JP2510905B2 - アルコ―ル、アルデヒド及び／又はエ―テル官能基を含む新規アクリレ―ト並びにその製造方法 - Google Patents
アルコ―ル、アルデヒド及び／又はエ―テル官能基を含む新規アクリレ―ト並びにその製造方法Info
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Description
【０００１】本発明は、アルコール、アルデヒド及びエ
ーテル官能基から選択した少なくとも２つの官能基を有
する新規のアクリレートと、該アクリレートの製造方法
と、該アクリレートの新規ポリマー及びコポリマーの製
造への使用とに係わる。
ーテル官能基から選択した少なくとも２つの官能基を有
する新規のアクリレートと、該アクリレートの製造方法
と、該アクリレートの新規ポリマー及びコポリマーの製
造への使用とに係わる。
【０００２】米国特許第３，７４３，６６９号には、式
ＣＨ2 ＝ＣＨＹで示されるα，β−オレフィン系不飽和
カルボン酸誘導体と式ＲＣＨＯで示されるアルデヒドと
を液相中約０〜２００°Ｃの温度で反応させることによ
って、下記の式
ＣＨ2 ＝ＣＨＹで示されるα，β−オレフィン系不飽和
カルボン酸誘導体と式ＲＣＨＯで示されるアルデヒドと
を液相中約０〜２００°Ｃの温度で反応させることによ
って、下記の式
【０００３】
【化６】
【０００４】で示されるアクリル酸化合物を製造する方
法が開示されている。
法が開示されている。
【０００５】前記式中、Ｙは下記の基
【０００６】
【化７】
【０００７】から選択され、Ｒ1 〜Ｒ4 は各々がアルキ
ル（Ｃ1 〜Ｃ12）、シクロアルキル（Ｃ5 〜Ｃ12）、ア
リール、アルアルキル又はアルカリールを表し、Ｒはア
ルキル（Ｃ1 〜Ｃ8 ）、アルク−（Ｃ1 〜Ｃ4 ）アリー
ル、アルアルキル（Ｃ1 〜Ｃ4 ）又はアリールを表す。
この反応は、３つの環に共通の窒素原子を少なくとも１
つ含む環式第三アミンを触媒量存在させて行う。この反
応の速度は室温では極めて遅い。例えば、７．９モルの
アセトアルデヒドと５．２７モルのアクリル酸エチルと
の反応を０．２６モルのジアザビシクロ［２，２，２］
−オクタンの存在下で室温で生起させた場合には、９３
％の２−（１−ヒドロキシエチル）アクリル酸エチルを
得るのに７日かかる。同じ反応を１２０〜１２４°Ｃで
生起させると８時間後には変換率が８２％に達するが、
その代わりに選択性が損なわれる。また本出願人は、ト
リメチルアセトアルデヒドのように立体障害のあるカル
ボニル基を有する特定のアルデヒドを用いると、前記反
応が１０日たっても生起しないことを発見した。
ル（Ｃ1 〜Ｃ12）、シクロアルキル（Ｃ5 〜Ｃ12）、ア
リール、アルアルキル又はアルカリールを表し、Ｒはア
ルキル（Ｃ1 〜Ｃ8 ）、アルク−（Ｃ1 〜Ｃ4 ）アリー
ル、アルアルキル（Ｃ1 〜Ｃ4 ）又はアリールを表す。
この反応は、３つの環に共通の窒素原子を少なくとも１
つ含む環式第三アミンを触媒量存在させて行う。この反
応の速度は室温では極めて遅い。例えば、７．９モルの
アセトアルデヒドと５．２７モルのアクリル酸エチルと
の反応を０．２６モルのジアザビシクロ［２，２，２］
−オクタンの存在下で室温で生起させた場合には、９３
％の２−（１−ヒドロキシエチル）アクリル酸エチルを
得るのに７日かかる。同じ反応を１２０〜１２４°Ｃで
生起させると８時間後には変換率が８２％に達するが、
その代わりに選択性が損なわれる。また本出願人は、ト
リメチルアセトアルデヒドのように立体障害のあるカル
ボニル基を有する特定のアルデヒドを用いると、前記反
応が１０日たっても生起しないことを発見した。
【０００８】構造中にヒドロキシル基を含むアクリレー
トが示すと予想される特定の挙動を考慮して、本出願人
はジアルデヒドを用いた官能化によって新規のアクリレ
ートを製造する方法を研究した。
トが示すと予想される特定の挙動を考慮して、本出願人
はジアルデヒドを用いた官能化によって新規のアクリレ
ートを製造する方法を研究した。
【０００９】そこで本発明は第１の目的として、下記の
式
式
【００１０】
【化８】
【００１１】で示される化合物、下記の式
【００１２】
【化９】
【００１３】で示される化合物、及び下記の式
【００１４】
【化１０】
【００１５】で示される化合物から選択される新規のア
クリレートを提供する。
クリレートを提供する。
【００１６】前記式中、 − Ｒは炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数
５〜１２のシクロアルキル基、アリール、アリールアル
キル及びアルキルアリール基から選択した基であり、 − Ｙは炭素原子数１〜１２のアルキレン基、炭素原子
数６〜１２のアリレン基、環が５〜１２員環であり且つ
ヘテロ原子が窒素、酸素及び硫黄から選択される複素環
基、並びにアルキル部分が１〜４個の炭素原子を含むア
ルキルアリレン基から選択した基であり、Ｒがメチルを
表す時はＹが１，４−フェニレンを表すことはできず、 − Ｚは酸素及び２つの隣接炭素と一緒に４〜８員環、
好ましくは５又は６員環を形成する少なくとも２つの炭
素原子を含む炭化水素基である。
５〜１２のシクロアルキル基、アリール、アリールアル
キル及びアルキルアリール基から選択した基であり、 − Ｙは炭素原子数１〜１２のアルキレン基、炭素原子
数６〜１２のアリレン基、環が５〜１２員環であり且つ
ヘテロ原子が窒素、酸素及び硫黄から選択される複素環
基、並びにアルキル部分が１〜４個の炭素原子を含むア
ルキルアリレン基から選択した基であり、Ｒがメチルを
表す時はＹが１，４−フェニレンを表すことはできず、 − Ｚは酸素及び２つの隣接炭素と一緒に４〜８員環、
好ましくは５又は６員環を形成する少なくとも２つの炭
素原子を含む炭化水素基である。
【００１７】基Ｒの具体例としては、特にメチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブ
チル、フェニル及びベンジル基が挙げられる。基Ｙの具
体例としては、基（ＣＨ2 ）ｎ［式中ｎは４〜１２の整
数である］、フェニレン（オルト，メタ，パラ）基Ｃ6
Ｈ4 、３，３’−ジフェニル基、４，４’−ジフェニル
基、２，５−チオフェニル基及び２，５−フリル基が挙
げられる。
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブ
チル、フェニル及びベンジル基が挙げられる。基Ｙの具
体例としては、基（ＣＨ2 ）ｎ［式中ｎは４〜１２の整
数である］、フェニレン（オルト，メタ，パラ）基Ｃ6
Ｈ4 、３，３’−ジフェニル基、４，４’−ジフェニル
基、２，５−チオフェニル基及び２，５−フリル基が挙
げられる。
【００１８】基Ｚの具体例としては、特に基（ＣＨ2 ）
2 、基（ＣＨ2 ）3 、及びフェニレン基Ｃ6 Ｈ4 が挙げ
られる。
2 、基（ＣＨ2 ）3 、及びフェニレン基Ｃ6 Ｈ4 が挙げ
られる。
【００１９】本発明の第２の目的は、式（Ｉ）〜（ＩＩ
Ｉ）のアクリレートの製造方法を提供することにある。
これらの化合物の製造には、共通の特徴として、アルコ
ールＲＯＨから誘導したアクリレートとジアルデヒドと
を使用する操作ステップが含まれるが、これらの化合物
の合成には式（Ｉ）及び（ＩＩＩ）のモノアクリレート
を製造するのか又は式（ＩＩ）のジアクリレートを製造
するのかによって異なる固有の特徴もある。そこで、本
明細書では本発明の方法を本発明の化合物の種類毎に説
明する。
Ｉ）のアクリレートの製造方法を提供することにある。
これらの化合物の製造には、共通の特徴として、アルコ
ールＲＯＨから誘導したアクリレートとジアルデヒドと
を使用する操作ステップが含まれるが、これらの化合物
の合成には式（Ｉ）及び（ＩＩＩ）のモノアクリレート
を製造するのか又は式（ＩＩ）のジアクリレートを製造
するのかによって異なる固有の特徴もある。そこで、本
明細書では本発明の方法を本発明の化合物の種類毎に説
明する。
【００２０】式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）のアクリレートの製
造は、下記の式
造は、下記の式
【００２１】
【化１１】
【００２２】［式中Ｒは前述の意味を有する］で示され
るアクリレートと、下記の式
るアクリレートと、下記の式
【００２３】
【化１２】
【００２４】［式中、Ｙは前述の意味を有する］で示さ
れるジアルデヒドとを、少なくとも１種類の官能化触媒
を有効量存在させて反応させることにより実施する。ア
ルデヒドとの反応に適した官能化触媒としては特に、比
較的強い塩基、例えば米国特許第３，７４３，６６９号
に記載の３つの環に共通の窒素原子を少なくとも１つ含
む環式第三アミン、例えばジアザビシクロ［２，２，
２］オクタン、キヌクリジン及びα−キヌクリジノール
が挙げられる。官能化触媒の有効量は勿論その触媒の種
類によって決まるが、式（ＩＶ）のアクリレート及び式
（Ｖ）のアルデヒドにも依存する。この量は通常、存在
する反応物質即ちアクリレート及びジアルデヒドの合計
の約２〜２０％、好ましくは４〜１０モル％である。
れるジアルデヒドとを、少なくとも１種類の官能化触媒
を有効量存在させて反応させることにより実施する。ア
ルデヒドとの反応に適した官能化触媒としては特に、比
較的強い塩基、例えば米国特許第３，７４３，６６９号
に記載の３つの環に共通の窒素原子を少なくとも１つ含
む環式第三アミン、例えばジアザビシクロ［２，２，
２］オクタン、キヌクリジン及びα−キヌクリジノール
が挙げられる。官能化触媒の有効量は勿論その触媒の種
類によって決まるが、式（ＩＶ）のアクリレート及び式
（Ｖ）のアルデヒドにも依存する。この量は通常、存在
する反応物質即ちアクリレート及びジアルデヒドの合計
の約２〜２０％、好ましくは４〜１０モル％である。
【００２５】式（Ｖ）のジアルデヒドの具体例としては
特に、テレフタルアルデヒド、イソフタルアルデヒド、
オルトフタルアルデヒド、グルタルアルデヒド、ヘキサ
ンジアール、デカンジアール、ドデカンジアール、チオ
フェン−２，５−ジカルボキシアルデヒド、フラン−
２，５−ジカルボキシアルデヒド、３，３’−ビホルミ
ルジフェニル及び４，４’−ビホルミルジフェニルが挙
げられる。
特に、テレフタルアルデヒド、イソフタルアルデヒド、
オルトフタルアルデヒド、グルタルアルデヒド、ヘキサ
ンジアール、デカンジアール、ドデカンジアール、チオ
フェン−２，５−ジカルボキシアルデヒド、フラン−
２，５−ジカルボキシアルデヒド、３，３’−ビホルミ
ルジフェニル及び４，４’−ビホルミルジフェニルが挙
げられる。
【００２６】本発明の製造方法はまた、塩化リチウム又
はフッ化リチウムのような少なくとも１種類の親電子活
性化剤を、存在する反応物質即ちアクリレート及びジア
ルデヒドの合計の約５モル％に及び得る量で存在させて
実施し得る。
はフッ化リチウムのような少なくとも１種類の親電子活
性化剤を、存在する反応物質即ちアクリレート及びジア
ルデヒドの合計の約５モル％に及び得る量で存在させて
実施し得る。
【００２７】本発明の方法はまた、テトラヒドロフラ
ン、塩化メチレン、クロロホルム、ジオキサン、アセト
ニトリル、メチルエチルケトン、エタノール、酢酸エチ
ル等のような有機溶媒の存在下でも実施し得る。
ン、塩化メチレン、クロロホルム、ジオキサン、アセト
ニトリル、メチルエチルケトン、エタノール、酢酸エチ
ル等のような有機溶媒の存在下でも実施し得る。
【００２８】本発明の方法を実施する時は温度を１５°
Ｃ〜１２５°Ｃ、好ましくは２０°Ｃ〜５０°Ｃの範囲
で選択し得、溶媒を用いる場合はその溶媒の沸点を超え
ないようにする。
Ｃ〜１２５°Ｃ、好ましくは２０°Ｃ〜５０°Ｃの範囲
で選択し得、溶媒を用いる場合はその溶媒の沸点を超え
ないようにする。
【００２９】反応物質は反応媒質中に任意の濃度で存在
させ得る。但し、反応速度に鑑みて、通常は溶媒で過度
に希釈せずに約０．２〜１０のアクリレート／ジアルデ
ヒドモル比に従うのが好ましい。２種類の反応物質のう
ち一方を他方より過剰にすれば、その反応物質が溶媒と
して機能する。
させ得る。但し、反応速度に鑑みて、通常は溶媒で過度
に希釈せずに約０．２〜１０のアクリレート／ジアルデ
ヒドモル比に従うのが好ましい。２種類の反応物質のう
ち一方を他方より過剰にすれば、その反応物質が溶媒と
して機能する。
【００３０】本発明の反応は少なくとも１種類の重合防
止剤を有効量存在させて実施し得る。使用できる重合防
止剤の具体例としては特に、フェノチアジン、ヒドロキ
ノンメチルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルア
ミン、ニトロベンゼン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルカテコー
ル、ヒドロキノン、ｐ−アニリノフェノール、ジ（２−
エチルヘキシル）オクチルフェニルホスフィット、２，
５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン、
メチレンブルー及びこれらを任意の比率で混合したもの
が挙げられる。重合防止剤の有効量は通常アクリル酸化
合物の０．０５〜０．５重量％である。
止剤を有効量存在させて実施し得る。使用できる重合防
止剤の具体例としては特に、フェノチアジン、ヒドロキ
ノンメチルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルア
ミン、ニトロベンゼン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルカテコー
ル、ヒドロキノン、ｐ−アニリノフェノール、ジ（２−
エチルヘキシル）オクチルフェニルホスフィット、２，
５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン、
メチレンブルー及びこれらを任意の比率で混合したもの
が挙げられる。重合防止剤の有効量は通常アクリル酸化
合物の０．０５〜０．５重量％である。
【００３１】通常は大気圧で十分であるが、本発明の方
法は加圧下で実施してもよい。
法は加圧下で実施してもよい。
【００３２】但し、本発明の反応を式（Ｉ）及び（ＩＩ
Ｉ）のモノアクリレートの製造に向けたいのか又は式
（ＩＩ）のジアクリレートの製造に向けたいのかによっ
て、順守しなければならない特定の条件もある。実際、
本発明の反応では通常モノアクリレートとジアクリレー
トとの混合物が製造されるため、反応を停止させるべく
選択した時点でこの混合物を一般的な分離方法により分
離しなければならない。この分離は、形成される２種類
の化合物が常圧及び常温で互いに異なる物理的状態を示
す場合には容易に実施される。例えば、テレフタルアル
デヒドの場合は、形成されるモノアクリレートが液体で
あるのに対し形成されるジアクリレートが固体である。
また前述のように、本発明の反応に使用した式（Ｖ）の
ジアルデヒドがそのジアルデヒドの酸素原子の１つを組
み込んでの環化が容易に生起し得るような構造を有する
場合には、式（ＩＩＩ）のモノアクリレートが式（Ｉ）
のモノアクリレートより優先的に形成される。このよう
な可能性は、特にＹが（ＣＨ2 ）2 もしくは（ＣＨ2 ）
3 基であるか又はアルデヒド官能基をオルト位に有する
フェニレン基Ｃ6 Ｈ4 である場合に有利である。
Ｉ）のモノアクリレートの製造に向けたいのか又は式
（ＩＩ）のジアクリレートの製造に向けたいのかによっ
て、順守しなければならない特定の条件もある。実際、
本発明の反応では通常モノアクリレートとジアクリレー
トとの混合物が製造されるため、反応を停止させるべく
選択した時点でこの混合物を一般的な分離方法により分
離しなければならない。この分離は、形成される２種類
の化合物が常圧及び常温で互いに異なる物理的状態を示
す場合には容易に実施される。例えば、テレフタルアル
デヒドの場合は、形成されるモノアクリレートが液体で
あるのに対し形成されるジアクリレートが固体である。
また前述のように、本発明の反応に使用した式（Ｖ）の
ジアルデヒドがそのジアルデヒドの酸素原子の１つを組
み込んでの環化が容易に生起し得るような構造を有する
場合には、式（ＩＩＩ）のモノアクリレートが式（Ｉ）
のモノアクリレートより優先的に形成される。このよう
な可能性は、特にＹが（ＣＨ2 ）2 もしくは（ＣＨ2 ）
3 基であるか又はアルデヒド官能基をオルト位に有する
フェニレン基Ｃ6 Ｈ4 である場合に有利である。
【００３３】本発明の反応によって形成されるモノアク
リレートとジアクリレートとの混合物の組成は、下記の
ような一連のパラメータに複雑に左右される： − 反応時間：選択した反応温度及び圧力に応じて約１
時間から約１２日にし得る。通常は室温で約２〜３時間
という比較的短い時間の後に先ずほぼ定量的にモノアク
リレートが形成され、次いでこのモノアクリレートが漸
次消滅してジアクリレートが形成される。
リレートとジアクリレートとの混合物の組成は、下記の
ような一連のパラメータに複雑に左右される： − 反応時間：選択した反応温度及び圧力に応じて約１
時間から約１２日にし得る。通常は室温で約２〜３時間
という比較的短い時間の後に先ずほぼ定量的にモノアク
リレートが形成され、次いでこのモノアクリレートが漸
次消滅してジアクリレートが形成される。
【００３４】− 使用する溶媒の種類：他の総ての条件
が同じであれば、ジアクリレートはクロロホルム中でよ
りテトラヒドロフラン又は塩化メチレン中での方が遥か
に容易に形成される。
が同じであれば、ジアクリレートはクロロホルム中でよ
りテトラヒドロフラン又は塩化メチレン中での方が遥か
に容易に形成される。
【００３５】− 使用する溶媒の量：テトラヒドロフラ
ンのような溶媒で希釈すると第１段階のモノアクリレー
ト形成の速度が低下し、第２段階のジアクリレート形成
の速度が更に大幅に低下する。
ンのような溶媒で希釈すると第１段階のモノアクリレー
ト形成の速度が低下し、第２段階のジアクリレート形成
の速度が更に大幅に低下する。
【００３６】− 使用する官能化触媒の量：他の総ての
条件が同じであれば、触媒量を増やすとモノアクリレー
トの形成がやや促進され、ジアクリレートの形成が更に
顕著に促進される。
条件が同じであれば、触媒量を増やすとモノアクリレー
トの形成がやや促進され、ジアクリレートの形成が更に
顕著に促進される。
【００３７】− アクリレート／ジアルデヒドのモル
比：溶媒を存在させ且つ総量を一定にすれば、即ち希釈
効果を除けば、このモル比が大きくなるとジアクリレー
トの形成が促進される。
比：溶媒を存在させ且つ総量を一定にすれば、即ち希釈
効果を除けば、このモル比が大きくなるとジアクリレー
トの形成が促進される。
【００３８】− 反応温度：他の総ての条件が同じであ
れば、温度を上げるとジアクリレートの形成速度が上昇
する。
れば、温度を上げるとジアクリレートの形成速度が上昇
する。
【００３９】本発明の新規のアクリレートは他のエチレ
ン系不飽和モノマーと重合又は共重合できる。エチレン
不飽和モノマーとしては、エチレンの他に下記のものが
挙げられる： − 例えば塩素もしくはフッ素のような少なくとも１つ
のハロゲン原子及び／又は少なくとも１つのヒドロキシ
ル基で任意に置換した線状又は分枝アルキル基が１〜２
０個の炭素原子を含むアクリル酸又はメタクリル酸アル
キル。
ン系不飽和モノマーと重合又は共重合できる。エチレン
不飽和モノマーとしては、エチレンの他に下記のものが
挙げられる： − 例えば塩素もしくはフッ素のような少なくとも１つ
のハロゲン原子及び／又は少なくとも１つのヒドロキシ
ル基で任意に置換した線状又は分枝アルキル基が１〜２
０個の炭素原子を含むアクリル酸又はメタクリル酸アル
キル。
【００４０】− アクリル酸又はメタクリル酸アリー
ル、例えばメタクリル酸ベンジル。
ル、例えばメタクリル酸ベンジル。
【００４１】− ビニル芳香族炭化水素、例えばスチレ
ン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、４−メチル
スチレン、３−メチルスチレン、４−メトキシスチレ
ン、２−ヒドロキシメチルスチレン、４−エチルスチレ
ン、４−エトキシスチレン、３，４−ジメチルスチレ
ン、２−クロロスチレン、３−クロロスチレン、４−ク
ロロ−３−メチルスチレン、３−ｔｅｒｔ−ブチルスチ
レン、２，４−ジクロロスチレン、２，６−ジクロロス
チレン及び１−ビニルナフタレン。
ン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、４−メチル
スチレン、３−メチルスチレン、４−メトキシスチレ
ン、２−ヒドロキシメチルスチレン、４−エチルスチレ
ン、４−エトキシスチレン、３，４−ジメチルスチレ
ン、２−クロロスチレン、３−クロロスチレン、４−ク
ロロ−３−メチルスチレン、３−ｔｅｒｔ−ブチルスチ
レン、２，４−ジクロロスチレン、２，６−ジクロロス
チレン及び１−ビニルナフタレン。
【００４２】− 不飽和ニトリル、例えばアクリロニト
リル又はメタクリロニトリル。
リル又はメタクリロニトリル。
【００４３】− Ｎ−置換マレイミド、例えばＮ−エチ
ルマレイミド、Ｎ−イソプロピルマレイミド、Ｎ−ｎ−
ブチルマレイミド、Ｎ−イソブチルマレイミド、Ｎ−ｔ
ｅｒｔ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミ
ド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレ
イミド及びＮ−フェニルマレイミド。
ルマレイミド、Ｎ−イソプロピルマレイミド、Ｎ−ｎ−
ブチルマレイミド、Ｎ−イソブチルマレイミド、Ｎ−ｔ
ｅｒｔ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｎ−オクチルマレイミ
ド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレ
イミド及びＮ−フェニルマレイミド。
【００４４】− 不飽和ジカルボン酸無水物、例えば無
水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸又は
無水テトラヒドロフタル酸。
水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸又は
無水テトラヒドロフタル酸。
【００４５】− アクリル酸又はメタクリル酸。
【００４６】− アクリル酸又はメタクリル酸ポリオー
ル、例えばエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオー
ル、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコー
ル、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロ
ヘキサンジメタノール、２，２，４−トリメチル−１，
３−ペンタンジオール、２−エチル−２−メチル−１，
３−プロパンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プ
ロパンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレン
グリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレン
グリコール、テトラエチレングリコール、テトラプロピ
レングリコール、トリメチロールエタン、トリメチロー
ルプロパン、グリセリン、ペンタエリトリトールのジア
クリレート又はジメタクリレート；トリメチロールエタ
ン、トリメチロールプロパン、グリセロール及びペンタ
エリトリトールのトリアクリレート又はトリメタクリレ
ート；テトラアクリル酸及びテトラメタクリル酸ペンタ
エリトリトール；ジ（メタ）アクリル酸〜ヘキサ（メ
タ）アクリル酸ジペンタエリトリトール；モノもしくは
ポリエトキシル化ポリオール又はモノもしくはポリプロ
ポキシル化ポリオールのポリ（メタ）アクリレート、例
えばトリエトキシル化トリメチロールプロパン及びトリ
プロポキシル化トリメチロールプロパンのトリアクリレ
ート及びトリメタクリレート；トリプロポキシル化グリ
セリンのトリアクリレート及びトリメタクリレート；テ
トラエトキシル化ペンタエリトリトールのトリアクリレ
ート、トリメタクリレート、テトラアクリレート及びテ
トラメタクリレート。
ル、例えばエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオー
ル、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコー
ル、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロ
ヘキサンジメタノール、２，２，４−トリメチル−１，
３−ペンタンジオール、２−エチル−２−メチル−１，
３−プロパンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プ
ロパンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレン
グリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレン
グリコール、テトラエチレングリコール、テトラプロピ
レングリコール、トリメチロールエタン、トリメチロー
ルプロパン、グリセリン、ペンタエリトリトールのジア
クリレート又はジメタクリレート；トリメチロールエタ
ン、トリメチロールプロパン、グリセロール及びペンタ
エリトリトールのトリアクリレート又はトリメタクリレ
ート；テトラアクリル酸及びテトラメタクリル酸ペンタ
エリトリトール；ジ（メタ）アクリル酸〜ヘキサ（メ
タ）アクリル酸ジペンタエリトリトール；モノもしくは
ポリエトキシル化ポリオール又はモノもしくはポリプロ
ポキシル化ポリオールのポリ（メタ）アクリレート、例
えばトリエトキシル化トリメチロールプロパン及びトリ
プロポキシル化トリメチロールプロパンのトリアクリレ
ート及びトリメタクリレート；トリプロポキシル化グリ
セリンのトリアクリレート及びトリメタクリレート；テ
トラエトキシル化ペンタエリトリトールのトリアクリレ
ート、トリメタクリレート、テトラアクリレート及びテ
トラメタクリレート。
【００４７】− ２−エポキシエチルビシクロ［２．
２．１］ヘプト−５（６）−イル アクリレート（メタ
クリレート）、エポキシジシクロペンチルオキシエチル
アクリレート、下記の式
２．１］ヘプト−５（６）−イル アクリレート（メタ
クリレート）、エポキシジシクロペンチルオキシエチル
アクリレート、下記の式
【００４８】
【化１３】
【００４９】［式中、Ｒ1 は水素原子及びメチル基から
選択され、ｎは１〜１６の整数である］で示される化合
物、下記の式
選択され、ｎは１〜１６の整数である］で示される化合
物、下記の式
【００５０】
【化１４】
【００５１】［式中、Ｒ1 は水素原子及びメチル基から
選択され、Ｒ2 は炭素原子数１〜１２のアルキル基及び
炭素原子数６〜１２のアリール基から選択される］で示
される化合物、並びに下記の式
選択され、Ｒ2 は炭素原子数１〜１２のアルキル基及び
炭素原子数６〜１２のアリール基から選択される］で示
される化合物、並びに下記の式
【００５２】
【化１５】
【００５３】及び
【００５４】
【化１６】
【００５５】［式中、Ｒ1 は水素原子及びメチル基から
選択される］で示される化合物から選択したエポキシ化
アクリレート又はメタクリレート。
選択される］で示される化合物から選択したエポキシ化
アクリレート又はメタクリレート。
【００５６】− アクリルアミドもしくはメタクリルア
ミド又はジアルキルアミノアルキルアクリレートもしく
はメタクリレート、及びその四級塩。
ミド又はジアルキルアミノアルキルアクリレートもしく
はメタクリレート、及びその四級塩。
【００５７】− ２−（２−ノルボルニルオキシ）エチ
ル及び２−（２−ジメタノデカヒドロナフチルオキシ）
エチル アクリレート及びメタクリレート。
ル及び２−（２−ジメタノデカヒドロナフチルオキシ）
エチル アクリレート及びメタクリレート。
【００５８】− 下記の式
【００５９】
【化１７】
【００６０】で示される化合物、及び下記の式
【００６１】
【化１８】
【００６２】で示される化合物［前記式中、Ｒ1 は水素
原子及びメチル基から選択され、ｎは１〜１２の整数で
あり、ｍは１〜３の整数であり、Ｒ2 は炭素原子数５〜
１２の分枝状又は環式線状アルキル又は芳香族炭化水素
基である］から選択したアクリル及びメタクリルオキサ
ゾリドン。
原子及びメチル基から選択され、ｎは１〜１２の整数で
あり、ｍは１〜３の整数であり、Ｒ2 は炭素原子数５〜
１２の分枝状又は環式線状アルキル又は芳香族炭化水素
基である］から選択したアクリル及びメタクリルオキサ
ゾリドン。
【００６３】このオキサゾリドンは、アクリル（メタク
リル）官能基を有する化合物と少なくとも１つのイソシ
アネート官能基を有する化合物とを３０°Ｃ〜９０°Ｃ
で反応させることによって製造できる。
リル）官能基を有する化合物と少なくとも１つのイソシ
アネート官能基を有する化合物とを３０°Ｃ〜９０°Ｃ
で反応させることによって製造できる。
【００６４】− 下記の式
【００６５】
【化１９】
【００６６】［式中、Ｒ1 は水素原子及びメチル基から
選択され、Ａはｎが２〜１２の整数である基（ＣＨ2 ）
ｎ及びｄが１〜２０の整数である基−（ＣＨ2 ＣＨ
2 Ｏ）d −ＣＨ2 ＣＨ2 −から選択され、Ｘは硫黄及び
酸素原子から選択され、Ｙは硫黄及び酸素原子から選択
され、但しＡが基−（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）d −ＣＨ2 ＣＨ
2 −の場合はＸが硫黄原子、Ｙが酸素原子であり、Ｒは
炭素原子数１〜２０のアルキル基、並びにｐが３〜１２
の整数であり且つＲ3 が炭素原子数１〜２０のアルキル
基である基−（ＣＨ2 ）ｐＳＲ3 から選択される］で示
される化合物、下記の式
選択され、Ａはｎが２〜１２の整数である基（ＣＨ2 ）
ｎ及びｄが１〜２０の整数である基−（ＣＨ2 ＣＨ
2 Ｏ）d −ＣＨ2 ＣＨ2 −から選択され、Ｘは硫黄及び
酸素原子から選択され、Ｙは硫黄及び酸素原子から選択
され、但しＡが基−（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）d −ＣＨ2 ＣＨ
2 −の場合はＸが硫黄原子、Ｙが酸素原子であり、Ｒは
炭素原子数１〜２０のアルキル基、並びにｐが３〜１２
の整数であり且つＲ3 が炭素原子数１〜２０のアルキル
基である基−（ＣＨ2 ）ｐＳＲ3 から選択される］で示
される化合物、下記の式
【００６７】
【化２０】
【００６８】［式中、Ｒ1 は水素原子及びメチル基から
選択され、Ａはｎが２〜１２の整数である基（ＣＨ2 ）
ｎ及びｄが１〜２０の整数である基−（ＣＨ2 ＣＨ
2 Ｏ）d −ＣＨ2 ＣＨ2 −から選択され、Ｘは硫黄及び
酸素原子から選択される］で示される化合物、並びに下
記の式
選択され、Ａはｎが２〜１２の整数である基（ＣＨ2 ）
ｎ及びｄが１〜２０の整数である基−（ＣＨ2 ＣＨ
2 Ｏ）d −ＣＨ2 ＣＨ2 −から選択され、Ｘは硫黄及び
酸素原子から選択される］で示される化合物、並びに下
記の式
【００６９】
【化２１】
【００７０】［式中、Ｒ1 は水素原子及びメチル基から
選択され、Ａはｎが２〜１２の整数である基（ＣＨ2 ）
ｎから選択され、ｍは１〜３の整数であり、Ｚは水素原
子、基Ｒ2 ＱＨ（Ｒ2 は炭素原子数２〜１２のアルキル
基であり、Ｑは酸素原子又は硫黄原子である）、並びに
周期表の第ＩＡ族、第ＩＩＡ族、第ＩＩＩＡ族、第ＩＢ
族、第ＩＩＢ族、第ＶＩＢ族、第ＶＩＩＢ族及び第ＶＩ
ＩＩ族の金属原子から選択され、但しｍ＝１の場合はＺ
が水素原子及び基Ｒ2 ＯＨから選択され、Ｚが金属の場
合はｍがＺの原子価を表す］で示される化合物から選択
されるアクリル酸及びメタクリル酸化合物。この種の化
合物は、下記の式
選択され、Ａはｎが２〜１２の整数である基（ＣＨ2 ）
ｎから選択され、ｍは１〜３の整数であり、Ｚは水素原
子、基Ｒ2 ＱＨ（Ｒ2 は炭素原子数２〜１２のアルキル
基であり、Ｑは酸素原子又は硫黄原子である）、並びに
周期表の第ＩＡ族、第ＩＩＡ族、第ＩＩＩＡ族、第ＩＢ
族、第ＩＩＢ族、第ＶＩＢ族、第ＶＩＩＢ族及び第ＶＩ
ＩＩ族の金属原子から選択され、但しｍ＝１の場合はＺ
が水素原子及び基Ｒ2 ＯＨから選択され、Ｚが金属の場
合はｍがＺの原子価を表す］で示される化合物から選択
されるアクリル酸及びメタクリル酸化合物。この種の化
合物は、下記の式
【００７１】
【化２２】
【００７２】［式中、Ｒ1 、Ａ及びＹは式（Ｉ）の場合
と同じ意味を表す］で示されるアクリル酸又はメタクリ
ル酸化合物を五価のリン化合物と反応させることによっ
て製造できる。五価のリン化合物は、例えば式ＰＸＴ3
［Ｘは式（ＩＩ）の場合と同じ意味を表し、Ｔはハロゲ
ン原子を表す］で示される化合物、又は下記の式
と同じ意味を表す］で示されるアクリル酸又はメタクリ
ル酸化合物を五価のリン化合物と反応させることによっ
て製造できる。五価のリン化合物は、例えば式ＰＸＴ3
［Ｘは式（ＩＩ）の場合と同じ意味を表し、Ｔはハロゲ
ン原子を表す］で示される化合物、又は下記の式
【００７３】
【化２３】
【００７４】［式中、Ｒ及びＸは式（Ｉ）の場合と同じ
意味を表し、Ｔはハロゲン原子を表す］で示されるリン
化合物、又はペンタスルフィドＰ2 Ｓ5 であってよい。
意味を表し、Ｔはハロゲン原子を表す］で示されるリン
化合物、又はペンタスルフィドＰ2 Ｓ5 であってよい。
【００７５】一般的には、遊離ラジカル発生手段、例え
ばマイクロ波、β放射線、γ放射線、紫外線、又はペル
スルフェート、ペルオキシド、ヒドロペルオキシドもし
くはジアゾ化合物のごとき化学的開始剤の作用でラジカ
ルプロセスにより共重合することができる任意のエチレ
ン系不飽和モノマーを使用し得る。
ばマイクロ波、β放射線、γ放射線、紫外線、又はペル
スルフェート、ペルオキシド、ヒドロペルオキシドもし
くはジアゾ化合物のごとき化学的開始剤の作用でラジカ
ルプロセスにより共重合することができる任意のエチレ
ン系不飽和モノマーを使用し得る。
【００７６】そこで、本発明は第３の目的として、Ｒが
メチルを表す場合はＹが１，４−フェニレンも表し得る
という条件で、式（Ｉ）、（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）のア
クリレートから誘導した少なくとも１つの単位を鎖中に
含み、且つ適当であれば、前述のような別のエチレン系
不飽和モノマーから誘導した単位も１つ以上含むポリマ
ーを提供する。コポリマーの場合には、重合条件をエチ
レン系不飽和コモノマーの重合で通常使用される条件に
できるだけ近くなるように選択する。エチレン系不飽和
コモノマーの重合で通常使用される条件は下記の通りで
ある： − 当該コモノマーがエチレンの場合は温度を１４０°
Ｃ〜３００°Ｃにし、圧力を約１０００〜３０００バー
ルにする。
メチルを表す場合はＹが１，４−フェニレンも表し得る
という条件で、式（Ｉ）、（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）のア
クリレートから誘導した少なくとも１つの単位を鎖中に
含み、且つ適当であれば、前述のような別のエチレン系
不飽和モノマーから誘導した単位も１つ以上含むポリマ
ーを提供する。コポリマーの場合には、重合条件をエチ
レン系不飽和コモノマーの重合で通常使用される条件に
できるだけ近くなるように選択する。エチレン系不飽和
コモノマーの重合で通常使用される条件は下記の通りで
ある： − 当該コモノマーがエチレンの場合は温度を１４０°
Ｃ〜３００°Ｃにし、圧力を約１０００〜３０００バー
ルにする。
【００７７】− 当該コモノマーがアクリル酸又はメタ
クリル酸化合物の場合は温度を約３０°Ｃ〜９０°Ｃに
する。
クリル酸化合物の場合は温度を約３０°Ｃ〜９０°Ｃに
する。
【００７８】− 当該コモノマーがビニル芳香族炭化水
素の場合は温度を約８０°Ｃ〜２００°Ｃにする。
素の場合は温度を約８０°Ｃ〜２００°Ｃにする。
【００７９】本発明がより良く理解されるように、以下
に非限定的実施例を挙げる参考例１〜２５ 冷却器を備えた３リットルのガラス製丸底フラスコ内
に、２６．８ｇ（０．２モル）のテレフタルアルデヒド
と、ｘモルのジアザビシクロ［２．２．２］オクタン
と、ｙモルのアクリル酸メチルと、ｚｍｌの溶媒とを順
次導入する。この混合物を温度Ｔ（°Ｃ）で時間ｔ
（時）にわたり撹拌する。時間ｔが経過したら、該反応
混合物中に存在するモノアクリレートの割合Ｍ（％）と
ジアクリレートの割合Ｄ（％）とを気相クロマトグラフ
ィーで測定する。この測定値は反応パラメータと共に表
Ｉに示した。次いで該混合物に、２００ｍｌの塩化メチ
ルと１２０ｍｌの１Ｎ 塩酸とを加える。水相を４０ｍ
ｌの塩化メチレンで一回抽出する。有機相を８０ｍｌの
水で２回洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥する。
溶媒を蒸発させた後、形成されたモノアクリレート又は
ジアクリレートをシリカカラムで精製する。溶離剤は３
５％の酢酸エチルと６５％の石油エーテルとを含む混合
物である。モノアクリレート（メチル ３−（４−カル
ボキシアルデヒドフェニル）−３−ヒドロキシ−２−メ
チレンプロパノエート）は無色の液体であり、例えば参
考例１０では収率９４％で分離できる。ジアクリレート
（１，４−ジ（メチル ３−ヒドロキシ−２−メチレン
カルボキシレート）ベンゼン）は白色の固体であり、例
えば参考例２１では収率９０％で分離できる。これら２
種類のアクリレートは下記の方法で同定した： − ＪＥＯＬ ＰＭＸ ６０ＳＩスペクトロメーターを
用いるプロトン核磁気共鳴：得られたスペクトルには下
記のケミカルシフトが見られる： ａ）モノアクリレートの場合（図１）：９．８ｐｐｍ
（ｓ，１Ｈ） ７．３−７．８ｐｐｍ（ｍ，４Ｈ）
６．２ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ） ５．９ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ）
５．５ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ） ３．９ｐｐｍ（ｍ，１
Ｈ，ＯＨ） ３．６ｐｐｍ（ｓ，３Ｈ）。
に非限定的実施例を挙げる参考例１〜２５ 冷却器を備えた３リットルのガラス製丸底フラスコ内
に、２６．８ｇ（０．２モル）のテレフタルアルデヒド
と、ｘモルのジアザビシクロ［２．２．２］オクタン
と、ｙモルのアクリル酸メチルと、ｚｍｌの溶媒とを順
次導入する。この混合物を温度Ｔ（°Ｃ）で時間ｔ
（時）にわたり撹拌する。時間ｔが経過したら、該反応
混合物中に存在するモノアクリレートの割合Ｍ（％）と
ジアクリレートの割合Ｄ（％）とを気相クロマトグラフ
ィーで測定する。この測定値は反応パラメータと共に表
Ｉに示した。次いで該混合物に、２００ｍｌの塩化メチ
ルと１２０ｍｌの１Ｎ 塩酸とを加える。水相を４０ｍ
ｌの塩化メチレンで一回抽出する。有機相を８０ｍｌの
水で２回洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥する。
溶媒を蒸発させた後、形成されたモノアクリレート又は
ジアクリレートをシリカカラムで精製する。溶離剤は３
５％の酢酸エチルと６５％の石油エーテルとを含む混合
物である。モノアクリレート（メチル ３−（４−カル
ボキシアルデヒドフェニル）−３−ヒドロキシ−２−メ
チレンプロパノエート）は無色の液体であり、例えば参
考例１０では収率９４％で分離できる。ジアクリレート
（１，４−ジ（メチル ３−ヒドロキシ−２−メチレン
カルボキシレート）ベンゼン）は白色の固体であり、例
えば参考例２１では収率９０％で分離できる。これら２
種類のアクリレートは下記の方法で同定した： − ＪＥＯＬ ＰＭＸ ６０ＳＩスペクトロメーターを
用いるプロトン核磁気共鳴：得られたスペクトルには下
記のケミカルシフトが見られる： ａ）モノアクリレートの場合（図１）：９．８ｐｐｍ
（ｓ，１Ｈ） ７．３−７．８ｐｐｍ（ｍ，４Ｈ）
６．２ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ） ５．９ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ）
５．５ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ） ３．９ｐｐｍ（ｍ，１
Ｈ，ＯＨ） ３．６ｐｐｍ（ｓ，３Ｈ）。
【００８０】ｂ）ジアクリレートの場合（図２）：７．
３ｐｐｍ（ｓ，４Ｈ） ６．３ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）
５．８ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ） ５．５ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）
３．７ｐｐｍ（ｓ，６Ｈ） ２．９ｐｐｍ（ｍ，２
Ｈ，ＯＨ）。
３ｐｐｍ（ｓ，４Ｈ） ６．３ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）
５．８ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ） ５．５ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）
３．７ｐｐｍ（ｓ，６Ｈ） ２．９ｐｐｍ（ｍ，２
Ｈ，ＯＨ）。
【００８１】− Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ ８４１ス
ペクトロメーターを用いる赤外分光光度法：得られたス
ペクトルには下記の特性吸収帯が見られる：ｃ）モノア
クリレートの場合（図３）：３４７７、１７２４、１７
０３、１６３１、１６０９、１５７９、１４３９ｃ
ｍ-1。
ペクトロメーターを用いる赤外分光光度法：得られたス
ペクトルには下記の特性吸収帯が見られる：ｃ）モノア
クリレートの場合（図３）：３４７７、１７２４、１７
０３、１６３１、１６０９、１５７９、１４３９ｃ
ｍ-1。
【００８２】ｄ）ジアクリレートの場合（図４）：３４
５９、１７２４、１６３１及び１４３９ｃｍ-1。
５９、１７２４、１６３１及び１４３９ｃｍ-1。
【００８３】− 炭素−１３核磁気共鳴分析：モノアク
リレートの場合（図１７）は１９１．９ｐｐｍ、１６
５．９ｐｐｍ、１４８．３ｐｐｍ、１４１．３ｐｐｍ、
１３５．２ｐｐｍ、１２９．４ｐｐｍ、１２７．０ｐｐ
ｍ、１２６．０ｐｐｍ、７１．８ｐｐｍ及び５１．６ｐ
ｐｍにケミカルシフトが見られ、ジアクリレートの場合
（図１８）は１６６．７ｐｐｍ、１４１．８ｐｐｍ、１
４０．３ｐｐｍ、１２７．１ｐｐｍ、１２７．０ｐｐ
ｍ、１２６．２ｐｐｍ、７３．０ｐｐｍ及び５２．０ｐ
ｐｍにケミカルシフトが見られる。
リレートの場合（図１７）は１９１．９ｐｐｍ、１６
５．９ｐｐｍ、１４８．３ｐｐｍ、１４１．３ｐｐｍ、
１３５．２ｐｐｍ、１２９．４ｐｐｍ、１２７．０ｐｐ
ｍ、１２６．０ｐｐｍ、７１．８ｐｐｍ及び５１．６ｐ
ｐｍにケミカルシフトが見られ、ジアクリレートの場合
（図１８）は１６６．７ｐｐｍ、１４１．８ｐｐｍ、１
４０．３ｐｐｍ、１２７．１ｐｐｍ、１２７．０ｐｐ
ｍ、１２６．２ｐｐｍ、７３．０ｐｐｍ及び５２．０ｐ
ｐｍにケミカルシフトが見られる。
【００８４】
【表１】 表Ｉ 参考例 ｘ ｙ ｚ 溶媒 Ｔ ｔ Ｍ Ｄ 1 0.1 1.0 50 THF 20 8 98 2 2 0.1 1.0 50 THF 20 96 46 54 3 0.1 1.0 50 THF 20 192 35 65 4 0.1 1.0 50 THF 20 288 19 81 5 0.1 1.0 50 CH2 Cl2 20 8 95 5 6 0.1 1.0 50 CH2 Cl2 20 96 35 65 7 0.1 1.0 50 CH2 Cl2 20 192 26 74 8 0.1 1.0 50 CH2 Cl2 20 240 23 77 9 0.1 1.0 50 CHCl3 20 96 97 3 10 0.1 0.4 0 --- 20 2.5 96 4 11 0.1 0.4 10 THF 20 3 94 2 12 0.1 0.4 44 THF 20 3 94 3 13 0.1 0.4 44 THF 20 24 82 18 14 0.1 0.4 44 THF 20 96 50 50 15 0.1 0.4 164 THF 20 96 98 2 16 0.4 2.0 20 THF 20 96 30 70 17 0.4 2.0 20 THF 20 240 9 91 18 0.1 0.2 50 THF 20 8 80 0 19 0.1 0.2 50 THF 20 24 96 2 20 0.1 1.0 0 --- 20 2 85 4 21 0.2 2.0 0 --- 20 96 2 96 22 0.4 2.0 20 THF 45 72 19 81 23 0.4 2.0 20 THF 45 192 4 96 24 0.4 2.0 20 THF 55 24 61 39 25 0.4 2.0 20 THF 55 72 18 82 26* 0.1 1.0 0 --- 20 0.8 95 5 ＊塩化リチウムの存在下で行ったテスト。
【００８５】THF ＝テトラヒドロフラン。
【００８６】参考例２６ 参考例２０ と同様に、但し反応混合物に０．８ｇ（０．
０２モル）の塩化リチウムを加え且つ反応を５０分後に
停止させるようにして、実験を繰り返した。
０２モル）の塩化リチウムを加え且つ反応を５０分後に
停止させるようにして、実験を繰り返した。
【００８７】反応終了後の混合物を分析すれば、モノア
クリレートの割合Ｍ％とジアクリレートの割合Ｄ％とを
測定することができる。これらの測定値も表Ｉに示し
た。
クリレートの割合Ｍ％とジアクリレートの割合Ｄ％とを
測定することができる。これらの測定値も表Ｉに示し
た。
【００８８】実施例１〜１０ ３リットルのガラス製丸底フラスコ内に、２６．８ｇ
（０．２モル）のイソフタルアルデヒドと、ｘモルのジ
アザビシクロ［２．２．２］オクタンと、ｙモルのアク
リル酸メチルと、ｚｍｌの溶媒とを順次導入し、適当で
あればｑモルの塩化リチウムも導入する。この混合物を
２５°Ｃで時間ｔ（時）にわたり撹拌する。この混合物
を参考例１〜２５と同様に処理する。時間ｔ後に該反応
混合物中に存在するモノアクリレートの割合（％）Ｍと
ジアクリレートの割合Ｄを気相クロマトグラフィーで測
定する。この測定値は反応パラメータと共に表ＩＩに示
した。モノアクリレート（メチル ３−（３−カルボキ
シアルデヒドフェニル）−３−ヒドロキシ−２−メチレ
ンプロパノエート）及びジアクリレート（１，３−ジ
（メチル ３−ヒドロキシ−２−メチレンカルボキシレ
ート）ベンゼン）は無色の液体である。これらの物質は
実施例２及び１０において夫々収率８８％及び９６％で
分離できる。これら２種類のアクリレートは参考例１〜
２５と同様の方法で同定した。スペクトル特性は下記の
通りである： − プロトン核磁気共鳴： ａ）モノアクリレートの場合（図５）：９．７ｐｐｍ
（ｓ，１Ｈ） ７．３−７．８ｐｐｍ（ｍ，４Ｈ）
６．２ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ） ５．８ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ）
５．５ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ） ４．０ｐｐｍ（ｍ，１
Ｈ，ＯＨ） ３．６ｐｐｍ（ｓ，３Ｈ）。
（０．２モル）のイソフタルアルデヒドと、ｘモルのジ
アザビシクロ［２．２．２］オクタンと、ｙモルのアク
リル酸メチルと、ｚｍｌの溶媒とを順次導入し、適当で
あればｑモルの塩化リチウムも導入する。この混合物を
２５°Ｃで時間ｔ（時）にわたり撹拌する。この混合物
を参考例１〜２５と同様に処理する。時間ｔ後に該反応
混合物中に存在するモノアクリレートの割合（％）Ｍと
ジアクリレートの割合Ｄを気相クロマトグラフィーで測
定する。この測定値は反応パラメータと共に表ＩＩに示
した。モノアクリレート（メチル ３−（３−カルボキ
シアルデヒドフェニル）−３−ヒドロキシ−２−メチレ
ンプロパノエート）及びジアクリレート（１，３−ジ
（メチル ３−ヒドロキシ−２−メチレンカルボキシレ
ート）ベンゼン）は無色の液体である。これらの物質は
実施例２及び１０において夫々収率８８％及び９６％で
分離できる。これら２種類のアクリレートは参考例１〜
２５と同様の方法で同定した。スペクトル特性は下記の
通りである： − プロトン核磁気共鳴： ａ）モノアクリレートの場合（図５）：９．７ｐｐｍ
（ｓ，１Ｈ） ７．３−７．８ｐｐｍ（ｍ，４Ｈ）
６．２ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ） ５．８ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ）
５．５ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ） ４．０ｐｐｍ（ｍ，１
Ｈ，ＯＨ） ３．６ｐｐｍ（ｓ，３Ｈ）。
【００８９】ｂ）ジアクリレートの場合（図６）：７．
３ｐｐｍ（ｍ，４Ｈ） ６．３ｐｐｍｍ，２Ｈ） ５．
８ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ） ５．５ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）
３．７ｐｐｍ（ｓ，６Ｈ） ３．３ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ，
ＯＨ）。
３ｐｐｍ（ｍ，４Ｈ） ６．３ｐｐｍｍ，２Ｈ） ５．
８ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ） ５．５ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）
３．７ｐｐｍ（ｓ，６Ｈ） ３．３ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ，
ＯＨ）。
【００９０】− 赤外線分光光度法： ｃ）モノアクリレートの場合（図７）：３４７１ｃ
ｍ-1、１７２３ｃｍ-1、１７０１ｃｍ-1、１６３０ｃｍ
-1、１６０３ｃｍ-1、１５８７ｃｍ-1及び１４４１ｃｍ
-1に吸収バンドが見られる。
ｍ-1、１７２３ｃｍ-1、１７０１ｃｍ-1、１６３０ｃｍ
-1、１６０３ｃｍ-1、１５８７ｃｍ-1及び１４４１ｃｍ
-1に吸収バンドが見られる。
【００９１】ｄ）ジアクリレートの場合（図８）：３４
５８ｃｍ-1、１７２３ｃｍ-1、１６３２ｃｍ-1及び１４
４１ｃｍ-1に吸収バンドが見られる。
５８ｃｍ-1、１７２３ｃｍ-1、１６３２ｃｍ-1及び１４
４１ｃｍ-1に吸収バンドが見られる。
【００９２】− 炭素−１３核磁気共鳴分析：モノアク
リレートの場合（図１９）は１９２．１ｐｐｍ、１６
５．３ｐｐｍ、１４２．６ｐｐｍ、１４１．４ｐｐｍ、
１３５．８ｐｐｍ、１３２．６ｐｐｍ、１２８．５ｐｐ
ｍ、１２８．４ｐｐｍ、１２７．７ｐｐｍ、１２５．６
ｐｐｍ、７１．３ｐｐｍ及び５１．４ｐｐｍにケミカル
シフトが観察され、ジアクリレートの場合（図２０）は
１６６．１ｐｐｍ、１４１．８ｐｐｍ、１４１．２ｐｐ
ｍ、１２７．８ｐｐｍ、１２５．７５ｐｐｍ、１２５．
２ｐｐｍ、１２４．９ｐｐｍ、７１．６ｐｐｍ及び５
１．３ｐｐｍにケミカルシフトが観察される。
リレートの場合（図１９）は１９２．１ｐｐｍ、１６
５．３ｐｐｍ、１４２．６ｐｐｍ、１４１．４ｐｐｍ、
１３５．８ｐｐｍ、１３２．６ｐｐｍ、１２８．５ｐｐ
ｍ、１２８．４ｐｐｍ、１２７．７ｐｐｍ、１２５．６
ｐｐｍ、７１．３ｐｐｍ及び５１．４ｐｐｍにケミカル
シフトが観察され、ジアクリレートの場合（図２０）は
１６６．１ｐｐｍ、１４１．８ｐｐｍ、１４１．２ｐｐ
ｍ、１２７．８ｐｐｍ、１２５．７５ｐｐｍ、１２５．
２ｐｐｍ、１２４．９ｐｐｍ、７１．６ｐｐｍ及び５
１．３ｐｐｍにケミカルシフトが観察される。
【００９３】
【表２】 表ＩＩ 実施例 ｘ ｙ ｚ ｑ 溶媒 ｔ Ｍ Ｄ １ 0.1 1.0 0 0 - 3 68 1 ２ 0.1 1.0 0 0 - 5 85 10 ３ 0.1 1.0 0 0 - 24 30 70 ４ 0.1 1.0 0 0.02 - 2 82 18 ５ 0.1 1.0 0 0.02 - 24 14 86 ６ 0.1 1.0 0 0.02 - 48 8 92 ７ 0.2 0.4 50 0 THF 3 37 0 ８ 0.2 0.4 50 0 THF 12 86 3 ９ 0.2 0.4 50 0.02 THF 3 90 3 10 0.2 2.0 0 0 --- 72 2 96実施例１１ ３リットルのガラス製丸底フラスコ内に、２６．８ｇ
（０．２モル）のオルト−フタルアルデヒドと、１１．
２ｇ（０．１モル）のジアザビシクロ［２．２．２］オ
クタンと、９０ｍｌ（１モル）のアクリル酸メチルと、
５０ｍｌのテトラヒドロフランとを順次導入する。この
混合物を２５°Ｃで４時間撹拌し、次いで参考例１〜２
５と同様に処理する。気相クロマトグラフィーで分析す
ると、化合物が単離収率８６％で形成されたことがわか
る。この化合物はＰｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ ８４１ス
ペクトロメーターを用いる赤外線分光光度法によって、
下記の式
（０．２モル）のオルト−フタルアルデヒドと、１１．
２ｇ（０．１モル）のジアザビシクロ［２．２．２］オ
クタンと、９０ｍｌ（１モル）のアクリル酸メチルと、
５０ｍｌのテトラヒドロフランとを順次導入する。この
混合物を２５°Ｃで４時間撹拌し、次いで参考例１〜２
５と同様に処理する。気相クロマトグラフィーで分析す
ると、化合物が単離収率８６％で形成されたことがわか
る。この化合物はＰｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ ８４１ス
ペクトロメーターを用いる赤外線分光光度法によって、
下記の式
【００９４】
【化２４】
【００９５】の化合物であると同定された。得られたス
ペクトルでは３４５９ｃｍ-1、１７２１ｃｍ-1、１６３
１ｃｍ-1、１４６３ｃｍ-1及び１４３９ｃｍ-1に特性吸
収帯が見られる（図９）。
ペクトルでは３４５９ｃｍ-1、１７２１ｃｍ-1、１６３
１ｃｍ-1、１４６３ｃｍ-1及び１４３９ｃｍ-1に特性吸
収帯が見られる（図９）。
【００９６】実施例１２ ３リットルのガラス製丸底フラスコ内に、０．２モルの
５０％グルタルアルデヒド水溶液と、１モルのアクリル
酸メチルと、０．１モルのジアザビシクロ［２．２．
２］オクタンと、５０ｍｌのジクロロメタンとを順次導
入する。この混合物を２５°Ｃで１４４時間撹拌し、次
いで参考例１〜２５と同様に処理する。気相クロマトグ
ラフィーで分析すると、化合物が単離収率３０％で形成
されたことがわかる。この化合物はＰｅｒｋｉｎ−Ｅｌ
ｍｅｒ ８４１スペクトロメーターを用いる赤外線分光
光度法により、下記の式
５０％グルタルアルデヒド水溶液と、１モルのアクリル
酸メチルと、０．１モルのジアザビシクロ［２．２．
２］オクタンと、５０ｍｌのジクロロメタンとを順次導
入する。この混合物を２５°Ｃで１４４時間撹拌し、次
いで参考例１〜２５と同様に処理する。気相クロマトグ
ラフィーで分析すると、化合物が単離収率３０％で形成
されたことがわかる。この化合物はＰｅｒｋｉｎ−Ｅｌ
ｍｅｒ ８４１スペクトロメーターを用いる赤外線分光
光度法により、下記の式
【００９７】
【化２５】
【００９８】の化合物であると同定された。得られたス
ペクトルには３４３５ｃｍ-1、１７２１ｃｍ-1及び１６
３２ｃｍ-1に特性吸収帯が見られる（図１０）。
ペクトルには３４３５ｃｍ-1、１７２１ｃｍ-1及び１６
３２ｃｍ-1に特性吸収帯が見られる（図１０）。
【００９９】炭素−１３核磁気共鳴による分析ではケミ
カルシフトが下記のように観察された：１６６．０ｐｐ
ｍ、１６５．９ｐｐｍ、１４１．５ｐｐｍ、１４０．５
ｐｐｍ、１２４．４ｐｐｍ、１２４．０ｐｐｍ、９６．
３ｐｐｍ、９１．５ｐｐｍ、７３．１ｐｐｍ、６５．９
ｐｐｍ、５１．３ｐｐｍ、３１．７ｐｐｍ、３１．１ｐ
ｐｍ、３０．４ｐｐｍ、２９．２ｐｐｍ、２１．８ｐｐ
ｍ、１７．１ｐｐｍ及び１５．６ｐｐｍ（図２２）。
カルシフトが下記のように観察された：１６６．０ｐｐ
ｍ、１６５．９ｐｐｍ、１４１．５ｐｐｍ、１４０．５
ｐｐｍ、１２４．４ｐｐｍ、１２４．０ｐｐｍ、９６．
３ｐｐｍ、９１．５ｐｐｍ、７３．１ｐｐｍ、６５．９
ｐｐｍ、５１．３ｐｐｍ、３１．７ｐｐｍ、３１．１ｐ
ｐｍ、３０．４ｐｐｍ、２９．２ｐｐｍ、２１．８ｐｐ
ｍ、１７．１ｐｐｍ及び１５．６ｐｐｍ（図２２）。
【０１００】プロトン核磁気共鳴による分析ではケミカ
ルシフトが下記のように観察された：６．２５ｐｐｍ
（ｍ，１Ｈ）、６．２５ｐｐｍ（ｍ，０．５Ｈ）、６．
０５ｐｐｍ（ｍ，０．５Ｈ）、５．４５〜４．１ｐｐｍ
（ｍ，２Ｈ＋１，ＯＨ）、３．７５ｐｐｍ（ｓ，３Ｈ）
及び２．３〜０．８ｐｐｍ（ｍ，６Ｈ）（図２１）。
ルシフトが下記のように観察された：６．２５ｐｐｍ
（ｍ，１Ｈ）、６．２５ｐｐｍ（ｍ，０．５Ｈ）、６．
０５ｐｐｍ（ｍ，０．５Ｈ）、５．４５〜４．１ｐｐｍ
（ｍ，２Ｈ＋１，ＯＨ）、３．７５ｐｐｍ（ｓ，３Ｈ）
及び２．３〜０．８ｐｐｍ（ｍ，６Ｈ）（図２１）。
【０１０１】実施例１３ ３リットルのガラス製丸底フラスコ内に、０．２モルの
グルタルアルデヒド（５０％グルタルアルデヒド水溶液
からの蒸留によって得たもの）と、１モルのアクリル酸
メチルと、０．１モルのジアザビシクロ［２．２．２］
オクタンとを順次導入する。この混合物を２５°Ｃで７
２時間撹拌し、次いで参考例１〜２５と同様に処理す
る。下記の式
グルタルアルデヒド（５０％グルタルアルデヒド水溶液
からの蒸留によって得たもの）と、１モルのアクリル酸
メチルと、０．１モルのジアザビシクロ［２．２．２］
オクタンとを順次導入する。この混合物を２５°Ｃで７
２時間撹拌し、次いで参考例１〜２５と同様に処理す
る。下記の式
【０１０２】
【化２６】
【０１０３】で示される生成物が収率８５％で単離され
る。
る。
【０１０４】実施例１４ ３リットルのガラス製丸底フラスコ内に、０．２モルの
チオフェン−２，５−ジカルボキシアルデヒドと、０．
４モルのアクリル酸メチルと、０．２モルのジアザビシ
クロ［２．２．２］オクタンと、５０ｍｌのジクロロメ
タンとを順次導入する。この混合物を２５°Ｃで１０５
分間撹拌し、次いで参考例１〜２５と同様に処理する。
気相クロマトグラフィーで分析すると、化合物が単離収
率６７％で形成されたことがわかる。この化合物は下記
の方法により、下記の式
チオフェン−２，５−ジカルボキシアルデヒドと、０．
４モルのアクリル酸メチルと、０．２モルのジアザビシ
クロ［２．２．２］オクタンと、５０ｍｌのジクロロメ
タンとを順次導入する。この混合物を２５°Ｃで１０５
分間撹拌し、次いで参考例１〜２５と同様に処理する。
気相クロマトグラフィーで分析すると、化合物が単離収
率６７％で形成されたことがわかる。この化合物は下記
の方法により、下記の式
【０１０５】
【化２７】
【０１０６】で示される化合物であると同定された。
【０１０７】− 赤外線分光光度法：得られたスペクト
ル（図１１）には３４６２ｃｍ-1、１７１８ｃｍ-1、１
６７０ｃｍ-1及び１４５６ｃｍ-1に特性吸収帯が見られ
る。
ル（図１１）には３４６２ｃｍ-1、１７１８ｃｍ-1、１
６７０ｃｍ-1及び１４５６ｃｍ-1に特性吸収帯が見られ
る。
【０１０８】− 炭素−１３核磁気共鳴：１８３．３ｐ
ｐｍ、１６５．９ｐｐｍ、１５７．５ｐｐｍ、１４２．
３ｐｐｍ、１４０．６ｐｐｍ、１３６．９ｐｍ、１２
６．８ｐｐｍ、１２５．６ｐｐｍ、６８．８ｐｐｍ及び
５２．０ｐｐｍにケミカルシフトが見られる。
ｐｍ、１６５．９ｐｐｍ、１５７．５ｐｐｍ、１４２．
３ｐｐｍ、１４０．６ｐｐｍ、１３６．９ｐｍ、１２
６．８ｐｐｍ、１２５．６ｐｐｍ、６８．８ｐｐｍ及び
５２．０ｐｐｍにケミカルシフトが見られる。
【０１０９】− プロトン核磁気共鳴（図１２）：９．
８ｐｐｍ（ｓ，１Ｈ）、７．６ｐｐｍ（ｄ，１Ｈ）、
７．１ｐｐｍ（ｄ，１Ｈ）、６．４ｐｐｍ（ｍ，１
Ｈ）、６．１ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ）、５．８ｐｐｍ（ｍ，
１Ｈ）、４．２ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ，ＯＨ）及び３．７ｐ
ｐｍ（ｓ，３Ｈ）にケミカルシフトが見られる。
８ｐｐｍ（ｓ，１Ｈ）、７．６ｐｐｍ（ｄ，１Ｈ）、
７．１ｐｐｍ（ｄ，１Ｈ）、６．４ｐｐｍ（ｍ，１
Ｈ）、６．１ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ）、５．８ｐｐｍ（ｍ，
１Ｈ）、４．２ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ，ＯＨ）及び３．７ｐ
ｐｍ（ｓ，３Ｈ）にケミカルシフトが見られる。
【０１１０】実施例１５ ３リットルのガラス製丸底フラスコ内に、０．２モルの
チオフェン−２，５−ジカルボキシアルデヒドと、２モ
ルのアクリル酸メチルと、０．２モルのジアザビシクロ
［２．２．２］オクタンとを順次導入する。この混合物
を２５°Ｃで４６時間撹拌し、次いで参考例１〜２５と
同様に処理する。気相クロマトグラフィーで分析する
と、下記の式
チオフェン−２，５−ジカルボキシアルデヒドと、２モ
ルのアクリル酸メチルと、０．２モルのジアザビシクロ
［２．２．２］オクタンとを順次導入する。この混合物
を２５°Ｃで４６時間撹拌し、次いで参考例１〜２５と
同様に処理する。気相クロマトグラフィーで分析する
と、下記の式
【０１１１】
【化２８】
【０１１２】で示されるジアクリレートが単離収率６７
％で形成されていた。この化合物は下記の方法によって
同定した。
％で形成されていた。この化合物は下記の方法によって
同定した。
【０１１３】− 赤外線分光光度法：得られたスペクト
ル（図１３）には３４６０ｃｍ-1、１７０９ｃｍ-1、１
６３２ｃｍ-1及び１４３９ｃｍ-1に特性吸収帯が見られ
る。
ル（図１３）には３４６０ｃｍ-1、１７０９ｃｍ-1、１
６３２ｃｍ-1及び１４３９ｃｍ-1に特性吸収帯が見られ
る。
【０１１４】− プロトン核磁気共鳴（図１４）：６．
７ｐｐｍ（ｓ，２Ｈ）、６．３ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）、
６．０ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）、５．７ｐｐｍ（ｍ，２
Ｈ）、３．７ｐｐｍ（ｓ，６Ｈ）及び３．５ｐｐｍ
（ｍ，２Ｈ，ＯＨ）にケミカルシフトが見られる。
７ｐｐｍ（ｓ，２Ｈ）、６．３ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）、
６．０ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）、５．７ｐｐｍ（ｍ，２
Ｈ）、３．７ｐｐｍ（ｓ，６Ｈ）及び３．５ｐｐｍ
（ｍ，２Ｈ，ＯＨ）にケミカルシフトが見られる。
【０１１５】− 炭素−１３核磁気共鳴：１６６．２ｐ
ｐｍ、１４５．３ｐｐｍ、１４１．１ｐｐｍ、１２５．
８ｐｐｍ、１２４．４ｐｐｍ、６６．６ｐｐｍ及び５
１．６ｐｐｍにケミカルシフトが見られる（図２３）。
ｐｍ、１４５．３ｐｐｍ、１４１．１ｐｐｍ、１２５．
８ｐｐｍ、１２４．４ｐｐｍ、６６．６ｐｐｍ及び５
１．６ｐｐｍにケミカルシフトが見られる（図２３）。
【０１１６】実施例１６ ３リットルのガラス製丸底フラスコ内に、０．２モルの
４，４’−ビホルミルジフェニルと、１ｍｌのアクリル
酸メチルと、０．２モルのジアザビシクロ［２．２．
２］オクタンと、１５０ｍｌのテトラヒドロフランとを
順次導入する。この混合物を２５°Ｃで２０日間撹拌
し、次いで参考例１〜２５と同様に処理する。下記の式
４，４’−ビホルミルジフェニルと、１ｍｌのアクリル
酸メチルと、０．２モルのジアザビシクロ［２．２．
２］オクタンと、１５０ｍｌのテトラヒドロフランとを
順次導入する。この混合物を２５°Ｃで２０日間撹拌
し、次いで参考例１〜２５と同様に処理する。下記の式
【０１１７】
【化２９】
【０１１８】で示される化合物が収率５６％で得られ
る。この化合物は下記の方法によって同定した。
る。この化合物は下記の方法によって同定した。
【０１１９】− 赤外線分光光度法：得られたスペクト
ル（図２５）には３４７４ｃｍ-1、１７２２ｃｍ-1、１
７０２ｃｍ-1及び１６３１ｃｍ-1に特性吸収帯が見られ
る。
ル（図２５）には３４７４ｃｍ-1、１７２２ｃｍ-1、１
７０２ｃｍ-1及び１６３１ｃｍ-1に特性吸収帯が見られ
る。
【０１２０】− プロトン核磁気共鳴（図２６）：９．
９ｐｐｍ（ｓ，１Ｈ）、７．８５〜７．５５ｐｐｍ
（ｍ，８Ｈ）、６．３７ｏｐｍ（ｍ，１Ｈ）、５．９５
（ｍ，１Ｈ）、５．６５ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ）、３．７ｐ
ｐｍ（ｓ，３Ｈ））及び３．４ｐｐｍ （ｍ，１Ｈ，Ｏ
Ｈ）にケミカルシフトが見られる。
９ｐｐｍ（ｓ，１Ｈ）、７．８５〜７．５５ｐｐｍ
（ｍ，８Ｈ）、６．３７ｏｐｍ（ｍ，１Ｈ）、５．９５
（ｍ，１Ｈ）、５．６５ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ）、３．７ｐ
ｐｍ（ｓ，３Ｈ））及び３．４ｐｐｍ （ｍ，１Ｈ，Ｏ
Ｈ）にケミカルシフトが見られる。
【０１２１】− 炭素−１３核磁気共鳴（図２７）：１
９１．８ｐｐｍ、１６６．２５ｐｐｍ、１４６．３ｐｐ
ｍ、１４１．８ｐｐｍ、１３８．５ｐｐｍ、１３４．７
ｐｐｍ、１２９．１ｐｐｍ、１２７．１ｐｐｍ、１２
７．０ｐｐｍ、１２５．２ｐｐｍ、７２．０ｐｐｍ及び
５１．６ｐｐｍにケミカルシフトが見られる。
９１．８ｐｐｍ、１６６．２５ｐｐｍ、１４６．３ｐｐ
ｍ、１４１．８ｐｐｍ、１３８．５ｐｐｍ、１３４．７
ｐｐｍ、１２９．１ｐｐｍ、１２７．１ｐｐｍ、１２
７．０ｐｐｍ、１２５．２ｐｐｍ、７２．０ｐｐｍ及び
５１．６ｐｐｍにケミカルシフトが見られる。
【０１２２】実施例１７ ３リットルのガラス製丸底フラスコ内に、０．２モルの
４，４’−ビホルミルジフェニルと、２モルのアクリル
酸メチルと、０．４モルのジアザビシクロ［２．２．
２］オクタンとを順次導入する。この混合物を２５°Ｃ
で１６８時間撹拌し、次いで参考例１〜２５と同様に処
理する。気相クロマトグラフィーで分析すると、下記の
式
４，４’−ビホルミルジフェニルと、２モルのアクリル
酸メチルと、０．４モルのジアザビシクロ［２．２．
２］オクタンとを順次導入する。この混合物を２５°Ｃ
で１６８時間撹拌し、次いで参考例１〜２５と同様に処
理する。気相クロマトグラフィーで分析すると、下記の
式
【０１２３】
【化３０】
【０１２４】で示されるジアクリレートが単離収率８６
％で形成されたことがわかる。この化合物は下記の方法
によって同定した。
％で形成されたことがわかる。この化合物は下記の方法
によって同定した。
【０１２５】− 赤外線分光光度法：得られたスペクト
ル（図１５）には３４６６ｃｍ-1、１７２４ｃｍ-1、１
７０２ｃｍ-1、１６２９ｃｍ-1、１４９４ｃｍ-1及び１
４３７ｃｍ-1に特徴的吸収バンドが見られる。
ル（図１５）には３４６６ｃｍ-1、１７２４ｃｍ-1、１
７０２ｃｍ-1、１６２９ｃｍ-1、１４９４ｃｍ-1及び１
４３７ｃｍ-1に特徴的吸収バンドが見られる。
【０１２６】− プロトン核磁気共鳴（図１６）：７．
６ｐｐｍ（ｍ，８Ｈ）、６．４ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）、
５．９ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）、５．６ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）
及び３．８ｐｐｍ（ｓ，６Ｈ）でケミカルシフトが見ら
れる。
６ｐｐｍ（ｍ，８Ｈ）、６．４ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）、
５．９ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）、５．６ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）
及び３．８ｐｐｍ（ｓ，６Ｈ）でケミカルシフトが見ら
れる。
【０１２７】− 炭素−１３核磁気共鳴：１６６．５ｐ
ｐｍ、１４１．８ｐｐｍ、１４０．８ｐｐｍ、１２６．
６ｐｐｍ、１２５．６ｐｐｍ、７２．３ｐｐｍ及び５
１．７ｐｐｍでケミカルシフトが見られる（図２４）。
ｐｍ、１４１．８ｐｐｍ、１４０．８ｐｐｍ、１２６．
６ｐｐｍ、１２５．６ｐｐｍ、７２．３ｐｐｍ及び５
１．７ｐｐｍでケミカルシフトが見られる（図２４）。
【０１２８】実施例１８ ３リットルのガラス製丸底フラスコ内に、０．２モルの
フラン−２，５−ジカルボキシアルデヒドと、１モルの
アクリル酸メチルと、０．２モルのジアザビシクロ
［２．２．２］オクタンと、３０ｍｌのテトラヒドロフ
ランとを順次導入する。この混合物を２０°Ｃで４時間
撹拌し、次いで参考例１〜２５と同様に処理する。気相
クロマトグラフィーで分析すると、下記の式
フラン−２，５−ジカルボキシアルデヒドと、１モルの
アクリル酸メチルと、０．２モルのジアザビシクロ
［２．２．２］オクタンと、３０ｍｌのテトラヒドロフ
ランとを順次導入する。この混合物を２０°Ｃで４時間
撹拌し、次いで参考例１〜２５と同様に処理する。気相
クロマトグラフィーで分析すると、下記の式
【０１２９】
【化３１】
【０１３０】で示されるモノアクリレートが単離収率５
０％で形成されたことがわかる。この化合物は下記の方
法で同定した。
０％で形成されたことがわかる。この化合物は下記の方
法で同定した。
【０１３１】− 赤外線分光光度法：得られたスペクト
ル（図３４）には３４５４ｃｍ-1、１７２５ｃｍ-1、１
７０５ｃｍ-1、１６７８ｃｍ-1及び１５８２ｃｍ-1に特
性吸収帯が見られる。
ル（図３４）には３４５４ｃｍ-1、１７２５ｃｍ-1、１
７０５ｃｍ-1、１６７８ｃｍ-1及び１５８２ｃｍ-1に特
性吸収帯が見られる。
【０１３２】− プロトン核磁気共鳴（図３５）：９．
８ｐｐｍ（ｓ，１Ｈ）、７．３ｐｐｍ（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝
４Ｈｚ）、６．６ｐｐｍ（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４Ｈｚ）、
６．５（ｍ，１Ｈ）、６．２ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ）、５．
８ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ）、４．３ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ，Ｏ
Ｈ）及び３．８ｐｐｍ（ｓ，３Ｈ）にケミカルシフトが
見られる。
８ｐｐｍ（ｓ，１Ｈ）、７．３ｐｐｍ（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝
４Ｈｚ）、６．６ｐｐｍ（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４Ｈｚ）、
６．５（ｍ，１Ｈ）、６．２ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ）、５．
８ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ）、４．３ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ，Ｏ
Ｈ）及び３．８ｐｐｍ（ｓ，３Ｈ）にケミカルシフトが
見られる。
【０１３３】− 炭素−１３核磁気共鳴（図３６）：１
７７．７ｐｐｍ、１６５．６ｐｐｍ、１６１．１ｐｐ
ｍ、１５１．６ｐｐｍ、１３９．４ｐｐｍ、１２７．２
ｐｐｍ、１０９．６ｐｐｍ、６５．７ｐｐｍ及び５１．
７ｐｐｍにケミカルシフトが見られる。
７７．７ｐｐｍ、１６５．６ｐｐｍ、１６１．１ｐｐ
ｍ、１５１．６ｐｐｍ、１３９．４ｐｐｍ、１２７．２
ｐｐｍ、１０９．６ｐｐｍ、６５．７ｐｐｍ及び５１．
７ｐｐｍにケミカルシフトが見られる。
【０１３４】実施例１９ ３リットルのガラス製丸底フラスコ内に、０．２モルの
フラン−２，５−ジカルボキシアルデヒドと、２モルの
アクリル酸メチルと、０．４モルのジアザビシクロ
［２．２．２］オクタンとを順次導入する。この混合物
を２０°Ｃで２７時間撹拌し、次いで参考例１〜２５と
同様に処理する。気相クロマトグラフィーで分析する
と、下記の式
フラン−２，５−ジカルボキシアルデヒドと、２モルの
アクリル酸メチルと、０．４モルのジアザビシクロ
［２．２．２］オクタンとを順次導入する。この混合物
を２０°Ｃで２７時間撹拌し、次いで参考例１〜２５と
同様に処理する。気相クロマトグラフィーで分析する
と、下記の式
【０１３５】
【化３２】
【０１３６】で示されるジアクリレートが単離収率６０
％で形成されたことがわかる。この化合物は下記の方法
で同定した。
％で形成されたことがわかる。この化合物は下記の方法
で同定した。
【０１３７】− 赤外線分光光度法：得られたスペクト
ル（図３７）には３４５７ｃｍ-1、１７２３ｃｍ-1及び
１６３５ｃｍ-1に特性吸収帯が見られる。
ル（図３７）には３４５７ｃｍ-1、１７２３ｃｍ-1及び
１６３５ｃｍ-1に特性吸収帯が見られる。
【０１３８】− プロトン核磁気共鳴（図３８）：６．
４ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）、６．２ｐｐｍ（ｓ，２Ｈ）、
６．０ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）、５．６ｐｐｍ（ｍ，２
Ｈ）、３．８ｐｐｍ（ｓ，６Ｈ）及び４〜３．５ｐｐｍ
（ｍ，２Ｈ，ＯＨ）にケミカルシフトが見られる。
４ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）、６．２ｐｐｍ（ｓ，２Ｈ）、
６．０ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）、５．６ｐｐｍ（ｍ，２
Ｈ）、３．８ｐｐｍ（ｓ，６Ｈ）及び４〜３．５ｐｐｍ
（ｍ，２Ｈ，ＯＨ）にケミカルシフトが見られる。
【０１３９】− 炭素−１３核磁気共鳴（図３９）：１
６６．０ｐｐｍ、１５３．７ｐｐｍ、１３９．３ｐｍ、
１２６．１ｐｐｍ、１０７．６ｐｐｍ、６５．３ｐｐｍ
及び５１．６ｐｐｍにケミカルシフトが見られる。
６６．０ｐｐｍ、１５３．７ｐｐｍ、１３９．３ｐｍ、
１２６．１ｐｐｍ、１０７．６ｐｐｍ、６５．３ｐｐｍ
及び５１．６ｐｐｍにケミカルシフトが見られる。
【０１４０】実施例２０ ３リットルのガラス製丸底フラスコ内に、０．２モルの
３，３’−ビホルミルジフェニルと、１モルのアクリル
酸メチルと、０．２モルのジアザビシクロ［２．２．
２］オクタンと、１５０ｍｌのテトラヒドロフランとを
順次導入する。この混合物を２０°Ｃで１９２時間撹拌
し、次いで参考例１〜２５と同様に処理する。気相クロ
マトグラフィーで分析すると、下記の式
３，３’−ビホルミルジフェニルと、１モルのアクリル
酸メチルと、０．２モルのジアザビシクロ［２．２．
２］オクタンと、１５０ｍｌのテトラヒドロフランとを
順次導入する。この混合物を２０°Ｃで１９２時間撹拌
し、次いで参考例１〜２５と同様に処理する。気相クロ
マトグラフィーで分析すると、下記の式
【０１４１】
【化３３】
【０１４２】で示されるモノアクリレートが単離収率５
６％で形成されたことがわかる。この化合物は下記の方
法で同定した。
６％で形成されたことがわかる。この化合物は下記の方
法で同定した。
【０１４３】− 赤外線分光光度法：得られたスペクト
ル（図２８）には３４８９ｃｍ-1、１７２４ｃｍ-1、１
７０４ｃｍ-1、１６３１ｃｍ-1、１６０２ｃｍ-1、１５
８１ｃｍ-1、１４７４ｃｍ-1及び１４４１ｃｍ-1に特性
吸収帯が見られる。
ル（図２８）には３４８９ｃｍ-1、１７２４ｃｍ-1、１
７０４ｃｍ-1、１６３１ｃｍ-1、１６０２ｃｍ-1、１５
８１ｃｍ-1、１４７４ｃｍ-1及び１４４１ｃｍ-1に特性
吸収帯が見られる。
【０１４４】− プロトン核磁気共鳴（図２９）：１
０．１ｐｐｍ（ｓ，１Ｈ）、８．２〜７．３ｐｐｍ
（ｍ，８Ｈ）、６．３ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ）、５．９ｐｐ
ｍ（ｍ，１Ｈ）、５．７５〜５．５ｐｐｍ（ｍ，１
Ｈ）、３．７ｐｐｍ（ｓ，３Ｈ）及び３．６〜３．４ｐ
ｐｍ（ｍ，１Ｈ，ＯＨ）にケミカルシフトが見られる。
０．１ｐｐｍ（ｓ，１Ｈ）、８．２〜７．３ｐｐｍ
（ｍ，８Ｈ）、６．３ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ）、５．９ｐｐ
ｍ（ｍ，１Ｈ）、５．７５〜５．５ｐｐｍ（ｍ，１
Ｈ）、３．７ｐｐｍ（ｓ，３Ｈ）及び３．６〜３．４ｐ
ｐｍ（ｍ，１Ｈ，ＯＨ）にケミカルシフトが見られる。
【０１４５】− 炭素−１３核磁気共鳴（図３０）：１
９２．２ｐｐｍ、１６６．２ｐｐｍ、１４２．２ｐｐ
ｍ、１４１．９ｐｐｍ、１４１．３ｐｐｍ、１３９．１
ｐｐｍ、１３６．３ｐｐｍ、１３２．６ｐｐｍ、１２
９．０ｐｐｍ、１２８．６ｐｐｍ、１２８．２ｐｐｍ、
１２７．７ｐｐｍ、１２６．１ｐｐｍ、１２６．０ｐｐ
ｍ、１２５．４ｐｐｍ、１２５．１ｐｐｍ、７２．１ｐ
ｐｍ及び６５．３ｐｐｍにケミカルシフトが見られる。
９２．２ｐｐｍ、１６６．２ｐｐｍ、１４２．２ｐｐ
ｍ、１４１．９ｐｐｍ、１４１．３ｐｐｍ、１３９．１
ｐｐｍ、１３６．３ｐｐｍ、１３２．６ｐｐｍ、１２
９．０ｐｐｍ、１２８．６ｐｐｍ、１２８．２ｐｐｍ、
１２７．７ｐｐｍ、１２６．１ｐｐｍ、１２６．０ｐｐ
ｍ、１２５．４ｐｐｍ、１２５．１ｐｐｍ、７２．１ｐ
ｐｍ及び６５．３ｐｐｍにケミカルシフトが見られる。
【０１４６】実施例２１ ３リットルのガラス製丸底フラスコ内に、０．２モルの
３，３’−ビホルミルジフェニルと、２モルのアクリル
酸メチルと、０．４モルのジアザビシクロ［２．２．
２］オクタンとを順次導入する。この混合物を２０°Ｃ
で８４時間撹拌し、次いで参考例１〜２５と同様に処理
する。気相クロマトグラフィーで分析すると、下記の式
３，３’−ビホルミルジフェニルと、２モルのアクリル
酸メチルと、０．４モルのジアザビシクロ［２．２．
２］オクタンとを順次導入する。この混合物を２０°Ｃ
で８４時間撹拌し、次いで参考例１〜２５と同様に処理
する。気相クロマトグラフィーで分析すると、下記の式
【０１４７】
【化３４】
【０１４８】で示されるジアクリレートが単離収率９４
％で形成されたことがわかる。この化合物は下記の方法
で同定した。
％で形成されたことがわかる。この化合物は下記の方法
で同定した。
【０１４９】− 赤外線分光光度法：得られたスペクト
ル（図３１）には３４７１ｃｍ-1、１７２４ｃｍ-1、１
６３２ｍ-1、１６０４ｃｍ-1、１５８３ｃｍ-1、１４７
５ｃｍ-1及び１４４０ｃｍ-1に特性吸収帯が見られる。
ル（図３１）には３４７１ｃｍ-1、１７２４ｃｍ-1、１
６３２ｍ-1、１６０４ｃｍ-1、１５８３ｃｍ-1、１４７
５ｃｍ-1及び１４４０ｃｍ-1に特性吸収帯が見られる。
【０１５０】− プロトン核磁気共鳴（図３２）：７．
８〜７．３ｐｐｍ（ｍ，８Ｈ）、６．４ｐｐｍ（ｍ，２
Ｈ）、５．９ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）、５．６ｐｐｍ（ｍ，
２Ｈ）、３．７ｐｐｍ（ｓ，６Ｈ）及び３．５ｐｐｍ
（ｍ，２Ｈ，ＯＨ）にケミカルシフトが見られる。
８〜７．３ｐｐｍ（ｍ，８Ｈ）、６．４ｐｐｍ（ｍ，２
Ｈ）、５．９ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）、５．６ｐｐｍ（ｍ，
２Ｈ）、３．７ｐｐｍ（ｓ，６Ｈ）及び３．５ｐｐｍ
（ｍ，２Ｈ，ＯＨ）にケミカルシフトが見られる。
【０１５１】− 炭素−１３核磁気共鳴（図３３）：１
６６．５ｐｐｍ、１４１．９ｐｐｍ、１４１．８ｐｐ
ｍ、１４０．８ｐｐｍ、１２８．６ｐｐｍ、１２６．４
ｐｐｍ、１２５．８ｐｐｍ、１２５．５ｐｐｍ、１２
５．３ｐｐｍ、７２．３ｐｐｍ及び５１．６ｐｐｍにケ
ミカルシフトが見られる。
６６．５ｐｐｍ、１４１．９ｐｐｍ、１４１．８ｐｐ
ｍ、１４０．８ｐｐｍ、１２８．６ｐｐｍ、１２６．４
ｐｐｍ、１２５．８ｐｐｍ、１２５．５ｐｐｍ、１２
５．３ｐｐｍ、７２．３ｐｐｍ及び５１．６ｐｐｍにケ
ミカルシフトが見られる。
【図１】参考例１〜２５で得たモノアクリレートのプロ
トン核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
トン核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
【図２】参考例１〜２５で得たジアクリレートのプロト
ン核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
ン核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
【図３】参考例１〜２５で得たモノアクリレートの赤外
線分光光度法のスペクトルを示すグラフである。
線分光光度法のスペクトルを示すグラフである。
【図４】参考例１〜２５で得たジアクリレートの赤外線
分光光度法のスペクトルを示すグラフである。
分光光度法のスペクトルを示すグラフである。
【図５】実施例１〜９で得たモノアクリレートのプロト
ン核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
ン核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
【図６】実施例１〜９で得たジアクリレートのプロトン
核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
【図７】実施例１〜９で得たモノアクリレートの赤外線
分光光度法のスペクトルを示すグラフである。
分光光度法のスペクトルを示すグラフである。
【図８】実施例１〜９で得たジアクリレートの赤外線分
光光度法のスペクトルを示すグラフである。
光光度法のスペクトルを示すグラフである。
【図９】実施例１１で得た化合物の赤外線分光光度法の
スペクトルを示すグラフである。
スペクトルを示すグラフである。
【図１０】実施例１２で得た化合物の赤外線分光光度法
のスペクトルを示すグラフである。
のスペクトルを示すグラフである。
【図１１】実施例１４で得た化合物の赤外線分光光度法
のスペクトルを示すグラフである。
のスペクトルを示すグラフである。
【図１２】実施例１４で得た化合物のプロトン核磁気共
鳴のスペクトルを示すグラフである。
鳴のスペクトルを示すグラフである。
【図１３】実施例１５で得たジアクリレートの赤外線分
光光度法のスペクトルを示すグラフである。
光光度法のスペクトルを示すグラフである。
【図１４】実施例１５で得たジアクリレートのプロトン
核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
【図１５】実施例１７で得たジアクリレートの赤外線分
光光度法のスペクトルを示すグラフである。
光光度法のスペクトルを示すグラフである。
【図１６】実施例１７で得たジアクリレートのプロトン
核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
【図１７】参考例１〜２５で得たモノアクリレートの炭
素−１３核磁気共鳴分析のスペクトルを示すグラフであ
る。
素−１３核磁気共鳴分析のスペクトルを示すグラフであ
る。
【図１８】参考例１〜２５で得たジアクリレートの炭素
−１３核磁気共鳴分析のスペクトルを示すグラフであ
る。
−１３核磁気共鳴分析のスペクトルを示すグラフであ
る。
【図１９】実施例１〜９で得たモノアクリレートの炭素
−１３核磁気共鳴分析のスペクトルを示すグラフであ
る。
−１３核磁気共鳴分析のスペクトルを示すグラフであ
る。
【図２０】実施例１〜９で得たジアクリレートの炭素−
１３核磁気共鳴分析のスペクトルを示すグラフである。
１３核磁気共鳴分析のスペクトルを示すグラフである。
【図２１】実施例１２で得た化合物のプロトン核磁気共
鳴分析のスペクトルを示すグラフである。
鳴分析のスペクトルを示すグラフである。
【図２２】実施例１２で得た化合物の炭素−１３核磁気
共鳴のスペクトルを示すグラフである。
共鳴のスペクトルを示すグラフである。
【図２３】実施例１５で得たジアクリレートの炭素−１
３核磁気共鳴分析のスペクトルを示すグラフである。
３核磁気共鳴分析のスペクトルを示すグラフである。
【図２４】実施例１７で得たジアクリレートの炭素−１
３核磁気共鳴分析のスペクトルを示すグラフである。
３核磁気共鳴分析のスペクトルを示すグラフである。
【図２５】実施例１６で得た化合物の赤外分光光度法の
スペクトルを示すグラフである。
スペクトルを示すグラフである。
【図２６】実施例１６で得た化合物のプロトン核磁気共
鳴のスペクトルを示すグラフである。
鳴のスペクトルを示すグラフである。
【図２７】実施例１６で得た化合物の炭素−１３核磁気
共鳴のスペクトルを示すグラフである。
共鳴のスペクトルを示すグラフである。
【図２８】実施例２０で得たモノアクリレートの赤外線
分光光度法のスペクトルを示すグラフである。
分光光度法のスペクトルを示すグラフである。
【図２９】実施例２０で得たモノアクリレートのプロト
ン核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
ン核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
【図３０】実施例２０で得たモノアクリレートの炭素−
１３核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
１３核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
【図３１】実施例２１で得たジアクリレートの赤外線分
光光度法のスペクトルを示すグラフである。
光光度法のスペクトルを示すグラフである。
【図３２】実施例２１で得たジアクリレートのプロトン
核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
【図３３】実施例２１で得たジアクリレートの炭素−１
３核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
３核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
【図３４】実施例１８で得たモノアクリレートの赤外線
分光光度法のスペクトルを示すグラフである。
分光光度法のスペクトルを示すグラフである。
【図３５】実施例１８で得たモノアクリレートのプロト
ン核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
ン核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
【図３６】実施例１８で得たモノアクリレートの炭素−
１３核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
１３核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
【図３７】実施例１９で得たジアクリレートの赤外線分
光光度法のスペクトルを示すグラフである。
光光度法のスペクトルを示すグラフである。
【図３８】実施例１９で得たジアクリレートのプロトン
核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
【図３９】実施例１９で得たジアクリレートの炭素−１
３核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
３核磁気共鳴のスペクトルを示すグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 303/10 Ｃ０７Ｄ 303/10 305/08 305/08 307/20 307/20 307/46 307/46 307/88 307/88 309/10 309/10 309/30 309/30 333/16 333/16 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０８Ｆ 20/26 ＭＭＬ Ｃ０８Ｆ 20/26 ＭＭＬ 20/34 ＭＭＱ 8619−4Ｊ 20/34 ＭＭＱ 20/38 ＭＭＵ 20/38 ＭＭＵ 24/00 ＭＮＫ 24/00 ＭＮＫ (72)発明者 イブ・フオール フランス国、57500・サン・アボルド、 スクワール・ドウ・リエージユ、７ (56)参考文献 Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅ ｒｓ，Ｖｏｌ．30，Ｎｏ．46，1989, Ｐ．6337−6338
Claims (10)
- 【請求項１】 下記の式 【化１】 で示される化合物、下記の式 【化２】 で示される化合物、及び下記の式 【化３】 で示される化合物［前記式中、 − Ｒは炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数
５〜１２のシクロアルキル基、アリール、アリールアル
キル及びアルキルアリール基から選択した基であり、 − Ｙは炭素原子数１〜１２のアルキレン基、炭素原子
数６〜１２のアリレン基、環が５〜１２員環であり且つ
ヘテロ原子が窒素、酸素及び硫黄から選択される複素環
基、並びにアルキル部分が１〜４個の炭素原子を含むア
ルキルアリレン基から選択した基であり、Ｒがメチルを
表す時はＹが１，４−フェニレンを表すことはできず、 − Ｚは酸素及び２つの隣接炭素と一緒に４〜８員環を
形成する少なくとも２つの炭素原子を含む炭化水素基で
ある］（但し、Ｙが（ＣＨ 2 ） 2 、（ＣＨ 2 ） 3 または
アルデヒド官能基をオルト位に有するフェニレン基であ
る式（Ｉ）および式（ＩＩ）の化合物を除く）から選択
されるアクリレート。 - 【請求項２】 Ｙが基（ＣＨ2 ）ｎ［式中ｎは４〜１２
の整数である］、フェニレン基Ｃ6 Ｈ4 、３，３’−ジ
フェニル基、４，４’−ジフェニル基、２，５−チオフ
ェニル基及び２，５−フリル基から選択されたものであ
ることを特徴とする式（Ｉ）及び（ＩＩ）のアクリレー
トから選択される請求項１に記載のアクリレート。 - 【請求項３】 Ｚが基（ＣＨ2 ）2 、基（ＣＨ2 ）3 、
及びフェニレン基Ｃ6 Ｈ4 から選択されたものであるこ
とを特徴とする式（ＩＩＩ）のアクリレートから選択さ
れる請求項１に記載のアクリレート。 - 【請求項４】 下記の式 【化４】 ［式中Ｒは請求項１で述べた意味を有する］で示される
アクリレートと、下記の式 【化５】 ［式中、Ｙは請求項１で述べた意味を有する］で示され
るジアルデヒドとを、少なくとも１種類の官能化触媒を
有効量存在させて反応させることを特徴とする請求項１
に記載のアクリレートの製造方法。 - 【請求項５】 官能化触媒が３つの環に共通の窒素原子
を少なくとも１つ含む環式第三アミンであることを特徴
とする請求項４に記載の方法。 - 【請求項６】 官能化触媒をアクリレートとジアルデヒ
ドとの合計の２〜２０モル％の割合で使用することを特
徴とする請求項４又は５に記載の方法。 - 【請求項７】 少なくとも１種類の親電子活性化剤の存
在下で実施することを特徴とする請求項４又は６に記載
の方法。 - 【請求項８】 有機溶媒の存在下で実施することを特徴
とする請求項４から７のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項９】 １５°Ｃ〜１２５°Ｃの範囲の温度で実
施することを特徴とする請求項４から８のいずれか一項
に記載の方法。 - 【請求項１０】 アクリレート／ジアルデヒドのモル比
が０．２〜１０の範囲であることを特徴とする請求項４
から９のいずれか一項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9008108 | 1990-06-27 | ||
| FR9008108A FR2663926B1 (fr) | 1990-06-27 | 1990-06-27 | Nouveaux cycles acrylates a fonction alcool, aldehyde et/ou ether, leur procede de fabrication et leur application a l'obtention de nouveaux polymeres et copolymeres. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0692902A JPH0692902A (ja) | 1994-04-05 |
| JP2510905B2 true JP2510905B2 (ja) | 1996-06-26 |
Family
ID=9398074
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3183181A Expired - Lifetime JP2510905B2 (ja) | 1990-06-27 | 1991-06-27 | アルコ―ル、アルデヒド及び／又はエ―テル官能基を含む新規アクリレ―ト並びにその製造方法 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0465293B1 (ja) |
| JP (1) | JP2510905B2 (ja) |
| AT (1) | ATE127776T1 (ja) |
| CA (1) | CA2045762A1 (ja) |
| DE (1) | DE69112926T2 (ja) |
| DK (1) | DK0465293T3 (ja) |
| ES (1) | ES2077819T3 (ja) |
| FR (1) | FR2663926B1 (ja) |
| GR (1) | GR3018209T3 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6369164B1 (en) | 1993-05-26 | 2002-04-09 | Dentsply G.M.B.H. | Polymerizable compounds and compositions |
| US5998499A (en) | 1994-03-25 | 1999-12-07 | Dentsply G.M.B.H. | Liquid crystalline (meth)acrylate compounds, composition and method |
| US6353061B1 (en) | 1993-05-26 | 2002-03-05 | Dentsply Gmbh | α, ω-methacrylate terminated macromonomer compounds |
| US5703270A (en) * | 1994-02-25 | 1997-12-30 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Method for preparing a vinyl compound having a hydroxy group |
| CA2146816A1 (en) | 1994-04-22 | 1995-10-23 | Joachim E. Klee | Process and composition for preparing a dental polymer product |
| JP2006342151A (ja) * | 2005-05-12 | 2006-12-21 | Nippon Shokubai Co Ltd | 水酸基含有アルケンの製造方法 |
| JP2007230873A (ja) * | 2006-02-27 | 2007-09-13 | Fujifilm Corp | 水酸基含有ビニル化合物の製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL8500804A (nl) * | 1985-03-20 | 1986-10-16 | Stamicarbon | Werkwijze voor de bereiding van 2-(hydroxyalkyl)acrylverbindingen. |
-
1990
- 1990-06-27 FR FR9008108A patent/FR2663926B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-06-21 ES ES91401684T patent/ES2077819T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1991-06-21 DE DE69112926T patent/DE69112926T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-06-21 DK DK91401684.5T patent/DK0465293T3/da active
- 1991-06-21 AT AT91401684T patent/ATE127776T1/de active
- 1991-06-21 EP EP91401684A patent/EP0465293B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1991-06-26 CA CA002045762A patent/CA2045762A1/fr not_active Abandoned
- 1991-06-27 JP JP3183181A patent/JP2510905B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-11-27 GR GR950403323T patent/GR3018209T3/el unknown
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| ＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔｅｒｓ，Ｖｏｌ．３０，Ｎｏ．４６，１９８９，Ｐ．６３３７−６３３８ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69112926T2 (de) | 1996-03-21 |
| CA2045762A1 (fr) | 1991-12-28 |
| EP0465293B1 (fr) | 1995-09-13 |
| ES2077819T3 (es) | 1995-12-01 |
| JPH0692902A (ja) | 1994-04-05 |
| ATE127776T1 (de) | 1995-09-15 |
| DE69112926D1 (de) | 1995-10-19 |
| FR2663926B1 (fr) | 1994-04-15 |
| FR2663926A1 (fr) | 1992-01-03 |
| DK0465293T3 (da) | 1995-11-13 |
| EP0465293A1 (fr) | 1992-01-08 |
| GR3018209T3 (en) | 1996-02-29 |
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