JP2970334B2 - チップ形3端子コンデンサ - Google Patents
チップ形3端子コンデンサInfo
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Description
サに関し、より詳細には端部電極及び対向する容量形成
用電極が形成され、フィルタ等のノイズ防止用電子部品
としてOA機器、デジタル機器及び自動車用電子機器等
に使用されるチップ形3端子コンデンサの構造に関す
る。
密度実装化を図るため、コンデンサ等の電子部品の小型
チップ化が進められている。従来、IC基板等に表面実
装することができるチップ形コンデンサとしては、チッ
プ形積層コンデンサが知られている。該チップ形積層コ
ンデンサは誘電体セラミックの間に内部電極が層状に埋
設されて積層体が形成され、さらに該積層体の両端部に
外部電極が形成されて構成されている。通常、このよう
な構成のコンデンサは2端子コンデンサであり、フィル
タ等のノイズ除去部品として使用される。
動車用電子部品及びデジタル機器等のノイズ除去部品と
して用いた場合、高周波ノイズの除去効果や不要輻射に
対する効果が不十分であった。このような問題に対処す
ることができるノイズ除去部品としての特性は3端子コ
ンデンサが優れている。従来の3端子コンデンサとして
は、図22に示したような、くし形3端子コンデンサ3
1が知られている。くし形3端子コンデンサ31は誘電
体磁器基板32の両面に対向電極33が形成され、一方
の対向電極33に端子34が接続され、もう一方の対向
電極33に端子35a及び35bが接続され、誘電体磁
器基板32の周囲に樹脂層36が形成されて構成されて
いる。
たくし形3端子コンデンサ31においては、誘電体磁器
基板32を円板形状にくり抜き、さらに個別に対向電極
33を形成する必要があり、量産化を図ることが困難
で、このため製造コストが高いという課題があった。ま
た、差し込みによる実装であり、表面実装することがで
きず、実装される側の部品に端子34、端子35a及び
端子35bに対応する孔部を形成する工程が必要であ
り、実装に手間取り、製品としてのコストが高くなると
いう課題もあった。
のであって、3端子構造でありながらチップ化を図るこ
とができ、またノイズを効果的に除去することができ、
さらに簡単な構造にすることができ、量産化及びコスト
削減を図ることができ、しかも高い信頼性を確保するこ
とができるチップ形3端子コンデンサを提供することを
目的としている。
チップ形3端子コンデンサは、粒界絶縁形半導体磁器か
らなるセラミックス単板の一主面に少なくとも1個の容
量形成用電極が形成され、該容量形成用電極の両端部に
接続される少なくとも2個の端部電極が一組の端面に形
成され、前記容量形成用電極に接続されない少なくとも
1個のアース接続用電極が他の一組の端面の片面あるい
は両面に形成されていることを特徴としている。(1)
ンサは、粒界絶縁形半導体磁器からなるセラミックス単
板の両主面にそれぞれ少なくとも1個の容量形成用電極
が形成され、前記両主面の一方に形成された前記容量形
成用電極の両端部に接続される少なくとも2個の端部電
極が一組の端面に形成され、前記両主面の他方に形成さ
れた前記容量形成用電極に接続される少なくとも1個の
アース接続用電極が他の一組の端面の片面あるいは両面
に形成されていることを特徴としている。(2)
デンサは、上記(1)又は(2)記載のチップ形3端子
コンデンサにおいて、前記端部電極が形成された前記一
組の端面を除く少なくとも一面に、前記アース接続用電
極部分を除いて絶縁層が形成されていることを特徴とし
ている(3)。
(1)によれば、セラミックス単板の一主面に少なくと
も1個の容量形成用電極が形成され、該容量形成用電極
の両端部に接続される少なくとも2個の端部電極が一組
の端面に形成され、前記容量形成用電極に接続されない
少なくとも1個のアース接続用電極が他の一組の端面の
片面あるいは両面に形成されているので、3端子構造で
ありながらチップ化が図られることとなる。これによ
り、ノイズが効果的に除去され、また大量生産に適した
簡単な構造にすることが可能となり、量産化が図られ、
コストが削減される。
板等に表面実装することが可能となり、実装される側の
部品に、端子に対応する孔部を形成する必要がなくな
り、工程数が減り、実装の際の手間が省かれ、製品コス
トが削減される。
形であり、前記容量形成用電極、前記端部電極及び前記
アース接続用電極が後付けにより形成されるため、同時
焼結を行う必要がなく、電極の材料として融点の低い安
価なAg等を用いることが可能となり、製造コストが削
減される。
としても作用することにより、前記容量形成用電極及び
前記アース接続用電極の幅や個数を種々に選択すること
により所望の容量を形成することが可能となり、利用範
囲が広がる。
電極及び前記アース接続用電極間の接続部分の数を増や
すことによりこれらの接続が確実になり、接続不良率が
低減され、高い信頼性が確保される。
デンサ(2)によれば、セラミックス単板の両主面それ
ぞれに少なくとも1個の容量形成用電極が形成され、前
記一主面に形成された前記容量形成用電極の両端部に接
続される少なくとも2個の端部電極が一組の端面に形成
され、前記他の主面に形成された前記容量形成用電極に
接続される少なくとも1個のアース接続用電極が他の一
組の端面の片面あるいは両面に形成されており、前記両
主面それぞれに1個の前記容量形成用電極が形成されて
いる場合は、上記(1)記載のものにおける作用と同様
の作用が得られる。また、前記両主面に合計3個以上の
前記容量形成用電極が形成されている場合は、上記
(1)記載のものにおける作用に加え、簡単な形状であ
っても3端子を有するコンデンサアレイが得られること
となる。
ンデンサ(3)によれば、上記(1)又は(2)記載の
チップ形3端子コンデンサにおいて、前記端部電極が形
成された前記一組の端面を除く少なくとも一面に、前記
アース接続用電極部分を除いて絶縁層が形成されている
ので、上記(1)又は(2)記載のものにおける作用と
同様の作用が得られ、これに加えて前記セラミックス単
板及び前記容量形成電極への湿気等の侵入が防止され、
前記セラミックス単板及び前記容量形成用電極の酸化や
腐食等を防止することが可能となり、信頼性が向上す
る。しかも、前記アース接続用電極は前記絶縁層に覆わ
れずに露出しているため、IC基板等に表面実装する
際、前記端部電極及び前記アース接続用電極の接続が前
記絶縁層によって妨げられることはない。
デンサ(1)、(2)又は(3)において、比誘電率の
選択幅が広い粒界絶縁形半導体磁器をセラミックス単板
として用いたことにより、大から小までの所望値の静電
容量を得ることが容易であり、したがって、ノイズ防止
用電子部品として極めて有効である。
サの実施例を図面に基づいて説明する。 [実施例1]図1(a)、(b)及び(c)は実施例1
に係るチップ形3端子コンデンサを示した斜視図、平面
図及び底面図である。図中11はチップ形3端子コンデ
ンサを示しており、セラミックス単板12の一主面12
aに1個の容量形成用電極14aが所定幅を有して形成
され、この容量形成用電極14aの両端部に接続される
2個の端部電極13a、13bが一組の端面の略全面に
形成されている。また、容量形成用電極14aに接続さ
れない1個のアース接続用電極15aが他の一面12e
に所定幅を有して形成されている。これらセラミックス
単板12、端部電極13a、13b、容量形成用電極1
4a及びアース接続用電極15aを含んでチップ形3端
子コンデンサ11は構成されている。
サ11を製造する場合は、まずSrTiO3粉末を主原
料とし、この主原料100モルに対して、原料を半導体
化する原子価制御剤としてNb2O5を0.1モル〜0.
5モル、磁器の性質の改良や特性の安定化等に寄与する
焼結助剤としてCuOを0.2モル程度の割合で配合す
る。これらの原料を混合し、バインダ、水及び分散剤と
ともに混練した後、これらの混練物を例えば押出成形法
によってシート状に成形してセラミックス生基板を得
る。該セラミックス生基板の表面にチップ形3端子コン
デンサ11が所定の大きさとなるようなスリット加工を
施し、水素を数%含む還元性雰囲気中において、温度が
1450℃〜1500℃で約6時間の焼成を行って半導
体化させ、焼結体を得る。さらに、粒界絶縁化ペースト
(例えばBi2O3やCuO等の混合物ペースト)を塗布
し、1100℃〜1300℃の空気中で熱処理を施す。
この熱処理により、焼結体の結晶粒間に粒界絶縁化成分
が拡散し、結晶粒界が絶縁される。
半導体磁器基板をセラミックス単板12として用い、セ
ラミックス単板12の一主面12aに銀、アルミニウ
ム、亜鉛またはニッケルのうち一種を含む電極用ペース
ト140をスクリーン印刷で塗布する(図2(a))。
き付け処理を施し、容量形成用電極14aと端部電極1
3a、13bの一部とを形成し、次に所定位置Aでセラ
ミックス単板12を切断し(図2(b))、チップ形状
とする(図2(c))。
12c、12dと、他の一面12eとに銀等の電極用ペ
ーストを塗布またはディップした後、500℃〜700
℃の空気中で焼成し、端部電極13a、13b及びアー
ス接続用電極15aを形成する(図2(d))。なお、
必要に応じて端部電極13a、13b、容量形成用電極
14a及びアース接続用電極15aにニッケル及び半田
の電極メッキを施す。
11では、容量形成用電極14a及びアース接続用電極
15aによって容量が形成され、アース接続用電極15
aがコンデンサ端子となり、容量形成用電極14aと接
続される端部電極13a及び端部電極13bが2つの外
部端子となる3端子を有しており、その回路構成は図3
に示した等価回路であらわせる。
基板等に接続する場合、信号ラインに端部電極13a、
13bを、グランドラインにアース接続用電極15aを
それぞれ半田等を用いて接続する。
端子コンデンサ11にあっては、3端子構造でありなが
らチップ化を図ることができる。このため、ノイズを効
果的に除去することができ、また大量生産に適した簡単
な構造にすることができ、前記電極用ペーストをセラミ
ックス単板12の一主面12a上にスクリーン印刷で塗
布することができるため、量産化を図ることができ、製
造コストを削減することができる。
に表面実装することができ、実装される側の部品に、端
子に対応する孔部を形成する必要がなくなり、工程数が
減り、実装の際の手間を省くことができ、製品コストを
削減することができる。
形であり、端部電極13a、13b、容量形成用電極1
4a及びアース接続用電極15aが後付けにより形成さ
れるため、同時焼結を行う必要がなく、電極の材料とし
て融点の低い安価なAg等を用いることができ、製造コ
ストを削減することができる。
縁形半導体磁器基板を用いているので、大きな静電容量
を得ることができる。
としてOA機器、デジタル機器及び自動車用電子機器等
に使用することができる。
として、温度特性が良好であり、しかも大容量である前
記粒界絶縁形半導体磁器基板を用いた場合を例にとって
説明をしたが、セラミックス単板12として、表層絶縁
形半導体磁器基板等を用いた場合においても同様に本発
明を適用することができる。
(c)は実施例2に係るチップ形3端子コンデンサを示
した斜視図、平面図及び底面図である。図中110はチ
ップ形3端子コンデンサを示しており、チップ形3端子
コンデンサ110は図1に示した実施例1に係るチップ
形3端子コンデンサ11と略同様の構成を有している
が、容量形成用電極14aに接続されない2個のアース
接続用電極15a、15bが一組の対向した端面12
e、12fに所定幅を有して形成されている点が異な
る。
110にあっては、実施例1に係るチップ形3端子コン
デンサ11と同様の効果を有し、これに加えて容量形成
用電極14aと2個のアース接続用電極15a、15b
とにより容量を形成することができ、実施例1に係るチ
ップ形3端子コンデンサ11に比べ、大容量を得ること
ができる。さらに、一組の対向した端面12e、12f
の両面において他の配線基板等に接続することができ
る。
(c)は実施例3に係るチップ形3端子コンデンサを示
した斜視図、平面図及び底面図である。図中111はチ
ップ形3端子コンデンサを示しており、チップ形3端子
コンデンサ111は図1に示した実施例1に係るチップ
形3端子コンデンサ11と略同様の構成を有している
が、セラミックス単板12の一主面12aに2個の容量
形成用電極14a、14cが所定幅を有して形成されて
いる点が異なる。
111にあっては、実施例1に係るチップ形3端子コン
デンサ11と同様の効果を有し、これに加えて端部電極
13a、13bが容量形成用電極14a、14cに4か
所において接続されていることにより、これらの接続を
確実に行うことができ、接続不良率を低減することがで
き、信頼性を向上させることができる。
(c)は実施例4に係るチップ形3端子コンデンサを示
した斜視図、平面図及び底面図である。図中112はチ
ップ形3端子コンデンサを示しており、チップ形3端子
コンデンサ112は図5に示した実施例3に係るチップ
形3端子コンデンサ111と略同様の構成を有している
が、容量形成用電極14a、14cに接続されない2個
のアース接続用電極15a、15bが一組の対向した端
面12e、12fに所定幅を有して形成されている点が
異なる。
112にあっては、実施例3に係るチップ形3端子コン
デンサ111と同様の効果を有し、これに加えて容量形
成用電極14a、14cと2個のアース接続用電極15
a、15bとにより容量を形成することができ、実施例
3に係るチップ形3端子コンデンサ111に比べ、大容
量を得ることができる。
(c)は実施例5に係るチップ形3端子コンデンサを示
した斜視図、平面図及び底面図である。図中113はチ
ップ形3端子コンデンサを示しており、チップ形3端子
コンデンサ113は図1に示した実施例1に係るチップ
形3端子コンデンサ11と略同様の構成を有している
が、容量形成用電極14aの一端に接続される2個の端
部電極13a、13cが一面12cに所定幅を有して形
成され、容量形成用電極14aの他端に接続される1個
の端部電極13bが一面12cと対向する端面の略全面
に形成されている点が異なる。
113にあっては、実施例1に係るチップ形3端子コン
デンサ11と同様の効果を有し、これに加えて端部電極
13a、13b、13cが容量形成用電極14aに3か
所において接続されていることにより、これらの接続を
確実に行うことができ、接続不良率を低減することがで
き、信頼性を向上させることができる。
(c)は実施例6に係るチップ形3端子コンデンサを示
した斜視図、平面図及び底面図である。図中114はチ
ップ形3端子コンデンサを示しており、セラミックス単
板12の一主面12aに1個の容量形成用電極14aが
所定幅を有して形成され、他の主面12bに1個の容量
形成用電極14bが容量形成用電極14aと交差するよ
うに所定幅を有して形成されている。また、容量形成用
電極14aの両端部に接続される2個の端部電極13
a、13bが一組の端面の略全面に形成され、また容量
形成用電極14bの両端部に接続される2個のアース接
続用電極15a、15bが他の一組の端面12e、12
fに所定幅を有して形成されており、容量形成用電極1
4a、端部電極13a、13bと、容量形成用電極14
b、アース接続用電極15a、15bとは非接触となっ
ている。そして、これらセラミックス単板12、端部電
極13a、13b、容量形成用電極14a、14b及び
アース接続用電極15a、15bを含んでチップ形3端
子コンデンサ114は構成されている。
サ114を製造する場合は、図2に示した実施例1に係
るチップ形3端子コンデンサ11の製造工程と略同様の
工程を行うが、一主面12aに銀、アルミニウム、亜鉛
またはニッケルのうち一種を含む電極用ペーストをスク
リーン印刷で塗布した後(図2(a))に、次の工程で
他の主面12bにも前記電極用ペーストをスクリーン印
刷で塗布し、その後650℃〜850℃の空気中で焼き
付け処理を施すことにより容量形成用電極14a、14
bを形成する工程を挿入し、チップ形3端子コンデンサ
114を製造する。
114にあっては、対向する容量形成用電極14a及び
容量形成用電極14bにより容量が形成され、容量形成
用電極14aと接続される端部電極13a及び端部電極
13bが2つの外部端子となる3端子を有しており、そ
の回路構成は図9に示した等価回路であらわせる。この
ため、図1に示した実施例1に係るチップ形3端子コン
デンサ11と同様の効果を有している。
(c)は実施例7に係るチップ形3端子コンデンサを示
した斜視図、平面図及び底面図である。図中115はチ
ップ形3端子コンデンサを示しており、チップ形3端子
コンデンサ115は図8に示した実施例6に係るチップ
形3端子コンデンサ114と略同様の構成を有している
が、容量形成用電極14bの一端に接続される2個のア
ース接続用電極15a、15cが他の一面12eに所定
幅を有して形成され、容量形成用電極14bの他端に接
続される2個のアース接続用電極15b、15dが他の
一面12eと対向する端面に所定幅を有して形成されて
いる点が異なる。
11にあっては、実施例6に係るチップ形3端子コンデ
ンサ114と同様の効果を有し、これに加えてアース接
続用電極15a、15b、15c、15dと、容量形成
用電極14bとが4か所において接続されていることに
よりこれらの接続を確実に行うことができ、接続不良率
を低減することができ、信頼性を向上させることができ
る。さらに、4個のアース接続用電極15a、15b、
15c、15dが形成されているので、表面実装の際に
おけるIC基板等との接続箇所を多くすることによりこ
れらの接続を確実に行うことができ、接続不良率を低減
することができ、信頼性をより一層向上させることがで
きる。
(c)は実施例8に係るチップ形3端子コンデンサを示
した斜視図、平面図及び底面図である。図中116はチ
ップ形3端子コンデンサを示しており、チップ形3端子
コンデンサ116は図8に示した実施例6に係るチップ
形3端子コンデンサ114と略同様の構成を有している
が、他の主面12bに2個の容量形成用電極14b、1
4dが所定幅を有して形成され、容量形成用電極14
b、14dの一端に接続される1個のアース接続用電極
15aが他の一面12eに所定幅を有して形成され、容
量形成用電極14b、14dの他端に接続される1個の
アース接続用電極15bが他の一面12eと対向する端
面に所定幅を有して形成されている点が異なる。
116にあっては、実施例6に係るチップ形3端子コン
デンサ114と同様の効果を有し、これに加えてアース
接続用電極15a、15bが容量形成用電極14b、1
4dに4か所において接続されていることによりこれら
の接続を確実に行うことができ、接続不良率を低減する
ことができ、信頼性を向上させることができる。
(c)は実施例9に係るチップ形3端子コンデンサを示
した斜視図、平面図及び底面図である。図中117はチ
ップ形3端子コンデンサを示しており、チップ形3端子
コンデンサ117は図11に示した実施例8に係るチッ
プ形3端子コンデンサ116と略同様の構成を有してい
るが、一主面12aに2個の容量形成用電極14a、1
4cが所定幅を有して形成されている点が異なる。
117にあっては、実施例8に係るチップ形3端子コン
デンサ116と同様の効果を有し、これに加えて端部電
極13a、13bが容量形成用電極14a、14cに4
か所において接続されていることによりこれらの接続を
確実に行うことができ、接続不良率をより一層低減する
ことができ、信頼性をより一層向上させることができ
る。
(c)は実施例10に係るチップ形3端子コンデンサを
示した斜視図、平面図及び底面図である。図中118は
チップ形3端子コンデンサを示しており、チップ形3端
子コンデンサ118は図10に示した実施例7に係るチ
ップ形3端子コンデンサ115と略同様の構成を有して
いるが、他の主面12bに2個の容量形成用電極14
b、14dが所定幅を有して形成され、容量形成用電極
14b、14dそれぞれの一端に接続される2個のアー
ス接続用電極15a、15cが他の一面12eに所定幅
を有して形成され、容量形成用電極14b、14dそれ
ぞれの他端に接続される2個のアース接続用電極15
b、15dが他の一面12eと対向する端面に所定幅を
有して形成されている点が異なる。
118にあっては、実施例7に係るチップ形3端子コン
デンサ115と同様の効果を有し、これに加えて対向す
る容量形成用電極14aと容量形成用電極14b、14
dとが形成されていることにより、チップ形でかつ3端
子のコンデンサアレイが得られ、使用範囲を大きく広げ
ることができる。
(c)は実施例11に係るチップ形3端子コンデンサを
示した斜視図、平面図及び底面図である。図中119は
チップ形3端子コンデンサを示しており、チップ形3端
子コンデンサ119は図13に示した実施例10に係る
チップ形3端子コンデンサ118と略同様の構成を有し
ているが、一主面12aに2個の容量形成用電極14
a、14cが所定幅を有して形成され、この容量形成用
電極14a、14cそれぞれの一端に接続される2個の
端部電極13a、13cが一面12cに形成されてお
り、また容量形成用電極14a、14cそれぞれの他端
に接続される2個の端部電極13b、13dが一面12
cと対向する端面に形成されている点が異なる。
119にあっては、実施例10に係るチップ形3端子コ
ンデンサ118と同様の効果を有し、これに加えて端部
電極13a、13b、13c、13dが容量形成用電極
14a、14cに4か所において接続されていることに
よりこれらの接続を確実に行うことができ、接続不良率
を低減することができ、信頼性を向上させることができ
る。
(c)は実施例12に係るチップ形3端子コンデンサを
示した斜視図、平面図及び底面図である。図中120は
チップ形3端子コンデンサを示しており、チップ形3端
子コンデンサ120は図8に示した実施例6に係るチッ
プ形3端子コンデンサ114と略同様の構成を有してい
るが、両主面(図示せず)の略全面にガラスを用いて絶
縁層16が形成されている点が異なる。
サ120を製造する場合は、図2に示した実施例1に係
るチップ形3端子コンデンサ11の製造工程と略同様の
工程を行うが、容量形成用電極14a、14bを形成し
た後に、両主面12a、12bに容量形成用電極14
a、14bを覆うように端部電極13a、13bの一部
分を除いてガラスペーストを印刷し、次に600〜70
0℃の空気中で焼き付けを行う絶縁層16形成工程を挿
入してチップ形3端子コンデンサ120を製造する。
120にあっては、実施例6に係るチップ形3端子コン
デンサ114と同様の効果を有し、これに加えて両主面
12a、12b及び容量形成用電極14a、14bへの
湿気等の侵入を防止することができ、両主面12a、1
2b及び容量形成用電極14a、14bの酸化や腐食等
を防止することができる。このため、信頼性を向上させ
ることができる。しかも、端部電極13a、13b及び
アース接続用電極15a、15bは絶縁層16に覆われ
ずに露出しているため、IC基板等に表面実装する際、
端部電極13a、13b及びアース接続用電極15a、
15bの接続が絶縁層16によって妨げられることはな
い。
てガラスを用いたが、別の実施例では絶縁層16の材料
としてその他、フェノール樹脂、エポキシ樹脂などの熱
硬化性の絶縁物を用いることができる。
(c)は実施例13に係るチップ形3端子コンデンサを
示した斜視図、平面図及び底面図である。図中121は
チップ形3端子コンデンサを示しており、チップ形3端
子コンデンサ121は図15に示した実施例12に係る
チップ形3端子コンデンサ120と略同様の構成を有し
ているが、一組の対向した端面(図示せず)に端部電極
13a、13bの一部分及びアース接続用電極15a、
15b部分を除いてガラスを用いて絶縁層16が形成さ
れている点が異なる。
サ121を製造する場合は、図15に示した実施例12
に係るチップ形3端子コンデンサ120の製造工程と略
同様の工程を行うが、容量形成用電極14a、14bを
形成した後に次の工程、すなわち両主面12a、12b
に容量形成用電極14a、14bを覆うように端部電極
13a、13bの一部分を除いてガラスペーストを印刷
し、また一組の対向する端面(図示せず)の全面にガラ
スペーストを印刷する。次に、600〜700℃の空気
中で焼き付けを行い絶縁層16を形成する工程を挿入
し、チップ形3端子コンデンサ121を製造する。
121にあっては、実施例12に係るチップ形3端子コ
ンデンサ120と同様の効果を有し、これに加えて一組
の対向した端面12e、12fへの湿気等の侵入を防止
することができ、一組の対向した端面12e、12fの
酸化や腐食等を防止することができる。このため、信頼
性をより一層向上させることができる。
(c)は実施例14に係るチップ形3端子コンデンサを
示した斜視図、平面図及び底面図である。図中21はチ
ップ形3端子コンデンサを示しており、誘電体磁器基板
22の両端部には端部電極23a及び端部電極23bが
形成され、また表主面22aのほぼ全面にはコンデンサ
電極24aが端部電極23a及び端部電極23bと非接
触で形成されており、表主面22a、一側面22e及び
裏主面22bには対向電極24の一部を構成する接続用
電極24bが端部電極23aから視てコの字形状に形成
され、また表主面22a、他の側面22f及び裏主面2
2bには対向電極24の一部を構成する接続用電極24
cが端部電極23aから視て逆コの字形状に形成されて
おり、コンデンサ電極24a、接続用電極24b及び接
続用電極24cで対向電極が構成されている。また、誘
電体磁器基板裏主面22bには対向電極25が端部電極
23a及び端部電極23bに接続されて形成されてい
る。さらに、表主面22a上の接続用電極24b及び接
続用電極24cの一部とコンデンサ電極24aとが絶縁
層26aで覆われ、対向電極25が一部を除いて絶縁層
26bで覆われている。これら誘電体磁器基板22、端
部電極23a、23b、コンデンサ電極24a、接続用
電極24b、24c、対向電極25及び絶縁層26a、
26bを含んでチップ形3端子コンデンサ21は構成さ
れている。
サ21を製造する場合は、まずSrTiO3 粉末を主原
料とし、この主原料100モルに対して、原料を半導体
化する原子価制御剤としてNb2 O5 を0.1モル〜
0.5モル、磁器の性質の改良や特性の安定化等に寄与
する焼結助剤としてCuOを0.2モル程度の割合で配
合する。これらの原料を混合し、バインダ、水及び分散
剤とともに混練した後、これらの混練物を例えば押出成
形法によってシート状に成形してセラミックス生基板を
得る。該セラミックス生基板の表面にチップ形3端子コ
ンデンサが所定の大きさとなるようなスリット加工を施
し、水素を数%含む還元性雰囲気中において、1400
℃〜1540℃の温度で約6時間の焼成を行なって半導
体化させ、焼結体を得る。さらに、粒界絶縁化ペースト
(例えばBi2 O3 やCuO等の混合物ペースト)を塗
布し、1000℃〜1300℃の空気中で熱処理を施
す。この熱処理により、焼結体の結晶間に粒界絶縁化成
分が拡散し、結晶粒界が絶縁される。
半導体磁器基板を誘電体磁器基板22として用い、誘電
体磁器基板22の表主面22aに銀、アルミニウム、亜
鉛またはニッケルのうち一種を含む電極用ペーストをス
クリーン印刷で塗布し(図18(a))、次に裏主面2
2bに前記電極用ペーストをスクリーン印刷で塗布し
(図18(b))、この後650℃〜850℃の空気中
で焼き付け処理を施し、対向電極25と、対向電極24
及び端部電極23a、23bの一部分とを形成する。さ
らに、表主面22aの対向電極24の一部を除いて覆う
ようにガラスペーストを塗布し(図18(c))、次に
裏主面22bの対向電極25の一部を除いて覆うように
前記ガラスペーストを塗布し(図18(d))、この後
600℃〜800℃の空気中で焼成し、絶縁層26a及
び絶縁層26bを形成する。この後、所定位置Aで誘電
体磁器基板22を切断し(図18(e))、チップ形状
とする(図18(f)、(g))。次に、一端面22
c、他の端面22d、一側面22e及び他の側面22
f、に銀等の電極用ペーストを塗布またはディップした
後、500℃〜700℃の空気中で焼成する。
電極25の絶縁層26a及び絶縁層26bで覆われてい
ない部分と端部電極23a及び端部電極23bとにニッ
ケル及び半田の電極メッキを施す。
21にあっては、対向電極24がコンデンサ端子とな
り、対向電極25と接続された端部電極23a及び端部
電極23bが2つの外部端子となる3端子を有してお
り、その回路構成は図19に示した等価回路であらわせ
る。このため、図8に示した実施例6に係るチップ形3
端子コンデンサ114と同様の効果を有し、これに加え
て対向電極24、25への湿気等の侵入を防止すること
ができ、対向電極24、25の酸化や腐食等を防止する
ことができる。また、対向電極24、25に銀を用いて
もマイグレーションの発生を防止することができ、さら
に半田を用いた接合による絶縁不良部分の発生を防止し
て確実な接合ができる。このため、信頼性を向上させる
ことができる。しかも、対向電極24、25及び接続用
電極24b、24cの一部を除いて絶縁層26a、26
bが形成されているため、表面実装する際には、表裏ど
ちらからでも接続を行うことができる。
して、温度特性が良好であり、しかも大容量が得られる
前記粒界絶縁形半導体磁器基板を用いた場合を例にとっ
て説明をしたが、誘電体磁器基板22として、表層絶縁
形半導体磁器基板を用いた場合においても同様に本発明
を適用することができる。
は、ガラスの他、フェノール樹脂、エポキシ樹脂などの
熱硬化性の絶縁物を用いることができる。
(c)は実施例15に係るチップ形3端子コンデンサを
示した斜視図、平面図及び底面図である。図中210は
チップ形3端子コンデンサを示しており、誘電体磁器基
板22の両端部には端部電極23a及び端部電極23b
が形成され、また誘電体磁器基板22表主面22aには
6個の個別電極24dが配列されて端部電極23a及び
端部電極23bと非接触で形成されており、表主面22
a、一側面22e及び裏主面22bには対向電極24の
一部を構成する接続用電極24bが端部電極23aから
視てコの字形状に形成され、また表主面22a、他の側
面22f及び裏主面22bには対向電極24の一部を構
成する接続用電極24cが端部電極23aから視て逆コ
の字形状に形成されており、接続用電極24b、接続用
電極24c及び個別電極24dと共通電極25aとで対
向電極24と対向電極25とが構成されている。また、
裏主面22bには共通電極25aが端部電極23a及び
端部電極23bに接続されて形成されている。さらに、
表主面22a上の接続用電極24b及び接続用電極24
cの一部と個別電極24dとが絶縁層26aで覆われ、
共通電極25aが一部を除いて絶縁層26bで覆われて
いる。これら誘電体磁器基板22、端部電極23a、2
3b、接続用電極24b、24c、個別電極24d、共
通電極25a及び絶縁層26a、26bを含んでチップ
形3端子コンデンサ210は構成されている。
210にあっては、その回路構成は図21に示した等価
回路であらわせる。このため、実施例14に係るチップ
形3端子コンデンサ21と同様の効果を有し、これに加
えて配列された複数個の個別電極24d及び共通電極2
5aが形成されていることにより、チップ形でかつ3端
子のコンデンサアレイが得られ、使用範囲を大きく広め
ることができる。
プ形3端子コンデンサ(1)にあっては、粒界絶縁形半
導体磁器からなるセラミックス単板の一主面に少なくと
も1個の容量形成用電極が形成され、該容量形成用電極
の両端部に接続される少なくとも2個の端部電極が一組
の端面に形成され、前記容量形成用電極に接続されない
少なくとも1個のアース接続用電極が他の一組の端面の
片面あるいは両面に形成されているので、3端子構造で
ありながらチップ化を図ることができる。また、比誘電
率の選択幅が広い粒界絶縁形半導体磁器をセラミックス
単板として用いたことにより、所望の静電容量を得るこ
とが容易であり、このため、ノイズを効果的に除去する
ことができる。さらに、大量生産に適した簡単な構造で
あるため、量産化を図ることができ、コスト削減を図る
ことができる。
板等に表面実装することができ、実装される側の部品
に、端子に対応する孔部を形成する必要がなくなり、工
程数が減り、実装の際の手間を省くことができ、製品コ
ストを削減することができる。
形であり、前記容量形成用電極、前記端部電極及び前記
アース接続用電極が後付けにより形成されるため、同時
焼結を行う必要がなく、電極の材料として融点の低い安
価なAg等を用いることができ、製造コストを削減する
ことができる。
としても作用することにより、前記容量形成用電極及び
前記アース接続用電極の幅や個数を種々に選択すること
により所望の容量を形成することができ、利用範囲を広
げることができる。
電極及び前記アース接続用電極間の接続部分の数を増や
すことによりこれらの接続を確実に行うことができ、接
続不良率を低減することができ、高い信頼性を確保する
ことができる。
としてOA機器、デジタル機器及び自動車用電子機器等
に使用することができる。
ンサ(2)にあっては、粒界絶縁形半導体磁器からなる
セラミックス単板の両主面にそれぞれ少なくとも1個の
容量形成用電極が形成され、前記両主面の一方に形成さ
れた前記容量形成用電極の両端部に接続される少なくと
も2個の端部電極が一組の端面に形成され、前記両主面
の他方に形成された前記容量形成用電極に接続される少
なくとも1個のアース接続用電極が他の一組の端面の片
面あるいは両面に形成されており、前記両主面それぞれ
に1個の前記容量形成用電極が形成されている場合は、
上記記載のチップ形3端子コンデンサ(1)における効
果と同様の効果を有している。また、前記両主面に合計
3個以上の前記容量形成用電極が形成されている場合
は、上記記載のチップ形3端子コンデンサ(1)におけ
る効果に加え、簡単な形状であっても複数個のコンデン
サを有することができ、3端子を有するコンデンサアレ
イを得ることができ、製品の利用範囲をさらに大きく広
げることができる。
デンサ(3)にあっては、上記記載のチップ形3端子コ
ンデンサ(1)又は(2)において、前記端部電極が形
成された前記一組の端面を除く少なくとも一面に、前記
アース接続用電極部分を除いて絶縁層が形成されている
ので、上記記載のチップ形3端子コンデンサ(1)又は
チップ形3端子コンデンサ(2)における効果と同様の
効果を有し、これに加えて前記セラミックス単板及び前
記容量形成用電極への湿気等の侵入を防止することがで
き、前記セラミックス単板及び前記容量形成用電極の酸
化や腐食等を防止することができ、信頼性を向上させる
ことができる。しかも、前記アース接続用電極は前記絶
縁層に覆われずに露出しているため、IC基板等に表面
実装する際、前記端部電極及び前記アース接続用電極の
接続が前記絶縁層によって妨げられることはない。
プ形3端子コンデンサの実施例1を示した斜視図、平面
図及び底面図である。
子コンデンサの製造工程を示した斜視図である。
路構成を示した等価回路図である。
ップ形3端子コンデンサを示した斜視図、平面図及び底
面図である。
ップ形3端子コンデンサを示した斜視図、平面図及び底
面図である。
ップ形3端子コンデンサを示した斜視図、平面図及び底
面図である。
ップ形3端子コンデンサを示した斜視図、平面図及び底
面図である。
ップ形3端子コンデンサを示した斜視図、平面図及び底
面図である。
路構成を示した等価回路図である。
チップ形3端子コンデンサを示した斜視図、平面図及び
底面図である。
チップ形3端子コンデンサを示した斜視図、平面図及び
底面図である。
チップ形3端子コンデンサを示した斜視図、平面図及び
底面図である。
るチップ形3端子コンデンサを示した斜視図、平面図及
び底面図である。
るチップ形3端子コンデンサを示した斜視図、平面図及
び底面図である。
形3端子コンデンサを示した斜視図及び裏正面図であ
る。
形3端子コンデンサを示した斜視図及び裏正面図であ
る。
るチップ形3端子コンデンサを示した斜視図、平面図及
び底面図である。
プ形3端子コンデンサの製造工程を示した斜視図であ
る。
の回路構成を示した等価回路図である。
るチップ形3端子コンデンサを示した斜視図、平面図及
び底面図である。
の回路構成を示した等価回路図である。
ンサを示した模式的構造図及び側面図である。
5、116、117、118、119、120、12
1、21、210 チップ形3端子コンデンサ 12 セラミックス単板 12a 一主面 12b 他の主面 12c、12d 一組の端面 12e、12f 一組の対向した端面(他の一組の端
面) 13a、13b、13c、23a、23b 端部電極 14a、14b、14c 14d 容量形成用電極 15a、15b、15c、15d アース接続用電極 16、26a、26b 絶縁層 22 誘電体磁器基板 22a 表主面(一主面) 22b 裏主面(他の主面) 24、25 対向電極 24d 個別電極 25a 共通電極
Claims (3)
- 【請求項1】 粒界絶縁形半導体磁器からなるセラミッ
クス単板の一主面に少なくとも1個の容量形成用電極が
形成され、該容量形成用電極の両端部に接続される少な
くとも2個の端部電極が一組の端面に形成され、前記容
量形成用電極に接続されない少なくとも1個のアース接
続用電極が他の一組の端面の片面あるいは両面に形成さ
れていることを特徴とするチップ形3端子コンデンサ。 - 【請求項2】 粒界絶縁形半導体磁器からなるセラミッ
クス単板の両主面にそれぞれ少なくとも1個の容量形成
用電極が形成され、前記両主面の一方に形成された前記
容量形成用電極の両端部に接続される少なくとも2個の
端部電極が一組の端面に形成され、前記両主面の他方に
形成された前記容量形成用電極に接続される少なくとも
1個のアース接続用電極が他の一組の端面の片面あるい
は両面に形成されていることを特徴とするチップ形3端
子コンデンサ。 - 【請求項3】 請求項1又は2記載のチップ形3端子コ
ンデンサにおいて、前記端部電極が形成された一組の端
面を除く少なくとも一面に、前記アース接続用電極の部
分を除いて絶縁層が形成されていることを特徴とするチ
ップ形3端子コンデンサ。
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