JP2956305B2 - 液晶用絶縁膜及びその形成方法 - Google Patents
液晶用絶縁膜及びその形成方法Info
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Description
形成方法に関する。
板上に形成されている透明電極(ITO)と屈折率が同じ無
機絶縁膜が使用されている。現在、主としてSiO2−
TiO2二成分系絶縁膜が用いられている。この絶縁膜
は、SiO2及びTiO2の原料となるSiとTiのそれ
ぞれの有機金属化合物あるいは金属錯体を一定の比率で
溶液中に混合し、この混合溶液を基板に塗布した後、熱
分解処理をしてSiO2 −TiO2二成分系絶縁膜を作
製する。
法では、SiおよびTiの化合物は安定な化合物のた
め、これを熱分解してSiO2−TiO2を生成するため
には、500℃−600℃程度の熱処理が必要であっ
た。また、SiO2,TiO2の生成温度がそれぞれ異な
るため、生成温度の低いTiO2 が凝集しやすくなり、
膜が均一でなくなるなどの問題点があった。これが液晶
の画素ムラの一つの原因であった。
点を解決するためにゾルゲル法でこの膜を作製し、35
0℃以下の熱処理により屈折率1.7−1.8の液晶用絶
縁膜を作製したものである。これにより赤外吸収スペク
トルによる膜の構造解析においてSi−O−Ti/Si
−O−SiとSi−O−Ti/Ti−O−Tiのピ−ク
面積強度比がそれぞれ0.14,1.30以上である液晶
用絶縁膜を作製したものである。また、ゾルゲル法に光
照射を行い液晶用絶縁膜を作製したものである。また、
熱処理とともに光照射を行い液晶用絶縁膜を作製したも
のである。光照射の過程でオゾンを発生させ液晶用絶縁
膜を作製したものである。
を合成し、これを印刷塗布した後、熱処理して無機絶縁
膜を作製するものである。この方法では、すでに溶液中
において金属−酸素−金属の結合を有する化合物を合成
して使用するため、従来の熱処理温度を著しく下げるこ
とができる。例えば、SiO2−TiO2二成分系絶縁膜
について見れば、溶液中においてSi−O−Ti結合を
持つ無機ポリマーの前駆体を合成して使用するため、3
50℃以下の温度でSiO2−TiO2二成分系絶縁膜を
作製することができる。350℃以下の温度ではTiO
2 の凝集は起こらない。また、二成分がSi−O−Ti
結合で極めて均一に分散したものが作製できる。また、
無機ポリマーの前駆体の合成過程あるいは印刷塗布後に
光照射しゾルゲル反応を進行させ、均一な薄膜を得るこ
とができる。この方法では、薄膜作製温度をさらに下げ
ることができる。光照射する過程で熱処理を併用すれ
ば、より密着強度の高い薄膜を得ることができる。ま
た、この過程においてオゾンを発生させれば、オゾンの
酸化力により、より化学量論比に近い組成の薄膜を得る
ことができる。
タノール溶液50mlにH2O の0.1mol/lのエ
タノール溶液50mlとHClの0.05mol/lエ
タノール溶液0.5mlを加え、3時間撹拌した。この
溶液にTi(OC2H5)4の0.1mol/l のエタノ
ール溶液50mlをゆっくり加え、さらに2時間撹拌し
た。この溶液を70mlまで濃縮し、溶液の粘度を40
cpsとした。これを液晶パネルの透明電極上に印刷塗
布し、250℃で1時間熱処理した。図1はこの方法で
作成した液晶パネルである。ここで、1はガラス基板、
2は透明電極、3は本発明で作成した無機絶縁膜、4は
液晶層、5はシ−ル材、6はPIQの配向膜である。上
記した手法で作成した無機絶縁膜の屈折率は1.75 で
あった。この無機絶縁膜の構造を赤外吸収スペクトルで
解析したところSi−O−Ti/Si−O−SiとSi
−O−Ti/Ti−O−Tiのピ−ク面積強度比は、そ
れぞれ0.21,1.91であった。また、組成が均一な
ため液晶パネルを作成しても画素むらはみられなかっ
た。
ol/lのエタノール溶液50mlにH2O の0.1m
ol/lのエタノール溶液50mlとHClの0.05
mol/lエタノール溶液0.5mlを加え、3時間撹
拌した。この溶液にTi(OC2H5)4の0.1mol/
l のエタノール溶液50mlをゆっくり加え、さらに
2時間撹拌した。この溶液を70mlまで濃縮し、溶液
の粘度を40cpsとした。これを液晶パネルの透明電
極上に印刷塗布し、254nmの光を10分間照射し
た。ついで、オゾン10ppmを膜上に曝した(この時
184nmの光を照射してオゾンを発生させても良
い)。光照射する過程で加熱ステ−ジを用いて100℃
に加熱するとさらに密着強度の良い良質な絶縁膜が得ら
れた。この無機絶縁膜の構造を赤外吸収スペクトルで解
析したところSi−O−Ti/Si−O−SiとSi−
O−Ti/Ti−O−Tiのピーク面積強度比は、それ
ぞれ0.25,2.05であった。
低温で作製できる。また、均質な多成分系絶縁膜を作製
することができる。このため、高性能,高画質の液晶パ
ネルを得ることができる。
造を示す図である。
液晶層、5…シール材。
Claims (6)
- 【請求項1】液晶を封入する基板の内側に形成された透
明電極間の短絡を防止する絶縁膜であって、酸化ケイ
素,酸化チタンからなり、前記透明電極と屈折率が一致
し、赤外吸収スペクトルにおいてSi−O−Ti/Si
−O−SiとSi−O−Ti/Ti−O−Tiとのピ−
ク面積強度比がそれぞれ0.14,1.30以上であるこ
とを特徴とする液晶用絶縁膜。 - 【請求項2】前記絶縁膜が、屈折率1.7−1.8の無機
物により作製されたことを特徴とする請求項1記載の液
晶用絶縁膜。 - 【請求項3】液晶を封入する二枚の基板の内側に透明電
極を設けた後、該透明電極間の短絡を防止するための絶
縁膜を形成する方法において、該絶縁膜をゾルゲル法で
塗布し、350℃以下の温度で熱処理することを特徴と
する液晶用絶縁膜の形成方法。 - 【請求項4】液晶を封入する二枚の基板の内側に透明電
極を設けた後、該透明電極間の短絡を防止するための絶
縁膜を形成する方法において、該絶縁膜をゾルゲル法で
塗布し、光照射することを特徴とする液晶用絶縁膜の形
成方法。 - 【請求項5】液晶を封入する二枚の基板の内側に透明電
極を設けた後、該透明電極間の短絡を防止するための絶
縁膜を形成する方法において、該絶縁膜をゾルゲル法で
塗布し、光照射するとともに350℃以下の温度で熱処
理することを特徴とする液晶用絶縁膜の形成方法。 - 【請求項6】オゾンを発生させる工程を含むことを特徴
とする請求項3乃至5記載の液晶用絶縁膜の形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3235950A JP2956305B2 (ja) | 1991-09-17 | 1991-09-17 | 液晶用絶縁膜及びその形成方法 |
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JP3235950A JP2956305B2 (ja) | 1991-09-17 | 1991-09-17 | 液晶用絶縁膜及びその形成方法 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0572521A JPH0572521A (ja) | 1993-03-26 |
JP2956305B2 true JP2956305B2 (ja) | 1999-10-04 |
Family
ID=16993619
Family Applications (1)
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JP3235950A Expired - Lifetime JP2956305B2 (ja) | 1991-09-17 | 1991-09-17 | 液晶用絶縁膜及びその形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2956305B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009163228A (ja) * | 2007-12-10 | 2009-07-23 | Canon Inc | 酸化物膜、酸化物膜形成用塗布液、酸化物膜を用いた光学部材、およびそれらの製造方法 |
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JP3817749B2 (ja) * | 1994-03-17 | 2006-09-06 | 日産化学工業株式会社 | 紫外線照射によるシリカ含有無機酸化物被膜のパターン形成用コーティング剤及びパターン形成方法 |
TW200742610A (en) * | 2006-05-10 | 2007-11-16 | Tpk Touch Solutions Inc | Method of hiding transparent electrodes on a transparent substrate |
JP5030708B2 (ja) * | 2007-08-29 | 2012-09-19 | 株式会社飯沼ゲージ製作所 | 薄膜形成装置の振動計測および検査方法 |
-
1991
- 1991-09-17 JP JP3235950A patent/JP2956305B2/ja not_active Expired - Lifetime
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JP2009163228A (ja) * | 2007-12-10 | 2009-07-23 | Canon Inc | 酸化物膜、酸化物膜形成用塗布液、酸化物膜を用いた光学部材、およびそれらの製造方法 |
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JPH0572521A (ja) | 1993-03-26 |
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