JP2903361B2 - ウエハ位置決め機構 - Google Patents
ウエハ位置決め機構Info
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- JP2903361B2 JP2903361B2 JP34767993A JP34767993A JP2903361B2 JP 2903361 B2 JP2903361 B2 JP 2903361B2 JP 34767993 A JP34767993 A JP 34767993A JP 34767993 A JP34767993 A JP 34767993A JP 2903361 B2 JP2903361 B2 JP 2903361B2
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- Japan
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- wafer
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- positioning
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、異物検査装置におけ
る被検査のウエハの位置決め機構に関する。
る被検査のウエハの位置決め機構に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ＩＣはシリコンウエハに配線パタ
ーンを形成して製作される。ウエハに異物が付着すると
性能が劣化するので、異物検査装置により付着異物を検
出してウエハの良否が検査される。
ーンを形成して製作される。ウエハに異物が付着すると
性能が劣化するので、異物検査装置により付着異物を検
出してウエハの良否が検査される。
【０００３】図３は異物検査装置の基本構成の要部を示
す。(a) において、被検査のウエハ１は回転移動部２の
スピンドル21に装着され、(b) に示す位置決め機構４に
より位置決めされた後、これに吸着され、モータ（Ｍ）
22により回転する。ウエハ１の位置決めにおいては、そ
のオリフラ（ＯＦ）がオリフラ位置決め部41の２個のロ
ーラー411,412 により、また外周エッジ１a が２個のロ
ーラー42,43 によりそれぞれ位置決めされる。これに対
して、検査光学系３よりレーザビームＬT を投射してウ
エハ１の表面にスポットＳP を形成し、移動機構23によ
りウエハ１を半径Ｒの方向に移動すると、表面はスポッ
トＳP によりスパイラル状のトラックＴR に沿って走査
される。表面に付着異物が存在するとスポットＳP は散
乱し、散乱光ＬR は検査光学系３に受光されて異物の大
きさが検出される。検出された異物の大きさデータに対
して、ウエハ１の回転角度θと、移動機構23の移動量Ｒ
とによるＲθ座標値を付加して異物データが出力され
る。
す。(a) において、被検査のウエハ１は回転移動部２の
スピンドル21に装着され、(b) に示す位置決め機構４に
より位置決めされた後、これに吸着され、モータ（Ｍ）
22により回転する。ウエハ１の位置決めにおいては、そ
のオリフラ（ＯＦ）がオリフラ位置決め部41の２個のロ
ーラー411,412 により、また外周エッジ１a が２個のロ
ーラー42,43 によりそれぞれ位置決めされる。これに対
して、検査光学系３よりレーザビームＬT を投射してウ
エハ１の表面にスポットＳP を形成し、移動機構23によ
りウエハ１を半径Ｒの方向に移動すると、表面はスポッ
トＳP によりスパイラル状のトラックＴR に沿って走査
される。表面に付着異物が存在するとスポットＳP は散
乱し、散乱光ＬR は検査光学系３に受光されて異物の大
きさが検出される。検出された異物の大きさデータに対
して、ウエハ１の回転角度θと、移動機構23の移動量Ｒ
とによるＲθ座標値を付加して異物データが出力され
る。
【０００４】上記において、レーザビームＬT の光軸が
所定の方向に設定されたとき、検査光学系３は異物の正
しいＲθ座標を出力するもので、光軸に角度ズレがある
とＲθ座標値に誤差を生ずる。これを図４により説明す
る。図４(a) において、レーザビームＬT が一点鎖線で
示す正しい光軸に対して、角度δθ傾斜しているとき
は、(b) に示すように、スポットＳP は正規のトラック
ＴR に対してδＲ位置ズレしたトラックＴR ’を走査す
る。いま例えば、座標（Ｒ’，θ’）にある異物Ｐが検
出された場合、検査光学系３はスポットＳP を正しい座
標（Ｒ，θ）に投射したものとして、この座標データが
出力され、従ってδＲの誤差が生ずるわけである。
所定の方向に設定されたとき、検査光学系３は異物の正
しいＲθ座標を出力するもので、光軸に角度ズレがある
とＲθ座標値に誤差を生ずる。これを図４により説明す
る。図４(a) において、レーザビームＬT が一点鎖線で
示す正しい光軸に対して、角度δθ傾斜しているとき
は、(b) に示すように、スポットＳP は正規のトラック
ＴR に対してδＲ位置ズレしたトラックＴR ’を走査す
る。いま例えば、座標（Ｒ’，θ’）にある異物Ｐが検
出された場合、検査光学系３はスポットＳP を正しい座
標（Ｒ，θ）に投射したものとして、この座標データが
出力され、従ってδＲの誤差が生ずるわけである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記の座標誤差の発生
を防止するには、レーザビームＬT の光軸を所定の方向
に対して正しく設定することが必要であり、その簡便な
方法として、ウエハ１を回転して異なる角度、例えばオ
リフラを０°と１８０°の角度に位置決めし、トラック
ＴR とＴR ’の位置ズレδＲが無くなるように光軸を調
整することが必要である。この発明は以上の考えを実行
するためになされたもので、オリフラを０°と１８０°
の２箇所の角度位置に位置決めする機構を提供すること
を目的とする。
を防止するには、レーザビームＬT の光軸を所定の方向
に対して正しく設定することが必要であり、その簡便な
方法として、ウエハ１を回転して異なる角度、例えばオ
リフラを０°と１８０°の角度に位置決めし、トラック
ＴR とＴR ’の位置ズレδＲが無くなるように光軸を調
整することが必要である。この発明は以上の考えを実行
するためになされたもので、オリフラを０°と１８０°
の２箇所の角度位置に位置決めする機構を提供すること
を目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記の目的
を達成するウエハの位置決め機構であって、上記の異物
検査装置において、ウエハの外周に対して設けられ、円
周方向に３個のカム溝を有するカムリング板と、各カム
溝にそれぞれ係合し、カムリング板の基準角度に対する
正方向または負方向の一定角度の回転により、各カム溝
に沿ってウエハの半径方向に移動するか、または停止
し、０°および１８０°の角度位置に設定されたオリフ
ラに対して、対向して配設された第１および第２のオリ
フラ位置決め部と、ウエハの外周エッジに対してほぼ均
等に配設された、第１、第２および第３のエッジ位置決
め部とにより構成される。０°の角度位置のオリフラと
外周エッジとを、第１のオリフラ位置決め部と、第１お
よび第３のエッジ位置決め部とにより位置決めし、ま
た、１８０°の角度位置のオリフラと外周エッジとを、
第２のオリフラ位置決め部と、第２および第３のエッジ
位置決め部とにより位置決めするものである。
を達成するウエハの位置決め機構であって、上記の異物
検査装置において、ウエハの外周に対して設けられ、円
周方向に３個のカム溝を有するカムリング板と、各カム
溝にそれぞれ係合し、カムリング板の基準角度に対する
正方向または負方向の一定角度の回転により、各カム溝
に沿ってウエハの半径方向に移動するか、または停止
し、０°および１８０°の角度位置に設定されたオリフ
ラに対して、対向して配設された第１および第２のオリ
フラ位置決め部と、ウエハの外周エッジに対してほぼ均
等に配設された、第１、第２および第３のエッジ位置決
め部とにより構成される。０°の角度位置のオリフラと
外周エッジとを、第１のオリフラ位置決め部と、第１お
よび第３のエッジ位置決め部とにより位置決めし、ま
た、１８０°の角度位置のオリフラと外周エッジとを、
第２のオリフラ位置決め部と、第２および第３のエッジ
位置決め部とにより位置決めするものである。
【０００７】
【作用】上記の位置決め機構においては、ウエハを回転
してオリフラを０°の角度位置とし、カムリング板を基
準角度に対して正方向に一定角度回転すると、第１のオ
リフラ位置決め部と、第１および第３のエッジ位置決め
部とがそれぞれ半径方向に移動して、オリフラと外周エ
ッジが位置決めされる。ついで、オリフラを１８０°の
角度に回転し、カムリング板を基準角度に対して負方向
に一定角度回転すると、第２のオリフラ位置決め部と、
第２および第３のエッジ位置決め部とが同様に移動し
て、オリフラと外周エッジが位置決めされる。以上によ
りウエハは０°と１８０°の異なる２箇所に位置決めさ
れ、前記したレーザビームの光軸調整を行うことができ
る。
してオリフラを０°の角度位置とし、カムリング板を基
準角度に対して正方向に一定角度回転すると、第１のオ
リフラ位置決め部と、第１および第３のエッジ位置決め
部とがそれぞれ半径方向に移動して、オリフラと外周エ
ッジが位置決めされる。ついで、オリフラを１８０°の
角度に回転し、カムリング板を基準角度に対して負方向
に一定角度回転すると、第２のオリフラ位置決め部と、
第２および第３のエッジ位置決め部とが同様に移動し
て、オリフラと外周エッジが位置決めされる。以上によ
りウエハは０°と１８０°の異なる２箇所に位置決めさ
れ、前記したレーザビームの光軸調整を行うことができ
る。
【０００８】
【実施例】図１および図２はこの発明の一実施例であっ
て、図１は位置決め機構５の構成を示す平面図、図２は
位置決め機構５の動作説明図で、(a) は角度０°のオリ
フラに対する場合、(b) は角度１８０°のオリフラに対
する場合を示す。
て、図１は位置決め機構５の構成を示す平面図、図２は
位置決め機構５の動作説明図で、(a) は角度０°のオリ
フラに対する場合、(b) は角度１８０°のオリフラに対
する場合を示す。
【０００９】図１において、位置決め機構５は、ウエハ
１の外周に設けたカムリング板51と、これを回転するモ
ータ52、互いに対向して配設された第１および第２のオ
リフラ位置決め部53,54 、ウエハ１の外周エッジ１a に
対してほぼ均等に配設された第１、第２および第３のエ
ッジ位置決め部55,56,57、およびカムリング板51の回転
位置を検出する位置検出部58とにより構成される。カム
リング板51は、円周方向に設けた図示の形状の３個のカ
ム溝51a,51b,51cを有し、第１および第２のオリフラ位
置決め部53,54 は、カムリング板51のカム溝51a,51b に
係合する突起53a,54a と、各２個のローラー53a,53b 、
54a,54b をそれぞれ有し、また第１、第２および第３の
エッジ位置決め部55,56,57は、カム溝51b,51a,51c に係
合する突起55a,56a,57a と、各１個のローラー55b,56b,
57bをそれぞれ有する。位置検出部58は、カムリング板5
1の外周に設けた遮蔽板58aと、基準位置と、これに対す
る正方向と負方向の一定角度φa の位置にそれぞれ配設
された３個のホトセンサ58b,58c,58d よりなる。図１は
カムリング板51が基準位置にある状態を示し、これを正
方向または負方向に一定角度φa 回転すると、各オリフ
ラ位置決め部53,54 と各エッジ位置決め部55,56,57は、
それぞれのカム溝に従ってウエハ１の半径方向に移動す
るか、または停止している。
１の外周に設けたカムリング板51と、これを回転するモ
ータ52、互いに対向して配設された第１および第２のオ
リフラ位置決め部53,54 、ウエハ１の外周エッジ１a に
対してほぼ均等に配設された第１、第２および第３のエ
ッジ位置決め部55,56,57、およびカムリング板51の回転
位置を検出する位置検出部58とにより構成される。カム
リング板51は、円周方向に設けた図示の形状の３個のカ
ム溝51a,51b,51cを有し、第１および第２のオリフラ位
置決め部53,54 は、カムリング板51のカム溝51a,51b に
係合する突起53a,54a と、各２個のローラー53a,53b 、
54a,54b をそれぞれ有し、また第１、第２および第３の
エッジ位置決め部55,56,57は、カム溝51b,51a,51c に係
合する突起55a,56a,57a と、各１個のローラー55b,56b,
57bをそれぞれ有する。位置検出部58は、カムリング板5
1の外周に設けた遮蔽板58aと、基準位置と、これに対す
る正方向と負方向の一定角度φa の位置にそれぞれ配設
された３個のホトセンサ58b,58c,58d よりなる。図１は
カムリング板51が基準位置にある状態を示し、これを正
方向または負方向に一定角度φa 回転すると、各オリフ
ラ位置決め部53,54 と各エッジ位置決め部55,56,57は、
それぞれのカム溝に従ってウエハ１の半径方向に移動す
るか、または停止している。
【００１０】以下、上記の位置決め機構５におけるウエ
ハ１の位置決め方法を説明する。まずカムリング板51を
適当に回転し、遮蔽板58a をホトセンサ58b により検出
して図１の基準位置に停止し、ウエハ１を図示しないハ
ンドリング機構により搬送して、オリフラを角度０°と
してスピンドル21に装着する。ここでカムリング板51を
正方向に回転し、ホトセンサ58c により回転角度を検出
して一定角度＋φa に停止すると図２(a) の状態とな
り、オリフラに対して第１のオリフラ位置決め部53の２
個のローラー53b,53c がそれぞれ当接し、また第１およ
び第３のエッジ位置決め部55,57 の各ローラー55b,57b
が外周エッジ１a にそれぞれ当接して、ウエハ１は位置
決めされる。次に、カムリング板51を基準位置に戻し
て、ウエハ１をスピンドル21に吸着して１８０°（π）
回転した後、吸着を解放する。ついでカムリング板51を
負方向に回転し、ホトセンサ58d により一定角度−φa
に停止すると図２(b) の状態となり、オリフラに対して
第２のオリフラ位置決め部54の２個のローラー54b,54c
がそれぞれ当接し、また第２および第３のエッジ位置決
め部56,57 の各ローラー56b,57b が外周エッジ１a にそ
れぞれ当接して、ウエハ１は位置決めされる。検査光学
系３のレーザビームＬT の光軸調整においては、オリフ
ラの０°と１８０°の両角度位置に対する、トラックＴ
R とＴR ’の位置ズレδＲを適当な方法により検出し、
これが０となるように調整することにより光軸を正しく
設定することができる。なお、位置ズレの検出方法と光
軸調整方法の詳細は説明を省略するが、光軸が正しく設
定された以後においては、オリフラを０°の角度位置で
位置決めするのみで、各ウエハ１の異物検査を行うこと
ができる。
ハ１の位置決め方法を説明する。まずカムリング板51を
適当に回転し、遮蔽板58a をホトセンサ58b により検出
して図１の基準位置に停止し、ウエハ１を図示しないハ
ンドリング機構により搬送して、オリフラを角度０°と
してスピンドル21に装着する。ここでカムリング板51を
正方向に回転し、ホトセンサ58c により回転角度を検出
して一定角度＋φa に停止すると図２(a) の状態とな
り、オリフラに対して第１のオリフラ位置決め部53の２
個のローラー53b,53c がそれぞれ当接し、また第１およ
び第３のエッジ位置決め部55,57 の各ローラー55b,57b
が外周エッジ１a にそれぞれ当接して、ウエハ１は位置
決めされる。次に、カムリング板51を基準位置に戻し
て、ウエハ１をスピンドル21に吸着して１８０°（π）
回転した後、吸着を解放する。ついでカムリング板51を
負方向に回転し、ホトセンサ58d により一定角度−φa
に停止すると図２(b) の状態となり、オリフラに対して
第２のオリフラ位置決め部54の２個のローラー54b,54c
がそれぞれ当接し、また第２および第３のエッジ位置決
め部56,57 の各ローラー56b,57b が外周エッジ１a にそ
れぞれ当接して、ウエハ１は位置決めされる。検査光学
系３のレーザビームＬT の光軸調整においては、オリフ
ラの０°と１８０°の両角度位置に対する、トラックＴ
R とＴR ’の位置ズレδＲを適当な方法により検出し、
これが０となるように調整することにより光軸を正しく
設定することができる。なお、位置ズレの検出方法と光
軸調整方法の詳細は説明を省略するが、光軸が正しく設
定された以後においては、オリフラを０°の角度位置で
位置決めするのみで、各ウエハ１の異物検査を行うこと
ができる。
【００１１】
【発明の効果】以上の説明のとおり、この発明による位
置決め機構においては、カムリング板を基準角度に対し
て正方向または負方向に一定角度回転するのみで、０°
と１８０°の異なる２箇所の角度位置におけるオリフラ
と外周エッジが、オリフラ位置決め部とエッジ位置決め
部とにより位置決めされ、レーザビームの光軸調整を行
うことができるもので、検出された異物のＲθ座標に生
ずる誤差の防止が可能となり、異物データの信頼性の向
上に寄与するものである。
置決め機構においては、カムリング板を基準角度に対し
て正方向または負方向に一定角度回転するのみで、０°
と１８０°の異なる２箇所の角度位置におけるオリフラ
と外周エッジが、オリフラ位置決め部とエッジ位置決め
部とにより位置決めされ、レーザビームの光軸調整を行
うことができるもので、検出された異物のＲθ座標に生
ずる誤差の防止が可能となり、異物データの信頼性の向
上に寄与するものである。
【図１】 この発明の位置決め機構５の一実施例の構成
を示す平面図である。
を示す平面図である。
【図２】 位置決め機構５の動作説明図で、(a) は角度
０°のオリフラに対する場合、(b) は角度１８０°のオ
リフラに対する場合を示す。
０°のオリフラに対する場合、(b) は角度１８０°のオ
リフラに対する場合を示す。
【図３】 異物検査装置の基本構成図である。
【図４】 検査光学系３の光軸調整不良により、Ｒθ座
標値に生ずる誤差の説明図である。
標値に生ずる誤差の説明図である。
１…ウエハ、１a …ウエハの外周エッジ、 ２…回転移動部、21…スピンドル、22…モータ（Ｍ）、
23…移動機構、 ３…検査光学系、 ４…従来の位置決め機構、 ５…この発明の位置決め機構、51…カムリング板、51a,
51b,51c …カム溝、 52…モータ、53…第１のオリフラ位置決め部、54…第２
のオリフラ位置決め部 55…第１のエッジ位置決め部、56…第２のエッジ位置決
め部、 57…第３のエッジ位置決め部、53a,54a,55a,56a,57a …
突起、 53b,53c,54b,54c,55b,56b,57b …ローラー、58…位置検
出部、58a …遮蔽板、 58b,58c,58d …ホトセンサ、 ＬT …レーザビーム、ＳP …レーザスポット、ＬR …散
乱光、ＯＦ…オリフラ ＴR ，ＴR ’…スパイラルトラック、δθ…光軸の傾斜
角度、 δＲ…両トラックＴR とＴR ’の位置ズレ、Ｐ…異物、 φa …カムリング板の一定回転角度。
23…移動機構、 ３…検査光学系、 ４…従来の位置決め機構、 ５…この発明の位置決め機構、51…カムリング板、51a,
51b,51c …カム溝、 52…モータ、53…第１のオリフラ位置決め部、54…第２
のオリフラ位置決め部 55…第１のエッジ位置決め部、56…第２のエッジ位置決
め部、 57…第３のエッジ位置決め部、53a,54a,55a,56a,57a …
突起、 53b,53c,54b,54c,55b,56b,57b …ローラー、58…位置検
出部、58a …遮蔽板、 58b,58c,58d …ホトセンサ、 ＬT …レーザビーム、ＳP …レーザスポット、ＬR …散
乱光、ＯＦ…オリフラ ＴR ，ＴR ’…スパイラルトラック、δθ…光軸の傾斜
角度、 δＲ…両トラックＴR とＴR ’の位置ズレ、Ｐ…異物、 φa …カムリング板の一定回転角度。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G01N 21/84 - 21/90
Claims (1)
- 【請求項１】 被検査のウエハをスピンドルに吸着し、
該ウエハのオリフラを基準として位置決めして回転し、
該ウエハの表面をレーザスポットによりスパイラル状に
走査して該表面に付着した異物を検出し、検出された異
物とその座標のデータを出力する異物検査装置におい
て、該ウエハの外周に対して設けられ、円周方向に３個
のカム溝を有するカムリング板と、該各カム溝にそれぞ
れ係合し、該カムリング板の基準角度に対する正方向ま
たは負方向の一定角度の回転により、各カム溝に沿って
前記ウエハの半径方向に移動するか、または停止し、０
°および１８０°の角度位置に設定された前記オリフラ
に対して、対向して配設された第１および第２のオリフ
ラ位置決め部と、前記ウエハの外周エッジに対してほぼ
均等に配設された、第１、第２および第３のエッジ位置
決め部とにより構成され、該０°の角度位置の該オリフ
ラと外周エッジとを、該第１のオリフラ位置決め部と、
第１および第３のエッジ位置決め部とにより位置決め
し、該１８０°の角度位置の該オリフラと外周エッジと
を、該第２のオリフラ位置決め部と、第２および第３の
エッジ位置決め部とにより位置決めすることを特徴とす
る、ウエハ位置決め機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34767993A JP2903361B2 (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | ウエハ位置決め機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34767993A JP2903361B2 (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | ウエハ位置決め機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07190944A JPH07190944A (ja) | 1995-07-28 |
| JP2903361B2 true JP2903361B2 (ja) | 1999-06-07 |
Family
ID=18391846
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34767993A Expired - Fee Related JP2903361B2 (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | ウエハ位置決め機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2903361B2 (ja) |
-
1993
- 1993-12-24 JP JP34767993A patent/JP2903361B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07190944A (ja) | 1995-07-28 |
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Legal Events
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| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |