JPS59202646A - ウエハの位置合わせ装置 - Google Patents
ウエハの位置合わせ装置Info
- Publication number
- JPS59202646A JPS59202646A JP7748483A JP7748483A JPS59202646A JP S59202646 A JPS59202646 A JP S59202646A JP 7748483 A JP7748483 A JP 7748483A JP 7748483 A JP7748483 A JP 7748483A JP S59202646 A JPS59202646 A JP S59202646A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- photodetector
- orientation flat
- light
- orientation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
- H01L21/681—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment using optical controlling means
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明はイオン打込機等のウエノ・加工装置におけるウ
ェハの位置合わせ装置に係シ、特に、ウェハのオリエン
テーションフラットを同一方向に揃えるだめのウェハの
位置合わせ装置に関するものである。
ェハの位置合わせ装置に係シ、特に、ウェハのオリエン
テーションフラットを同一方向に揃えるだめのウェハの
位置合わせ装置に関するものである。
イオン打込機等における従来のウェハ搬送機構の一例を
説明すると、ウェハの移動を停止させるストッパと、こ
の停止したウェハを載せて回転する回転台と、この回転
台を回転させてウェハのオリエンテーションフラット（
以後オリフラと略称する）を検出する光検出器とよシ構
成されている。
説明すると、ウェハの移動を停止させるストッパと、こ
の停止したウェハを載せて回転する回転台と、この回転
台を回転させてウェハのオリエンテーションフラット（
以後オリフラと略称する）を検出する光検出器とよシ構
成されている。
また、上記ウエノ・ストッパと回転台はオリフラを検出
したウェハの移動を妨害しないように上又は下に移動さ
せる機構を必要としでいる。
したウェハの移動を妨害しないように上又は下に移動さ
せる機構を必要としでいる。
このようなりエバの搬送機構は上記ウェハストッパと回
転台を上下させる機構が複雑であると共に、回転台は一
定方向にのみ回転させる方式であったので、オリフラを
所定の方向に向けるには最大１回転近く回転させなけれ
ばならないので、多くの時間を要して能率は低かった。
転台を上下させる機構が複雑であると共に、回転台は一
定方向にのみ回転させる方式であったので、オリフラを
所定の方向に向けるには最大１回転近く回転させなけれ
ばならないので、多くの時間を要して能率は低かった。
更に、ストッパにウェハが押し付けられて停止するので
、ウェハに力が加わシ破損する恐れがある等の欠点をも
っていた。
、ウェハに力が加わシ破損する恐れがある等の欠点をも
っていた。
本発明は上記従来技術の欠点を解消し、迅速円滑にウェ
ハのオリフラの方向を揃えることができるウェハの位置
合わせ装置を提供することを目的とする。
ハのオリフラの方向を揃えることができるウェハの位置
合わせ装置を提供することを目的とする。
本発明の特徴とするところは、オリフラの方向を検出す
る光検出器をウエノ・搬送機構の搬送用ベルトに近接し
て設けて移動中のフェノ・のオリフラを検出し、そのウ
エノ・を載置した回転台の回転角を制御するごとく構成
したことにある。
る光検出器をウエノ・搬送機構の搬送用ベルトに近接し
て設けて移動中のフェノ・のオリフラを検出し、そのウ
エノ・を載置した回転台の回転角を制御するごとく構成
したことにある。
第１図は本発明の一実施例であるウニ／・の位置合わせ
装置の説明図である。搬送用モータ１が回転するとその
回転軸に固定した駆動用プーリ２が駆動用ベルト３を廻
し、その他端が巻回している搬送用グーＩＪ ４ ａを
回転させる。この搬送用グーＩＪ ４ ａが左廻りに回
転すると、これに巻回している搬送用ベルト５を矢印方
向に移動させ、その上に載置したウェハ６を左端の搬送
用グーＩＪ ４ ｂの上から回転台１１上に移行させる
。また、搬送用プーリ４ｂは搬送用ベルト５を巻回して
下側を逆行し、搬送用プーリ４ａを廻った所で新らしい
ウェハ６を載置する。
装置の説明図である。搬送用モータ１が回転するとその
回転軸に固定した駆動用プーリ２が駆動用ベルト３を廻
し、その他端が巻回している搬送用グーＩＪ ４ ａを
回転させる。この搬送用グーＩＪ ４ ａが左廻りに回
転すると、これに巻回している搬送用ベルト５を矢印方
向に移動させ、その上に載置したウェハ６を左端の搬送
用グーＩＪ ４ ｂの上から回転台１１上に移行させる
。また、搬送用プーリ４ｂは搬送用ベルト５を巻回して
下側を逆行し、搬送用プーリ４ａを廻った所で新らしい
ウェハ６を載置する。
搬送用ベルト５上のウェハ６を上方から見た状態が参考
図として上部に示しである。ウェハ６にはその一方向を
直線的に欠除したオリフラ６ａが設けてあり、このオリ
フラ６ａを基準にしてウェハ６の加工が実施される。こ
のウェハ６の通過路の上部には７個の反射型光検出器７
が通過路に直角方向に配置しであるが、この反射型光検
出器７は電源８によって点灯された小形ランプの光をウ
ェハ６に照射し、そのウェハ６による反射光を検出して
増幅器９に出力している。また、増幅器９で増幅された
検出信号は制御回路１０に送られて処理され、制御信号
１３を正逆回転可能なモータ１２に供給してウェハ６を
回転させ、オリフラ６ａの方向が同一方向に揃うように
している。
図として上部に示しである。ウェハ６にはその一方向を
直線的に欠除したオリフラ６ａが設けてあり、このオリ
フラ６ａを基準にしてウェハ６の加工が実施される。こ
のウェハ６の通過路の上部には７個の反射型光検出器７
が通過路に直角方向に配置しであるが、この反射型光検
出器７は電源８によって点灯された小形ランプの光をウ
ェハ６に照射し、そのウェハ６による反射光を検出して
増幅器９に出力している。また、増幅器９で増幅された
検出信号は制御回路１０に送られて処理され、制御信号
１３を正逆回転可能なモータ１２に供給してウェハ６を
回転させ、オリフラ６ａの方向が同一方向に揃うように
している。
第２図及び第３図はオリフラ検出位置合わせ原理の説明
図である。オリフラ６ａの線がウェハ６の移動方向に対
して直角となっている時は、各々の反射型光検出器７の
出力は右側の各段階状の線状となる。即ち、反射型光検
出器７ａ、７ｇはウェハ６の上下端を走査検知するので
最も小幅の信号を同時に出力するが、直径部を走査する
反射型光検出器７ｄは最も幅広の信号を出力する。また
、この最も幅広の信号の右端と同一時点で信号が零とな
る反射型光検出器７ｃ、７ｅの出力信号が存在する。
図である。オリフラ６ａの線がウェハ６の移動方向に対
して直角となっている時は、各々の反射型光検出器７の
出力は右側の各段階状の線状となる。即ち、反射型光検
出器７ａ、７ｇはウェハ６の上下端を走査検知するので
最も小幅の信号を同時に出力するが、直径部を走査する
反射型光検出器７ｄは最も幅広の信号を出力する。また
、この最も幅広の信号の右端と同一時点で信号が零とな
る反射型光検出器７ｃ、７ｅの出力信号が存在する。
このような信号を生じたときは、フェノ・６が回転台１
１上に移行載置されても回転用モータ１２は回転しない
。即ち、制御回路１０が回転用モータ１２を回転させる
信号を出力せず、ウェハ６を次の加工工程に移行させる
信号を出力する。
１上に移行載置されても回転用モータ１２は回転しない
。即ち、制御回路１０が回転用モータ１２を回転させる
信号を出力せず、ウェハ６を次の加工工程に移行させる
信号を出力する。
しかるにオリフラ６ａがウェハ６の移動方向に対して直
角となっていない場合は、各反射型光検出器７８〜７ｇ
の信号位置はすべて異なっており、段階状信号の初め及
び終りの時点も同一のものはない。これらの信号は増幅
されて制御回路１０に供給され、ここで演算処理されて
オリフラ６ａの方向を求め、制御信号１３を回転用モー
タ１２に出力して補正角度だけ回転させる。即ち、第３
図の場合は約４５°右回転させて第２図と同じ状態に揃
える。
角となっていない場合は、各反射型光検出器７８〜７ｇ
の信号位置はすべて異なっており、段階状信号の初め及
び終りの時点も同一のものはない。これらの信号は増幅
されて制御回路１０に供給され、ここで演算処理されて
オリフラ６ａの方向を求め、制御信号１３を回転用モー
タ１２に出力して補正角度だけ回転させる。即ち、第３
図の場合は約４５°右回転させて第２図と同じ状態に揃
える。
このようにして中心線に対して対称な位置にある反射型
光検出器７の信号を夫々比較することによシ、オリフラ
６ａが中心線の上側にあることが知れる。まだ、隣接す
る２つの光信号を比較すると共に第２図の基準状態の信
号と比較することによって回転補正角度が求められる。
光検出器７の信号を夫々比較することによシ、オリフラ
６ａが中心線の上側にあることが知れる。まだ、隣接す
る２つの光信号を比較すると共に第２図の基準状態の信
号と比較することによって回転補正角度が求められる。
即ち、回転方向と回転角度が決定するので、その制御信
号を回転用モータ１２に出力すればオリフラ６ａを所定
の方向に揃えることができる。
号を回転用モータ１２に出力すればオリフラ６ａを所定
の方向に揃えることができる。
このようにすればウェハ６の搬送中にオリフラ６ａの方
向が知れるので、ウェハ６が回転台１１上に移行した時
点で直ちに制御信号による角度だけ回転させることがで
きる。また、回転用モータ１２は正逆いずれの方向にも
回転するので、オリフラ６ａがいずれの方向を向いてい
ても迅速に合致させることができる。即ち、最大１／２
回転すれば合致させることができるので迅速円滑に実施
されることになる。
向が知れるので、ウェハ６が回転台１１上に移行した時
点で直ちに制御信号による角度だけ回転させることがで
きる。また、回転用モータ１２は正逆いずれの方向にも
回転するので、オリフラ６ａがいずれの方向を向いてい
ても迅速に合致させることができる。即ち、最大１／２
回転すれば合致させることができるので迅速円滑に実施
されることになる。
本実施例のウェハの位置合わせ装置は、搬送用ベルト上
に複数個の反射型光検出器をベルト移動方向とは直角に
配置して移送中のつ二ノ・のオリフラの方向を検出する
ことによって、迅速、かつ、円滑にオリフラを揃えて加
工能率を向上させるという効果が得られる。
に複数個の反射型光検出器をベルト移動方向とは直角に
配置して移送中のつ二ノ・のオリフラの方向を検出する
ことによって、迅速、かつ、円滑にオリフラを揃えて加
工能率を向上させるという効果が得られる。
第４図及び第５図は第１図の変形例であるウェハの位置
合わせ装置の説明図で、第１図と同じ部分には同一符号
を付しである。この場合は発光素子１４と受光素子１５
の複数対を用いて移動中のウェハ６のオリフラ６ａの方
向を検出している。
合わせ装置の説明図で、第１図と同じ部分には同一符号
を付しである。この場合は発光素子１４と受光素子１５
の複数対を用いて移動中のウェハ６のオリフラ６ａの方
向を検出している。
即ち、第４図の場合は搬送用ベルト５に複数個所の透光
細隙を設は各発光素子１４よシの光を各受光素子１５で
検出させている。また、第５図の場合は、搬送ベルト５
の上側に複数対の発光素子１４と受光素子１５とをウニ
／・６の表面に対し等角度だけ傾けて設置し、ウエノ・
６が搬送されて来たときの反射光によってウェハ６のオ
リフラ６ａの方向を検知している。
細隙を設は各発光素子１４よシの光を各受光素子１５で
検出させている。また、第５図の場合は、搬送ベルト５
の上側に複数対の発光素子１４と受光素子１５とをウニ
／・６の表面に対し等角度だけ傾けて設置し、ウエノ・
６が搬送されて来たときの反射光によってウェハ６のオ
リフラ６ａの方向を検知している。
本実施例のウェハの位置合わせ装置は、搬送用ベルトに
近接して複数対の発光素子と受光素子と゛を設置し、搬
送途中のウエノ・による光の吸収又は光の反射を検知し
てオリフラの方向を検出しているので、第１図の場合と
同様な効果が得られると共に、より一般的な検出手段で
安価に構成できるという効果が得られる。
近接して複数対の発光素子と受光素子と゛を設置し、搬
送途中のウエノ・による光の吸収又は光の反射を検知し
てオリフラの方向を検出しているので、第１図の場合と
同様な効果が得られると共に、より一般的な検出手段で
安価に構成できるという効果が得られる。
本発明のウェハの位置合わせ装置は、比較的簡単な改良
によってウェハの位置合わせを迅速円滑に実施し、ウニ
バカｈ工のスループットを向上させるという効果が得ら
れる。
によってウェハの位置合わせを迅速円滑に実施し、ウニ
バカｈ工のスループットを向上させるという効果が得ら
れる。
第１図は本発明の一実施例でろるウェハの位置合わせ装
置の説明図、第２図及び第３図はオリフラ検出位置合わ
せ原理の説明図、第４図及び第５図は第１図の変形例で
あるウェハの位置合わせ装置のｄ兄門口である。 ｌ・・・搬送用モータ、２・・・駆動用プーリ、３・・
・駆動用ベルト、４・・・搬送用プーリ、５・・・搬送
用ベルト、６・・・ウェハ、６ａ・・・オリフラ、７・
・・反射型光検出器、８・・・電源、９・・・増幅器、
１０・・・制御回路、１１・・・回転台、１２・・・回
転用モータ、１３・・・制御奉 ｌ 国 ／２ ２第 ２ 口 恭 ３ 圀 ７α
置の説明図、第２図及び第３図はオリフラ検出位置合わ
せ原理の説明図、第４図及び第５図は第１図の変形例で
あるウェハの位置合わせ装置のｄ兄門口である。 ｌ・・・搬送用モータ、２・・・駆動用プーリ、３・・
・駆動用ベルト、４・・・搬送用プーリ、５・・・搬送
用ベルト、６・・・ウェハ、６ａ・・・オリフラ、７・
・・反射型光検出器、８・・・電源、９・・・増幅器、
１０・・・制御回路、１１・・・回転台、１２・・・回
転用モータ、１３・・・制御奉 ｌ 国 ／２ ２第 ２ 口 恭 ３ 圀 ７α
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 多数のウェハを順次に同一方向に移送するウェハ
搬送機構と、このウェハ搬送機構の終点において上記ウ
ェハを載置する回転台と、上記ウェハのオリエンテーシ
ョンフラットの方向を検知する光検出器と、この光検出
器の検出信号によって上記回転台を回転させ上記ウェハ
のオリエンテーションフラットを同一方向に揃える制御
回路−とを有するウェハの位置合わせ装置において、上
記光検出器を上記ウェハ搬送機構の搬送用ベルトに近接
して設けて移動中の上記ウェハのオリエンテーションフ
ラットを検出し、そのウェハを載置した上記回転台の回
転角を制御するごとく構成したことを特徴とするウェハ
の位置合わせ装置。 ２、 上記光検出器が、上記搬送用ベルト上の上記ウェ
ハを照射する光を発生すると共にその反射光を検知する
ごとく上記ウェハの移動方向に対して直角な方向に配置
された複数個の反射型光検出器である特許請求の範囲第
１項記載のウェハの位置合わせ装置。 ３、 上記光検出器が、上記搬送用ベルト上の上記ウェ
ハの移動路を介在させて対向設置した複数対の発光素子
と受光素子である特許請求の範囲第１項記載のウェハの
位置合わせ装置８ ４、 上記光検出器が、上記搬送用ベルト上の上記ウェ
ハを照射する発光素子と、上記ウェハで反射した光を検
出する受光素子との複数対である特許請求の範囲第１項
記載のウェハの位置合わせ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7748483A JPS59202646A (ja) | 1983-05-04 | 1983-05-04 | ウエハの位置合わせ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7748483A JPS59202646A (ja) | 1983-05-04 | 1983-05-04 | ウエハの位置合わせ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59202646A true JPS59202646A (ja) | 1984-11-16 |
Family
ID=13635252
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7748483A Pending JPS59202646A (ja) | 1983-05-04 | 1983-05-04 | ウエハの位置合わせ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59202646A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6448443A (en) * | 1987-04-20 | 1989-02-22 | Applied Materials Inc | System and method for detecting center of integrated circuit wafer |
| JP2002151576A (ja) * | 2000-07-27 | 2002-05-24 | Applied Materials Inc | ウェハ処理ロボット用の、基板搬送時の中心検出及びノッチ整列装置 |
| ITUD20120223A1 (it) * | 2012-12-28 | 2014-06-29 | Applied Materials Italia Srl | Nastro, apparato e metodo di trasferimento di un substrato |
| WO2014184149A1 (en) * | 2013-05-11 | 2014-11-20 | Dtg International Gmbh | Workpiece handling system and method |
-
1983
- 1983-05-04 JP JP7748483A patent/JPS59202646A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6448443A (en) * | 1987-04-20 | 1989-02-22 | Applied Materials Inc | System and method for detecting center of integrated circuit wafer |
| JP2002151576A (ja) * | 2000-07-27 | 2002-05-24 | Applied Materials Inc | ウェハ処理ロボット用の、基板搬送時の中心検出及びノッチ整列装置 |
| ITUD20120223A1 (it) * | 2012-12-28 | 2014-06-29 | Applied Materials Italia Srl | Nastro, apparato e metodo di trasferimento di un substrato |
| WO2014184149A1 (en) * | 2013-05-11 | 2014-11-20 | Dtg International Gmbh | Workpiece handling system and method |
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