基等を挙げることができる。
ていてもよく、そのような置換基としては、例えば、メ
トキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポ
キシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブ
トキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ
基等の炭素数１〜６のアルコキシ基、メトキシメトキシ
基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキ
シプロポキシ基、エトキシプロポキシ基、プロポキシプ
ロポキシ基等の炭素数２〜６のアルコキシアルコキシ
基、フェノキシ基、ｍ−メチルフェノキシ基、ｏ−メチ
ルフェノキシ基、ｐ−クロロフェノキシ基、ｍ−クロロ
フェノキシ基、ｏ−クロロフェノキシ基、ｐ−ｎ−ブチ
ルフェノキシ基等の炭素数６〜１０のアリールオキシ
基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基、ｍ−
メチルフェニルチオ基，ｏ−メチルフェニルチオ基、ｏ
−エチルフェニルチオ基、ｐ−プロピルフェニルチオ
基、２，４，６−トリメチルフェニルチオ基等の炭素数
６〜９のアリールチオ基、メチルカルボニルアミノ基、
エチルカルボニルアミノ基、ｎ−プロピルカルボニルア
ミノ基、イソプロピルカルボニルアミノ基、ｎ−ブチル
カルボニルアミノ基等の炭素数２〜５のアルキルカルボ
ニルアミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシ
カルボニルアミノ基、ｎ−プロポキシカルボニルアミノ
基、イソプロポキシカルボニルアミノ基、ｎ−ブトキシ
カルボニルアミノ基等の炭素数２〜５のアルコキシカル
ボニルアミノ基、メチルカルボニル基、エチルカルボニ
ル基、ｎ−プロピルカルボニル基、イソプロピルカルボ
ニル基、ｎ−ブチルカルボニル基等の炭素数２〜５のア
ルキルカルボニル基、メチルカルボキシ基、エチルカル
ボキシ基、ｎ−プロピルカルボキシ基、イソプロピルカ
ルボキシ基、ｎ−ブチルカルボキシ基等の炭素数２〜５
のアルキルカルボキシ基、メトキシカルボキシ基、エト
キシカルボキシ基、ｎ−プロポキシカルボキシ基、イソ
プロポキシカルボキシ基、ｎ−ブトキシカルボキシ基等
の炭素数２〜５のアルコキシカルボキシ基、メトキシカ
ルボニルメトキシ基、エトキシカルボニルエトキシ基、
エトキシカルボニルメトキシ基、ｎ−プロポキシカルボ
ニルメトキシ基、イソプロポキシカルボニルメトキシ
基、ｎ−ブトキシカルボニルメトキシ基等の炭素数３〜
６のアルコキシカルボニルアルコキシ基、フェニル基や
トリル基等のアリール基、フッ素、塩素、臭素等のハロ
ゲン原子、シアノ基等を挙げることができる。
【００１０】本発明に用いる溶媒としては、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、
メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソル
ブなどのセロソルブ類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ’−ジメチ
ル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチル−２−ピロリド
ンなどのアミド類、スルホラン、ジメチルスルホキシド
（以下、「ＤＭＳＯ」と略す。）等の水溶性有機溶剤
を、単独であるいは任意の割合で混合して使用し得る。
中でも水が好ましい。また、溶媒量は一般式（１）のア
ニリン類に対して１〜１００重量部使用できるが、通常
は１〜１０重量部使用する。
ル、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、
メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソル
ブなどのセロソルブ類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ’−ジメチ
ル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチル−２−ピロリド
ンなどのアミド類、スルホラン、ジメチルスルホキシド
（以下、「ＤＭＳＯ」と略す。）等の水溶性有機溶剤
を、単独であるいは任意の割合で混合して使用し得る。
中でも水が好ましい。また、溶媒量は一般式（１）のア
ニリン類に対して１〜１００重量部使用できるが、通常
は１〜１０重量部使用する。
【００１１】また、一般式（１）のアニリン類を溶解す
るため、溶媒に酸を添加する。添加する酸としては、硫
酸、塩酸、硝酸、臭化水素酸、ヨウ化水素等の無機酸、
トリフルオロ酢酸、パーフルオロ安息香酸、トリクロロ
エタノール、１、１、１、３、３、３−ヘキサフルオロ
−２−プロパノール等の有機酸などが挙げられる。好ま
しくは硫酸または塩酸を使用する。溶媒への酸の添加量
は一般式（１）のアニリン類に対して通常０．０５〜５
モル倍であり、好ましくは０．１〜１モル倍である。さ
らに、場合により市販の界面活性剤を使用して、アニリ
ン類と溶媒との相溶性を向上することもできる。
るため、溶媒に酸を添加する。添加する酸としては、硫
酸、塩酸、硝酸、臭化水素酸、ヨウ化水素等の無機酸、
トリフルオロ酢酸、パーフルオロ安息香酸、トリクロロ
エタノール、１、１、１、３、３、３−ヘキサフルオロ
−２−プロパノール等の有機酸などが挙げられる。好ま
しくは硫酸または塩酸を使用する。溶媒への酸の添加量
は一般式（１）のアニリン類に対して通常０．０５〜５
モル倍であり、好ましくは０．１〜１モル倍である。さ
らに、場合により市販の界面活性剤を使用して、アニリ
ン類と溶媒との相溶性を向上することもできる。
【００１２】本発明において使用するクロラールは通常
市販品を用いる。また抱水クロラールの形で用いても良
い。クロラールの使用量は、一般式（１）のアニリン類
に対して、０．５〜５モル倍、好ましくは０．８〜２．
５モル倍である。
市販品を用いる。また抱水クロラールの形で用いても良
い。クロラールの使用量は、一般式（１）のアニリン類
に対して、０．５〜５モル倍、好ましくは０．８〜２．
５モル倍である。
【００１３】本発明においてヒドロキシルアミンは、通
常市販されているヒドロキシルアミン塩を溶媒に溶解し
て反応に用いる。ヒドロキシルアミン塩としては硫酸ヒ
ドロキシルアミン、塩酸ヒドロキシルアミン、リン酸ヒ
ドロキシルアミンなどが挙げられる。好ましくは硫酸ヒ
ドロキシルアミンを用いる。溶媒中のヒドロキシルアミ
ン量が、一般式（１）のアニリン類に対して０．５〜５
モル倍、好ましくは１〜２モル倍となるようにヒドロキ
シルアミン塩を溶解する。
常市販されているヒドロキシルアミン塩を溶媒に溶解し
て反応に用いる。ヒドロキシルアミン塩としては硫酸ヒ
ドロキシルアミン、塩酸ヒドロキシルアミン、リン酸ヒ
ドロキシルアミンなどが挙げられる。好ましくは硫酸ヒ
ドロキシルアミンを用いる。溶媒中のヒドロキシルアミ
ン量が、一般式（１）のアニリン類に対して０．５〜５
モル倍、好ましくは１〜２モル倍となるようにヒドロキ
シルアミン塩を溶解する。
【００１４】本発明においては、アニリン類、クロラー
ル及びヒドロキシルアミンまたはその塩の添加順序は特
に限定しないが、通常、クロラール及びヒドロキシルア
ミンを溶解した溶媒中に、アニリン類を添加して反応を
行う。クロラールおよびヒドロキシルアミンまたはその
塩の溶媒への溶解、及びアニリン類のその溶液への溶解
は、通常０〜１００℃、好ましくは１５〜３０℃の温度
範囲で行う。
ル及びヒドロキシルアミンまたはその塩の添加順序は特
に限定しないが、通常、クロラール及びヒドロキシルア
ミンを溶解した溶媒中に、アニリン類を添加して反応を
行う。クロラールおよびヒドロキシルアミンまたはその
塩の溶媒への溶解、及びアニリン類のその溶液への溶解
は、通常０〜１００℃、好ましくは１５〜３０℃の温度
範囲で行う。
【００１５】また本発明の一般式（２）中、Ｚは、メチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ
−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒ
ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−
ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノ
ニル基、ｎ−デシル基などの直鎖または分岐のアルキル
基、シクロヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル基な
どの環状のアルキル基、メトキシメチル基、メトキシエ
チル基、メトキシプロピル基、メトキシブチル基、メト
キシペンチル基、メトキシヘキシル基、メトキシヘプチ
ル基、メトキシオクチル基、メトキシノニル基、メトキ
シデシル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基、エ
トキシプロピル基、エトキシブチル基、エトキシペンチ
ル基、エトキシヘキシル基、エトキシヘプチル基、エト
キシオクチル基、エトキシノニル基、エトキシデシル基
などのアルコキシアルキル基、ヒドロキシメチル基、ヒ
ドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシ
ブチル基、ヒドロキシペンチル基、ヒドロキシヘキシル
基、ヒドロキシヘプチル基、ヒドロキシオクチル基、ヒ
ドロキシノニル基、ヒドロキシデシル基などのヒドロキ
シアルキル基、ヒドロキシメトキシメチル基、ヒドロキ
シメトキシエチル基、ヒドロキシメトキシプロピル基、
ヒドロキシメトキシブチル基、ヒドロキシメトキシペン
チル基、ヒドロキシメトキシヘキシル基、ヒドロキシメ
トキシヘプチル基、ヒドロキシメトキシオクチル基、ヒ
ドロキシメトキシノニル基、ヒドロキシメトキシデシル
基、ヒドロキシエトキシメチル基、ヒドロキシエトキシ
エチル基、ヒドロキシエトキシプロピル基、ヒドロキシ
エトキシブチル基、ヒドロキシエトキシペンチル基、ヒ
ドロキシエトキシヘキシル基、ヒドロキシエトキシヘプ
チル基、ヒドロキシエトキシオクチル基、ヒドロキシエ
トキシノニル基、ヒドロキシエトキシデシル基などのヒ
ドロキシアルコキシアルキル基、及び次式（４）に示す
ようなポリオキシエチレンアルキル基などが挙げられ
る。
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ
−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒ
ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−
ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノ
ニル基、ｎ−デシル基などの直鎖または分岐のアルキル
基、シクロヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル基な
どの環状のアルキル基、メトキシメチル基、メトキシエ
チル基、メトキシプロピル基、メトキシブチル基、メト
キシペンチル基、メトキシヘキシル基、メトキシヘプチ
ル基、メトキシオクチル基、メトキシノニル基、メトキ
シデシル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基、エ
トキシプロピル基、エトキシブチル基、エトキシペンチ
ル基、エトキシヘキシル基、エトキシヘプチル基、エト
キシオクチル基、エトキシノニル基、エトキシデシル基
などのアルコキシアルキル基、ヒドロキシメチル基、ヒ
ドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシ
ブチル基、ヒドロキシペンチル基、ヒドロキシヘキシル
基、ヒドロキシヘプチル基、ヒドロキシオクチル基、ヒ
ドロキシノニル基、ヒドロキシデシル基などのヒドロキ
シアルキル基、ヒドロキシメトキシメチル基、ヒドロキ
シメトキシエチル基、ヒドロキシメトキシプロピル基、
ヒドロキシメトキシブチル基、ヒドロキシメトキシペン
チル基、ヒドロキシメトキシヘキシル基、ヒドロキシメ
トキシヘプチル基、ヒドロキシメトキシオクチル基、ヒ
ドロキシメトキシノニル基、ヒドロキシメトキシデシル
基、ヒドロキシエトキシメチル基、ヒドロキシエトキシ
エチル基、ヒドロキシエトキシプロピル基、ヒドロキシ
エトキシブチル基、ヒドロキシエトキシペンチル基、ヒ
ドロキシエトキシヘキシル基、ヒドロキシエトキシヘプ
チル基、ヒドロキシエトキシオクチル基、ヒドロキシエ
トキシノニル基、ヒドロキシエトキシデシル基などのヒ
ドロキシアルコキシアルキル基、及び次式（４）に示す
ようなポリオキシエチレンアルキル基などが挙げられ
る。
【００１６】
【化７】 〔式（４）中、ｐは３以上の整数を表す。〕 また、ｍ及びｎは１以上の整数、好ましくは１〜３０、
更に好ましくは１〜１０の整数である。これらの多水酸
基置換の３級アミンのなかで、特にトリエタノールアミ
ンが好適である。
更に好ましくは１〜１０の整数である。これらの多水酸
基置換の３級アミンのなかで、特にトリエタノールアミ
ンが好適である。
【００１７】クロラール、ヒドロキシルアミン塩、及び
アニリン類を溶媒に溶解した反応溶液に、一般式（２）
の多水酸基置換の３級アミンを装入する際の温度は０〜
１５０℃、好ましくは４０〜１００℃で、圧力は特に限
定しないが好ましくは常圧で反応を行う。また、一般式
（２）の多水酸基置換の３級アミンを装入する方法は、
反応を確実に行うために、滴下によって行うのが好まし
く、滴下時間は通常１〜１０時間で行う。
アニリン類を溶媒に溶解した反応溶液に、一般式（２）
の多水酸基置換の３級アミンを装入する際の温度は０〜
１５０℃、好ましくは４０〜１００℃で、圧力は特に限
定しないが好ましくは常圧で反応を行う。また、一般式
（２）の多水酸基置換の３級アミンを装入する方法は、
反応を確実に行うために、滴下によって行うのが好まし
く、滴下時間は通常１〜１０時間で行う。
【００１８】また、一般式（２）の３級アミンの粘度の
低減を図るために、水あるいはメタノール、エタノー
ル、イソプロパノール等のアルコール類、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどのセロ
ソルブ類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−２−イミダ
ゾリジノン、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどのアミド
類、スルホラン、ＤＭＳＯ等の水溶性有機溶剤を用いて
希釈しても良い。
低減を図るために、水あるいはメタノール、エタノー
ル、イソプロパノール等のアルコール類、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどのセロ
ソルブ類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−２−イミダ
ゾリジノン、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどのアミド
類、スルホラン、ＤＭＳＯ等の水溶性有機溶剤を用いて
希釈しても良い。
【００１９】装入終了後は、反応の完結をはかるため
に、１〜１０時間、好ましくは２〜３時間保温および攪
拌を継続してもよく、また装入終了後にメタノール、エ
タノール、イソプロパノール等のアルコール類、メチル
セロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなど
のセロソルブ類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−２−
イミダゾリジノン、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどの
アミド類、スルホラン、ＤＭＳＯ等の水溶性有機溶剤を
添加してもよい。
に、１〜１０時間、好ましくは２〜３時間保温および攪
拌を継続してもよく、また装入終了後にメタノール、エ
タノール、イソプロパノール等のアルコール類、メチル
セロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなど
のセロソルブ類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−２−
イミダゾリジノン、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどの
アミド類、スルホラン、ＤＭＳＯ等の水溶性有機溶剤を
添加してもよい。
【００２０】濾過して得た濾塊は、水単独またはメタノ
ール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類
あるいはメチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチル
セロソルブなどのセロソルブ類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ’−
ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチル−２−ピ
ロリドンなどのアミド類、スルホラン、ＤＭＳＯ等の水
溶性有機溶剤と水の混合物で洗浄し、乾燥して目的物で
ある一般式（３）のイソニトロソアセトアニリド類を得
る。乾燥は通常１００℃以下で行う。
ール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類
あるいはメチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチル
セロソルブなどのセロソルブ類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ’−
ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチル−２−ピ
ロリドンなどのアミド類、スルホラン、ＤＭＳＯ等の水
溶性有機溶剤と水の混合物で洗浄し、乾燥して目的物で
ある一般式（３）のイソニトロソアセトアニリド類を得
る。乾燥は通常１００℃以下で行う。
【００２１】本発明の方法は、無置換アニリン及び置換
されたアニリンを原料としたイソニトロソアセトアニリ
ド類の製造に適用できるが、特に置換されたアニリンを
原料とする場合に効果が高く、中でも４−イソプロピル
アニリンのような分岐のアルキル基で置換されたアニリ
ンからの製造においてその効果が顕著に現れる。
されたアニリンを原料としたイソニトロソアセトアニリ
ド類の製造に適用できるが、特に置換されたアニリンを
原料とする場合に効果が高く、中でも４−イソプロピル
アニリンのような分岐のアルキル基で置換されたアニリ
ンからの製造においてその効果が顕著に現れる。
【００２２】以下に実施例にて本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。なお実施例中の「部」は重量部を示し、「％」は重
量％を示す。純度測定は、液体クロマトグラフィーを使
用し、単純面積法にて行った。
るが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。なお実施例中の「部」は重量部を示し、「％」は重
量％を示す。純度測定は、液体クロマトグラフィーを使
用し、単純面積法にて行った。
【００２３】
実施例１ 硫酸ヒドロキシルアミン１１４部、水８００部を混合
し、さらにクロラール１４７部を混合した。次いで９８
％硫酸３１部を加え、さらにｐ−イソプロピルアニリン
１４１部を２５℃で装入した。反応マスを昇温し、６０
℃にて３０分保温した。トリエタノールアミン５６８部
と水５６８部の混合物を反応溶液のｐＨを１〜２の間に
保ちながら、反応マス中に６時間かけて滴下装入し、さ
らに２時間保温した。メタノール２００部で反応マスを
希釈して、濾過した。５％メタノール水４００部にて濾
塊を洗浄し、６０℃にて乾燥し、下式（Ａ）
し、さらにクロラール１４７部を混合した。次いで９８
％硫酸３１部を加え、さらにｐ−イソプロピルアニリン
１４１部を２５℃で装入した。反応マスを昇温し、６０
℃にて３０分保温した。トリエタノールアミン５６８部
と水５６８部の混合物を反応溶液のｐＨを１〜２の間に
保ちながら、反応マス中に６時間かけて滴下装入し、さ
らに２時間保温した。メタノール２００部で反応マスを
希釈して、濾過した。５％メタノール水４００部にて濾
塊を洗浄し、６０℃にて乾燥し、下式（Ａ）
【化８】 で示されるｐ−イソプロピル−イソニトロソアセトアニ
リド１７２部を得た。純度は９８％で、純度換算収率は
７８％であった。
リド１７２部を得た。純度は９８％で、純度換算収率は
７８％であった。
【００２４】実施例２ 塩酸ヒドロキシルアミン９８部、水７５０部、スルホラ
ン４部を混合し、さらにクロラール１５２部を混合し
た。次いで３６％塩酸６３部を加え、さらにｐ−ｎ−ブ
チルアニリン１５６部を１０℃で装入した。反応マスを
昇温し、７５℃にて１時間保温した。エチルビス（２−
ヒドロキシエチル）アミン３６９部を反応溶液のｐＨを
１〜２の間に保ちながら、反応マス中に１０時間かけて
滴下装入し、さらに３時間保温した。エチルセロソルブ
１６５部で反応マスを希釈して、濾過した。１０％イソ
プロパノール水４００部にて濾塊を洗浄し、８０℃にて
乾燥し、下式（Ｂ）
ン４部を混合し、さらにクロラール１５２部を混合し
た。次いで３６％塩酸６３部を加え、さらにｐ−ｎ−ブ
チルアニリン１５６部を１０℃で装入した。反応マスを
昇温し、７５℃にて１時間保温した。エチルビス（２−
ヒドロキシエチル）アミン３６９部を反応溶液のｐＨを
１〜２の間に保ちながら、反応マス中に１０時間かけて
滴下装入し、さらに３時間保温した。エチルセロソルブ
１６５部で反応マスを希釈して、濾過した。１０％イソ
プロパノール水４００部にて濾塊を洗浄し、８０℃にて
乾燥し、下式（Ｂ）
【化９】 で示されるｐ−ｎ−ブチル−イソニトロソアセトアニリ
ド１８２部を得た。純度は９８％で、純度換算収率は７
７％であった。
ド１８２部を得た。純度は９８％で、純度換算収率は７
７％であった。
【００２５】実施例３ リン酸ヒドロキシルアミン２７６部、水２０００部、
Ｎ，Ｎ’−ジメチルイミダゾリジノン３０部を混合し、
さらにクロラール２８４部を混合した。次いでトリフル
オロ酢酸７５部を加え、さらにｐ−クレシジン２９０部
を３０℃で装入した。反応マスを昇温し、５５℃にて２
時間保温した。市販のポリオキシエチレンアルキルアミ
ノエーテル（第一工業製薬製；商品名アミラヂン）５０
部およびトリエタノールアミン７７０部を反応溶液のｐ
Ｈを１〜２の間に保ちながら、２時間かけて滴下装入し
た。７０℃で１時間反応マスを保温し、室温に冷却後濾
過した。３０％エタノール水１０００部で洗浄後、４０
℃で乾燥し、下式（Ｃ）
Ｎ，Ｎ’−ジメチルイミダゾリジノン３０部を混合し、
さらにクロラール２８４部を混合した。次いでトリフル
オロ酢酸７５部を加え、さらにｐ−クレシジン２９０部
を３０℃で装入した。反応マスを昇温し、５５℃にて２
時間保温した。市販のポリオキシエチレンアルキルアミ
ノエーテル（第一工業製薬製；商品名アミラヂン）５０
部およびトリエタノールアミン７７０部を反応溶液のｐ
Ｈを１〜２の間に保ちながら、２時間かけて滴下装入し
た。７０℃で１時間反応マスを保温し、室温に冷却後濾
過した。３０％エタノール水１０００部で洗浄後、４０
℃で乾燥し、下式（Ｃ）
【化１０】 で示される２−メトキシ−５−メチル−イソニトロソア
セトアニリド３５６部を得た。純度は９６％で、純度換
算収率は７８％であった。
セトアニリド３５６部を得た。純度は９６％で、純度換
算収率は７８％であった。
【００２６】比較例１ トリエタノールアミン５６８部と水５６８部の混合物の
代わりに２０重量％アンモニア水３６３部を使用して反
応溶液のｐＨを１〜１．６を保持しながら１０時間で滴
下した以外は、実施例１と同様に行い、ｐ−イソプロピ
ル−イソニトロソアセトアニリド１５５部を得た。純度
は６８％で、純度換算収率は４９％であった。また、薄
層クロマトグラフィーにより多数の副生物の存在を確認
した。
代わりに２０重量％アンモニア水３６３部を使用して反
応溶液のｐＨを１〜１．６を保持しながら１０時間で滴
下した以外は、実施例１と同様に行い、ｐ−イソプロピ
ル−イソニトロソアセトアニリド１５５部を得た。純度
は６８％で、純度換算収率は４９％であった。また、薄
層クロマトグラフィーにより多数の副生物の存在を確認
した。
【００２７】比較例２ トリエタノールアミン５６８部の代わりにジメチルアミ
ノエタノール３３９部を使用して反応溶液のｐＨを１〜
２を保持しながら１０時間で滴下した以外は、実施例１
と同様に行い、ｐ−イソプロピル−イソニトロソアセト
アニリド１３８部を得た。純度は７５％で、純度換算収
率は４８％であった。
ノエタノール３３９部を使用して反応溶液のｐＨを１〜
２を保持しながら１０時間で滴下した以外は、実施例１
と同様に行い、ｐ−イソプロピル−イソニトロソアセト
アニリド１３８部を得た。純度は７５％で、純度換算収
率は４８％であった。
【００２８】
【発明の効果】本発明により、置換あるいは非置換のア
ニリンを原料としてイソニトロソアセトアニリド類を製
造する方法において、多水酸基置換の３級アミンを加え
て反応することで、副生物の生成を抑制し、高純度の目
的物を良好な収率で得ることが可能となった。
ニリンを原料としてイソニトロソアセトアニリド類を製
造する方法において、多水酸基置換の３級アミンを加え
て反応することで、副生物の生成を抑制し、高純度の目
的物を良好な収率で得ることが可能となった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07C 249/04 - 249/10 C07C 251/34 - 251/40 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式（１） 【化１】 〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は、各々独自に水素
原子、置換または非置換のアルキル基、アルコキシ基、
アリール基、アリールオキシ基、ハロゲン原子を示
す。〕で表されるアニリン類と、クロラールおよびヒド
ロキシルアミンを、酸を添加した溶媒中で、下記一般式
（２） 【化２】 〔式中、Ｚは、アルキル基、アルコキシアルキル基、ヒ
ドロキシアルキル基、ヒドロキシアルコキシアルキル
基，ポリオキシエチレンアルキル基を示す。ｍおよびｎ
は１以上の整数を示す。〕で表される多水酸基置換の３
級アミンを添加して反応させ、一般式（３） 【化３】 〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は、式（１）と同一
の意味を示す。〕で表されるイソニトロソアセトアニリ
ド類を製造する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12612694A JP2999920B2 (ja) | 1994-06-08 | 1994-06-08 | イソニトロソアセトアニリド類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12612694A JP2999920B2 (ja) | 1994-06-08 | 1994-06-08 | イソニトロソアセトアニリド類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07330704A JPH07330704A (ja) | 1995-12-19 |
| JP2999920B2 true JP2999920B2 (ja) | 2000-01-17 |
Family
ID=14927307
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12612694A Expired - Fee Related JP2999920B2 (ja) | 1994-06-08 | 1994-06-08 | イソニトロソアセトアニリド類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2999920B2 (ja) |
-
1994
- 1994-06-08 JP JP12612694A patent/JP2999920B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07330704A (ja) | 1995-12-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |