JP2970635B2 - 半導体レーザーモジュール及び金属フェルール - Google Patents

半導体レーザーモジュール及び金属フェルール

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバ通信等
に用いられる半導体レーザーモジュール及びそれに用い
る金属フェルールに関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体レーザーモジュールは、一般に、
半導体レーザーの酸化等による特性劣化を抑制するた
め、外気と半導体レーザーとを遮断する構造をとってい
る。
【0003】図3に従来の半導体レーザーモジュールの
構造の一例を示す。パッケージ5の内部に半導体レーザ
ー1を冷却するための冷却素子7、レンズ付基板8、半
導体レーザー1を固定するためのヒートシンク10とチ
ップオンキャリア9、レンズ2、光ファイバピグテール
4を固定するためのホルダ11、光ファイバピグテール
4が備え付けられている。
【0004】半導体レーザー1から出射されたレーザー
光は、レンズ2によって集光され、光ファイバヘと入射
される。パッケージ5の上部はキャップ6抵抗溶接等に
より密封されている。
【0005】パッケージ5の側壁に光ファイバピグテー
ル4をパッケージ外部に引き出すための穴が空いる。光
ファイバの光入射端面付近は金属製のフエルール3取り
付けられており、この金属フェルール3とパッケージ側
壁の穴との隙間にハンダ付けをすることによって、パッ
ケージ5の内部と外部は遮断される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来の技術では、前記
金属フェルール3の表面にハンダ付けを容易にするた
め、金メッキが施されていた。また、パッケージ側壁の
穴とフェルールを固定するハンダ材として、PbSn等
のハンダ材が使用されていたが、PbSnの硬度が高い
ため、パッケージ5の経時変化による歪みに対して光フ
ァイバピグテール4の光軸ずれが発生し、ファイバから
の光出力が変動するという信頼度上の問題があった。
【0007】さらに、PbSnのハンダの融点は約18
3℃であり、ファイバの熱的劣化を防ぐため、200
℃、5秒という高温で短時間での作業を終える必要があ
り、組立作業性にも問題があった。
【0008】またハンダ材としてPnSnよりも融点が
低温で柔らかいInハンダを用いた場合、Ni及びAu
メッキされたフェルールとInハンダとの付きが悪く、
20〜30%の割合でHeリーク試験において10-9を
上回る気密の完全にとれていない製品が発生する問題が
あった。
【0009】よって、本発明は、従来の光ファイバピグ
テールのフェルールとパッケージとの気密封止ハンダ付
けに関して、パッケージ内部と外部とを十分に遮断する
ためのハンダ密着性と、光軸ずれを低減できる柔らかさ
と、低温での作業が可能なハンダ材及びハンダ付けでき
る技術を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明では、外気と遮断するためにパッケージ内に
収納した半導体レーザーと、その半導体レーザーからの
レーザー光を、パッケージの壁部に設けた穴を貫通して
外部に導く光ファイバピグテールとを備え、その光ファ
イバピグテールの表面部分のうち、少なくとも穴を貫通
する部分に金属フェルールを有し、その金属フェルール
を穴の部分でパッケージにハンダ付けして貫通部の気密
保持を図る構造とした、半導体レーザーモジュールにお
いて、金属フェルールの表面に、その表面を覆うSn金
属膜及びSn金属膜を覆うAu金属膜を設け、Au金属
膜を介してパッケージにハンダ付けする構成とした。そ
の場合、金属フェルールとパッケージを接着するハンダ
にIn(インジウム)を使用するのが大変好適である。
また、Sn金属膜及びAu金属膜は、金属フェルールの
表面にSnをメタライズし、その表面にAuをメタライ
ズして形成することもできる。また、Sn金属膜の膜厚
が4μm前後でAu金属膜の膜厚が1μm前後とするこ
ともできる。また、金属フェルールは一端部と他端部を
有し、一端部がパッケージの壁部を貫通してパッケージ
の外部へ突出している構成とすることもできる。一方、
本発明では、外気と遮断するためにパッケージ内に収納
した半導体レーザーからのレーザー光をパッケージの壁
部に設けた穴を貫通して外部に導く光ファイバピグテー
ルと前記穴との間に配置する金属フェルールであって、
表面を覆うSn金属膜及びSn金属膜を覆うAu金属膜
を有することを特徴とする。
【0011】ハンダ材としてInを用いることにより、
従来よりも低温で作業できるため作業性が改善できる。
また、金属フエルールのメタライズとして、Auのメタ
ライズの前にSnをメタライズすることにより、Inと
のハンダ接着性が増しパッケージ内部と外部とを十分に
遮断することができる。
【0012】さらに、Inハンダを用いることにより、
PnSnに比ベInの方が柔らかいため、経時変化によ
るパッケージの歪みに対しても金属フェルールの歪みを
抑えることができ、光ファイバピグテールからの光強度
の変動を抑えられ、信頼度を向上させることができる。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
について、図面を参照して説明する。図1及び図2は、
本実施の形態に係る半導体レーザーモジュールの構成図
である。
【0014】この例では、パッケージ5内部の底面に冷
却素子7、レンズ付基板8、チップオンキャリア9、ヒ
ートシンク10、半導体レーザー1がハンダによりマウ
ントされている。レンズ付基板8にはレンズ2がはめ込
まれている。
【0015】半導体レーザー1から出射されたレーザー
光はレンズ2により集光され、レンズ2の出射側にホル
ダ11を介して取り付けられた光ファイバピグテール4
ヘと入射される。
【0016】図2は、本実施の形態で用いた光ファイバ
ピグテール4及び金属フェルール3の断面図である。光
ファイバピグテール4の光入射端に長さ約20mmの金
属フェルール3が取り付けられている。
【0017】金属フェルール3は、光入射端から約5m
mに至る部分において、金属フェルール3とホルダ11
とをYAG溶接する目的のためにもメッキされておら
ず、他の部分には金属層15が形成されている。
【0018】この金属層15は、金属フェルール3の表
面部から順に厚さ約4μmのSnメッキ(Sn金属膜)
と、Snメッキの酸化防止のため厚さ約1μmのAuメ
ッキ(Au金属膜)とが施されて形成されている。
【0019】光ファイバピグテール心線12の光入射端
面付近は約3mmの長さでAuメッキされており、気密
をとるためAuSnハンダにより金属フェルール3内部
にハンダ付けされている。
【0020】光入射端面は、光ファイバ心線12の中心
軸に対し約8度傾けて鏡面研磨されている。
【0021】パッケージ5は、金属フェルール3と同様
にSn及びAuメッキが施されている。
【0022】金属フェルール3はパッケージ5の側壁に
設けられた貫通孔を通っており、金属フェルール3のメ
ッキ部分とパッケージ側壁の貫通孔との位置が一致する
ように配置されている。
【0023】パッケージ5と金属フェルール3は、In
ハンダ付けされており、このときのInのハンダ付け条
件は温度約165℃、時間15秒間以内で行われる。
【0024】このようにして作成された半導体レーザー
モジュールは、Heリーク試験により98%以上の割合
で10-9以下の気密が保たれていることを確認してい
る。また、−40〜85℃の温度サイクル試験や85℃
の高温保管試験により、光ファイバピグテール4からの
光出力の変動が十分少ないことを確認した。
【0025】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、ハンダ材
としてInを用いることにより、従来よりも低温で作業
できるため作業性が改善できる。また、金属フェルール
のメタライズとして、Auのメタライズの前にSnをメ
タライズすることにより、Inとのハンダ接着性が増し
パッケージ内部と外部とを十分に遮断することができ
る。さらに、Inハンダを用いることにより、PnSn
ハンダに比ベInの方が柔らかいため、経時変化による
パッケージの歪みに対しても金属フエルールの歪みを抑
えることができ、光ファイバピグテールからの光強度の
変動を抑えられ、信頼度の向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係る半導体レーザーモジ
ュールの構成図である。
【図2】同実施の形態に係る半導体レーザーモジュール
の金属フェルール部分の拡大断面図である。
【図3】従来例を説明するための半導体レーザーモジュ
ールの構成図である。
【符合の説明】
1 半導体レーザー 2 レンズ 3 金属フェルール 4 光ファイバピグテール 5 パッケージ 6 キャップ 7 Inハンダ 8 レンズ付基板 3 チップオンキャリア 10 ヒートシンク 11 ホルダ 12 光ファイバ心線 13 PnSnハンダ 15 金属層

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 外気と遮断するためにパッケージ内に収
    納した半導体レーザーと、その半導体レーザーからのレ
    ーザー光を、パッケージの壁部に設けた穴を貫通して外
    部に導く光ファイバピグテールとを備え、その光ファイ
    バピグテールの表面部分のうち、少なくとも前記穴を貫
    通する部分に金属フェルールを有し、その金属フェルー
    ルを穴の部分でパッケージにハンダ付けして貫通部の気
    密保持を図る構造とした、半導体レーザーモジュールに
    おいて、前記金属フェルールの表面に、その表面を覆う
    Sn金属膜及びSn金属膜を覆うAu金属膜を設け、A
    u金属膜を介してパッケージにハンダ付けする構成とし
    たことを特徴とする、半導体レーザーモジュール。
  2. 【請求項2】 前記金属フェルールとパッケージを接着
    するハンダにIn(インジウム)を使用することを特徴
    とする、請求項1記載の半導体レーザーモジュール。
  3. 【請求項3】 前記Sn金属膜及びAu金属膜は、金属
    フェルールの表面にSnをメタライズし、その表面にA
    uをメタライズして形成してあることを特徴とする、請
    求項1又は2記載の半導体レーザーモジュール。
  4. 【請求項4】 前記Sn金属膜の膜厚が4μm前後でA
    u金属膜の膜厚が1μm前後であることを特徴とする、
    請求項3記載の半導体レーザーモジュール。
  5. 【請求項5】 前記金属フェルールは一端部と他端部を
    有し、一端部が前記パッケージの壁部を貫通してパッケ
    ージの外部へ突出していることを特徴とする、請求項1
    〜4に記載の半導体レーザーモジュール。
  6. 【請求項6】 外気と遮断するためにパッケージ内に収
    納した半導体レーザーからのレーザー光をパッケージの
    壁部に設けた穴を貫通して外部に導く光ファイバピグテ
    ールと前記穴との間に配置する金属フェルールであっ
    て、表面を覆うSn金属膜及びSn金属膜を覆うAu金
    属膜を有することを特徴とする、半導体レーザーモジュ
    ールの金属フェルール。
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