JP2925200B2 - エチレン性不飽和の共重合可能な感放射線性有機化合物およびその製造法 - Google Patents
エチレン性不飽和の共重合可能な感放射線性有機化合物およびその製造法Info
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Description
フェノン誘導体およびその製造法に関する。
々、所謂外部開始剤として感放射線性重合体に添加され
ている(例えば、G.Li Bassi,J.Rad.Cur.14,18(198
7))。しかし、一般にこのような作業法は、必ずしも
完全には満足できるものではない。それというのも、重
合体との混合後に認容性、分配の均一性、揮発性、臭
い、毒性、添加剤の滲出および移動の問題が起こり、こ
れらの問題は、屡々、望ましくない早期の不均一の反応
をまねくからである。更に、実際の露光過程の場合に
は、低い開始剤有効濃度のために僅かな反応性が観察さ
れ、ならびに露光後に一連の支障ある副反応が観察され
る。
と、常法により共重合し、すなわち重合体鎖中に導入す
ることにより解決することができることは、公知であ
る。感放射輝性光開始剤は、原重合体に対して固定基
(Ankergruppe)、所謂スペーサーと関連する。更に、
スペーサーは、開始剤の光化学的挙動に対する原重合体
の影響を減少させるために使用される。
有する: 米国特許第3214492号明細書、同第3429852号明細書、
同第3622848号明細書および同第4304895号明細書には、
アクリルオキシ基またはメタクリルオキシ基で置換され
たアセトフェノン誘導体およびベンゾフェノン誘導体、
例えば が記載されている。該誘導体は、エチレンまたは別のビ
ニル単量体と共重合されていてもよい。この場合には、
例えば熱変形後に照射によって硬化される重合体が生じ
る。反応式Iの型の範囲内で、この感放射線性単量体の
場合に、反応性二重結合と開始剤は、スペーサーとして
のカルボニルオキシ基によって分離される。光化学的視
点から見て、この化合物は、殆ど重要ではない。それと
いうのも、アクリロイル置換基は、なお極めて強く開始
剤断片の長波長の吸収に影響を及ぼすからである。
クリレート: の場合にもドイツ連邦共和国特許出願公開第3534645号
明細書の記載から観察することができ、この場合この光
反応性は、カルボニル基に対してα−位の炭素原子につ
いて反応性のアクリレート基の狭すぎるカップリングに
よって減少される。この挙動の原因は、光化学的に開始
されたα−分割の場合にベンゾイル基とともに他の僅か
にのみ反応性のラジカルが形成されることに認めること
ができる。
本質的に減少させないために、光開始剤部分の反応性二
重結合は、共鳴状態で誘導的に分離しなければならな
い。
なお完全には成功していない。メチルメタクリレートと
の共重合体は、2−ヒドロキシチオキサントンの場合よ
りも僅かな反応性である。
記載された4−(4′−ビニルベンジルオキシ)ベンゾ
フェノン: の場合、スチリルベンジルオキシ基は、良好なスペーサ
ーであることが判明している。
リル(Uvecryl )": の場合、4個のエチレンオキシ単位からなる特に長いス
ペーサーは、アクリルオキシ基のベンゾフェノンを分離
する。
ル・ブリティン(Technical Bulletin)2480/885(198
5)ま走はNew Polym.Mat.1,63(1987)に記載の化合物
は、光重合体の場合に被覆材料に使用することができ
る。この合成は費用がかかり、この生成物は光化学的に
適度にのみ反応性である。それというのも、スペーサー
は長すぎるからである。
キレンオキシ基によって互いに分離されている場合に
は、発色団の光化学的挙動に非本質的にのみ影響を及ぼ
す。型: で示される欧州特許出願公開第279475号明細書に記載の
ベンゾフェノン誘導体は、そのための例である。
またはエステル基は、スペーサーの成分である(反応式
II)。
ンゾフェノン断片に対する置換基としてのスペーサーの
影響および機能を考慮することにより、新規のスペーサ
ーの反応式が達成される。すなわち、例えば構造に基づ
いて安定作用または脱安定作用を有することができるス
ペーサーを考えることができる。
前記の視点によれば、1つの重要な物質種である。米国
特許第3322818号明細書には、アリル置換されたかもし
くはメタリル置換されたカルバモイルベンゾフェノンが
記載されている。しかし、このベンゾフェノンは、殺菌
剤としてのみ適当である(反応式IV参照)。
ある。従って、このベンゾイルフェニル−アリル−カル
バメートは、重合体分野で実際には重要なものではな
い。
反応しない新規の単量体は、英国特許第2100722号明細
善に記載されている。
明細書には、型(反応式V): で示される単量体が主張されており、この単量体は、特
に反応性であり、かつ有利にヒドロキシ芳香族化合物お
よび(メタ)アクリロイルアルキルイソシアネートから
得ることができる。しかし、例えば 本発明の課題は、容易に入手することができかつ光開
始剤部分に最適であるように調節されたスペーサーを有
する、例えばアセトフェノン誘導体、ベンゾフェノン誘
導体またはチオキサントン誘導体のようなエチレン性不
飽和の感放射線性フェノン誘導体を提示することであ
る。
ネートもしくはベンゾフェノンカーボネートは、公知で
ある。
m.Soc.1961,4067)には、化合物 は、前駆物質として使用される。上記型の薬理学的に重
要なカーボネートの他の例は、ジャーナル・オブ・ザ・
ケミカル・ソサイエティ(J.Chem.Soc.C1969,1721;同書
1970,392;テトラヘドロン・レターズ(Tetrahedron Let
t.)1979,4363およびオランダ国特許第7008636号明細書
に記載されている。
昭57-81001号公報の記載によれば、ハロゲン化ベンゾフ
ェノンカーボネート が作用を有する。
Oに対してo位で少なくとも1つのOH基を導入する場合
には、UV安定剤の種類に到達する。カーボネート基に関
しては、次の例に認めることができるように、屡々、発
色団: (米国特許第3981822号明細書、同第4115348号明細書、
同第4174321号明細書参照)またはソ連国特許第352883
号明細書、ソ連国第491661号明細書または特開昭58-159
460号公報および特開昭61-130362号公報に記載されてい
るようにUV吸収性を有する他の構造要素がベンゾフェノ
ンに関連する。
記載された、共重合不可能なベンジルジメチルケタール もしくはベンゾインモノメチルエーテル が主張されている。
ない、アルキル置換およびアリール置換されたアセトフ
ェノンカーボネートおよびベンゾフェノンカーボネート
のみが公知であった。
である。
特にメチル基、エチル基、n−プロピル基、3または4
個の炭素原子を有する場合によっては置換された分枝鎖
状アルキル基、例えばイソプロピル基、第2ヒドロキシ
ルイソプロピル基、第2ジメチルアミノピロピル基、第
2モルホリノプロピル基、第三ブチル基、アリール基、
例えばフェニル基、トリル基もしくはナフチル基または
基R1を表わし、 R1は基: (但し、基R2〜R6は互いに同一かまたは異なり、H原
子、1〜4個の炭素原子を有するアルキル基、メチル
基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、第三
ブチル基、フェニル基、OH基、OCH3基、OC2H5基、SH
基、SCH3基、SC2H5基、F原子、Cl原子、Br原子、CN
基、COOH基、アルキルが1〜17個の炭素原子を有するCO
Oアルキル基、COOアリール基、CF3基、アルキルが1〜
4個の炭素原子を有するN(アルキル)2基、アルキル
が1〜4個の炭素原子を有するN(アルキル)(アリー
ル)基、N(アリール)2基、アルキルが1〜4個の炭
素原子を有するN (アルキル)3A 基、アルキルが
1〜4個の炭素原子を有するN H(アルキル)2A
基を表わし、A は酸の陰イオン、例えばCl 、S
O4 2 、PO4 3 、アセテート 、BF4 、CF3SO3 、SbF6
、AsF6 、PF6 を表わし、基R2〜R6の少なくとも
1個、最大で3個は、基: を表わし、 Xは場合によっては置換された2価のアルキレン基−
(CH2)m−、基: を表わし、 mは1〜10であり、 R′およびR″は互いに同一かまたは異なり、アリー
ル基、例えばフェニル基、C1〜C4−アルキル基、H原
子、COOH基、COOCH3基、COOC2H5基を表わすか、mが1
〜10であるペルフルオル化されたアルキレン基−(C
F2)m−、特にペルフルオルエチレン基、nが1〜5で
ありかつpが1〜5である、オキサアルキレン基−(CH
2)n−O−(CH2)p−、特にnもpも2であるオキサア
ルキレン基、すなわち−C2H4−O−C2H4−、n、P
がそれぞれ1〜5である型:−(CF2)n−O−(CF2)p
−のペルフルオル化されたオキサアルキレン基、例えば
テトラフルオルエチレン基を表わすか、相互に少なくと
も1個の−CH2−、−CF2−もしくは−CH2−CH(CH3)−
基により結合されている場合によってはペルフルオル化
された、2〜20個の酸素原子を有するポリオキサアルキ
レン基を表わすか、mが1〜10でありかつnが1〜10で
ある型:−(CH2)m−O−CO−O−(CH2)n−、(C
H2)n−O−CO−NH−(CH2)m−、−(CH2)n−NH−CO
−O−(CH2)m−、−(CH2)m−CO−O−(CH2)n−も
しくは−(CH2)m−O−CO−(CH2)n−のアルキレン基
を表わすか、場合によっては1〜4個の炭素原子を有す
るアルキル基、例えばメチル基、エチル基、n−プロピ
ル基、イソプロピル基、OH基、OCH3基、OC2H5基、SH
基、SCH3基、SC2H5基、、Cl原子、F原子、N(アルキ
ル)2基もしくはN(CH3)C6H5でo−位、m−位およ
び/またはp−位で置換されたフェニレン基、または5
〜10個の炭素原子を有するシクロアルキレン基、例えば
シクロヘキシレン基、シクロオクチレン基を表わすか、
または6〜12個の炭素原子を有する(ビス)メチレンシ
クロアルキレン基を表わし、 YはH原子、1〜6個の炭素原子を有するアルキル基
またはフェニル基を表わし、 ZはO原子またはNY基を表わすものとする)を表わす
か、または Rがアリール基を表わす場合には、基R2またはR6の
一方は、アリール基Rがオルト位でR1と結合されてい
る硫黄原子を表わすことができ、かつ例えばチオキサン
トン−イル基を生じる]で示されるエチレン性不飽和の
共重合可能な感放射線性有機化合物である。
短波長ないし長波長のUV領域内で特に高い光化学的反応
性を示し、ならびに良好な貯蔵安定性を示す。
レート基もしくはメタクリレート基を有する新規種の感
放射線性アセトフェノンカーボネート、ベンゾフェノン
カーボネートおよびチオキサントンカーボネートを提供
することにある。
は、公知である(特開昭59-001438号明細書、特開昭59-
170033号明細書)。概要は、次のものに十分に記載され
ている:a)フーベン−ワイル(Houben-Weyl)、メトー
デン・デア・オルガニッシェン・ヒェミー(Methoden d
er Organischen Chemie)、第8巻、第75頁、第101〜10
7頁、ティーメ社(Thieme)刊、1952、b)カーク−オ
スマー(Kirk-Othmer)、エンサイクロペディア・オブ
・ケミカル・テクノロジー(Encyclopedia of Chemical
Technology)、第4巻、第758〜771頁、ジョン ウィ
リー社(John Wiley)刊、1978およびc)ウルマンズ・
エンサイクロペディア・オブ・インダストリアル・ケミ
ストリー(Ullmann's Encyclopedia of Industrial Che
mistry)、第A5巻、第197〜202頁、フェアラーク社(Ve
rlag)刊、1986。カーボネートの重要な製出方法は、炭
酸エステルクロリドとアルコールとの反応である。この
方法は、詳細にはフーベン−ワイル(Houben-Weyl)、
第8巻(上掲参照)およびドイツ連邦共和国特許第1080
546号明細書ならびにザ・ジャーナル・オブ・オーガニ
ック・ケミストリー(J.Org.Chem.)、26、5119(196
1)に記載されている。炭酸エステルは、アルコールと
クロル基炭酸エステルとをモル比1:1で溶剤なしにかま
たは溶剤としての過剰のアルコール中で相互に反応させ
ることにより、良好ないし極めて良好な収率で生成され
る。アルコールもしくはフェノールおよび/またはクロ
ル炭酸エステルが固体として存在する場合には、非プロ
トン性溶剤、例えばシクロメタン、ジクロエタン、アセ
トニトリル、トルオール、キシロール等が使用される。
法が開示されている(反応式VII): 出発物質として必要なヒドロキシアセトフェノンおよ
びヒドロキシベンゾフェノンは、自体公知の方法により
得ることができる。すなわち、例えば4−ヒドロキシベ
ンゾフェノンは、フェノールをニトロベンゾール中の塩
化ベンゾイルでAlCl3またはTiCl4の存在下にフリーデル
−クラフツ−アシル化すること(Houben-Weyl7/2a,第18
6頁)によるかまたは異性体なしで4−ヒドロキシ−ジ
フェニルメタンを5,6−ジクロル−2,3−ジシアン−p−
ベンゾキノンで酸化すること(Houben-Weyl7/2a,第681
頁)によって約90%の収率で得られる。
2−(ジメチルアミノ)−1−(4−ヒドロキジフェニ
ル)−ブタン−1−オンまたは1−(4−ヒドロキシフ
ェニル)−2−メチル−2−モルホリノ−プロパン−1
−オンは、欧州特許出願公開第284561号明細書および欧
州特許出願公開第117233号明細書に記載されている。
7号明細書(1981)および英国特許第2108979号明細書
(1982)に記載の方法によりチオサリチル酸およびフェ
ノールから製出することができる。
Chem.313,331(1971)、同書、317,62,73,81(1975)参
照)は、置換フェノール、例えば4−クロル−5′−フ
ルオル−2′−ヒドロキシベンゾフェノン、4−クロル
−4′−ヒドロキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキ
シベンゾフェノン、、4,4′−ジヒドロキシベンゾフェ
ノン、4−フルオル−4′−ヒドロキシベンゾフェノ
ン、2−ヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベ
ンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフ
ェノン、2,3,4−トリヒドロキシ−ベンゾフェノン、2
−ヒドロキシ−チオキサントン、3−ヒドロキシ−チオ
キサントン、(4−ヒドロキシフェニル)−2−ヒドロ
キシ−2−プロピルケトン(ドイツ連邦共和国特許出願
公開第3534645号明細書)から、刊行物に公知の標準法
に応じて、ホスゲン、例えばフーベン−ワイル(Houben
-Weyl)、メトーデン・デア・オルガニッシェン・ヒェ
ミー(Methoden der Organischen Chemie)、第8巻、
ティーメ社(Thieme)刊、1952参照、トリクロルメチル
クロルホルメート(ジホスゲン)、ジャーナル・フュア
・プラクテッシェ・ヒェミー(J.Prakt.Chem.)、126、
210(1930)、同書、128,233(1930)、ケミカル・アブ
ストラクツ(Chem.Abstr.)、95.81766、ザ・ジャーナ
ル・オブ・オーガニック・ケミストリー(J.Org.Che
m.)、50,715(1985)、ザ・ジャーナル・オブ・オーガ
ニック・ケミストリー(J.Org.Chem.)、41.2070(197
6)、アンゲヴァンテ・ヒェミー(Angew.Chem.)、89、
267(1977)参照、結晶性トリホスゲン、アンゲヴァン
テ・ヒェミー(Angew.Chem.)、99、922(1987)参照、
N,N′−カルボニルジイミダゾールまたはN,N′−カルボ
ニルジ−s−トリアゾール(Fieser1,116(1967))を
用いてホスゲン化することによって良好な収率で得るこ
とができる。
エステルとの反応を使用することに関しては、“メルク
・コンタクテ(Merck Kontakte)”1981(1)、第14〜
18頁、の報告書に記載されている。
ドロキシアルキレン(メタ)アクリルアミドは、適当な
α,ω−アルカンジオールもしくはアミノアルコール、
例えば1,2−エタン−、1,3−プロパン−、1,2−ブタン
−、1,4−ブタン−、1,5−ペンタン−、1,6−ヘキサン
ジオール−、1,4−シクロヘキサンジオール、1,2−シク
ロヘキサンジオール、エタノールアミン、P−ヒドロキ
シアニリンまたはジオール、例えばポリテトラヒドロフ
ラン、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド
を、アクリル酸およびメタクリル酸の酸クロリド、エス
テルもしくは無水物でアシル化するかまたはエステル化
することによって生成される。最も重要なのは、エステ
ル交換反応である。エステル交換のためには、例えばア
クリル酸メチルエステル、アクリル酸エチルエステル、
アクリル酸−n−ブチルエステル、メタクリル酸メチル
エステル、メタクリル酸エチルエステル、メタクリル酸
プロピルエステル、メタクリル酸−n−ブチルエステル
およびメタクリル酸−第三ブチルエステルが使用され
る。この方法を実際に実施する場合には、アクリル酸エ
ステルまたはメタクリル酸エステルは、不足量または特
に過剰量で使用することができる。一般に、ジオールに
対して1〜1.5倍のモル量のアクリル酸またはメタクリ
ル酸エステルが使用され、この場合1.5倍〜5倍量の過
剰量は、ジアクリレート含量を最少に維持するために特
に回避すべきである。付加的に、反応混合物は、なお溶
剤、例えばベンゾール、トルオール、o−キシロール、
m−キシロール、p−キシロール、トルオール、キシロ
ール、クロルベンゾール、ジオキサン、シクロヘキサ
ン、n−ヘプタン、n−オクタン、n−ノナンまたはn
−デカンを含有していてもよい。
に常用の触媒が使用される。このような触媒としては、
例えばアルカリ金属アルコラート、例えばナトリウムメ
チラート、ナトリウムエチラート、ナトリウムプロピラ
ート、リチウムメチラートおよび特にチタン、錫および
ジルコニウムの化合物がこれに該当する。例えば、チタ
ンテトラメチラート、チタンテトラエチラート、チタン
テトラプロピラート、チタンテトラブチラート、ジブチ
ル錫オキシド、ジブチル錫ジラウレート、ジメトキシジ
ブチル錫およびジルコニウムペンタン−2,4−ジオネー
トが挙げられる。
〜0.5モル、特に0.001〜0.02モルの範囲内にある。エス
テル交換の場合には、一般に50〜150℃、特に80〜120℃
の温度で反応混合物の沸騰下に作業され、この場合エス
テル交換の際に遊離したアルカノールは、場合によって
はアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステールの
含量と一緒に共沸混合物として反応混合物から留去され
る。
テルまたはメタクリル酸エステルおよび場合によっては
溶剤は、例えば有利に減圧下に反応混合物を蒸留するこ
とによって分離することができる。必要に応じて、得ら
れたモノヒドロキシアルキレン−(メタ)アクリル酸エ
ステルは、例えば減圧下での蒸留、抽出または結晶化に
よって精製することができる。しかし、エステル交換段
階の反応生成物は、後精製なしにまたは場合によっては
触媒もしくはその塩の分離後に加水分解および濾過によ
って処理の直ぐ次の工程に供給することもできる。
する場合には、抽出物は、有利に化学量論的に使用され
る。一般に、80〜140℃、特に90〜110℃の温度で作業さ
れる。触媒としては、なかんずく酸、殊に濃硫酸が当て
はまり、これは、0.1〜2モル%の量で使用される。触
媒および(メタ)アクリル酸を、例えば水性塩基、例え
ば炭酸ナトリウム水溶液または希薄な苛性ソーダ水溶液
での中和によって分離した後、粗製生成物は、場合によ
っては例えば硫酸ナトリウムまたは硫酸マグネシウムで
の乾燥後に後精製なしに直ぐ次の工程で使用することが
できる。
合を阻止するために、反応混合物には、特に常用の安定
剤が添加される。このような添加剤としては、例えばヒ
ドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、2,6−
ジ−第三ブチル−4−メチルフェノール、パラ−ニトロ
ソフェノールおよび/またはフェノチアジンがこれに該
当する。更に、アシル化の間に酸素または空気を反応混
合物に導通させることは、極めて好ましいことであるこ
とが判明した。
ロキシアルキレンモノビニルエーテルは、ユストゥス・
リービッヒス・アナーレン・デア・ヒェミー(Liebigs
Ann.Chem.)601、81(1956)に記載の方法により良好な
収率で十分に得ることができる。
(メタ)アクリルアミドおよびヒドロキシアルキルビニ
ルエーテルが例示的に記載される: ヒドロキシアセトフェノン、ヒドロキシベンゾフェノ
ンもしくはヒドロキシチオキサントンの変換のために
は、一般に相応するω−(メタ)アクリロイルオキシア
ルキル−クロロホルメートが必要とされる。このクロロ
ホルメートは、例えばヨーロッピアン・ポリマー・ジャ
ーナル(Eur.Polym.J.)、14、205(1078);ジャーナ
ル・オブ・ポリマー・サイエンス(J.Polym.Sci.)、ポ
リマー・シンポジア(Polym.Symp.)、66、41(197
9);ビュルテ・デ・ソシエテ・シミク・ベルジュ(Bul
l.Soc.Chim.Belg.)、93、159(1984)の記載のように
刊行物に公知の方法により、有利に良好な収率で製出す
ることができる。
よびベンゾフェノン誘導体ならびにチオキサントン誘導
体は、反応式VIIに記載の方法AおよびBにより、容易
に極めて良好な収率で得ることができる。このことは、
殊に(メタ)アクリレート成分もしくはビニルエーテル
成分の反応性および二官能性に関連して予想できないこ
とであった。それというのも、数多くの種々の反応生成
物を考えることができるからである。方法AおよびB
は、中性の条件下で得るのが困難で毒性のイソシアネー
トを使用するような、ドイツ連邦共和国特許出願公開第
3820463号明細書に記載の変法とも区別される。
第8巻、第75頁、第101〜107頁参照)と比較して経済的
であり、効果的であり、かつ使用物質の二官能性に関連
して新規種である。
b): [式中、 X、YおよびZはそれぞれ前記のものを表わし、 Bは基トシレート、1〜5個の炭素原子を有するアル
コキシ、ハロゲン、例えばCl、Br、クロルカルボニル、
イミダゾリル、ピラゾリル、アンモニウム−、ピリジニ
ウム−、ホスホニウム−、スルホニウム陽イオンの1個
を表わす]で示される化合物、有利に例えば2−(アク
リロイルエチル)−、2−(メタクリロイルオキシエチ
ル)クロル炭酸エステル、2−(メタクリロイルオキシ
エチル)クロルグリオキシル酸エステル、(2−(メ
タ)アクリロイルオキシエチル)−メチル−カーボネー
トを、一般式(IIIa): [式中、 R7は1〜4個の炭素原子を有する直鎖状アルキル
基、3または4個の炭素原子を有する場合によっては置
換された分枝鎖状アルキル基を表わすか、アリール基を
表わすか、または基R1を表わし、 基R8〜R12は互いに同一かまたは異なり、H原子、
1〜4個の炭素原子を有するアルキル基、フェニル基、
OH基、OCH3基、OC2H5基、SH基、SCH3基、SC2H5基、F
原子、Cl原子、Br原子、CN基、COOH基、アルキルが1〜
17個の炭素原子を有するCOOアルキル基、COOアリール
基、CF3基、アルキルが1〜4個の炭素原子を有するN
(アルキル)2基、アルキルが1〜4個の炭素原子を有
するN(アルキル)(アリール)基、N(アリール)2
基、アルキルが1〜4個の炭素原子を有するN (アル
キル)3A 基、アルキルが1〜4個の炭素原子を有す
るN H(アルキル)2A 基を表わし、A は酸、例
えばCl 、SO4 2 、PO4 3 、アセテート 、BF4 、CF3
SO3 、AsF6 、SbF6 、PF6 等の陰イオンを表わす
か、または 基R8またはR12の一方は、アリール基がオルト位で
R7と結合されている硫黄原子を表わすことができ、こ
の場合基R8〜R12の少なくとも1個はヒドロキシル基
を表わす]で示される化合物と、等モル比(場合によっ
ては20%までの過剰量)でかまたは基R8〜R12中のヒ
ドロキシル基の数に相応してその2倍または3倍のモル
比で、場合によっては不活性溶剤または溶剤混合物およ
び塩基性触媒の存在下に0〜100℃の温度で無水条件下
で反応させることにより、一般式(I)の化合物を製造
する方法でる(方法B)。
b): [式中、 X、YおよびZはそれぞれ請求項1記載のものを表わ
す]で示される化合物、有利に前記に例示的に記載した
(メタ)アクリレート、メタクリルアミドまたはヒドロ
キシアルキルビニルエーテルを、一般式(IIIb): [式中、 R7は1〜4個の炭素原子を有する直鎖状アルキル
基、特にメチル基、エチル基、n−プロピル基、3また
は4個の炭素原子を有する場合によっては置換された分
枝鎖状アルキル基、例えばイソプロピル基、第二ヒドロ
キシイソプロピル基、第二ジメチルアミノプロピル基、
第二モルホリノプロピル基、第三ブチル基またはアリー
ル基、例えばフェニル基、トリル基もしくはナフチル
基、特にフェニル基を表わし、 R8〜R12は互いに同一かまたは異なり、H原子、1
〜4個の炭素原子を有するアルキル基、例えばメチル
基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、第三
ブチル基、フェニル基、OH基、OCH3基、OC2H5基、SH
基、SCH3基、SC2H5基、F原子、Cl原子、Br原子、CN
基、COOH基、アルキルが1〜17個の炭素原子を有するCO
Oアルキル基、COOアリール基、CF3基、アルキルが1〜
4個の炭素原子を有するN(アルキル)2基、アルキル
が1〜4個の炭素原子を有するN(アルキル)(アリー
ル)基、N(アリール)2基、アルキルが1〜4個の炭
素原子を有するN (アルキル)3A 基、アルキルが
1〜4個の炭素原子を有するN H(アルキル)2A
基を表わし、 A は酸、例えばCl 、SO4 2 、PO4 3 、アセテート
、BF4 、CF3SO3 、AsF6 、SbF6 、PF6 等のの陰
イオンを表わすか、または 基R8またはR12の一方は、アリール基がオルト位で
R7と結合されている硫黄原子を表わし、この場合基R8
〜R12の少なくとも1個は型:B−CO−Oの基: を表わし、 但し、Bは式(IIa)および(IIb)に記載のものを表わ
す]で示される化合物と、等モル比(場合によっては10
〜30%までの過剰量)でかまたは基R8〜R12中の基B
−CO−Oの数に相応してその2倍または3倍のモル比
で、湿分の遮断下に、場合によっては不活性溶剤または
溶剤混合物および塩基性触媒の存在下に、0〜100℃の
温度、特に20〜50℃で相互に反応させることにより、一
般式(I)の化合物を製造する方法である。
ができる。
核試薬と反応し、特に水とも反応する。従って、この反
応の場合には、乾燥した非求核的溶剤、例えばアセトニ
トリル、ジクロルメタン、ジクロルエタン、THF、トル
オール、キシロール、クロルベンゾール、酢酸エステ
ル、クロロホルム等の使用による湿分遮断および場合に
よっては不活性ガス雰囲気、例えば窒素、アルゴンまた
は二酸化炭素の形成に注意すべきである。
ることもできる不活性溶剤中のヒドロキシ化合物の溶液
または懸濁液は、0〜100℃の温度、特に10〜50℃で、
塩基性の非求核的アミン、特にトリエチルアミン、4−
ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、1,4−ジアザ
ビシクロ[2.2.2]オクタン、1,5−ジアザビシクロ[4.
3.0]ノン−5−エン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]
ウンデセ−7−エン、ポリビニルピロリドン、N,N′−
ジメチルプロピレン尿素、N,N′−ジメチルエチレン尿
素等の存在下に装入される。次に、場合によっては不活
性溶剤、例えばジクロルメタン、ジクロルエタン、アセ
トニトリル、トルオール、クロルベンゾール、キシロー
ル等に溶解されたクロルホルミル化合物は、撹拌しなが
ら上記の温度範囲内で滴加される。この作業法は、特に
大量のバッチに適当である。
後、標準方法により濾過し、洗浄し、乾燥し、生成物を
再結晶、蒸留または抽出の後に単離する。
フェノンおよびチオキサントンは、放射線により硬化可
能な組成物に対して重合可能な光開始剤としてかまたは
不飽和化合物と共重合可能な光開始剤として適当であ
る。
一定のスペーサー長さから出発し光化学的励起後に、例
えばドイツ連邦共和国特許出願公開第3738567号明細書
の記載の誘導体の場合よりも反応性であることが判明し
た。
載のカルバモイル誘導体とは異なり、カーボネートは、
照射した重合体の場合に黄変の傾向がなく、完全に無臭
であり、かつ一般に使用することができる。それという
のも、このカーボネートは、数多くの結合剤および結合
剤系と良好に相容性であるからである。
一部が独立の合成によって証明され、全ての場合には、
補正1H−NMRスペクトル、IRスペクトルおよび質量スペ
クトルならびに対応した元素分析によって証明された。
ール11.4kg中のベンジルトリメチルアンモニウムクロリ
ド190gの溶液中に5時間でホスゲン全部で3.4kgを導入
した。この時間の間に内部温度を95℃から120℃に上昇
させた。ホスゲン導入の終結後、115℃で30分間さらに
撹拌した。後処理のために、ホスゲンの過剰量を窒素ガ
スで駆出させた。反応の終結時に生じた塩(触媒)を濾
別し、溶剤を留去した。融点67〜72℃の黄色に呈色した
4−クロルホルミルベンゾフェノン4.9kg(93%)が得
られた。Cl-値=12.69%(理論値13.60%)を有する前
記粗製生成物を直接に後精製なしに後続反応に使用し
た。
ミル化合物が得られた: 実施例 2 2−ヒドロキシチオキサントンから、79%の収率で2
−クロルホルミル−チオキサントン(Cl:計算値=12.19
%;実測値=12.03%)が得られた。
で3−ヒドロチオキサントンから得ることができた(C
l:計算値=12.19%;実測値=11.22%)。
−プロピル)ケトンから、75%の収率で(4−クロルホ
ルミルフェニル)−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)
ケトンは、粗製生成物(Cl:計算値=14.61%;実測値=
13.07%)として得られた。
モルホリノプロパン−1−オンから、ホスゲン化によっ
て差当たり塩酸塩が得られ、この塩酸塩は1,5−ジアザ
ビシクロ[4.3.0]ノン−5−エンの念入りな添加によ
って遊離アミンに変換することができた;収率:62%(C
l:計算値=11.37%;実測値=11.21%)。
のトリエチルアミン0.53kgの溶液に室温でテトラヒドロ
フラン2.2kg中の4−クロルホルミルベンゾフェノン1.3
kgを滴加した。還流下に1時間の煮沸後、25〜30℃に冷
却し、かつ氷水20kg中に撹拌混入した。水相を3回ジク
ロルメタンで抽出し、有機相を硫酸ナトリウム上での乾
燥後に真空中で蒸発濃縮した。残留物をメタノールから
再結晶させた。収量:1.105kg(78%)、融点121〜122℃
の明色の結晶。
は、真正の物質(Can.J.Chem.56、1031(1978))と同
一であった。
ーボネートが得られた。
ルフェニル)−カーボネート ブタンジオールモノアクリレート7.2kgおよびトルオ
ール17kg中のトリエチルアミン5.3kgの溶液に25〜30℃
でトルオール22kg中の4−クロルホルミル−ベンゾフェ
ノン13.0kgを滴加した。室温で2時間の後撹拌の後、順
次に水、炭酸水素ナトリウム溶液および再び水で洗浄し
た。有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、かつ水中ポン
プによる真空中で蒸発濃縮した。黄色の粘稠な液体17.9
kg(97%)が得られ、これは、薄層クロマトグラフィー
によれば、単一であった。
に2−ヒドロキシチオキサントン0.91kgを懸濁させ、こ
の混合物のために20〜24℃でトルオール1.7kgに対して
2−クロルホルミル−エチルメタクリレート0.81kgの溶
液を緩徐に滴加した。フェノチアジン0.002kgの添加
後、室温で18時間さらに撹拌した。次に、有機相を水で
洗浄し、炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、再び水で洗
浄した。硫酸ナトリウム上での乾燥および水中ポンプに
よる真空中での蒸発濃縮の後、残留物をイソプロパノー
ルから再結晶させた。
して、次の化合物が合成された: 実施例35〜53 光開始剤としてのアセトフェノン誘導体、ベンゾフェノ
ン誘導体およびチオキサントン誘導体の使用 二官能性エポキシアクリレート62重量%(アクリレー
ト、ビスフェノールグリシジルエーテルから導出され
た)、ヘキサンジオールジアクリレート35重量%および
ブタノール3重量%(粘度の調節、被膜形成)からなる
雛型の重合体中に、試験すべき光開始剤0.1〜0.3gをア
ミン0.2〜0.39および場合によっては増感剤と一緒に溶
解し、かつ1時間さらに撹拌する。この時間の間に、測
定セルを用意する。この測定セルは、高度に透明の2つ
のNaCl窓ガラスからなり、この窓ガラスは、2つのそれ
ぞれ厚さ25μmのフィルムによって分離されている。次
に、測定すべき重合体試料をフィルムの1つの上に塗布
し、別のフィルムで被覆し、この堆積物をNaCl窓ガラス
で金属枠中に、厚さ約10〜30μmの被膜がフィルムの間
に生じるように固定する。
灯(HBO*200W)で照射し、この場合には干渉フィルタ
ーによって付加的に特定の波長(例えば、330、365、40
4nm)のみを選択することができる。
測定し(t:0)、このことを5秒間の照射後に繰り返
す。良好な光開始剤の場合には、アクリレート基に対応
配置されたバンドの強度は、明らかに減少し、芳香族の
内部標準の場合には、不変のままである。このことか
ら、光開始剤の特性を示す数は、全てのバンドに対して
計算することができる。
ド”に対して実施され、この値は、加法により纏めて所
謂開始剤の特性値となる。この特性値は、純粋な標準数
値であり、かつ1〜15の値を包括する。開始剤が重合を
より良好に開始すればするほど、その特性値は一層高く
なる。
例えば鉛筆の硬さおよびケーニッヒ(Knig)による
振子型衝撃強さと相関関係にある。
記載による 42:ダロクル(Darocur )2959およびイソシアネートエ
チルメタクリレートから良好な収率で得ることができる 43:ダロクル(Darocur )2959および2−クロルホルミ
ルエチルメタクリレートから79%の収率で得ることがで
きる 44:2−ベンジル−2−(ジメチルアミノ)−1−[4−
(2−ヒドロキシエチルオキシ)−フェニル]ブタン−
1−オンおよび2−クロルホルミルエチルメタクリレー
トから84%の収率で得ることができる 実施例35〜44は、比較例である。
Claims (9)
- 【請求項1】一般式(I): [式中、 Rは1〜4個の炭素原子を有する直鎖状アルキル基、3
または4個の炭素原子を有する場合によっては置換され
た分枝鎖状アルキル基、アリール基または基R1を表
し、 R1は基: (但し、基R2〜R6は互いに同一かまたは異なり、H原
子、1〜4個の炭素原子を有するアルキル基、フェニル
基、OH基、OCH3基、OC2H5基、SH基、SCH3基、SC2H
5基、F原子、Cl原子、Br原子、CN基、COOH基、アルキ
ルが1〜17個の炭素原子を有するCOOアルキル基、COOア
リール基、CF3基、アルキルが1〜4個の炭素原子を有
するN(アルキル)2基、アルキルが1〜4個の炭素原
子を有するN(アルキル)(アリール)基、N(アリー
ル)2基、アルキルが1〜4個の炭素原子を有するN
(アルキル)3A 基、アルキルが1〜4個の炭素原子
を有するN H(アルキル)2A 基を表し、A は酸
の陰イオンを表し、基R2〜R6の少なくとも1個、最大
で3個は、 基: を表し、 Xは場合によっては置換され、場合によってはペルフル
オル化された2価のアルキレン基−(CH2)m−または−
(CF2)m−、基: を表し、 mは1〜10であり、 R′およびR″は互いに同一かまたは異なり、アリール
基、H原子、COOH基、COOCH3基、COOC2H5基またはアル
キル基を表すか、nが1〜5でありかつpが1〜5であ
る、場合によってはペルフルオル化されたオキサアルキ
レン基−(CH2)n−O−(CH2)p−もしくは−(CF2)n
−O−(CF2)p−を表すか、相互に少なくとも1個の−
CH2−、−CF2−もしくは−CH2−CH(CH3)−基により結
合されている、場合によってはペルフルオル化された、
2〜20個の酸素原子を有するポリオキサアルキレン基を
表すか、mが1〜10でありかつnが1〜10である−(CH
2)m−O−CO−O−(CH2)n−、−(CH2)n−O−CO−
NH−(CH2)m−、−(CH2)n−NH−CO−O−(CH2)
m−、−(CH2)m−CO−O−(CH2)n−もしくは−(C
H2)m−O−CO−(CH2)n−を表すか、5〜10個の炭素
原子を有する、場合によっては置換されたシクロアルキ
レン基を表すか、6〜12個の炭素原子を有する(ビス)
メチレンシクロアルキレン基を表すか、または場合によ
っては置換されたo−、m−もしくはp−フェニレン基
を表し、 YはH原子、1〜6個の炭素原子を有するアルキル基ま
たはフェニル基を表し、 ZはO原子またはNY基を表すものとする)を表すか、ま
たは Rがアリール基を表す場合には、基R2またはR6の一方
は、アリール基Rがオルト位でR1と結合されている硫
黄原子を表すことができる]で示されるエチレン性不飽
和の共重合可能な感放射線性有機化合物。 - 【請求項2】一般式(I)の化合物を製造する方法にお
いて、一般式(IIa)または(IIb): [式中、 X、Y、およびZはそれぞれ請求項1記載のものを表
し、 Bは基トシレート、アルコキシ、ハロゲン、クロルカル
ボニル、イミダゾリル、ピラゾリル、ホスホニウム、ス
ルホニウム、アンモニウムまたはピリジニウム陽イオン
の1個を表す]で示される化合物を、一般式(IIIa): [式中、 R7は1〜4個の炭素原子を有する直鎖状アルキル基、
3または4個の炭素原子を有する場合によっては置換さ
れた分枝鎖状アルキニル基またはアリール基を表し、 R8〜R12は互いに同一かまたは異なり、H原子、1〜
4個の炭素原子を有するアルキル基、フェニル基、OH
基、OCH3基、OC2H5基、SH基、SCH3基、SC2H5基、F原
子、Cl原子、Br原子、CN基、COOH基、アルキルが1〜17
個の炭素原子を有するCOOアルキル基、COOアリール基、
CF3基、アルキルが1〜4個の炭素原子を有するN(ア
ルキル)2基、アルキルが1〜4個の炭素原子を有する
N(アルキル)(アリール)基、N(アリール)2基、
アルキルが1〜4個の炭素原子を有するN (アルキ
ル)3A 基、アルキルが1〜4個の炭素原子を有する
N H(アルキル)2A 基を表し、A は酸の陰イオ
ンを表わすか、または 基R8またはR12の一方は、アリール基がオルト位でR7
と結合されている硫黄原子を表すことができ、この場合
基R8〜R12の少なくとも1個はヒドロキシル基を表
す]で示される化合物と、等モル比でかまたは基R8〜
R12中のヒドロキシル基の数に相応してその2倍または
3倍のモル比で、場合によっては不活性溶剤または溶剤
混合物および塩基性触媒の存在下に0〜100℃の温度で
無水条件下で相互に反応させることを特徴とする、一般
式(I)の化合物の製造法。 - 【請求項3】一般式(I)の化合物を製造する方法にお
いて、一般式(IVa)または(IVb): [式中、 X、YおよびZはそれぞれ請求項1記載のものを表す)
で示される化合物を、一般式(IIIb): [式中、 R7は1〜4個の炭素原子を有する直鎖状アルキル基、
3または4個の炭素原子を有する場合によっては置換さ
れた分枝鎖状アルキル基またはアリール基を表し、 R8〜R12は互いに同一かまたは異なり、H原子、1〜
4個の炭素原子を有するアルキル基、フェニル基、OH
基、OCH3基、OC2H5基、SH基、SCH3基、SC2H5基、F原
子、Cl原子、Br原子、CN基、アルキルが1〜17個の炭素
原子を有するCOOアルキル基、COOアリール基、CF3基、
アルキルが1〜4個の炭素原子を有するN(アルキル)
2基、アルキルが1〜4個の炭素原子を有するN(アル
キル)(アリール)基、N(アリール)2基、アルキル
が1〜4個の炭素原子を有するN (アルキル)3A
基、アルキルが1〜4個の炭素原子を有するN H(ア
ルキル)2A 基を表し、 A は酸の陰イオンを表わすか、または 基R8またはR12の一方は、アリール基がオルト位でR-
と結合されている硫黄原子を表すことができ、この場合
基R8〜R12の少なくとも1個は基B−CO−Oを表し、
但し、Bは基トシレート、アルコキシ、ハロゲン、クロ
ルカルボニル、イミダゾリル、ピラゾリル、ホスホニウ
ム、スルホニウム、アンモニウムまたはピリジニウム陽
イオンを表す]で示される化合物と、等モル比でかまた
は基R8〜R12中の基B−CO−Oの数に相応してその2
倍または3倍のモル比で、場合によっては不活性溶剤ま
たは溶剤混合物および塩基性触媒の存在下に0〜100℃
の温度で無水条件下で相互に反応させることを特徴とす
る、一般式(I)の化合物の製造法。 - 【請求項4】一般式(IIa)および(IIb)の化合物は、
ω−クロルホルミルアルキル−(メタ)−アクリレート
およびω−クロルホルミルアルキルビニルエーテルであ
る、請求項2記載の方法。 - 【請求項5】一般式(IIIb)の化合物は、場合によって
は置換されたクロルホルミルアセトフェノン、クロルホ
ルミルベンゾフェノンまたはクロルホルミルチオキサン
トンである、請求項3記載の方法。 - 【請求項6】非求核的強塩基、特に第三アミンの少なく
とも等モル量が存在する、請求項2から5までのいずれ
か1項に記載の方法。 - 【請求項7】反応温度は20〜60℃の範囲内にある、請求
項2から6までのいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項8】不活性の無水溶剤中で、場合によっては湿
分の遮断下に作業する、請求項2から7までのいずれか
1項に記載の方法。 - 【請求項9】感放射線性混合物において、光開始剤とし
て請求項1記載の少なくとも1つのエチレン性不飽和の
共重合可能な有機化合物を、場合によっては他の反応性
のエチレン性不飽和化合物、増感剤および他の添加剤と
の混合物で含有することを特徴とする、感放射線性混合
物。
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DE102004051242A1 (de) | 2004-10-20 | 2006-05-04 | Basf Ag | Feinteilige wasserabsorbierende Polymerpartikel mit hoher Flüssigkeitstransport- und Absorptionsleistung |
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WO2007120561A2 (en) | 2006-04-10 | 2007-10-25 | The Procter & Gamble Company | An absorbent member comprising a modified water absorbent resin |
EP2121049B1 (en) | 2007-02-22 | 2016-03-30 | The Procter and Gamble Company | Method of surface treating particulate material using electromagnetic radiation |
US8129447B2 (en) † | 2007-09-28 | 2012-03-06 | Fujifilm Corporation | Ink composition and inkjet recording method using the same |
EP2161264B1 (en) * | 2008-09-09 | 2019-11-27 | Agfa Nv | Polymerizable photoinitiators and radiation curable compositions |
ES2398505T3 (es) | 2008-10-14 | 2013-03-19 | Basf Se | Copolímeros con acrilatos de cadena larga |
CN101735345B (zh) * | 2008-11-11 | 2012-06-20 | 北京英力科技发展有限公司 | 2-氯-4'-苯基二苯甲酮作为光引发剂的组合物 |
EP2376550B1 (de) * | 2008-12-12 | 2014-04-02 | Basf Se | Modifizierte polyvinyllactame |
EP2199273B1 (en) | 2008-12-18 | 2018-02-21 | Agfa Nv | Polymerizable photoinitiators and radiation curable compositions |
JP5675770B2 (ja) * | 2009-04-02 | 2015-02-25 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | 放射線感受性の、ラジカル重合性有機化合物の溶液を製造する方法 |
US8883873B2 (en) | 2009-05-18 | 2014-11-11 | Agfa Graphics Nv | Polymerizable polymeric photoinitiators and radiation curable compositions |
CN102597082A (zh) | 2009-09-16 | 2012-07-18 | 巴斯夫欧洲公司 | 颜色稳定的超吸收剂 |
EP2477664A1 (de) | 2009-09-17 | 2012-07-25 | Basf Se | Farbstabiler superabsorber |
EP2611877B1 (de) | 2010-08-31 | 2018-06-20 | Basf Se | Verfahren zum verkleben und ablösen von abwaschbaren etiketten |
CN103249745A (zh) | 2010-10-06 | 2013-08-14 | 巴斯夫欧洲公司 | 热表面后交联的吸水性聚合物颗粒的制备方法 |
KR101672580B1 (ko) * | 2010-12-09 | 2016-11-03 | 교리쯔 가가꾸 산교 가부시키가이샤 | 광 중합 개시제에 적합한 화합물, 광 중합 개시제 및 광경화성 수지 조성물 |
CN103687921B (zh) | 2011-06-07 | 2016-03-02 | 巴斯夫欧洲公司 | 包含可辐射交联的聚(甲基)丙烯酸酯和含有非丙烯酸c-c双键的低聚(甲基)丙烯酸酯的热熔性粘合剂 |
US8871827B2 (en) | 2011-06-07 | 2014-10-28 | Basf Se | Hotmelt adhesive comprising radiation-crosslinkable poly(meth)acrylate and oligo(meth)acrylate with nonacrylic C-C double bonds |
DE102012218335A1 (de) | 2011-10-11 | 2013-04-11 | Basf Se | Haftklebstoff, enthaltend Poly(meth)acrylat aus hochverzweigten C13- bis C21-Alky(meth)acrylaten |
US9126186B2 (en) | 2011-11-18 | 2015-09-08 | Basf Se | Process for producing thermally surface postcrosslinked water-absorbing polymer particles |
WO2013076031A1 (de) | 2011-11-22 | 2013-05-30 | Basf Se | Superabsorber mit pyrogenem aluminiumoxid |
EP2604663B1 (en) | 2011-12-16 | 2017-08-09 | Agfa Graphics N.V. | Curable liquids and inkjet inks for food packaging applications |
EP2636714A1 (de) | 2012-03-09 | 2013-09-11 | Basf Se | Mehrstufige herstellung wässriger haftklebstoffdispersionen für die herstellung von selbstkle-benden artikeln |
WO2013144027A1 (de) | 2012-03-30 | 2013-10-03 | Basf Se | Farbstabiler superabsorber |
CN104271622B (zh) | 2012-03-30 | 2017-02-22 | 巴斯夫欧洲公司 | 颜色稳定的超吸收剂 |
DE102012222813A1 (de) | 2012-12-11 | 2014-06-12 | Tesa Se | UV-vernetzbare Haftklebemassen mit UV-Absorber, Verfahren zu deren Herstellung und Anwendung |
EP2873708B1 (de) | 2013-11-19 | 2019-02-13 | Artimelt AG | Klebstoffzusammensetzung |
EP2878606B1 (en) | 2013-11-29 | 2015-08-05 | ICAP-SIRA S.p.A. | UV-curable composition and pressure sensitive adhesive having breathability derived therefrom, as well as method for manufacturing the same |
CN106459313A (zh) * | 2014-04-21 | 2017-02-22 | 汉高知识产权控股有限责任公司 | 可固化粘合剂组合物及其用途 |
JP6295806B2 (ja) * | 2014-04-27 | 2018-03-20 | 川崎化成工業株式会社 | 5,11−ジオキソ−6,12−ビス(置換カルボニルオキシ)ナフタセン化合物及びその用途 |
DE102015209753A1 (de) | 2014-06-18 | 2015-12-24 | Basf Se | Verfahren zum Erwärmen eines Schmelzklebstoffs, enthaltend Poly(meth)acrylat |
EP3694946B1 (de) * | 2017-10-11 | 2021-11-10 | Basf Se | Gegen weichmachermigration resistenter, uv-härtbarer schmelzklebstoff für graphikfolien und etiketten aus weich-pvc |
WO2019072590A1 (de) | 2017-10-11 | 2019-04-18 | Basf Se | Schutzfolien, hergestellt aus polyolefinträgermaterial, primer und strahlungsvernetzbarem schmelzklebstoff |
US11813589B2 (en) | 2017-11-10 | 2023-11-14 | Basf Se | Superabsorbent complexed with aluminum ions |
EP3514213A1 (en) | 2018-01-18 | 2019-07-24 | Basf Se | Pressure-sensitive adhesive solution comprising polymers with cationic and anionic groups |
CN111954692A (zh) | 2018-04-10 | 2020-11-17 | 巴斯夫欧洲公司 | 渗透性超吸收剂及其制备方法 |
US20210222038A1 (en) | 2018-04-30 | 2021-07-22 | Basf Se | High molar mass polymers from a continuous process |
CN110467692A (zh) | 2018-05-11 | 2019-11-19 | 北京英力科技发展有限公司 | 一种聚丙烯酸酯类大分子光引发剂及其合成方法与应用 |
DE102019216910A1 (de) | 2018-11-12 | 2020-05-14 | Basf Se | Verfahren zur Oberflächennachvernetzung von Superabsorbern |
US20200308320A1 (en) * | 2019-03-26 | 2020-10-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Curable composition comprising dual-functional photoinitiator |
US20220288559A1 (en) | 2019-07-24 | 2022-09-15 | Basf Se | Permeable superabsorbent and process for production thereof |
JP7016199B2 (ja) * | 2019-12-13 | 2022-02-04 | Kjケミカルズ株式会社 | 光重合開始剤 |
KR20230041759A (ko) | 2020-07-20 | 2023-03-24 | 바스프 에스이 | 수계 코팅 조성물에서 결합제로서 적합한 필름-형성 공중합체의 수성 중합체 라텍스 |
WO2023118439A1 (en) | 2021-12-23 | 2023-06-29 | Basf Se | Use of polymer dispersions in waterborne coating formulations and polymer dispersions therefor |
WO2023196484A1 (en) | 2022-04-07 | 2023-10-12 | Basf Se | Dual curable pressure sensitive adhesive |
WO2024105095A1 (en) | 2022-11-18 | 2024-05-23 | Basf Se | Aqueous polymer latex of film-forming copolymers suitable as binder in waterborne coating compositions |
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