JP2950530B2 - 露光装置 - Google Patents

露光装置

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JP2950530B2
JP2950530B2 JP5115225A JP11522593A JP2950530B2 JP 2950530 B2 JP2950530 B2 JP 2950530B2 JP 5115225 A JP5115225 A JP 5115225A JP 11522593 A JP11522593 A JP 11522593A JP 2950530 B2 JP2950530 B2 JP 2950530B2
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井 章 永
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KYANON KONHOONENTSU KK
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ADOTETSUKU ENJINIARINGU KK
KYANON KONHOONENTSU KK
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716Stages

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】露光装置は半導体ウエハや回路基板に所
定の回路等を焼き付けるために、使用されており、回路
基板などのワークを露光ステージ上に載置して焼き付け
を行うようになっている。該露光ステージは複数に分割
され、各ステージの間には所定の間隙が設けられ、この
間隙にワークを搬送するための搬送ベルトや、ワークの
位置決めを行うための位置決めピン等が設置されてい
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし上記した従来の
露光ステージでは間隙の上にワークが掛かるため、ワー
クの平坦度が悪くなる問題があった。また、フォトツー
ルを基板に加圧密着させる方式の場合には、その圧力を
基板のみで受けることになり、そのため基板が変形しや
すくなる等の問題があった。近年回路基板などが薄くな
る傾向にあり、これらの問題が大きくなってきている。
本発明は上記した従来技術の問題点を解決することを目
的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、所定の間隙を設けて配置された複数の露光
ステージと、該所定の間隙内に設けられ、ワークを移動
するための手段と、を備えた露光装置において、前記露
光ステージの1つ以上を移動可能に設置し、露光時に該
露光ステージを移動させて前記間隙を閉鎖することを特
徴とする。
【0005】
【作用】所定の間隙を設けて配置された複数の露光ステ
ージの1つ以上を移動可能に設置し、露光時に該露光ス
テージを移動させて、露光ステージ間の前記間隙を閉鎖
する。
【0006】
【実施例】以下本発明の実施例を図面に基づいて説明す
る。図1において、この露光装置はそれぞれ分離した7
つの露光ステージを備えている。ほぼ中央部にX方向に
横長に設けられた中央露光ステージ1を挟んで、同一の
構造を有する4つの隅部露光ステージ2a、b、c、d
が4隅に配置され、また中央露光ステージ1を挟んで中
央部に同一の構造の中間部露光ステージ3aと中間部露
光ステージ3bが配設されている。各露光ステージの間
には所定の間隙が形成されており、該間隙に搬送ベルト
6とX方向位置決めピン7及びY方向位置決めピン8が
設置されている。
【0007】中央露光ステージ1は固定で移動せず、中
間部露光ステージ3abはY方向にのみ移動可能になっ
ている。また隅部露光ステージ2a、b、c、dはX方
向及びY方向に移動可能に構成され、各露光ステージ間
に形成された隙間を閉鎖できるようになっている。
【0008】中央露光ステージ1の両脇の間隙にはX方
向に伸びる一対の搬送ベルト6、6が設けられており、
この搬送ベルト6により回路パターンを露光される回路
基板であるワークWが搬送されるようになっている。ま
た、該それぞれの搬送ベルト6、6の近傍にはX方向に
移動可能な一対のX方向位置決めピン7が、合計4個設
けられており、このX方向位置決めピン7によりワーク
WのX方向の位置決めを行うようになっている。更に隅
部露光ステージ2と中間部露光ステージ3の間の間隙に
はY方向に移動可能なY方向位置決めピン8が合計4個
設けられており、ワークWのY方向の位置決めを行うよ
うになっている。
【0009】隅部露光ステージ2は図2に示すように、
Y方向スライドプレート20上にX方向リニアガイド2
1を介してX方向移動可能に載置されている。またY方
向スライドプレート20は基台9上にY方向リニアガイ
ド22を介してY方向に移動可能に載置されている。該
Y方向スライドプレート20がY方向に移動し、このY
方向スライドプレート20上をX方向に移動することに
より、隅部露光ステージ2はX方向及びY方向に移動可
能になっている。各隅部露光ステージ2a、b、c、d
は同一の構成になっている。Y方向スライドプレート2
0と中間部露光ステージ3の間には所定の間隙が設けら
れており、隅部露光ステージ2がX方向に移動して中間
部露光ステージ3に密着しても、該間隙を維持して後述
するようにY方向位置決めピン8を該間隙に収納するよ
うになっている。中間部露光ステージ3は基台9上にY
方向リニアガイド30を介してY方向にのみ移動可能に
載置されている。25はY方向に移動させるためのアク
チュエータ、26はX方向に移動させるためのアクチュ
エータである。
【0010】図2において、隅部露光ステージ2cは中
間部露光ステージ3と離れている状態を示しており、隅
部露光ステージ2dはX方向に移動して中間部露光ステ
ージ3と密着して、その間の間隙を閉鎖した状態を示し
ている。
【0011】なお、この実施例では基台9は上下方向に
昇降可能に構成されており、基台9が下がった状態では
Y方向位置決めピン8及びX方向位置決めピン7と搬送
ベルト6は各露光ステージの上方に露出し、基台9が上
がった状態では、これらは露光ステージ間の間隙に収納
されるようになっている。図2において隅部露光ステー
ジ2dは間隙を閉塞し、その内部にY方向位置決めピン
8が格納されている状態が示されている。なお、基台9
を昇降させずに、X方向位置決めピン7、Y方向位置決
めピン8及び搬送ベルト6を昇降させるようにしても良
い。
【0012】図3に示すように、中央露光ステージ1は
基台9に直接固定されており、移動しないようになって
いる。該中央露光ステージ1、隅部露光ステージ2及び
中間部露光ステージ3の表面全体には吸着用孔5が開口
しており、ワークWをここに吸着するようになってい
る。
【0013】図3において、隅部露光ステージ2dはY
方向に移動して中央露光ステージ1に密着し、中央露光
ステージ1との間隙を閉鎖した状態を示しており、隅部
露光ステージ2bは移動せずに、間隙を維持した状態を
示している。Y方向スライドプレート20と中央露光ス
テージ1との間にも所定の間隙が設けられており、隅部
露光ステージ2がY方向に移動して中央露光ステージ1
に密着しても、該間隙を維持し、搬送ベルト6とX方向
位置決めピン7を該間隙に収納するようになっている。
図3において、中央露光ステージ1に密着した隅部露光
ステージ2dの下側には間隙が維持され、ここに搬送ベ
ルト6とX方向位置決めピン7が収納された状態が示さ
れている。
【0014】次に動作を説明する。当初基台9を下降さ
せておき、搬送ベルト6及びX方向位置決めピン7とY
方向位置決めピン8をステージ上に露出させ、搬送ベル
ト6によりワークWを搬送し、中央露光ステージ1のほ
ぼ中央部まで移送する。そして、X方向位置決めピン7
とY方向位置決めピン8によりワークWを位置決めし、
中央露光ステージ1の表面に開口している吸着用孔5に
よりワークWの中央部を吸着させて位置を固定する。そ
して位置決めピン7、8を退避させてから、基台9を上
昇させて、搬送ベルト6とX方向位置決めピン7および
Y方向位置決めピン8を各ステージの間隙内に格納す
る。この状態でワークWは中央露光ステージ1と隅部露
光ステージ2および中間部露光ステージ3上に載置さ
れ、各ステージ間の間隙に掛かっている。基台9を上昇
させたら、隅部露光ステージ2をX方向及びY方向に移
動させ、中央露光ステージ1と中間部露光ステージ3に
密着させる。同時に中間部露光ステージ3をY方向に移
動させ、中央露光ステージ1に密着させ、吸着用孔5に
よりワークW全体を吸着させて固定する。図4は隅部露
光ステージ2と中間部露光ステージ3を移動させて、各
露光ステージを密着させた状態を示す。この移動により
各ステージ間の間隙は完全に閉鎖され、ワークWは間隙
のない一枚の平坦なステージ上に載置された状態にな
る。この状態で所定の露光動作を実行する。この時、ワ
ークWは完全に一枚のステージ上に載っているため、平
坦度が良く、変形などが生じない。そのため、精度の良
い露光が実現できる。
【0015】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、所定の間
隙を設けて配置された複数の露光ステージと、該所定の
間隙内に設けられ、ワークWを移動するための手段と、
を備えた露光装置において、前記露光ステージの1つ以
上を移動可能に設置し、露光時に該露光ステージを移動
させて前記間隙を閉鎖するようにしているため、ワーク
Wに変形等が生じることなく、精度の高い露光を行える
効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す平面図。
【図2】本発明の一実施例を示す正面図。
【図3】本発明の一実施例を示す右側面図。
【図4】本発明の一実施例の動作を示す平面図。
【符号の説明】
1:中央露光ステージ、2:隅部露光ステージ、3:中
間部露光ステージ、5:吸着用孔、6:搬送ベルト、
7:X方向位置決めピン、8:Y方向位置決めピン、
9:基台、20:Y方向スライドプレート、21:X方
向リニアガイド、22:Y方向リニアガイド、25と2
6:アクチュエータ、30:Y方向リニアガイド。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 21/027 G03F 7/20 - 7/24 G03F 9/00 - 9/02

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所定の間隙を設けて配置された複数の露
    光ステージと、 該所定の間隙内に設けられ、ワークを移動するための手
    段と、 を備えた露光装置において、 前記露光ステージの1つ以上を移動可能に設置し、露光
    時に該露光ステージを移動させて前記間隙を閉鎖する、 ことを特徴とする露光装置。
  2. 【請求項2】 移動可能な露光ステージがX方向とY方
    向に移動可能である、 請求項1に記載の露光装置。
  3. 【請求項3】 ワークを移動するための手段が、ワーク
    を移動するベルトコンベアを含む、請求項1に記載の露
    光装置。
  4. 【請求項4】 ワークを移動するための手段と、露光ス
    テージとが相対的に昇降可能である、 請求項1に記載の露光装置。
  5. 【請求項5】 中央部に配設された固定の中央露光ステ
    ージと、 該中央露光ステージの周囲に所定の間隙を設けて配置さ
    れ、中央露光ステージに密接するように移動可能な複数
    の露光ステージと、 前記固定の中央露光ステージと移動可能な複数の露光ス
    テージに設けられ、ワークを吸着固定するための手段
    と、 前記所定の間隙内に設けられ、ワークを移動するための
    手段と、 を備えたことを特徴とする露光装置。
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