JP2906871B2 - インキ誘導部材及びその製造方法 - Google Patents
インキ誘導部材及びその製造方法Info
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- JP2906871B2 JP2906871B2 JP4280666A JP28066692A JP2906871B2 JP 2906871 B2 JP2906871 B2 JP 2906871B2 JP 4280666 A JP4280666 A JP 4280666A JP 28066692 A JP28066692 A JP 28066692A JP 2906871 B2 JP2906871 B2 JP 2906871B2
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- tio
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、インキの濡れ性や保持
性が要求される筆記具の合成樹脂製インキ誘導部材及び
その製造方法に関するものであり、より詳細には経時的
なインキとの接触のムラにより生じる空気の抱き込みな
どの問題を極力抑制したインキ誘導部材及びその製造方
法に関するものである。
性が要求される筆記具の合成樹脂製インキ誘導部材及び
その製造方法に関するものであり、より詳細には経時的
なインキとの接触のムラにより生じる空気の抱き込みな
どの問題を極力抑制したインキ誘導部材及びその製造方
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】筆記具におけるインキ誘導部材の具体例
としては、ジャバラ状ペン芯や、インキカートリッジ挿
入部材や、繊維束や樹脂押出成形によるインキ中継芯
や、樹脂製ペン先などが挙げられるが、これらのインキ
誘導部材にはインキの濡れ性や保持性が要求される。イ
ンキ誘導部材に対するインキのぬれ性や保持性が低下す
ると、インキとの接触ムラが生じ、その結果、空気を抱
き込むこととなり、ペン先部よりインキのボタ落ちが生
じたり、インキ吐出不足が生じ筆跡にカスレを生じるな
どの問題が生じる。
としては、ジャバラ状ペン芯や、インキカートリッジ挿
入部材や、繊維束や樹脂押出成形によるインキ中継芯
や、樹脂製ペン先などが挙げられるが、これらのインキ
誘導部材にはインキの濡れ性や保持性が要求される。イ
ンキ誘導部材に対するインキのぬれ性や保持性が低下す
ると、インキとの接触ムラが生じ、その結果、空気を抱
き込むこととなり、ペン先部よりインキのボタ落ちが生
じたり、インキ吐出不足が生じ筆跡にカスレを生じるな
どの問題が生じる。
【０００３】そこで、インキ誘導部材のインキの濡れ性
や保持性を向上するため数多くの提案がなされている。
その代表的な例としては、クロム酸含有液で表面をエッ
チング処理したもの、表層部がシラノール基であるポリ
シロキサンの層を特定の層厚で表面に形成した特公平１
ー２７８７０号、ＡＢＳ樹脂を使用し、エッチング部の
全表面に対するエッチング凹部の総面積を特定し、その
表面に界面活性剤を分布させた特公平１ー６０４３９
号、インキ接触面に、アルミナ及び／又はシリカの微粒
子を特定の平均間隔で全体に均一に分散付着させた特公
平３ー２０３５７号などが挙げられる。
や保持性を向上するため数多くの提案がなされている。
その代表的な例としては、クロム酸含有液で表面をエッ
チング処理したもの、表層部がシラノール基であるポリ
シロキサンの層を特定の層厚で表面に形成した特公平１
ー２７８７０号、ＡＢＳ樹脂を使用し、エッチング部の
全表面に対するエッチング凹部の総面積を特定し、その
表面に界面活性剤を分布させた特公平１ー６０４３９
号、インキ接触面に、アルミナ及び／又はシリカの微粒
子を特定の平均間隔で全体に均一に分散付着させた特公
平３ー２０３５７号などが挙げられる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来のものは、表面に
インキが付着しやすいように凹凸を形成したり（エッチ
ング処理）、表面に親水性の物質を単に付着させたり
（特公平１ー６０４３９号、特公平３ー２０３５７
号）、前処理することなく親水性の層を表面に形成した
り（特公平１ー２７８７０号）するものである為、初期
のインキの濡れ性や保持性は良好であるものの、経時的
な使用により表面の凹凸が徐々に塞がれたり、親水性物
質が徐々に剥離し、インキの濡れ性や保持性が徐々に低
下するという点で未だ改善の余地が残されていた。又、
これに加えて特公平１ー６０４３９号においては、使用
できる樹脂が限定され、使用樹脂の拡大という点で未だ
改善の余地が残されていた。
インキが付着しやすいように凹凸を形成したり（エッチ
ング処理）、表面に親水性の物質を単に付着させたり
（特公平１ー６０４３９号、特公平３ー２０３５７
号）、前処理することなく親水性の層を表面に形成した
り（特公平１ー２７８７０号）するものである為、初期
のインキの濡れ性や保持性は良好であるものの、経時的
な使用により表面の凹凸が徐々に塞がれたり、親水性物
質が徐々に剥離し、インキの濡れ性や保持性が徐々に低
下するという点で未だ改善の余地が残されていた。又、
これに加えて特公平１ー６０４３９号においては、使用
できる樹脂が限定され、使用樹脂の拡大という点で未だ
改善の余地が残されていた。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題に鑑
みなされたものであって、活性化処理した合成樹脂製の
インキ誘導部材表面に、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、
ＺｒＯ2、ＭｇＡｌ2Ｏ4、ＢａＴｉＯ3、ＧｅＯ2、Ｆｅ2
Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉｎ2Ｏ、ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ5、Ｗ
Ｏ3より選択された１種もしくは２種以上のコーティン
グ膜を形成せしめたインキ誘導部材を第１の要旨とし、
活性化処理した合成樹脂製のインキ誘導部材表面に、無
機コロイド及び／又は親水性を有する有機化合物を含む
ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＭｇＡｌ
2Ｏ4、ＢａＴｉＯ3、ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3、Ｃ
ｏＯ、Ｉｎ2Ｏ、ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ5、ＷＯ3より選択された
１種もしくは２種以上のコーティング膜を形成せしめた
インキ誘導部材を第２の要旨とし、合成樹脂製のインキ
誘導部材の表面を活性化処理した後、ゾルーゲル法によ
り表面に、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、Ｍ
ｇＡｌ2Ｏ4、ＢａＴｉＯ3、ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｒ2
Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉｎ2Ｏ、ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ5、ＷＯ3より選
択された１種もしくは２種以上のコーティング膜を形成
したインキ誘導部材の製造方法を第３の要旨とし、合成
樹脂製のインキ誘導部材の表面を活性化処理した後、ゾ
ルーゲル法により表面に、無機コロイド及び／又は親水
性を有する有機化合物を含むＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2
Ｏ3、ＺｒＯ2、ＭｇＡｌ2Ｏ4、ＢａＴｉＯ3、ＧｅＯ2、
Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉｎ2Ｏ、ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ
5、ＷＯ3より選択された１種もしくは２種以上のコーテ
ィング膜を形成したインキ誘導部材の製造方法を第４の
要旨とするものである。
みなされたものであって、活性化処理した合成樹脂製の
インキ誘導部材表面に、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、
ＺｒＯ2、ＭｇＡｌ2Ｏ4、ＢａＴｉＯ3、ＧｅＯ2、Ｆｅ2
Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉｎ2Ｏ、ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ5、Ｗ
Ｏ3より選択された１種もしくは２種以上のコーティン
グ膜を形成せしめたインキ誘導部材を第１の要旨とし、
活性化処理した合成樹脂製のインキ誘導部材表面に、無
機コロイド及び／又は親水性を有する有機化合物を含む
ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＭｇＡｌ
2Ｏ4、ＢａＴｉＯ3、ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3、Ｃ
ｏＯ、Ｉｎ2Ｏ、ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ5、ＷＯ3より選択された
１種もしくは２種以上のコーティング膜を形成せしめた
インキ誘導部材を第２の要旨とし、合成樹脂製のインキ
誘導部材の表面を活性化処理した後、ゾルーゲル法によ
り表面に、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、Ｍ
ｇＡｌ2Ｏ4、ＢａＴｉＯ3、ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｒ2
Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉｎ2Ｏ、ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ5、ＷＯ3より選
択された１種もしくは２種以上のコーティング膜を形成
したインキ誘導部材の製造方法を第３の要旨とし、合成
樹脂製のインキ誘導部材の表面を活性化処理した後、ゾ
ルーゲル法により表面に、無機コロイド及び／又は親水
性を有する有機化合物を含むＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2
Ｏ3、ＺｒＯ2、ＭｇＡｌ2Ｏ4、ＢａＴｉＯ3、ＧｅＯ2、
Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉｎ2Ｏ、ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ
5、ＷＯ3より選択された１種もしくは２種以上のコーテ
ィング膜を形成したインキ誘導部材の製造方法を第４の
要旨とするものである。
【０００６】次に本発明を詳細に説明する。使用し得る
合成樹脂としては、種々のものが選択できる。一例とし
ては、ポリアセタール系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポ
リアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリオレフィン
系樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、
ポリエーテル系樹脂、ポリフェニレン系樹脂、ホルムア
ルデヒド系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン樹脂など
の１種もしくは２種以上を組み合わせたものが挙げら
れ、これらを用い押出成形や射出成形によって板状体、
杆体、繊維収束体、焼結体、発泡体、多孔質体などとい
ったように所望の形状のインキ誘導部材を得る。
合成樹脂としては、種々のものが選択できる。一例とし
ては、ポリアセタール系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポ
リアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリオレフィン
系樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、
ポリエーテル系樹脂、ポリフェニレン系樹脂、ホルムア
ルデヒド系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン樹脂など
の１種もしくは２種以上を組み合わせたものが挙げら
れ、これらを用い押出成形や射出成形によって板状体、
杆体、繊維収束体、焼結体、発泡体、多孔質体などとい
ったように所望の形状のインキ誘導部材を得る。
【０００７】これらのインキ誘導部材は、最初に少なく
もインキと接触する表面を活性化処理する。この処理
は、表面物性を変化させることにより表面を活性化する
ためのものであって、その処理方法をいくつか例示する
と次のとおりである。第１の方法としては、無水クロム
酸、重クロム酸カリウム、重クロム酸ナトリウム等のク
ロム酸を含有する液に、必要に応じて硫酸、リン酸など
を加えた液を用い、インキ誘導部材をエッチング処理
し、表面に微細な凹凸を形成すると共に表面にカルボニ
ル基、カルボキシル基、アミノ基などの親水基を形成
し、表面を活性化する方法である。第２の方法として
は、インキ誘導部材をプラズマ処理、コロナ放電処理、
放射線照射処理することにより、表面にカルボニル基、
カルボキシル基、アミノ基などの親水基を形成し、表面
を活性化する方法である。本方法の場合には、インキ誘
導部材として多孔質体、発泡体などその表面をポーラス
化したものに特に好適である。
もインキと接触する表面を活性化処理する。この処理
は、表面物性を変化させることにより表面を活性化する
ためのものであって、その処理方法をいくつか例示する
と次のとおりである。第１の方法としては、無水クロム
酸、重クロム酸カリウム、重クロム酸ナトリウム等のク
ロム酸を含有する液に、必要に応じて硫酸、リン酸など
を加えた液を用い、インキ誘導部材をエッチング処理
し、表面に微細な凹凸を形成すると共に表面にカルボニ
ル基、カルボキシル基、アミノ基などの親水基を形成
し、表面を活性化する方法である。第２の方法として
は、インキ誘導部材をプラズマ処理、コロナ放電処理、
放射線照射処理することにより、表面にカルボニル基、
カルボキシル基、アミノ基などの親水基を形成し、表面
を活性化する方法である。本方法の場合には、インキ誘
導部材として多孔質体、発泡体などその表面をポーラス
化したものに特に好適である。
【０００８】次に表面を活性化処理したインキ誘導部材
の表面にＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、Ｍｇ
Ａｌ2Ｏ4、ＢａＴｉＯ3、ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｒ
2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉｎ2Ｏ、ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ5、ＷＯ3のコー
ティング膜を形成するが、このＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ
2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＭｇＡｌ2Ｏ4、ＢａＴｉＯ3、Ｇｅ
Ｏ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉｎ2Ｏ、ＳｎＯ、
Ｖ2Ｏ5、ＷＯ3のコーティング膜の形成方法としては、
ゾルーゲル法にて行なう。ゾルーゲル法の原理は、金属
の有機、無機化合物の溶液から出発し、溶液中での化合
物の加水分解、重縮合によって溶液を金属酸化物または
水酸化物の微粒子が溶解したゲルとし、更に反応を進行
させゲル体とし、このゲル体を乾燥し加熱するとゲル体
が成長し多結晶物が最終的に生成されるようにしたもの
であり、本原理は石英ガラスの製造に用いられている。
の表面にＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、Ｍｇ
Ａｌ2Ｏ4、ＢａＴｉＯ3、ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｒ
2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉｎ2Ｏ、ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ5、ＷＯ3のコー
ティング膜を形成するが、このＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ
2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＭｇＡｌ2Ｏ4、ＢａＴｉＯ3、Ｇｅ
Ｏ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉｎ2Ｏ、ＳｎＯ、
Ｖ2Ｏ5、ＷＯ3のコーティング膜の形成方法としては、
ゾルーゲル法にて行なう。ゾルーゲル法の原理は、金属
の有機、無機化合物の溶液から出発し、溶液中での化合
物の加水分解、重縮合によって溶液を金属酸化物または
水酸化物の微粒子が溶解したゲルとし、更に反応を進行
させゲル体とし、このゲル体を乾燥し加熱するとゲル体
が成長し多結晶物が最終的に生成されるようにしたもの
であり、本原理は石英ガラスの製造に用いられている。
【０００９】本発明においては、前記ゾルーゲル法の原
理を利用したものであり、具体的には、以下の手順によ
ってインキ誘導部材の表面にコーティング膜を形成する
が、以下ＳｉＯ2を例に説明する。最初に金属としてＳ
ｉを用いた金属アルコキシドとしてテトラエトキシシラ
ン（Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）4）に溶媒（エタノール、イソプ
ロピルアルコール等）を添加して混合液を作製し、これ
に加水分解に必要な水、触媒を加えゾル液を作る。次
に、ゾル液にインキ誘導部材を入れアルコキシドの加水
分解と重縮合を行なう（反応温度は室温〜８０℃程度）
とＳｉＯ2粒子（ゲル）がインキ誘導部材の表面に生成
し、更に反応を進行させるとゲルが成長しゲル体とな
る。その後ゲル体をインキ誘導部材が軟化或いは溶融し
ない程度の温度（６０℃〜７０℃）で加熱するとインキ
誘導部材の表面にＳｉＯ2のコーティング膜（ｎＳｉＯ2
で、且つ、非晶質で結晶水を含む皮膜、ＴｉＯ2その他
の皮膜も同様）が形成される。
理を利用したものであり、具体的には、以下の手順によ
ってインキ誘導部材の表面にコーティング膜を形成する
が、以下ＳｉＯ2を例に説明する。最初に金属としてＳ
ｉを用いた金属アルコキシドとしてテトラエトキシシラ
ン（Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）4）に溶媒（エタノール、イソプ
ロピルアルコール等）を添加して混合液を作製し、これ
に加水分解に必要な水、触媒を加えゾル液を作る。次
に、ゾル液にインキ誘導部材を入れアルコキシドの加水
分解と重縮合を行なう（反応温度は室温〜８０℃程度）
とＳｉＯ2粒子（ゲル）がインキ誘導部材の表面に生成
し、更に反応を進行させるとゲルが成長しゲル体とな
る。その後ゲル体をインキ誘導部材が軟化或いは溶融し
ない程度の温度（６０℃〜７０℃）で加熱するとインキ
誘導部材の表面にＳｉＯ2のコーティング膜（ｎＳｉＯ2
で、且つ、非晶質で結晶水を含む皮膜、ＴｉＯ2その他
の皮膜も同様）が形成される。
【００１０】金属としてＳｉを用いた金属アルコキシド
の具体例としては、テトラエトキシシラン（Ｓｉ（ＯＣ
2Ｈ5）4）、Ｓｉ（ＯＣＨ3）4、Ｓｉ（ｉ−ＯＣ
3Ｈ7）4、Ｓｉ（ｉ−ＯＣ4Ｈ9）4が挙げられ、金属とし
てＴｉを用いた金属アルコキシドの具体例としては、テ
トラエトキシチタン（Ｔｉ（ＯＣ2Ｈ5）4）、Ｔｉ（Ｏ
ＣＨ3）4、Ｔｉ（ｉ−ＯＣ3Ｈ7）4、Ｔｉ（ＯＣ4Ｈ9）4
が挙げられ、又、金属としてＡｌを用いた金属アルコキ
シドの具体例としては、アルミニウムエトキシド（Ａｌ
（ＯＣ2Ｈ5）3）、Ａｌ（ＯＣＨ3）3、Ａｌ（ｉ−ＯＣ3
Ｈ7）3、Ａｌ（ＯＣ4Ｈ9）3が挙げられ、更に、金属と
してＺｒを用いた金属アルコキシドの具体例としては、
ジルコニウムエトキシド（Ｚｒ（ＯＣ2Ｈ5）4）、Ｚｒ
（ＯＣＨ3）4、Ｚｒ（ｉ−ＯＣ3Ｈ7）4、Ｚｒ（ＯＣ4Ｈ
9）4が挙げられ、更に、金属としてＭｇ−Ａｌを用いた
金属アルコキシドの具体例としては、アルミニウムマグ
ネシウムイソプロポキシド（Ｍｇ（Ａｌ（ｉ−ＯＣ
3Ｈ7）4）2、（Ｍｇ（Ａｌ（ｓ−ＯＣ4Ｈ9）4）2が挙げ
られる。又、金属としてＢａ−Ｔｉを用いた金属アルコ
キシドの具体例としては、バリウムエトキシド（Ｂａ
（ＯＣ2Ｈ5）2）とテトラエトキシチタン（Ｔｉ（ＯＣ2
Ｈ5）4）、バリウムイソプロポキシド（Ｂａ（ＯＣ
3Ｈ7）2）とテトライソプロポキシチタン（Ｔｉ（ＯＣ3
Ｈ7）4）が挙げられ、金属としてＧｅを用いた金属アル
コキシドの具体例としては、Ｇｅ（ＯＣ2Ｈ5）4が挙げ
られ、金属としてＦｅを用いた金属アルコキシドの具体
例としては、Ｆｅ（ＯＣ2Ｈ5）3が挙げられ、金属とし
てＣｒを用いた金属アルコキシドの具体例としては、Ｃ
ｒ（ＣＨ3ＣＯＯ）3・Ｈ2Ｏが挙げられ、金属としてＣ
ｏを用いた金属アルコキシドの具体例としては、Ｃｏ
（ＣＨ3ＣＯＯ）2・４Ｈ2Ｏが挙げられ、金属としてＩ
ｎを用いた金属アルコキシドの具体例としては、インジ
ウムニトリルアセチルアセトナートが挙げられ、金属と
してＶを用いた金属アルコキシドの具体例としては、Ｖ
Ｏ（ＯＣ2Ｈ5）3が挙げられ、金属としてＷを用いた金
属アルコキシドの具体例としては、Ｗ（ＯＣ2Ｈ5）6が
挙げられる。溶媒としては、メタノール、エタノール、
プロパノール、ブタノール等のアルコール類が主に使用
され、その他エチレングリコール、エチレンオキシド、
トリエタノールアミン、キシレン、ホルムアミド、ジメ
チルホルムアミド、ジオキサン、シュウ酸なども使用さ
れる。更に、触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、
フッ酸などの酸や、アンモニアなどが使用される。
の具体例としては、テトラエトキシシラン（Ｓｉ（ＯＣ
2Ｈ5）4）、Ｓｉ（ＯＣＨ3）4、Ｓｉ（ｉ−ＯＣ
3Ｈ7）4、Ｓｉ（ｉ−ＯＣ4Ｈ9）4が挙げられ、金属とし
てＴｉを用いた金属アルコキシドの具体例としては、テ
トラエトキシチタン（Ｔｉ（ＯＣ2Ｈ5）4）、Ｔｉ（Ｏ
ＣＨ3）4、Ｔｉ（ｉ−ＯＣ3Ｈ7）4、Ｔｉ（ＯＣ4Ｈ9）4
が挙げられ、又、金属としてＡｌを用いた金属アルコキ
シドの具体例としては、アルミニウムエトキシド（Ａｌ
（ＯＣ2Ｈ5）3）、Ａｌ（ＯＣＨ3）3、Ａｌ（ｉ−ＯＣ3
Ｈ7）3、Ａｌ（ＯＣ4Ｈ9）3が挙げられ、更に、金属と
してＺｒを用いた金属アルコキシドの具体例としては、
ジルコニウムエトキシド（Ｚｒ（ＯＣ2Ｈ5）4）、Ｚｒ
（ＯＣＨ3）4、Ｚｒ（ｉ−ＯＣ3Ｈ7）4、Ｚｒ（ＯＣ4Ｈ
9）4が挙げられ、更に、金属としてＭｇ−Ａｌを用いた
金属アルコキシドの具体例としては、アルミニウムマグ
ネシウムイソプロポキシド（Ｍｇ（Ａｌ（ｉ−ＯＣ
3Ｈ7）4）2、（Ｍｇ（Ａｌ（ｓ−ＯＣ4Ｈ9）4）2が挙げ
られる。又、金属としてＢａ−Ｔｉを用いた金属アルコ
キシドの具体例としては、バリウムエトキシド（Ｂａ
（ＯＣ2Ｈ5）2）とテトラエトキシチタン（Ｔｉ（ＯＣ2
Ｈ5）4）、バリウムイソプロポキシド（Ｂａ（ＯＣ
3Ｈ7）2）とテトライソプロポキシチタン（Ｔｉ（ＯＣ3
Ｈ7）4）が挙げられ、金属としてＧｅを用いた金属アル
コキシドの具体例としては、Ｇｅ（ＯＣ2Ｈ5）4が挙げ
られ、金属としてＦｅを用いた金属アルコキシドの具体
例としては、Ｆｅ（ＯＣ2Ｈ5）3が挙げられ、金属とし
てＣｒを用いた金属アルコキシドの具体例としては、Ｃ
ｒ（ＣＨ3ＣＯＯ）3・Ｈ2Ｏが挙げられ、金属としてＣ
ｏを用いた金属アルコキシドの具体例としては、Ｃｏ
（ＣＨ3ＣＯＯ）2・４Ｈ2Ｏが挙げられ、金属としてＩ
ｎを用いた金属アルコキシドの具体例としては、インジ
ウムニトリルアセチルアセトナートが挙げられ、金属と
してＶを用いた金属アルコキシドの具体例としては、Ｖ
Ｏ（ＯＣ2Ｈ5）3が挙げられ、金属としてＷを用いた金
属アルコキシドの具体例としては、Ｗ（ＯＣ2Ｈ5）6が
挙げられる。溶媒としては、メタノール、エタノール、
プロパノール、ブタノール等のアルコール類が主に使用
され、その他エチレングリコール、エチレンオキシド、
トリエタノールアミン、キシレン、ホルムアミド、ジメ
チルホルムアミド、ジオキサン、シュウ酸なども使用さ
れる。更に、触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、
フッ酸などの酸や、アンモニアなどが使用される。
【００１１】即ち、本発明におけるゾルーゲル法とは、
金属としてＳｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｍｇ−Ａｌ、Ｂａ
−Ｔｉ、Ｇｅ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｖ、Ｗ
を用いた金属アルコキシド溶液よりなるゾル液を使用
し、これを加水分解と重縮合を行ないＳｉＯ2、Ｔｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＭｇＡｌ2Ｏ4、ＢａＴｉ
Ｏ3、ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉｎ
2Ｏ、ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ5、ＷＯ3粒子のゲルを生成し、その
後反応を進行させＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ
2、ＭｇＡｌ2Ｏ4、ＢａＴｉＯ3、ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、
Ｃｒ2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉｎ2Ｏ、ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ5、ＷＯ3粒
子をゲル体となし、更に加熱しインキ誘導部材の表面に
ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＭｇＡｌ
2Ｏ4、ＢａＴｉＯ3、ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3、Ｃ
ｏＯ、Ｉｎ2Ｏ、ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ5、ＷＯ3の膜を形成する
ことをいう。
金属としてＳｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｍｇ−Ａｌ、Ｂａ
−Ｔｉ、Ｇｅ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｖ、Ｗ
を用いた金属アルコキシド溶液よりなるゾル液を使用
し、これを加水分解と重縮合を行ないＳｉＯ2、Ｔｉ
Ｏ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＭｇＡｌ2Ｏ4、ＢａＴｉ
Ｏ3、ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉｎ
2Ｏ、ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ5、ＷＯ3粒子のゲルを生成し、その
後反応を進行させＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ
2、ＭｇＡｌ2Ｏ4、ＢａＴｉＯ3、ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、
Ｃｒ2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉｎ2Ｏ、ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ5、ＷＯ3粒
子をゲル体となし、更に加熱しインキ誘導部材の表面に
ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＭｇＡｌ
2Ｏ4、ＢａＴｉＯ3、ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3、Ｃ
ｏＯ、Ｉｎ2Ｏ、ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ5、ＷＯ3の膜を形成する
ことをいう。
【００１２】ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、
ＭｇＡｌ2Ｏ4、ＢａＴｉＯ3、ＧｅＯ 2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｒ
2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉｎ2Ｏ、ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ5、ＷＯ3のコー
ティング膜はインキ誘導部材の表面全面に形成してもよ
いし、部分的に形成してもよい。この部分的に膜を形成
するためには、最終工程である加熱処理によりコントロ
ールするか、膜を形成したくないインキ誘導部材の表面
部分に事前にマスキングを施しておけばよい。更に、そ
の膜厚はインキ誘導部材の使用目的により異なるが一般
的には０．１μm〜１０μmが好ましい。
ＭｇＡｌ2Ｏ4、ＢａＴｉＯ3、ＧｅＯ 2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｒ
2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉｎ2Ｏ、ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ5、ＷＯ3のコー
ティング膜はインキ誘導部材の表面全面に形成してもよ
いし、部分的に形成してもよい。この部分的に膜を形成
するためには、最終工程である加熱処理によりコントロ
ールするか、膜を形成したくないインキ誘導部材の表面
部分に事前にマスキングを施しておけばよい。更に、そ
の膜厚はインキ誘導部材の使用目的により異なるが一般
的には０．１μm〜１０μmが好ましい。
【００１３】本発明では、上記ゾルーゲル法によるＳｉ
Ｏ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＭｇＡｌ2Ｏ4、Ｂ
ａＴｉＯ3、ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉ
ｎ2Ｏ、ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ5、ＷＯ3のコーティング膜形成時
において、金属アルコキシド溶液に添加剤の１種もしく
は２種以上を添加し、反応をなすとより良好な結果が得
られる。このような添加剤としては、日本シリカ工業
（株）製のラポナイト（商標）として知られている天然
クレー鉱物や、シリカコロイドやチタンコロイドやアル
ミナコロイド等の無機コロイド、メタアクリル酸、アク
リル酸や住友化学工業（株）製のスミカゲル（商標）と
して知られている高吸水性樹脂や変性ポリアミド等の親
水性を有するポリエステル、ポリブタジエン、エポキシ
エステル、ポイアクリル酸エステル等を骨格としたポリ
カルボン酸樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂などを骨
格としたポリアミド樹脂などの有機化合物、可溶性デン
プン、デキストリン、デキストラン、ブドウ糖などの多
糖類が挙げられる。この添加剤の添加によって、得られ
るコーティング膜中に、添加剤が分散されることとな
る。
Ｏ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＭｇＡｌ2Ｏ4、Ｂ
ａＴｉＯ3、ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉ
ｎ2Ｏ、ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ5、ＷＯ3のコーティング膜形成時
において、金属アルコキシド溶液に添加剤の１種もしく
は２種以上を添加し、反応をなすとより良好な結果が得
られる。このような添加剤としては、日本シリカ工業
（株）製のラポナイト（商標）として知られている天然
クレー鉱物や、シリカコロイドやチタンコロイドやアル
ミナコロイド等の無機コロイド、メタアクリル酸、アク
リル酸や住友化学工業（株）製のスミカゲル（商標）と
して知られている高吸水性樹脂や変性ポリアミド等の親
水性を有するポリエステル、ポリブタジエン、エポキシ
エステル、ポイアクリル酸エステル等を骨格としたポリ
カルボン酸樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂などを骨
格としたポリアミド樹脂などの有機化合物、可溶性デン
プン、デキストリン、デキストラン、ブドウ糖などの多
糖類が挙げられる。この添加剤の添加によって、得られ
るコーティング膜中に、添加剤が分散されることとな
る。
【００１４】本発明の処理工程は、以上のとおりである
が、ゾル液中に染料を加え、インキ誘導部材を着色する
ようなしたり、形成したインキ誘導部材を、活性化処理
する前に、超音波による洗浄その他適宜前処理を施して
もよいし、その他本発明の範囲内において適宜処理を施
してもよい。
が、ゾル液中に染料を加え、インキ誘導部材を着色する
ようなしたり、形成したインキ誘導部材を、活性化処理
する前に、超音波による洗浄その他適宜前処理を施して
もよいし、その他本発明の範囲内において適宜処理を施
してもよい。
【００１５】
【作用】本発明は、活性化処理した表面にＳｉＯ2、Ｔ
ｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＭｇＡｌ2Ｏ4、ＢａＴｉＯ
3、ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉｎ2Ｏ、
ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ5、ＷＯ3のコーティング膜を形成したの
で、活性化処理表面とＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｚ
ｒＯ2、ＭｇＡｌ2Ｏ4、ＢａＴｉＯ3、ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ
3、Ｃｒ2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉｎ2Ｏ、ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ5、ＷＯ
3のコーティング膜が強固に密着し、上記金属酸化物の
コーティング膜の表面には無数の−ＯＨ基を有し、親イ
ンキ性の表面になること、ゾルーゲル法によってＳｉＯ
2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＭｇＡｌ2Ｏ4、ＢａＴｉＯ3、
ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉｎ2Ｏ、Ｓｎ
Ｏ、Ｖ2Ｏ5、ＷＯ3のコーティング膜を形成したので、
ゾル液がインキ誘導部材に均一に拡散する結果、均一な
皮膜が得られると共に、インキ誘導部材表面で加水分解
反応並びに重縮合反応が行なわれるため、皮膜のインキ
誘導部材表面に対する密着がより強固になること、又、
コーティング膜中に無機コロイド及び／又は親水性を有
する有機化合物が強固分散されていること等により経時
的なインキの濡れ性や保持性を保証することができる。
ｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＭｇＡｌ2Ｏ4、ＢａＴｉＯ
3、ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉｎ2Ｏ、
ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ5、ＷＯ3のコーティング膜を形成したの
で、活性化処理表面とＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｚ
ｒＯ2、ＭｇＡｌ2Ｏ4、ＢａＴｉＯ3、ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ
3、Ｃｒ2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉｎ2Ｏ、ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ5、ＷＯ
3のコーティング膜が強固に密着し、上記金属酸化物の
コーティング膜の表面には無数の−ＯＨ基を有し、親イ
ンキ性の表面になること、ゾルーゲル法によってＳｉＯ
2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＭｇＡｌ2Ｏ4、ＢａＴｉＯ3、
ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉｎ2Ｏ、Ｓｎ
Ｏ、Ｖ2Ｏ5、ＷＯ3のコーティング膜を形成したので、
ゾル液がインキ誘導部材に均一に拡散する結果、均一な
皮膜が得られると共に、インキ誘導部材表面で加水分解
反応並びに重縮合反応が行なわれるため、皮膜のインキ
誘導部材表面に対する密着がより強固になること、又、
コーティング膜中に無機コロイド及び／又は親水性を有
する有機化合物が強固分散されていること等により経時
的なインキの濡れ性や保持性を保証することができる。
【００１６】
【実施例】実施例１ ダイセル化学工業（株）製のＡＢＳ樹脂（Ｖ３２０）を
用いジャバラ状ペン芯（長手方向に多数の櫛歯状羽根を
並列して有し、幅０．１５mm、高さ２０mmの長手方向の
インキ導出溝を形成）であるインキ誘導部材を射出成形
によって得た後、このインキ誘導部材を市販の中性洗剤
（ライオン（株）製、ママレモン（登録商標名））５％
を含む水溶液に浸漬し、５分間超音波洗浄した（前処
理）。その後インキ誘導部材を酸素雰囲気中でガスプラ
ズマ（インターナショナルプラズマコーポレーション
製）にて処理しインキ誘導部材の表面を活性化する（活
性化処理）。次にこのインキ誘導部材を、テトラエトキ
シシラン（関東化学（株）製）１４０ｇ、エタノール２
０７ｇ、水３６ｇ、塩酸０．３ｍｌの混合液に２４時間
浸漬した後取り出し、７０℃で６時間処理し、表面にＳ
ｉＯ2のコーティング膜が形成されたインキ誘導部材を
得た。
用いジャバラ状ペン芯（長手方向に多数の櫛歯状羽根を
並列して有し、幅０．１５mm、高さ２０mmの長手方向の
インキ導出溝を形成）であるインキ誘導部材を射出成形
によって得た後、このインキ誘導部材を市販の中性洗剤
（ライオン（株）製、ママレモン（登録商標名））５％
を含む水溶液に浸漬し、５分間超音波洗浄した（前処
理）。その後インキ誘導部材を酸素雰囲気中でガスプラ
ズマ（インターナショナルプラズマコーポレーション
製）にて処理しインキ誘導部材の表面を活性化する（活
性化処理）。次にこのインキ誘導部材を、テトラエトキ
シシラン（関東化学（株）製）１４０ｇ、エタノール２
０７ｇ、水３６ｇ、塩酸０．３ｍｌの混合液に２４時間
浸漬した後取り出し、７０℃で６時間処理し、表面にＳ
ｉＯ2のコーティング膜が形成されたインキ誘導部材を
得た。
【００１７】実施例２ 上記実施例１にて、活性化処理を以下のようになした以
外は実施例１と同様となし表面にＳｉＯ2のコーティン
グ膜が形成されたインキ誘導部材を得た。「活性化処理
−ＣｒＯ3４００ｇ／ｌ、Ｈ2ＳＯ4２００ｇ／ｌの水溶
液中にインキ誘導部材を浸漬し、７０℃で１時間撹拌処
理した後、５％塩酸の５０℃水溶液中で１０分間浸漬し
た。」
外は実施例１と同様となし表面にＳｉＯ2のコーティン
グ膜が形成されたインキ誘導部材を得た。「活性化処理
−ＣｒＯ3４００ｇ／ｌ、Ｈ2ＳＯ4２００ｇ／ｌの水溶
液中にインキ誘導部材を浸漬し、７０℃で１時間撹拌処
理した後、５％塩酸の５０℃水溶液中で１０分間浸漬し
た。」
【００１８】実施例３ ポリアセタール樹脂のペン先（ぺんてる（株）製、フォ
ーフイルムＯＰＭ４０３、長手方向に５０〜８０μｍの
毛細管が無数にあり、全長３０mm、外径０．６mmのペン
先）であるインキ誘導部材を市販の中性洗剤（ライオン
（株）製、ママレモン（登録商標名））５％を含む水溶
液に浸漬し、５分間超音波洗浄した（前処理）。その後
インキ誘導部材をクロム酸含有液（無水クロム酸４００
ｇ／ｌ、Ｈ2ＳＯ4２００ｇ／ｌの水溶液）中に６０℃で
１分間浸漬した後、５％塩酸水溶液中に１０分間浸漬し
水道水で洗浄した(活性化処理)。次にこのインキ誘導部
材を、チタンイソプロポキシド（添川理化学（株）製）
５ｇ、エタノール１００ｍｌ、２Ｎ塩酸０．５ｍｌを含
む溶液に１０分間浸漬した後取り出し、７０℃で３時間
乾燥し、表面にＴｉＯ2のコーティング膜が形成された
インキ誘導部材を得た。
ーフイルムＯＰＭ４０３、長手方向に５０〜８０μｍの
毛細管が無数にあり、全長３０mm、外径０．６mmのペン
先）であるインキ誘導部材を市販の中性洗剤（ライオン
（株）製、ママレモン（登録商標名））５％を含む水溶
液に浸漬し、５分間超音波洗浄した（前処理）。その後
インキ誘導部材をクロム酸含有液（無水クロム酸４００
ｇ／ｌ、Ｈ2ＳＯ4２００ｇ／ｌの水溶液）中に６０℃で
１分間浸漬した後、５％塩酸水溶液中に１０分間浸漬し
水道水で洗浄した(活性化処理)。次にこのインキ誘導部
材を、チタンイソプロポキシド（添川理化学（株）製）
５ｇ、エタノール１００ｍｌ、２Ｎ塩酸０．５ｍｌを含
む溶液に１０分間浸漬した後取り出し、７０℃で３時間
乾燥し、表面にＴｉＯ2のコーティング膜が形成された
インキ誘導部材を得た。
【００１９】実施例４ 活性化処理までは上記実施例３と同様となし、その後の
処理を以下のようになし表面にＡｌ2Ｏ3のコーティング
膜が形成されたインキ誘導部材を得た。「次にこのイン
キ誘導部材を、アルミニウムイソプロポキシド（添川理
化学（株）製）１ｇ、イソプロピルアルコール１００ｍ
ｌ、２Ｎ塩酸０．３ｍｌを含む溶液に５分間浸漬した後
取り出し、７０℃で３時間乾燥し、表面にＡｌ2Ｏ3のコ
ーティング膜が形成されたインキ誘導部材を得た。」
処理を以下のようになし表面にＡｌ2Ｏ3のコーティング
膜が形成されたインキ誘導部材を得た。「次にこのイン
キ誘導部材を、アルミニウムイソプロポキシド（添川理
化学（株）製）１ｇ、イソプロピルアルコール１００ｍ
ｌ、２Ｎ塩酸０．３ｍｌを含む溶液に５分間浸漬した後
取り出し、７０℃で３時間乾燥し、表面にＡｌ2Ｏ3のコ
ーティング膜が形成されたインキ誘導部材を得た。」
【００２０】実施例５ 実施例３によって表面にＴｉＯ2のコーティング膜を形
成した後、このインキ誘導部材を、テトラエトキシシラ
ン（関東化学（株）製）１４０ｇ、エタノール２０７
ｇ、水３６ｇ、塩酸０．３ｍｌの混合液に２４時間浸漬
した後取り出し、７０℃で６時間処理し、ＴｉＯ2のコ
ーティング膜の表面にＳｉＯ2のコーティング膜が形成
されたインキ誘導部材を得た。
成した後、このインキ誘導部材を、テトラエトキシシラ
ン（関東化学（株）製）１４０ｇ、エタノール２０７
ｇ、水３６ｇ、塩酸０．３ｍｌの混合液に２４時間浸漬
した後取り出し、７０℃で６時間処理し、ＴｉＯ2のコ
ーティング膜の表面にＳｉＯ2のコーティング膜が形成
されたインキ誘導部材を得た。
【００２１】実施例６ ダイセル化学工業（株）製のＡＢＳ樹脂（Ｖ６６０）を
用いジャバラ状ペン芯（長手方向に多数の櫛歯状羽根を
並列して有し、幅０．１５mm、高さ４４mmの長手方向の
インキ導出溝を形成）であるインキ誘導部材を射出成形
によって得た。このインキ誘導部材を酸素雰囲気中でガ
スプラズマ（インターナショナルプラズマコーポレーシ
ョン製）にて処理しインキ誘導部材の表面を活性化する
（活性化処理）。次にこのインキ誘導部材を、イソプロ
ピルアルコール４０．５ｇ、テトラエトキシシラン（関
東化学（株）製）２０．８ｇ、水３１．５ｇの混合液
に、塩酸数滴を加え撹拌し溶液Ａを作成した。この溶液
ＡにＡＱ−ナイロンＫ−８０（東レ（株）製）を２．０
ｇ加え、溶解した混合液に１５分間浸漬した。これを遠
心分離機（（株）広瀬脱水機械製作所製）にかけ、５０
〜６０℃で４時間以上乾燥し、表面にＡＱ−ナイロンＫ
−８０を含むＳｉＯ2のコーティング膜が形成されたイ
ンキ誘導部材を得た。
用いジャバラ状ペン芯（長手方向に多数の櫛歯状羽根を
並列して有し、幅０．１５mm、高さ４４mmの長手方向の
インキ導出溝を形成）であるインキ誘導部材を射出成形
によって得た。このインキ誘導部材を酸素雰囲気中でガ
スプラズマ（インターナショナルプラズマコーポレーシ
ョン製）にて処理しインキ誘導部材の表面を活性化する
（活性化処理）。次にこのインキ誘導部材を、イソプロ
ピルアルコール４０．５ｇ、テトラエトキシシラン（関
東化学（株）製）２０．８ｇ、水３１．５ｇの混合液
に、塩酸数滴を加え撹拌し溶液Ａを作成した。この溶液
ＡにＡＱ−ナイロンＫ−８０（東レ（株）製）を２．０
ｇ加え、溶解した混合液に１５分間浸漬した。これを遠
心分離機（（株）広瀬脱水機械製作所製）にかけ、５０
〜６０℃で４時間以上乾燥し、表面にＡＱ−ナイロンＫ
−８０を含むＳｉＯ2のコーティング膜が形成されたイ
ンキ誘導部材を得た。
【００２２】実施例７ 溶液Ａの作成迄を実施例６と同様となし、その後の処理
を以下のようになし、表面にアクリル酸を含むＳｉＯ2
のコーティング膜が形成されたインキ誘導部材を得た。
「この溶液Ａに水１００ｇ中にアクリル酸１ｇを加え、
更にブチルセロソルブを数滴加えた溶液を等量入れた混
合液に１５分間浸漬した。これを遠心分離機（（株）広
瀬脱水機械製作所製製）にかけ、５０〜６０℃で４時間
以上乾燥した。」
を以下のようになし、表面にアクリル酸を含むＳｉＯ2
のコーティング膜が形成されたインキ誘導部材を得た。
「この溶液Ａに水１００ｇ中にアクリル酸１ｇを加え、
更にブチルセロソルブを数滴加えた溶液を等量入れた混
合液に１５分間浸漬した。これを遠心分離機（（株）広
瀬脱水機械製作所製製）にかけ、５０〜６０℃で４時間
以上乾燥した。」
【００２３】実施例８ 実施例７において、アクリル酸とブチルセロソルブの代
わりに、ラポナイトＲＤ（日本シリカ工業（株）製、天
然クレー鉱物）を水の中に０．１ｇ入れた他は、実施例
７と同様となし、ラポナイトＤを含むＳｉＯ2のコーテ
ィング膜が形成されたインキ誘導部材を得た。
わりに、ラポナイトＲＤ（日本シリカ工業（株）製、天
然クレー鉱物）を水の中に０．１ｇ入れた他は、実施例
７と同様となし、ラポナイトＤを含むＳｉＯ2のコーテ
ィング膜が形成されたインキ誘導部材を得た。
【００２４】実施例９ 実施例８のラポナイトＲＤの代わりにラポナイトＲＤＳ
（日本シリカ工業（株）製、天然クレー鉱物）を使用し
た他は実施例８と同様となし、ラポナイトＲＤＳを含む
ＳｉＯ2のコーティング膜が形成されたインキ誘導部材
を得た。
（日本シリカ工業（株）製、天然クレー鉱物）を使用し
た他は実施例８と同様となし、ラポナイトＲＤＳを含む
ＳｉＯ2のコーティング膜が形成されたインキ誘導部材
を得た。
【００２５】実施例１０ 実施例７のアクリル酸とブチルセロソルブの代わりに、
スミカゲルＮＰ−１０１０（住友化学工業（株）製）を
水の中に０．１ｇ入れた他は、実施例７と同様となし、
スミカゲルＮＰ−１０１０を含むＳｉＯ2のコーティン
グ膜が形成されたインキ誘導部材を得た。
スミカゲルＮＰ−１０１０（住友化学工業（株）製）を
水の中に０．１ｇ入れた他は、実施例７と同様となし、
スミカゲルＮＰ−１０１０を含むＳｉＯ2のコーティン
グ膜が形成されたインキ誘導部材を得た。
【００２６】実施例１１ 実施例６のＡＱ−ナイロンＫ−８０の代わりに、ＯＳＣ
ＡＬ−１４３６（触媒化成工業（株）製、シリカコロイ
ド）を５．０ｇ加えた他は、実施例６と同様となし、Ｏ
ＳＣＡＬ−１４３６を含むＳｉＯ2のコーティング膜が
形成されたインキ誘導部材を得た。
ＡＬ−１４３６（触媒化成工業（株）製、シリカコロイ
ド）を５．０ｇ加えた他は、実施例６と同様となし、Ｏ
ＳＣＡＬ−１４３６を含むＳｉＯ2のコーティング膜が
形成されたインキ誘導部材を得た。
【００２７】実施例１２ 活性化処理まで実施例３と同様となし、その後の処理を
以下のようになし、シリカコロイドを含むＴｉＯ2のコ
ーティング膜が形成されたインキ誘導部材を得た。「次
にこのインキ誘導部材を、チタンイソプロポキシド（添
川理化学（株）製）５ｇ、エタノール１００ｍｌ、２Ｎ
塩酸０．５ｍｌ、ＯＳＣＡＬ−１４３６（触媒化成工業
（株）製、シリカコロイド）５．０ｇを含む溶液に１０
分間浸漬した後取り出し、７０℃で３時間乾燥した。」
以下のようになし、シリカコロイドを含むＴｉＯ2のコ
ーティング膜が形成されたインキ誘導部材を得た。「次
にこのインキ誘導部材を、チタンイソプロポキシド（添
川理化学（株）製）５ｇ、エタノール１００ｍｌ、２Ｎ
塩酸０．５ｍｌ、ＯＳＣＡＬ−１４３６（触媒化成工業
（株）製、シリカコロイド）５．０ｇを含む溶液に１０
分間浸漬した後取り出し、７０℃で３時間乾燥した。」
【００２８】実施例１３ 活性化処理までは上記実施例３と同様となし、その後の
処理を以下のようになし、アルミナゾルを含むＡｌ2Ｏ3
のコーティング膜が形成されたインキ誘導部材を得た。
「次にこのインキ誘導部材を、アルミニウムイソプロポ
キシド（添川理化学（株）製）１ｇ、イソプロピルアル
コール１００ｍｌ、２Ｎ塩酸０．３ｍｌ、アルミナゾル
（日産化学工業（株）製）５．０ｇを含む溶液に５分間
浸漬した後取り出し、７０℃で３時間乾燥し、表面にＡ
ｌ2Ｏ3のコーティング膜が形成されたインキ誘導部材を
得た。」
処理を以下のようになし、アルミナゾルを含むＡｌ2Ｏ3
のコーティング膜が形成されたインキ誘導部材を得た。
「次にこのインキ誘導部材を、アルミニウムイソプロポ
キシド（添川理化学（株）製）１ｇ、イソプロピルアル
コール１００ｍｌ、２Ｎ塩酸０．３ｍｌ、アルミナゾル
（日産化学工業（株）製）５．０ｇを含む溶液に５分間
浸漬した後取り出し、７０℃で３時間乾燥し、表面にＡ
ｌ2Ｏ3のコーティング膜が形成されたインキ誘導部材を
得た。」
【００２９】実施例１４ 活性化処理までは上記実施例３と同様となし、その後の
処理を以下のようになし、ＡＱ−ナイロンＫ−８０を含
むＴｉＯ2のコーティング膜が形成されたインキ誘導部
材を得た。「次にこのインキ誘導部材を、チタンイソプ
ロポキシド（添川理化学（株）製）５ｇ、エタノール１
００ｍｌ、２Ｎ塩酸０．５ｍｌ、ＡＱ−ナイロンＫ−８
０（東レ（株）製）２．０ｇを含む溶液に１０分間浸漬
した後取り出し、７０℃で３時間乾燥した。」
処理を以下のようになし、ＡＱ−ナイロンＫ−８０を含
むＴｉＯ2のコーティング膜が形成されたインキ誘導部
材を得た。「次にこのインキ誘導部材を、チタンイソプ
ロポキシド（添川理化学（株）製）５ｇ、エタノール１
００ｍｌ、２Ｎ塩酸０．５ｍｌ、ＡＱ−ナイロンＫ−８
０（東レ（株）製）２．０ｇを含む溶液に１０分間浸漬
した後取り出し、７０℃で３時間乾燥した。」
【００３０】実施例１５ 活性化処理までは上記実施例３と同様となし、その後の
処理を以下のようになし、アクリル酸を含むＡｌ2Ｏ3の
コーティング膜が形成されたインキ誘導部材を得た。
「次にこのインキ誘導部材を、アルミニウムイソプロポ
キシド（添川理化学（株）製）１ｇ、イソプロピルアル
コール１００ｍｌ、２Ｎ塩酸０．３ｍｌの溶液に、水１
００ｇ中にアクリル酸１ｇを加え、更にブチルセロソル
ブを数滴加えた溶液を等量入れた混合液に５分間浸漬し
た後取り出し、７０℃で３時間乾燥した。」
処理を以下のようになし、アクリル酸を含むＡｌ2Ｏ3の
コーティング膜が形成されたインキ誘導部材を得た。
「次にこのインキ誘導部材を、アルミニウムイソプロポ
キシド（添川理化学（株）製）１ｇ、イソプロピルアル
コール１００ｍｌ、２Ｎ塩酸０．３ｍｌの溶液に、水１
００ｇ中にアクリル酸１ｇを加え、更にブチルセロソル
ブを数滴加えた溶液を等量入れた混合液に５分間浸漬し
た後取り出し、７０℃で３時間乾燥した。」
【００３１】比較例１ 活性化処理まで実施例１と同様となし、その後の処理を
以下のようになしインキ誘導部材を得た。「次にこのイ
ンキ誘導部材を、シリカコロイド分散液（日産化学工業
（株）製、スノーテックＯ）の５％水溶液に２４時間浸
漬した後取り出し、５０℃で４時間乾燥した。」
以下のようになしインキ誘導部材を得た。「次にこのイ
ンキ誘導部材を、シリカコロイド分散液（日産化学工業
（株）製、スノーテックＯ）の５％水溶液に２４時間浸
漬した後取り出し、５０℃で４時間乾燥した。」
【００３２】比較例２ 比較例１において、スノーテックＯの濃度を１０％水溶
液とした他は比較例１と同様となしインキ誘導部材を得
た。
液とした他は比較例１と同様となしインキ誘導部材を得
た。
【００３３】比較例３ 活性化処理まで実施例２と同様となし、その後の処理を
以下のようになしインキ誘導部材を得た。「次にこのイ
ンキ誘導部材を、界面活性剤（第一工業製薬（株）製、
ノイゲンＰ）０．０５％水溶液に１０分間浸漬した後取
り出して、５０℃で４時間乾燥した。」
以下のようになしインキ誘導部材を得た。「次にこのイ
ンキ誘導部材を、界面活性剤（第一工業製薬（株）製、
ノイゲンＰ）０．０５％水溶液に１０分間浸漬した後取
り出して、５０℃で４時間乾燥した。」
【００３４】実施例１〜１５、比較例１〜３で得たイン
キ誘導部材について、インキの濡れ性や保持性の状態を
確認するため、以下の「洗浄回数とインキ吸い上げ高さ
の関係」について試験を行なった。
キ誘導部材について、インキの濡れ性や保持性の状態を
確認するため、以下の「洗浄回数とインキ吸い上げ高さ
の関係」について試験を行なった。
【００３５】（試験方法）ジャバラ状ペン芯の後端をイ
ンキ（ぺんてる（株）製、万年筆用インキＦＫ１５の青
色、粘度１．１６センチポイズ（２５℃）、表面張力５
５．０dyne／ｃｍ、比重１．０１（２５℃）、ｐＨ５．
０４）中に２mm浸漬し、インキがジャバラ状ペン芯の縦
方向の溝を１分間に上る高さを測定した。尚、１回ごと
に水洗い及び超音波洗浄を行ない乾燥し、それを５回繰
り返した。
ンキ（ぺんてる（株）製、万年筆用インキＦＫ１５の青
色、粘度１．１６センチポイズ（２５℃）、表面張力５
５．０dyne／ｃｍ、比重１．０１（２５℃）、ｐＨ５．
０４）中に２mm浸漬し、インキがジャバラ状ペン芯の縦
方向の溝を１分間に上る高さを測定した。尚、１回ごと
に水洗い及び超音波洗浄を行ない乾燥し、それを５回繰
り返した。
【００３６】
【発明の効果】試験結果は図１に示すとおりであり、本
発明のインキ誘導部材は、洗浄回数が増加してもインキ
吸い上げ高さの変化が少なく、経時的なインキの濡れ性
や保持性が良好であることが確認できた。
発明のインキ誘導部材は、洗浄回数が増加してもインキ
吸い上げ高さの変化が少なく、経時的なインキの濡れ性
や保持性が良好であることが確認できた。
【図１】実施例１〜１５、比較例１〜３により得られた
インキ誘導部材のインキに対する洗浄回数とインキ吸い
上げ高さとの関係を示す図である。
インキ誘導部材のインキに対する洗浄回数とインキ吸い
上げ高さとの関係を示す図である。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B43K 5/18 B43K 1/00 B43K 7/10 B43K 8/04
Claims (4)
- 【請求項１】 活性化処理した合成樹脂製のインキ誘導
部材表面に、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、
ＭｇＡｌ2Ｏ4、ＢａＴｉＯ3、ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｒ
2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉｎ2Ｏ、ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ5、ＷＯ3より選
択された１種もしくは２種以上のコーティング膜を形成
せしめたインキ誘導部材。 - 【請求項２】 活性化処理した合成樹脂製のインキ誘導
部材表面に、無機コロイド及び／又は親水性を有する有
機化合物を含むＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｚｒ
Ｏ2、ＭｇＡｌ2Ｏ4、ＢａＴｉＯ3、ＧｅＯ2、Ｆｅ
2Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉｎ2Ｏ、ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ5、
ＷＯ3より選択された１種もしくは２種以上のコーティ
ング膜を形成せしめたインキ誘導部材。 - 【請求項３】 合成樹脂製のインキ誘導部材の表面を活
性化処理した後、ゾルーゲル法により表面に、Ｓｉ
Ｏ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＭｇＡｌ2Ｏ4、Ｂ
ａＴｉＯ3、ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉ
ｎ2Ｏ、ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ5、ＷＯ3より選択された１種もし
くは２種以上のコーティング膜を形成したインキ誘導部
材の製造方法。 - 【請求項４】 合成樹脂製のインキ誘導部材の表面を活
性化処理した後、ゾルーゲル法により表面に、無機コロ
イド及び／又は親水性を有する有機化合物を含むＳｉＯ
2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＭｇＡｌ2Ｏ4、Ｂａ
ＴｉＯ3、ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｉｎ
2Ｏ、ＳｎＯ、Ｖ2Ｏ5、ＷＯ3より選択された１種もしく
は２種以上のコーティング膜を形成したインキ誘導部材
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4280666A JP2906871B2 (ja) | 1991-09-27 | 1992-09-25 | インキ誘導部材及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27714591 | 1991-09-27 | ||
| JP34018991 | 1991-11-28 | ||
| JP4-220825 | 1992-07-28 | ||
| JP3-340189 | 1992-07-28 | ||
| JP22082592 | 1992-07-28 | ||
| JP3-277145 | 1992-07-28 | ||
| JP4280666A JP2906871B2 (ja) | 1991-09-27 | 1992-09-25 | インキ誘導部材及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0692081A JPH0692081A (ja) | 1994-04-05 |
| JP2906871B2 true JP2906871B2 (ja) | 1999-06-21 |
Family
ID=27476979
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4280666A Expired - Lifetime JP2906871B2 (ja) | 1991-09-27 | 1992-09-25 | インキ誘導部材及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2906871B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005231084A (ja) * | 2004-02-17 | 2005-09-02 | Mitsubishi Pencil Co Ltd | 内容物可視型筆記具用部材及び筆記具 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4562134B2 (ja) * | 2005-04-27 | 2010-10-13 | 株式会社パイロットコーポレーション | ペン芯およびその処理方法 |
| JP4577892B2 (ja) * | 2005-04-28 | 2010-11-10 | 株式会社パイロットコーポレーション | 筆記具 |
| JP7093650B2 (ja) * | 2018-03-13 | 2022-06-30 | 三菱鉛筆株式会社 | 筆記具用部材 |
-
1992
- 1992-09-25 JP JP4280666A patent/JP2906871B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005231084A (ja) * | 2004-02-17 | 2005-09-02 | Mitsubishi Pencil Co Ltd | 内容物可視型筆記具用部材及び筆記具 |
| JP4620363B2 (ja) * | 2004-02-17 | 2011-01-26 | 三菱鉛筆株式会社 | 内容物可視型筆記具用部材及び筆記具 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0692081A (ja) | 1994-04-05 |
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