JP2940681B2 - 光磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
光磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JP2940681B2 JP2940681B2 JP1302511A JP30251189A JP2940681B2 JP 2940681 B2 JP2940681 B2 JP 2940681B2 JP 1302511 A JP1302511 A JP 1302511A JP 30251189 A JP30251189 A JP 30251189A JP 2940681 B2 JP2940681 B2 JP 2940681B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- magneto
- optical recording
- recording medium
- present
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明の情報の書換え可能な光磁気記録媒体の製造方
法に関する。
法に関する。
〔従来技術〕 一般にこの種の光磁気記録媒体は、一定方向に磁界を
印加しつつ光磁気記録材料をガラス基板面に磁化の方向
を揃えた状態で膜付けして構成し、記録はレーザ光スポ
ットを膜面に照射して加熱し、その部分の磁化の方向を
周辺磁界によって逆転させることにより、また再生は記
録面に直線偏光のレーザ光スポットを照射し、記録部で
生じる反射光の偏光面の回転を検光子を通して光強度の
変化として検出することにより夫々行っている。
印加しつつ光磁気記録材料をガラス基板面に磁化の方向
を揃えた状態で膜付けして構成し、記録はレーザ光スポ
ットを膜面に照射して加熱し、その部分の磁化の方向を
周辺磁界によって逆転させることにより、また再生は記
録面に直線偏光のレーザ光スポットを照射し、記録部で
生じる反射光の偏光面の回転を検光子を通して光強度の
変化として検出することにより夫々行っている。
ところでこの種の光磁気記録媒体においては、その光
磁気記録特性を維持するうえで材料の酸化防止が重要な
課題の一つとなっているが、このような材料の酸化に対
する配慮が不要な構造として従来プラチナ（Pt）層とコ
バルト（Co）層とを交互に多層に積層した構造のものが
知られている（Applied Physics Letter 54（24） June
1989 2481〜2483頁）。
磁気記録特性を維持するうえで材料の酸化防止が重要な
課題の一つとなっているが、このような材料の酸化に対
する配慮が不要な構造として従来プラチナ（Pt）層とコ
バルト（Co）層とを交互に多層に積層した構造のものが
知られている（Applied Physics Letter 54（24） June
1989 2481〜2483頁）。
この光磁気記録媒体はガラス製の基板表面に直接、又
はSiN膜を介在させて蒸着法により厚さ19ÅのPt層，厚
さ4.1ÅのCo層を交互に複数回（21回）繰り返し積層し
て製造されている。このようなPt層とCo層との積層膜を
持つ磁気記録媒体は、一般的に性能指数 （R:反射率，θK:カー回転角）が高く、また耐食性に優
れ、他のTbFeCo層、或いは希土類元素の金属−遷移金属
アモルファス合金等を用いた光磁気記録媒体に劣らぬ特
性を示し、しかもこれら材料の欠点である耐食性にも優
れ、その上同じ熱磁気特性を持つためこれらと同じ記
録，再生装置を適用出来る等の利点を有している。
はSiN膜を介在させて蒸着法により厚さ19ÅのPt層，厚
さ4.1ÅのCo層を交互に複数回（21回）繰り返し積層し
て製造されている。このようなPt層とCo層との積層膜を
持つ磁気記録媒体は、一般的に性能指数 （R:反射率，θK:カー回転角）が高く、また耐食性に優
れ、他のTbFeCo層、或いは希土類元素の金属−遷移金属
アモルファス合金等を用いた光磁気記録媒体に劣らぬ特
性を示し、しかもこれら材料の欠点である耐食性にも優
れ、その上同じ熱磁気特性を持つためこれらと同じ記
録，再生装置を適用出来る等の利点を有している。
ところでこのような従来品にあては、Pt層、Co層等は
いずれも蒸着法によって形成されているが、蒸着法では
製作条件の安定性が悪く、また製造コストも高くなると
いう難点がある。
いずれも蒸着法によって形成されているが、蒸着法では
製作条件の安定性が悪く、また製造コストも高くなると
いう難点がある。
そこで本発明者等は蒸着法に代えてスパッタ法を用い
て基板上にPt等の白金族元素の金属層と、Co等の遷移金
属層とを交互に積層した積層膜の形成を試みたところ、
得られた光磁気記録媒体におけるカーヒステリシスルー
プの角形比、垂直磁気異方性等の磁気光学効果が蒸着法
を用いて製作した光磁気記録媒体のそれに及ばないこと
が解った。
て基板上にPt等の白金族元素の金属層と、Co等の遷移金
属層とを交互に積層した積層膜の形成を試みたところ、
得られた光磁気記録媒体におけるカーヒステリシスルー
プの角形比、垂直磁気異方性等の磁気光学効果が蒸着法
を用いて製作した光磁気記録媒体のそれに及ばないこと
が解った。
そこで本発明者等はこれを改善すべく種々の実験，研
究を行った結果、積層膜を形成する下地層の表面にエッ
チング処理を施すのが磁気光学効果の改善に極めて効果
的であることを知見した。
究を行った結果、積層膜を形成する下地層の表面にエッ
チング処理を施すのが磁気光学効果の改善に極めて効果
的であることを知見した。
本発明はかかる知見に基づきなされたものであって、
その目的とするところは蒸着法に依り製造した場合に劣
らぬ磁気光学特性が得られる光磁気記録媒体を製造する
方法を提供するにある。
その目的とするところは蒸着法に依り製造した場合に劣
らぬ磁気光学特性が得られる光磁気記録媒体を製造する
方法を提供するにある。
本発明に係る光磁気記録媒体の製造方法は、下地層表
面にエッチング処理を施した後、遷移金属又はこれと白
金族元素の金属との合金層と、白金族元素の金属又はこ
れを含む合金層とを交互に積層してなる積層膜を形成す
る過程を含むことを特徴とする。
面にエッチング処理を施した後、遷移金属又はこれと白
金族元素の金属との合金層と、白金族元素の金属又はこ
れを含む合金層とを交互に積層してなる積層膜を形成す
る過程を含むことを特徴とする。
本発明にあってはこれによってスパッタ法を用いて高
い角形比、垂直磁気異方性をもつ積層膜が得られる。
い角形比、垂直磁気異方性をもつ積層膜が得られる。
以下本発明を図面に基づき具体的に説明する。第１図
は本発明に係る光磁気記録媒体の製造方法の主要工程で
あるスパッタ工程の説明図であり、図中１は真空槽を示
している。真空槽１はその一側壁にはArガスの供給系に
接続されたガス導入口1a、が、また他側壁には排気ポン
プＰに接続されたガス排出口1bが設けられている。真空
槽１の内側下部には隔壁1cで仕切られた片側にPtターゲ
ット２を載置するカソード４が、また他の片側にCoター
ゲット３を載置するカソード４が夫々配設され、一方真
空槽１の上部中央には円板形をなす基板ホルダ５が軸支
され、その下面に基板11を装着するようになっている。
は本発明に係る光磁気記録媒体の製造方法の主要工程で
あるスパッタ工程の説明図であり、図中１は真空槽を示
している。真空槽１はその一側壁にはArガスの供給系に
接続されたガス導入口1a、が、また他側壁には排気ポン
プＰに接続されたガス排出口1bが設けられている。真空
槽１の内側下部には隔壁1cで仕切られた片側にPtターゲ
ット２を載置するカソード４が、また他の片側にCoター
ゲット３を載置するカソード４が夫々配設され、一方真
空槽１の上部中央には円板形をなす基板ホルダ５が軸支
され、その下面に基板11を装着するようになっている。
各カソード４には夫々直流電源6,7が、また基板ホル
ダ５の軸5aにはコンデンサ８を介在させて高周波電源９
が接続されている。
ダ５の軸5aにはコンデンサ８を介在させて高周波電源９
が接続されている。
基板11は透光性材料である、例えばガラス等を用いて
構成されている。
構成されている。
下地層である基板11表面のエッチングは、まず基板ホ
ルダ５の下面に基板11を装着し、真空槽１内を所定圧力
に減圧した後、Arガス供給系から真空槽１内にArガスを
供給し、スイッチSWをオフとしてコンデンサ８を介して
高周波電源（300W）９の電圧を印加して５分間エッチン
グ処理する。これによって基板11の表面は100Å程度エ
ッチング除去されて、表面が平滑化、清浄化された状態
となる。基板11表面に対するエッチング処理は別途用意
したエッチング装置を用いてもよい。
ルダ５の下面に基板11を装着し、真空槽１内を所定圧力
に減圧した後、Arガス供給系から真空槽１内にArガスを
供給し、スイッチSWをオフとしてコンデンサ８を介して
高周波電源（300W）９の電圧を印加して５分間エッチン
グ処理する。これによって基板11の表面は100Å程度エ
ッチング除去されて、表面が平滑化、清浄化された状態
となる。基板11表面に対するエッチング処理は別途用意
したエッチング装置を用いてもよい。
次に真空槽１内部の空気を排気し、内部を所定の圧力
に設定した後、スイッチSWをオンし、基板ホルダ５を接
地し、基板ホルダ５を回転させつつ、各カソード４に直
流電源6,7の直流電圧を印加する。
に設定した後、スイッチSWをオンし、基板ホルダ５を接
地し、基板ホルダ５を回転させつつ、各カソード４に直
流電源6,7の直流電圧を印加する。
これによってPtターゲット2,Coターゲット３がスパッ
タされ、ターゲットされた材料は基板11表面に導かれ、
基板11が遮蔽板1cで区分された片側の領域内を移動する
過程ではPtターゲット２のスパッタによりPt層が、また
他の領域内を移動する過程ではCoターゲット３のスパッ
タによりCo層が夫々基板11表面に基板ホルダ５の回転に
よって交互に積層形成されることとなる。
タされ、ターゲットされた材料は基板11表面に導かれ、
基板11が遮蔽板1cで区分された片側の領域内を移動する
過程ではPtターゲット２のスパッタによりPt層が、また
他の領域内を移動する過程ではCoターゲット３のスパッ
タによりCo層が夫々基板11表面に基板ホルダ５の回転に
よって交互に積層形成されることとなる。
第２図は上述の如き方法で得た光磁気記録媒体の部分
拡大断面図であり、基板11上に、数原子層乃至数十原子
層のPt層12,数原子層のCo層13を交互に繰り返し積層し
て構成した積層膜14を形成した構造となっている。
拡大断面図であり、基板11上に、数原子層乃至数十原子
層のPt層12,数原子層のCo層13を交互に繰り返し積層し
て構成した積層膜14を形成した構造となっている。
第３図は上記した本発明方法により製造した光磁気記
録媒体のカーヒステリシスルプープを示すグラフであ
る。第５図は基板表面にエッチング処理を施さずに直接
Co層,Pt層を交互に積層して得た光磁気記録媒体のカー
ヒステリシスループを示すグラフである。第3.5図を比
較すれば明らかな如く、カー回転角は両者共に夫々0.22
deg程度で変わりないが、角形比についてみると本発明
方法に依った場合には略100％であるのに対し、従来方
法に依った場合はループが傾斜した状態になっているた
め角形比は100％に達せず記録時における磁化の磁化反
転のスイッチング特性が悪く、記録ドメインに変形が生
じることが予測される。また垂直磁気異方性は従来方法
に依った場合には4.25×105erg/ccであったが本発明方
法に依った場合は8.5×105erg/ccであり、大幅に向上す
ることが確認された。
録媒体のカーヒステリシスルプープを示すグラフであ
る。第５図は基板表面にエッチング処理を施さずに直接
Co層,Pt層を交互に積層して得た光磁気記録媒体のカー
ヒステリシスループを示すグラフである。第3.5図を比
較すれば明らかな如く、カー回転角は両者共に夫々0.22
deg程度で変わりないが、角形比についてみると本発明
方法に依った場合には略100％であるのに対し、従来方
法に依った場合はループが傾斜した状態になっているた
め角形比は100％に達せず記録時における磁化の磁化反
転のスイッチング特性が悪く、記録ドメインに変形が生
じることが予測される。また垂直磁気異方性は従来方法
に依った場合には4.25×105erg/ccであったが本発明方
法に依った場合は8.5×105erg/ccであり、大幅に向上す
ることが確認された。
〔実施例２〕 この実施例にあってはガラス製の基板表面に厚さ800
Åで下地層である炭化ケイ素（SiN）膜を形成し、この
炭化ケイ素膜表面にエッチング処理を施した後、Pt層,C
o層を交互に積層して積層膜を設けるプロスセで光磁気
記録媒体を製造した。
Åで下地層である炭化ケイ素（SiN）膜を形成し、この
炭化ケイ素膜表面にエッチング処理を施した後、Pt層,C
o層を交互に積層して積層膜を設けるプロスセで光磁気
記録媒体を製造した。
第４図は本発明の実施例２により製造した光磁気記録
媒体の部分断面構造図であり、ガラス製の基板21上に、
厚さ1000ÅのSiN膜22を積層し、SiN膜25の表面を、200W
の高周波電力で10分間、エッチング処理を施し、略200
Å相当分をエッチング除去した後、Pt層22,Co層23を交
互に積層形成して積層膜24を形成した。
媒体の部分断面構造図であり、ガラス製の基板21上に、
厚さ1000ÅのSiN膜22を積層し、SiN膜25の表面を、200W
の高周波電力で10分間、エッチング処理を施し、略200
Å相当分をエッチング除去した後、Pt層22,Co層23を交
互に積層形成して積層膜24を形成した。
第５図は実施例２のカーヒステリシスループを示すグ
ラフであり、また第７図はガラス製の基板表面にSiN膜
を形成し、その表面に対するエッチング処理を施すこと
なく、Pt層、Co層からなる積層膜を形成して得た光磁気
記録媒体のカーヒステリシスループを示すグラフであ
る。
ラフであり、また第７図はガラス製の基板表面にSiN膜
を形成し、その表面に対するエッチング処理を施すこと
なく、Pt層、Co層からなる積層膜を形成して得た光磁気
記録媒体のカーヒステリシスループを示すグラフであ
る。
両者を対比すれば明らかな如く、従来方法に依った場
合にはカーヒステリシスループの傾斜が著しいのに対
し、本発明方法に依った場合には角形比が略100％とな
っており、磁気光学効果が著しく改善されていることが
解る。
合にはカーヒステリシスループの傾斜が著しいのに対
し、本発明方法に依った場合には角形比が略100％とな
っており、磁気光学効果が著しく改善されていることが
解る。
また垂直磁気異方性は従来方法に依った場合には1.5
×105erg/cc程度であったが、本発明方法に依った場合
には8.75×105erg/ccとなり、大幅に向上していること
が確認された。
×105erg/cc程度であったが、本発明方法に依った場合
には8.75×105erg/ccとなり、大幅に向上していること
が確認された。
なお上述の実施例1,2ではいずれもPt層とCo層とを交
互に積層する構成について説明したが、何らこれに限る
ものではなく、例えばPb層とCo層、Pb層とFe層、Pb層と
Ni層等白金族元素の金属単体層と遷移金属単体との組み
合わせ，或いはPt−Pb合金層とCo層,Pt層とPb−Co合金
層,Pb−Pt合金層とFe−Co合金層,Pt−Fe合金層とPb−Co
合金層等、白金族元素の金属と白金族元素の金属相互合
金層、又は白金族元素の金属相互の合金層と白金族元素
の金属と遷移金属との合金層、又は白金族元素の合金層
と遷移金属単体層等の組み合わせにも適用し得ることは
勿論である。
互に積層する構成について説明したが、何らこれに限る
ものではなく、例えばPb層とCo層、Pb層とFe層、Pb層と
Ni層等白金族元素の金属単体層と遷移金属単体との組み
合わせ，或いはPt−Pb合金層とCo層,Pt層とPb−Co合金
層,Pb−Pt合金層とFe−Co合金層,Pt−Fe合金層とPb−Co
合金層等、白金族元素の金属と白金族元素の金属相互合
金層、又は白金族元素の金属相互の合金層と白金族元素
の金属と遷移金属との合金層、又は白金族元素の合金層
と遷移金属単体層等の組み合わせにも適用し得ることは
勿論である。
以上の如く本発明にあっては、製作条件が安定して製
造の容易なスパッタ法を用いて、積層膜を形成すること
が可能となり、しかも高い磁気光学特性が得られ、製造
コストの低減が図れる等本発明は優れた効果を奏するも
のである。
造の容易なスパッタ法を用いて、積層膜を形成すること
が可能となり、しかも高い磁気光学特性が得られ、製造
コストの低減が図れる等本発明は優れた効果を奏するも
のである。
第１図は本発明方法の実施に用いるスパッタ法の実施状
態を示す模式図、第２図は本発明方法により製造した光
磁気記録媒体の部分拡大断面図、第３図は本発明方法に
より得た光磁気記録媒体のカーヒステリシスループを示
すグラフ、第４図は本発明の他の実施例により製造した
光磁気記録媒体の部分拡大断面図、第５図は本発明方法
により得た光磁気記録媒体のカーヒステリシスループを
示すグラフ、第6,7図は従来方法により得た光磁気記録
媒体のカーヒステリシスループを示すグラフである。 １……真空槽、２……Ptターゲット、３……Coターゲッ
ト、４……カソード、５……基板ホルダ、6,7……直流
電源、９……高周波電源、11……基板、12……Pt層、13
……Co層、14……積層膜、21……基板、22……Pt層、23
……Co層、24……積層膜、25……SiN膜
態を示す模式図、第２図は本発明方法により製造した光
磁気記録媒体の部分拡大断面図、第３図は本発明方法に
より得た光磁気記録媒体のカーヒステリシスループを示
すグラフ、第４図は本発明の他の実施例により製造した
光磁気記録媒体の部分拡大断面図、第５図は本発明方法
により得た光磁気記録媒体のカーヒステリシスループを
示すグラフ、第6,7図は従来方法により得た光磁気記録
媒体のカーヒステリシスループを示すグラフである。 １……真空槽、２……Ptターゲット、３……Coターゲッ
ト、４……カソード、５……基板ホルダ、6,7……直流
電源、９……高周波電源、11……基板、12……Pt層、13
……Co層、14……積層膜、21……基板、22……Pt層、23
……Co層、24……積層膜、25……SiN膜
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平３−122846（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−251356（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−243150（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−16439（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G11B 11/10
Claims (1)
- 【請求項１】基板上に下地層を形成する第１の工程と、 前記第１の工程で形成された前記下地層表面にエッチン
グ処理を施し、前記下地層を所定の膜厚だけ除去する第
２の工程と、 前記第２の工程後、遷移金属又はこれと白金族元素の金
属との合金層と、白金族元素の金属又はこれを含む合金
層とを交互に積層してなる積層膜をスパッタリング法に
より形成する第３の工程とを含むことを特徴とする光磁
気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1302511A JP2940681B2 (ja) | 1989-11-20 | 1989-11-20 | 光磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1302511A JP2940681B2 (ja) | 1989-11-20 | 1989-11-20 | 光磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03162739A JPH03162739A (ja) | 1991-07-12 |
| JP2940681B2 true JP2940681B2 (ja) | 1999-08-25 |
Family
ID=17909846
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1302511A Expired - Fee Related JP2940681B2 (ja) | 1989-11-20 | 1989-11-20 | 光磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2940681B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2662389B2 (ja) * | 1986-04-15 | 1997-10-08 | シャープ株式会社 | 磁気光学記憶素子の製造方法 |
| JPS6316439A (ja) * | 1986-07-08 | 1988-01-23 | Canon Inc | 光学的磁気記録媒体の製造法 |
| JP2701337B2 (ja) * | 1987-12-29 | 1998-01-21 | ソニー株式会社 | 光磁気記録媒体 |
| JPH03122846A (ja) * | 1989-10-05 | 1991-05-24 | Sony Corp | 光磁気記録媒体 |
-
1989
- 1989-11-20 JP JP1302511A patent/JP2940681B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03162739A (ja) | 1991-07-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5514477A (en) | Corrosion-resistant laminate which consists of a metal of a single mass number deposited on a substrate | |
| JPH05504993A (ja) | 磁気光学記録用多層体をスパッターする方法 | |
| JP2940681B2 (ja) | 光磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH06131658A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2001256619A (ja) | 磁気抵抗効果型ヘッド及びそれを用いた磁気記録再生装置 | |
| JP3133443B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH0673197B2 (ja) | 光磁気記録媒体とその製造方法 | |
| JPH04500879A (ja) | 熱光磁気記録要素の製造方法 | |
| JPS6052919A (ja) | 垂直磁気記録体及びその製造方法 | |
| JP3093389B2 (ja) | 光磁気メモリ素子の製造方法 | |
| JPH02148417A (ja) | 垂直磁気記録媒体の作製方法 | |
| JPH05174436A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH05334670A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JP4354658B2 (ja) | 光磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH04258828A (ja) | 光磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH04242912A (ja) | 光磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH07111791B2 (ja) | 光磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH03162740A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH0757261A (ja) | 磁気記録媒体及び磁気ヘッド並びにその製造方法及び製造装置 | |
| JPH0729142A (ja) | 薄膜磁気記録媒体及びその製造方法と記憶装置 | |
| JPH0554445A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH1166558A (ja) | 磁気ディスクの作製方法 | |
| JPH0196823A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH06131628A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製法 | |
| JPH05234053A (ja) | 垂直磁化膜 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |