JP2966960B2 - 光硬化性エレメント及び該エレメントから製造されるフレキソグラフ印刷板 - Google Patents

光硬化性エレメント及び該エレメントから製造されるフレキソグラフ印刷板

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JP2966960B2 JP3097368A JP9736891A JP2966960B2 JP 2966960 B2 JP2966960 B2 JP 2966960B2 JP 3097368 A JP3097368 A JP 3097368A JP 9736891 A JP9736891 A JP 9736891A JP 2966960 B2 JP2966960 B2 JP 2966960B2
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    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】本出願は、１９９０年４月２６日出願の米
国特許出願第０７／５１４，８２５号の一部係属出願で
ある。
【０００２】本発明は、主にフレキソグラフレリーフ
（凸版）印刷板の製造に使用するための多層光硬化性エ
レメントと、かかるエレメントから製造されるレリーフ
像印刷板とに係わる。
【０００３】ネガ型（ｎｅｇａｔｉｖｅ−ｗｏｒｋｉｎ
ｇ）の光硬化性エレメントからレリーフ印刷板を製造す
る際には、少なくとも１つのネガ型光硬性組成物の層
を、像を担う透明ポジを介して、該組成物を硬化または
固化するのに適当な波長の放射線に露光する。光硬化性
組成物は最初は選択された現像液中で可溶性であるが、
光硬化の結果として不溶性になる。露光層を現像する
と、露光されなかった領域にある組成物が除去され、硬
化した組成物で構成されるレリーフ像が残る。
【０００４】光硬化性組成物は一般に、現像後にレリー
フ像がそこに付着したまま残る適当な支持体上に置かれ
る。支持体上には２つ以上の異なる光硬化性組成物の層
を与えるのが好ましい。これらの層は一般に同一の広が
りを有しており、隣接、即ち界面において相互に接触し
ており、同時に露光及び現像される。即ち、１回のイメ
ージワイズ露光がなされ、全ての層が共通の現像液処理
で同時に現像される。通常は２つの層からなる多層の使
用は、優れた物理的特性及び印刷特性を与えることが多
い。即ち、印刷板のベース層、即ち支持体に最も近い層
は、印刷板の印刷されるべき表面とより優れた適合性を
与え且つより平滑な印刷を与えるために、硬化状態で容
易に変形可能であり且つ弾性がある組成物で形成するこ
とができ、他方で印刷表面を与える上方層は、インクの
吸取り及び定着、耐摩耗性、耐溶剤性及び硬さといった
優れた印刷特性を与えるように特に適合させることがで
きる。
【０００５】本発明は、上方層または印刷層が、１種以
上の光重合可能なモノマーを組合せた種々のポリマー材
料と、光重合開始剤（ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ）
との所定の組合せで構成される多層エレメントに係わ
る。特に本発明は、第１及び第２の光硬化性層を含む多
層光硬化性エレメントであって、前記第１の光硬化層
（以降「印刷層」と記す）が、非相容性エラストマー性
ポリマー材料と、少なくとも１種の光重合可能なモノマ
ーと、光重合開始剤とを所定の組合せで含み、前記第２
の光硬化性層が、印刷層のものとは異なる光硬化性組成
物からなるエレメントに係わる。印刷層はベース層の上
にあってしかもベース層と隣接しており、これらの層は
通常は同一の広がりを有する。ベース層は、光硬化後
に、印刷層よりもより容易に変形されるのが好ましい。
本発明のエレメントは好ましくは更に、ベース層の印刷
層とは反対側の面上に配置された支持層を有する。ベー
ス層を支持体によりよく固定するために接着剤層を使用
することもできるが、ベース層は通常は支持層と直接、
即ち介在層なしに接触させる。
【０００６】印刷層の非相容性エラストマー性ポリマー
系は、光硬化後、十分に優れたインク転写性及びより鮮
明な印刷特性を有する非粘着印刷表面を与えることが判
った。硬化後に印刷層によってもたらされる特に望まし
い長所は、インクの定着の均一性が実質的に向上し、逆
に言えば、印刷像のまだらさが実質的により少なくなる
ことである。驚くべきことには、エラストマー性ポリマ
ーの非相容性にもかかわらず、硬化した印刷層の表面は
実質的に滑らかであり、有意な変形、荒れまたは小孔の
発生はない。この滑らかな表面で達成される優れたイン
ク転写は驚くほどであり、インク転写を向上するために
粗面を付与する通常の印刷板とは対照的であろう。特に
好ましい実施態様においては、印刷層は更に、光硬化に
使用される化学放射線（ａｃｔｉｎｉｃ ｒａｄｉａｔ
ｉｏｎ）を有意な量で散乱及び吸収し得る顔料材料を含
む。この顔料は、露光ラチチュード及びドットゲインに
更なる向上をもたらし、レリーフ像の全体的な品質を決
定する上でより容易に検査し得るコントラストレリーフ
像を与える。
【０００７】印刷層に使用される非相容性ポリマー系
は、（１）約４０〜９５重量部の光架橋可能なエラスト
マー性ブロックコポリマーと、（２）約５〜６０重量部
の、エラストマー性ブロックコポリマーとは非相容性の
第２のエラストマー性ポリマー成分とを含有しており、
第２のエラストマー性ポリマー成分は、アクリロニトリ
ル／ブタジエンコポリマー（例えばＺｅｏｎ Ｃｈｅｍ
ｉｃａｌｓから入手可能なＨＹＣＡＲ ＶＴ−３３
０）、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレンコポリ
マー（例えばＤｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．から入
手可能なＤｏｗ Ｍａｇｎｕｍ ３４３）、メチルメタ
クリレート／アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン
コポリマー（例えばｔｈｅ Ｇｅｎｅｒａｌ Ｅｌｅｃ
ｔｒｉｃ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ
Ｃｏ．から入手可能なＢｌｅｎｄｅｘ４９１）、アクリ
ロニトリル／イソプレンコポリマー、カルボキシル化ア
クリロニトリルポリマー、アクリレートポリマー（例え
ばＺｅｏｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから入手可能なＨｙＴ
ｅｍｐ ４０５３ ＥＰ）、及びこれらの混合物からな
る群から選択される。上記重量の範囲内で個々のポリマ
ー成分は、本発明の優れた印刷特性を与えるように、更
に後述するように非相容性とし得ることが判った。この
非相容性のポリマー（１）及び（２）の混合物を、本発
明のエレメントの印刷層を形成するために使用する光硬
化性組成物に配合する。好ましい実施態様においては非
相容性ポリマー系は、約５０〜８０部の成分（１）と、
約２０〜５０部の成分（２）とを含有する。光硬化性組
成物は更に光重合可能なモノマー、好ましくはアクリル
系モノマー（例えば１，６−ヘキサンジオールジアクリ
レート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリメタクリレート、またはこれらのモノ
マーの混合物）、及びフリーラジカル光重合開始剤（例
えばベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミ
ノ）ベンゾフェノン、ベンジルジメチルアセタール、ベ
ンゾイン、ベンゾインエーテル、２，２−ジメトキシ−
２−フェニルアセトフェノン、及び４−メトキシ−４’
−ジメチルアミノベンゾフェノン）を含む。該組成物
は、約５〜４０重量部の光重合可能なモノマーと、約
０．０５〜２重量部の光重合開始剤とを含むのが好まし
い。該組成物は更に、例えば抗酸化剤、オゾン亀裂防止
剤及びＵＶ吸収剤といった当業者には公知の光硬化性組
成物に使用する他の添加剤を含むことができる。
【０００８】非相容性ポリマー系に使用されるエラスト
マー性ブロックコポリマーは、フレキソグラフ印刷板の
製造に使用される公知の光架橋可能な任意のブロックコ
ポリマーとすることができる。好ましい材料はＡＢＡブ
ロックコポリマー〔但し、Ａはそれぞれ非エラストマー
性ポリマーブロックであり、Ｂはエラストマー性ポリマ
ーブロックである〕である。本発明に使用し得る典型的
なＡＢＡブロックコポリマーは、ポリスチレン−ポリブ
タジエン−ポリスチレン及びポリスチレン−ポリイソプ
レン−ポリスチレンである。好ましいのは後者のブロッ
クコポリマーであり、これは、Ｓｈｅｌｌ Ｏｉｌ Ｃ
ｏ．から商標“Ｋｒａｔｏｎ”名で入手可能である。
【０００９】印刷層の第２のエラストマー性ポリマー成
分はブロックコポリマー成分とは非相容性である。「非
相容性」なる用語は、第２のエラストマー性ポリマーが
少なくとも光硬化した印刷層中に、本質的に第２のエラ
ストマー性ポリマーからなる区別し得る「アイランド」
または「ドメイン」で存在することを意味する。かかる
ポリマードメインは、それを取り巻くブロックコポリマ
ーとは物理的に区別され、第２のエラストマー性ポリマ
ードメインと周囲のブロックコポリマーとの界面を形成
する認識可能な境界領域を有する。少なくともブロック
コポリマーが第２のエラストマー性ポリマーより多い量
で存在するかかる系においては、上記ポリマードメイン
は、ブロックコポリマーの連続相（またはマトリック
ス）全体にわたって分散した不連続相として観察され
る。非相容性ポリマードメインは最も重要には印刷層の
表面に与えられ、かかるドメインが、本発明のレリーフ
印刷板の優れた印刷特性に主に寄与すると考えられる。
ポリマードメインの最大寸法は好ましくは５ミクロン、
より好ましくは０．５〜２．５ミクロンとする。ドメイ
ンはほぼ規則的に成形され、しかもブロックコポリマー
のマトリックス全体にわたって均一に分散しているべき
である。
【００１０】ブロックコポリマー及び第２のエラストマ
ー性ポリマー成分は、印刷層の硬化の前に、前記のごと
く非相容性とすることができるし、一般にそうである。
【００１１】第２のエラストマー性ポリマー成分として
使用するポリマーは、好ましくは２０，０００以上、よ
り好ましくは５０，０００以上の分子量を有する。好ま
しい分子量の範囲は約５０，０００〜３００，０００で
ある。本明細書中「分子量」とは、例えばテトラフドロ
フランまたはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドといったか
かるポリマーに適した溶剤と、基準としてポリアクリル
酸、ポリスチレンまたは酸化ポリエチレンを使用するゲ
ルパーミエーションクロマトグラフィーによって測定し
たときの数平均分子量を意味する。
【００１２】エラストマー性ブロックコポリマーと非相
容性である１種より多いエラストマー性ポリマーを印刷
層に使用することができる。このようなポリマーの好ま
しい組合せは、アクリロニトリル／ブタジエンコポリマ
ーと、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレンコポリ
マーまたはメチルメタクリレート／アクリロニトリル／
ブタジエン／スチレンコポリマーとのミックスで、アク
リロニトリル／ブタジエンコポリマーが該ミックスの少
なくとも５０重量％を占めるミックスである。上記ポリ
マーの各々は、好ましくは約２０，０００以上、より好
ましくは約５０，０００以上の分子量を有する。
【００１３】印刷層を製造するのに使用される光硬化性
組成物は、ブロックコポリマー及び非相容性エラストマ
ー性ポリマーを適当な溶剤または溶剤の混合物中に、所
望の量の光重合可能なモノマー、光重合開始剤及び他の
添加剤と共に溶解または分散することによって形成する
ことができる。適正な溶解または分散を行なうために
は、加熱または高度な剪断混合を必要とし得る。次いで
印刷層を与えるために、得られた溶液または分散液を予
め形成してある光硬化性ベース層に塗布する。或いは、
溶液または分散液をカバーシートエレメント上に塗布
し、乾燥し、次いで得られた印刷層を、予め形成してあ
る光硬化性ベース層上に熱及び／または圧力を使用して
積層することもできる。更に別の方法では、ベース層を
印刷層上に塗布または押出することもできる。この場合
には印刷層を、前述のごとく前以てカバーシート上に塗
布し、乾燥しておく。印刷層は、例えば押出ダイコーテ
ィング法またはローラーコーティング法によってコーテ
ィングすることもできる。
【００１４】非相容性ポリマー成分として、上述のアク
リロニトリル／ブタジエンコポリマー及びアクリロニト
リル／ブタジエン／スチレンコポリマーを、少なくとも
５０重量％がアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー
であるような組合せを使用すると、優れた安定性及び粒
径を有する分散液を与えることが判った。エラストマー
性ブロックコポリマーと共に非相容性ポリマーのこの好
ましい組合せを使用して調製した分散液は、比較的均一
で且つ５ミクロン未満の望ましい小さい粒径を有し、ア
クリロニトリル／ブタジエンコポリマー及びエラストマ
ー性ブロックコポリマーのみを含む分散液であっても、
この均一で小さい粒径を明らかにより長い時間維持す
る。かかる分散系においては、エラストマー性ブロック
コポリマーは溶解しているが分散粒子は一方または両方
の非相容性エラストマー性コポリマーからなっていると
考えられる。即ち、非相容性ポリマーの好ましいミック
スは、分散している非相容性ポリマーの寸法が増大する
のを阻害し、粒子のいかなる凝集も遅らせることが判っ
た。このようにして、好ましい非相容性ポリマードメイ
ンを有する印刷層をより容易にコーティングすることが
できる。
【００１５】一般には、ベース層と接触させる前に、塗
布した印刷層の組成物を乾燥するのが好ましい。塗布組
成物が溶液である場合には、溶剤を塗布印刷層から蒸発
させると、ブロックコポリマーと第２のエラストマー性
ポリマーとの相分離が生じ、上述の第２のエラストマー
性ポリマーの独立ドメインを与える結果となる。溶液及
び分散系の両方のコーティング組成物では、所望のドメ
イン寸法及び形状を得るためにドメイン核形成速度とド
メイン成長速度とのバランスをとるように、簡単な実験
と、顕微鏡的なドメインの寸法及び形状の決定とによっ
て乾燥条件を決定することができる。１つの好ましい実
施態様においては、コーティングが通過する各ゾーンが
次々により高い温度を有するような多段階温度ゾーンの
乾燥オーブンを使用する。
【００１６】印刷層は、ブロックコポリマー、第２のエ
ラストマー性ポリマー、光重合可能なモノマー、光重合
開始剤及び任意的な添加物の混合物を加熱して液化した
ものを、ベース層または前述の支持体の上に塗布するこ
とにより形成することもできる。上記混合物はわずかし
かまたは全く溶剤を含まない。塗膜を冷却すると通常
は、前述のごとく非相容性ポリマーの相分離が生じる。
溶剤含有組成物の乾燥においては、冷却温度及び冷却速
度は、所望のドメイン寸法及び形状を得る上で、ドメイ
ン核形成速度とドメイン成長速度とが所望のバランスと
なるように、実験的に決定することができる。
【００１７】ブロックコポリマーと第２のエラストマー
性ポリマーの特定の相対的な量は個々のポリマーに依存
しており、所望の非相容性ポリマードメインを与えるよ
うに、本発明の前述の範囲内で選択すべきである。
【００１８】硬化した印刷層中のブロックコポリマー及
び第２のエラストマー性ポリマー成分は、圧縮性、弾性
またはモジュラスにおいて異なるべきである。それぞれ
のポリマーは、これらの特性の１つまたはそれ以上で異
なり得る。一般に、優位なポリマー成分はより高い圧縮
性及び／もしくは弾性、並びに／またはより低いモジュ
ラスを有するべきである。
【００１９】前記したように、印刷層は更に化学放射線
散乱用及び吸収用顔料を含むことが好ましい。この顔料
は、印刷層の光硬化性組成物中で実質的に不溶性であ
り、化学放射線に実質的に不透過性であるべきであり、
印刷層の放射線に対する感光度を低下すべきである。光
硬化性組成物と相容性であり且つその中に分散し得る任
意の上記のごとき顔料を使用することができる。かかる
顔料の例としては、フタロシアニン顔料、カドミウムベ
ースの顔料、及び酸化第二水銀顔料を挙げることができ
るが、フタロレッド、フタロブルー及びフタログリーン
顔料を含むフタロシアニン顔料が好ましい。
【００２０】印刷層は光硬化性ベース層上に置かれてお
り、更にベース層は、通常、適当なシート状の支持エレ
メントによって支持されている。ベース層は、印刷層の
ものと同じ光硬化性組成物で形成することができるが、
非相容性の第２のエラストマー性ポリマーまたは顔料は
含まない。或いは、ベース層に使用する光硬化性組成物
は、印刷層に使用されている光硬化性組成物とは違って
もよい。ほとんどの用途において、ベース層及び印刷層
の一方を他方より硬質にまたは軟質にするためにも、印
刷層中にインクを最適に受容または定着させるために
も、また、それぞれの層間の特性に他の変化を与えるた
めにも、かかる層のそれぞれに異なる光硬化性組成物を
使用することが好ましい。
【００２１】ベース層は、印刷層のエラストマー性ブロ
ックコポリマーと同じでも異なってもよいエラストマー
性ブロックコポリマーと、１種以上の光重合可能なモノ
マーとを含むことが好ましい。エラストマー性ブロック
コポリマーは光架橋可能であり、従って光誘起硬化また
は固化を受けるものであるのが好ましい。或いは、エラ
ストマー性ブロックコポリマーは不活性であり、ベース
層中の結合剤として機能し得る。この後者の実施態様に
おいては、光硬化は、ベース層中に存在するモノマーの
光重合によって行われる。ベース層の光重合可能なモノ
マーもやはり、印刷層のものと同じでも異なってもよ
い。更にベース層は光重合開始剤を含み、これもまた印
刷層のものと同じでも異なってもよい。更にベース層は
安定剤、オゾン亀裂防止剤、抗酸化剤、及び光硬化性層
中に使用することが公知の他の添加剤を含有することが
できる。
【００２２】印刷層の厚さは、約０．００１〜約０．１
０インチの範囲が適当であり、約０．００２〜約０．０
０８インチの範囲が好ましい。この厚さはベース層（及
び光硬化性エレメント自体）の厚さとは独立である。し
かしながら、各層の特定の組成物に従って、単純な実験
及び光硬化エレメントの特徴及び特性の測定によって容
易に決定し得るので、他の厚さを有利に使用することが
できる。
【００２３】光硬化性エレメントの支持部材は、可撓性
または剛性のフィルムまたはシートを形成し得る任意の
天然または合成材料から適当に形成することができる。
光硬化性エレメントを印刷板として使用するフレキソグ
ラフ印刷のごとき用途においては、支持部材は、スチー
ルまたはスズ被覆スチールのような材料の金属シートと
することもできるし、或いは、ポリエステルまたはポリ
アミンのような材料のプラスチックフィルムとすること
もできる。支持部材は、ベース層を形成する際の基板と
して機能することもできるし、ベース層／印刷層の複合
体を形成した後に支持部材を該複合体に、熱及び／また
は圧力下に積層することにより結合することもできる。
【００２４】他の例では、ベース層及び印刷層を含む光
硬化性エレメントは、別個の支持部材が必要でないよう
に用途に見合う自立性を有するために、十分な機械的強
度と構造的完全性とを有することができる。支持部材を
使用する場合には、寸法的に安定であり、光硬化性エレ
メントに対する放射線処理及び更なる加工ステップに耐
性を示すのが好ましい。即ち、放射線露光に次いで光硬
化性エレメントを水性または溶剤ベースの洗浄系によっ
て処理する場合には、基板は洗浄媒質に耐性のものとす
る。
【００２５】本発明の光硬化性エレメントは、化学放射
線、一般には紫外線に、印刷層及びベース層の両方を満
足の行くように硬化するのに十分な時間だけイメージワ
イズに露光する。イメージワイズ露光は、印刷層を介し
て行われる。即ち、印刷層を放射線源に最も近くする。
光硬化性エレメントは、レリーフ像のための「床（ｆｌ
ｏｏｒ）」を提供するために非イメージワイズでまたは
例えば米国特許第４，９２７，７２３号に記載のごとく
イメージワイズで、必要に応じて反対側から露光するこ
とができる。
【００２６】露光が終了したならば、エレメントを、適
当な溶剤で洗浄することによりレリ−フ像を現像する処
理を実施する。通常の溶剤系を使用することができ、光
硬化性層の組成に従って、有機または水性溶剤とするこ
とができる。洗浄ステップによって、印刷層及びベース
層両方の未露光部分を除去し、露光部分を実質的に除去
することなく多層レリーフ像を与える。水性現像液とし
ては、界面活性剤を含むまたは含まない塩基性水溶液、
例えば炭酸ナトリウム溶液または水酸化ナトリウム溶液
を挙げることができる。使用し得る有機溶剤としては、
リモネン含有溶剤系、ペルクロロエチレン／ブタノー
ル、トリクロロエタン、トリクロロエチレン／ブタノー
ル、芳香族及び脂肪族炭水化物など及びこれらの混合物
を挙げることができる。
【００２７】洗浄後はレリーフ板を、例えば強制熱風オ
ーブン内で乾燥することができる。次いでエレメント
は、レリーフ像を更に硬化するために、全体に２回目の
後露光を実施してもよい。
【００２８】
【実施例】本発明を更に以下の実施例によって説明す
る。これら実施例は非限定的であり、単に説明のための
ものである。以下の実施例においては、特に記載のない
限り全ての部及びパーセントは重量によるものである。
【００２９】実施例 本発明の光硬化性印刷層を形成するのに使用するための
コーティング組成物を、トルエン２４０部、メチルエチ
ルケトン８０部、ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリ
スチレンブロックコポリマー（Ｓｈｅｌｌ Ｏｉｌ Ｃ
ｏ．製のＫｒａｔｏｎ １１０７）８０部、アクリロニ
トリル／ブタジエンコポリマー（ＺｅｏｎＣｈｅｍｉｃ
ａｌｓ Ｉｎｃ．製のＨｙｃａｒ ＶＴ ３３０）２０
部、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレンコポリマ
ー（Ｄｏｗ Ｍａｇｎｕｍ ３４３）１３．３部、１，
６−ヘキサンジオールジアクリレート（１，６−ＨＤＤ
Ａ）６．８部、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレ
ート（１，６−ＨＤＤＭＡ）４．５部、フリーラジカル
重合開始剤（Ｃｉｂａ Ｇｅｉｇｙから入手可能なＩｒ
ｇａｃｕｒｅ ６５１）１．５部、２，６−ジ−ｔ−ブ
チルパラクレゾール１．５部、Ｄａｎｉｅｌ ＡＬ−７
０３（Ｄａｎｉｅｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ，Ｊｅｒｓｅｙ
Ｃｉｔｙ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙから入手可能な緑色
フタロシアニン顔料）２．３部、及びＴｉｎｕｖｉｎ
１１３０紫外線吸収剤（Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙから入手
可能）０．０２３部を混合することにより調製した。得
られた混合物を、高剪断ミキサーを使用して５０℃で数
時間撹拌し、均一な分散系を得た。この分散系を５ｍｉ
ｌのポリエステルカバーシート上に押出ダイコーティン
グし、乾燥に使用される連続ゾーンの各々が前のゾーン
より高い温度を有する可変温度ゾーンオーブン内でオー
ブン乾燥した。得られた印刷層の厚さは約２．５ｍｉｌ
であった。ポリエステルカバーシートには予め、当業者
には公知のタイプの０．２５ｍｉｌポリアミドスリップ
フィルムをコーティングしておき、このスリップフィル
ム上に印刷層をコーティングした。
【００３０】光硬化性ベース層を製造するのに使用する
コーティング組成物を、Ｋｒａｔｏｎ １１０７ ２１
０部、ＨＤＤＡ ９．５部、ＨＤＤＭＡ ７．４部、Ｉ
ｒｇａｃｕｒｅ ６５１ ３．４部、２．６−ジ−ｔ−
ブチルパラクレゾール ３．４部、ステアリン酸カルシ
ウム ０．４２部、オゾン亀裂防止用パラフィンろう
１．６部、解重合ポリイソプレン １０．５部、Ｔｉｎ
ｕｖｉｎ １１３００．０４４部、及び抗酸化剤（Ｃｉ
ｂａ Ｇｅｉｇｙから入手可能なＩｒｇａｎｏｘ １０
１０）０．１部を混合することにより調製した。得られ
た混合物を２４０°Ｆ〜２６０°Ｆの温度で印刷層上に
約７０ｍｉｌの厚さに押出し、冷却し、摩滅して全エレ
メントの最終厚さ約６６ｍｉｌとした。次いで、一方の
表面上に１ｍｉｌのホットメルト接着剤層を有する５ｍ
ｉｌのポリエステル支持フィルムを、ベース層の露光面
に熱または圧力の作用下に積層した。
【００３１】露光においては、エレメントを、透明支持
体を通して非イメージワイズに約１２秒間露光した。次
いでカバーシートをエレメントから引き剥がし、ポリア
ミドフィルムを印刷層上に残した。透明ネガをポリアミ
ドフィルム上に置き、エレメントを、ネガを通して紫外
線に約１０分間露光した。両露光における露光灯強度は
２０〜２４ミリワット／ｃｍ2とした。露光板を、７５
％ペルクロロエチレン／２５％ブタノール現像液を使用
して現像し、乾燥し、殺菌灯及び露光灯で同時に約１０
分間、後露光した。得られたレリーフ印刷板は、特に塗
布されたインクの均一さに関して優れたインク転写特性
と、耐摩耗性とを示し、鮮明な極めて高品質の印刷物を
与えた。印刷板の印刷表面は滑らかで且つ非粘着性であ
った。
【００３２】増強された露光ラチチュードを例証するた
めに、第２のかかるエレメントをイメージワイズに２０
分間露光し、前述のごとく現像した。得られたレリーフ
像は、１０分間露光したエレメントのものとほぼ等価で
あり、特に印刷板の逆転層の深さは印刷性に関してほぼ
同等であった。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭56−94352（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−125042（ＪＰ，Ａ) 特開 昭51−74703（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G03F 7/032 G03F 7/00 502 G03F 7/004 G03F 7/027

Claims (24)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 光硬化性ベース層とそれに隣接する光硬
    化性印刷層とを含む光硬化性エレメントであって、 前記印刷層が、４０〜９５重量部のエラストマー性ブロ
    ックコポリマー及び５〜６０重量部の前記ブロックコポ
    リマーとは非相容性の第２のエラストマー性ポリマー
    と、光重合可能なモノマーと、光重合開始剤とを含有し
    ており、前記第２のエラストマー性ポリマーが、アクリ
    ロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル
    ／ブタジエン／スチレンコポリマー、アクリロニトリル
    ／イソプレンコポリマー、カルボキシル化アクリロニト
    リルポリマー、アクリレートポリマー、及びこれらの混
    合物からなる群から選択されており、 前記ベース層が、エラストマー性ポリマーと、光重合可
    能なモノマーと、光重合開始剤とを含有しているエレメ
    ント。
  2. 【請求項２】 更に、前記ベース層の前記印刷層とは反
    対側の面上に置かれた支持層を含む請求項１に記載のエ
    レメント。
  3. 【請求項３】 前記印刷層が、５０〜８０部の前記ブロ
    ックコポリマーと、２０〜５０部の前記第２のエラスト
    マー性ポリマーとを含有している請求項１に記載のエレ
    メント。
  4. 【請求項４】 前記エラストマー性ブロックコポリマー
    がＡＢＡブロックコポリマーであり、前記第２のエラス
    トマー性ポリマーがアクリロニトリル／ブタジエンコポ
    リマーである請求項１に記載のエレメント。
  5. 【請求項５】 前記ＡＢＡブロックコポリマーがポリス
    チレン−ポリイソプレン−ポリスチレンまたはポリスチ
    レン−ポリブタジエン−ポリスチレンである請求項４に
    記載のエレメント。
  6. 【請求項６】 前記第２のエラストマー性ポリマーが、
    アクリロニトリル／ブタジエンコポリマー及びアクリロ
    ニトリル／ブタジエン／スチレンコポリマーの混合物で
    ある請求項１に記載のエレメント。
  7. 【請求項７】 前記アクリロニトリル／ブタジエンコポ
    リマーが、前記混合物の５０重量％以上を占める請求項
    ６に記載のエレメント。
  8. 【請求項８】 前記印刷層中のエラストマー性ブロック
    コポリマーが光架橋可能である請求項１に記載のエレメ
    ント。
  9. 【請求項９】 前記ベース層中のエラストマー性ポリマ
    ーが、前記印刷層中のエラストマー性ブロックコポリマ
    ーと同じものである請求項１に記載のエレメント。
  10. 【請求項１０】 前記エラストマー性ブロックコポリマ
    ーが光架橋可能なＡＢＡブロックコポリマーである請求
    項１に記載のエレメント。
  11. 【請求項１１】 前記印刷層が更に、該印刷層の放射線
    に対する感光度を低下させる放射線散乱用及び吸収用顔
    料を含んでいる請求項１に記載のエレメント。
  12. 【請求項１２】 前記印刷層が前記顔料を１〜１０重量
    部含有している請求項１１に記載のエレメント。
  13. 【請求項１３】 前記顔料がフタロシアニン顔料である
    請求項１１に記載のエレメント。
  14. 【請求項１４】 前記印刷層が、５〜４０重量部の前記
    光重合可能なモノマーと０．０５〜３重量部の前記光重
    合開始剤とを含有している請求項１に記載のエレメン
    ト。
  15. 【請求項１５】 前記非相容性の第２のエラストマー性
    ポリマーによって形成されるポリマードメインの最大寸
    法が５ミクロン未満である請求項１に記載のエレメン
    ト。
  16. 【請求項１６】 前記ポリマードメインの最大寸法が
    ０．５〜２．５ミクロンの範囲である請求項１５に記載
    のエレメント。
  17. 【請求項１７】 光硬化ベース層と、前記ベース層に隣
    接する光硬化印刷層とから形成されたレリーフ像を含む
    レリーフ印刷板であって、 前記印刷層が、４０〜９５重量部のエラストマー性ブロ
    ックコポリマー及び５〜６０重量部の、前記ブロックコ
    ポリマーとは非相容性の第２のエラストマー性ポリマー
    と、光重合可能なモノマーと、光重合開始剤とを含有し
    ており、前記第２のエラストマー性ポリマーが、アクリ
    ロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル
    ／ブタジエン／スチレンコポリマー、アクリロニトリル
    ／イソプレンコポリマー、カルボキシル化アクリロニト
    リルポリマー、アクリレートポリマー、及びこれらの混
    合物からなる群から選択されており、 前記ベース層が、エラストマー性ポリマーと、光重合可
    能なモノマーと、光重合開始剤とを含有している印刷
    板。
  18. 【請求項１８】 更に、前記ベース層の前記印刷層とは
    反対側の面上に置かれた支持層を含む請求項１７に記載
    の印刷板。
  19. 【請求項１９】 前記印刷層が、５０〜８０部の前記ブ
    ロックコポリマーと、２０〜５０部の前記第２のエラス
    トマー性ポリマーとを含有している請求項１７に記載の
    印刷板。
  20. 【請求項２０】 前記エラストマー性ブロックコポリマ
    ーが光架橋されたポリスチレン−ポリイソプレン−ポリ
    スチレンまたはポリスチレン−ポリブタジエン−ポリス
    チレンブロックコポリマーであり、前記第２のエラスト
    マー性ポリマーがアクリロニトリル／ブタジエンコポリ
    マーである請求項１７に記載の印刷板。
  21. 【請求項２１】 前記第２のエラストマー性ポリマー成
    分が更に、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレンコ
    ポリマーを含む請求項２０に記載の印刷板。
  22. 【請求項２２】 前記印刷層が更に、放射線散乱用及び
    吸収用顔料を含有している請求項１７に記載の印刷板。
  23. 【請求項２３】 前記非相容性の第２のエラストマー性
    ポリマーによって形成されるポリマードメインの最大寸
    法が５ミクロン未満である請求項１７に記載の印刷板。
  24. 【請求項２４】 前記ポリマードメインの最大寸法が
    ０．５〜２．５ミクロンの範囲である請求項１７に記載
    の印刷板。
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