JP2988131B2 - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JP2988131B2 JP4201687A JP20168792A JP2988131B2 JP 2988131 B2 JP2988131 B2 JP 2988131B2 JP 4201687 A JP4201687 A JP 4201687A JP 20168792 A JP20168792 A JP 20168792A JP 2988131 B2 JP2988131 B2 JP 2988131B2
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ring oscillator
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政彦 清水
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  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体集積回路に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来のBiMOS構造の半導体集積回路
においては、当該半導体集積回路の動作スピードを判定
する手段としては、BiMOSのインバータにより構成
されるリングオシレータ、またはCMOSのインバータ
により構成されるリングオシレータの何れか一方のリン
グオシレータを備えて構成されており、当該半導体集積
回路の動作速度を判定する場合には、外部より所定のレ
ベル信号を入力し、前記BiMOSのインバータにより
構成されるリングオシレータ、またはCMOSのインバ
ータにより構成されるリングオシレータを発振させて、
その発振周波数を測定することにより判定が行われる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
集積回路においては、当該半導体集積回路に含まれるリ
ングオシレータは、BiMOSのインバータのみにより
構成されるか、またはCMOSのインバータのみにより
構成されており、このために、BiMOS部の性能、ま
たはCMOS部の性能の内の一方の性能を測定すること
しかできないために、CMOS部およびバイポーラ部の
動作速度に関する性能を、それぞれ分けて知ることがで
きないという欠点がある。
【0004】
【課題を解決するための手段】第1の発明の半導体集積
回路は、BiMOS構造の半導体集積回路において、B
iMOSインバータにより形成され、所定の第1の入力
端子を介して入力されるレベル信号により、動作状態ま
たは動作停止状態に設定されるBiMOSリングオシレ
ータと、CMOSインバータにより形成され、前記第1
の入力端子を介して入力されるレベル信号により、動作
状態または動作停止状態に設定されるCMOSリングオ
シレータと、前記BiMOSリングオシレータならびに
CMOSリングオシレータの発振出力信号を入力して、
所定の第2の入力端子を介して入力されるレベル信号に
より、前記発振出力信号の内の何れか一方の発振出力信
号を選択して出力するセレクタと、を少なくとも備えて
構成される。
【0005】また、第2の発明の半導体集積回路は、B
iMOS構造の半導体集積回路において、BiMOSイ
ンバータにより形成され、所定の第1の入力端子を介し
て入力されるレベル信号により、動作状態または動作停
止状態に設定されるBiMOSリングオシレータと、C
MOSインバータにより形成され、前記第1の入力端子
を介して入力されるレベル信号により、動作状態または
動作停止状態に設定されるCMOSリングオシレータ
と、前記BiMOSリングオシレータならびにCMOS
リングオシレータの発振出力信号を入力して、所定の第
2の入力端子を介して入力されるレベル信号により、前
記発振出力信号の内の何れか一方の発振出力信号を選択
して出力する第1のセレクタと、前記第1のセレクタよ
り出力される発振出号信号ならびに、所定の内部論理信
号を入力して、前記第1の入力端子を介して入力される
レベル信号により、前記発振出号信号ならびに内部論理
信号の内の何れか一方の信号を選択して出力する第2の
セレクタと、を少なくとも備えて構成される。
【0006】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
【0007】図1は本発明の第1の実施例を示す回路図
である。図1に示されるように、本実施例は、動作速度
判定用として専用に用いられる入力端子51および52
と、出力端子53とに対応して、直列に接続されるn
(正整数)個のBiMOSインバータ1と、NAND回
路6とにより形成されるBiMOSリングオシレータ7
と、直列に接続されるn個のCMOSインバータ8と、
NAND回路11とにより形成されるCMOSリングオ
シレータ12と、入力バッファ13および14と、セレ
クタ15と、出力バッファ16とを備えて構成される。
なお、BiMOSインバータ1は、それぞれPMOSト
ランジスタ2、NMOSトランジスタ3、NPNトラン
ジスタ4および5により形成されており、またCMOS
インバータ12は、それぞれPMOSトランジスタ9お
よびNMOSトランジスタ10により形成されている。
【0008】図1において、半導体集積回路の動作速度
判定用として専用される入力端子51より“H”レベル
が入力されると、これらのBiMOSリングオシレータ
7およびCMOSリングオシレータ12は共に動作状態
となり、また、専用の入力端子51より“L”レベルが
入力されると、これらのBiMOSリングオシレータ7
およびCMOSリングオシレータ12は共に動作停止の
状態となる。BiMOSリングオシレータ7の出力は、
セレクタ15の入力端Aに入力されるとともに、NAN
D回路6の一方の入力端に入力される。同様に、CMO
Sリングオシレータ12の出力は、セレクタ15のもう
一方の入力端Bに入力されるとともに、NAND回路1
1の一方の入力端に入力される。他方、動作速度判定用
として専用されるもう一つの専用の入力端子52より
“H”レベルが入力されると、入力バッファ14を介し
てセレクタ15のセレクト端子Sに入力され、セレクタ
15においては、BiMOSリングオシレータ7の出力
が選択されて出力され、出力バッファ16を介して出力
端子53より外部に出力される。また、専用の入力端子
52より“L”レベルが入力されると、入力バッファ1
4を介してセレクタ15のセレクト端子Sに入力され、
セレクタ15においては、CMOSリングオシレータ1
2の出力が選択されて出力され、出力バッファ16を介
して、動作速度判定用として専用される出力端子53よ
り外部に出力される。従って、専用の入力端子51より
“H”レベルを入力することにより、出力端子53より
出力されるBiMOSリングオシレータ7またはCMO
Sリングオシレータ12の発振出力信号の周波数を測定
することにより、当該半導体集積回路の動作速度を判定
することができる。
【0009】次に、図2に示されるのは、本発明の第2
の実施例を示す回路図である。図2に示されるように、
本実施例は、直列に接続されるn個のBiMOSインバ
ータ1と、NAND回路6とにより形成されるBiMO
Sリングオシレータ7と、直列に接続されるn個のCM
OSインバータ8と、NAND回路11とにより形成さ
れるCMOSリングオシレータ12と、入力バッファ1
3および14と、セレクタ15および17と、出力バッ
ファ16とを備えて構成される。本実施例の第1の実施
例との相違点は、本実施例においては、新たにセレクタ
17が付加されていることである。なお、第1の実施例
の場合と同様に、BiMOSインバータ1は、それぞれ
PMOSトランジスタ2、NMOSトランジスタ3、N
PNトランジスタ4および5により形成されており、ま
たCMOSインバータ12は、それぞれPMOSトラン
ジスタ9およびNMOSトランジスタ10により形成さ
れている。
【0010】図2において、入力端子52より入力され
るレベル信号を介して、セレクタ15より、BiMOS
リングオシレータ7およびCMOSリングオシレータ1
2の出力が選択されて出力されるまでの動作について
は、前述の第1の実施例の場合と全く同様である。セレ
クタ15において選択されたリングオシレータの出力
は、選択対象の信号としてセレクタ17の入力端Cに入
力されるが、当該セレクタ17に対しては、もう一つの
選択対象の信号として、当該半導体集積回路内の内部論
理から送られてくる信号101が入力端Dに接続されて
いる。セレクタ17におけるセレクト端子Sには、入力
端子51より入力され、入力バッファ13より出力され
る信号103が入力されており、入力端子51に“H”
レベルが入力されて、BiMOSリングオシレータ7お
よびCMOSリングオシレータ12が動作状態となった
状態においては、当該セレクタ17においては、セレク
タ15より入力されるリングオシレータの出力が選択さ
れて出力され、また、入力端子51に“L”レベルが入
力されて、BiMOSリングオシレータ7およびCMO
Sリングオシレータ12が、共に動作停止状態となった
時点においては、当該セレクタ17においては、内部論
理から送られてくる信号101が選択されて出力され
る。そして、これらのセレクタ17において選択された
信号は、出力バッフア16および出力端子53を介して
外部に出力される。
【0011】なお、この場合に、セレクタ15のセレク
ト端子Sは、入力端子51に入力されるレベル信号が
“L”レベルの時には、リングオシレータ出力の選択用
としては全く無効となり、且つ、セレクタ17において
は、内部論理よりの信号101が選択されて出力される
ように回路接続が形成されるため、入力端子52より、
半導体集積回路の外部から入力される論理信号は、入力
バッファ14を介して、信号102として内部論理に入
力される。また、入力端子51における“L”レベルの
信号入力に対応して、上述のように、内部論理よりの信
号101はセレクタ17を経由して、出力バッファ16
を介して半導体集積回路の外部に出力される。即ち、入
力端子51の入力レベルが“L”レベルの時点において
は、入力端子52および出力端子53は、半導体集積回
路の動作速度判定用としての専用入出力端子としてでは
なく。一般の論理信号に対応する入出力端子といて共用
することが可能となる。
【0012】以上、説明したように、第1の実施例にお
いては、動作速度判定用の専用の入出力端子が合計3本
必要となるのに対して、第2の実施例においては、専用
の入力端子は入力端子51のみとなるという利点があ
る。
【0013】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、動作速
度判定用として、BiMOSリングオシレータおよびC
MOSリングオシレータを備え、外部よりのレベル信号
を介して、前記リングオシレータの発振出力信号を切替
えて、その周波数を測定することにより、BiMOS部
ならびにCMOS部の動作速度に関する性能を、それぞ
れ分けて測定することができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例を示す回路図である。
【図2】本発明の第2の実施例を示す回路図である。
【符号の説明】
1 BiMOSインバータ 2、9 PMOSトランジスタ 3、10 NMOSトランジスタ 4、5 NPNトランジスタ 6、11 NAND回路 7 BiMOSリングオシレータ 12 CMOSリングオシレータ 13、14 入力バッファ 15、17 セレクタ 16 出力バッファ

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 BiMOS構造の半導体集積回路におい
    て、 BiMOSインバータにより形成され、所定の第1の入
    力端子を介して入力されるレベル信号により、動作状態
    または動作停止状態に設定されるBiMOSリングオシ
    レータと、 CMOSインバータにより形成され、前記第1の入力端
    子を介して入力されるレベル信号により、動作状態また
    は動作停止状態に設定されるCMOSリングオシレータ
    と、 前記BiMOSリングオシレータならびにCMOSリン
    グオシレータの発振出力信号を入力して、所定の第2の
    入力端子を介して入力されるレベル信号により、前記発
    振出力信号の内の何れか一方の発振出力信号を選択して
    出力するセレクタと、 を少なくとも備えることを特徴とする半導体集積回路。
  2. 【請求項2】 BiMOS構造の半導体集積回路におい
    て、 BiMOSインバータにより形成され、所定の第1の入
    力端子を介して入力されるレベル信号により、動作状態
    または動作停止状態に設定されるBiMOSリングオシ
    レータと、 CMOSインバータにより形成され、前記第1の入力端
    子を介して入力されるレベル信号により、動作状態また
    は動作停止状態に設定されるCMOSリングオシレータ
    と、 前記BiMOSリングオシレータならびにCMOSリン
    グオシレータの発振出力信号を入力して、所定の第2の
    入力端子を介して入力されるレベル信号により、前記発
    振出力信号の内の何れか一方の発振出力信号を選択して
    出力する第1のセレクタと、 前記第1のセレクタより出力される発振出号信号ならび
    に、所定の内部論理信号を入力して、前記第1の入力端
    子を介して入力されるレベル信号により、前記発振出号
    信号ならびに内部論理信号の内の何れか一方の信号を選
    択して出力する第2のセレクタと、 を少なくとも備えることを特徴とする半導体集積回路。
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