JP2887278B2 - １―クロロ―１，２，２―トリフルオロエチレンおよび１，２，２―トリフルオロエチレンの製造方法 - Google Patents
１―クロロ―１，２，２―トリフルオロエチレンおよび１，２，２―トリフルオロエチレンの製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフルオロ
エタン（113）から１−クロロ−1,2,2−トリフルオロエ
チレン（3FCL）および1,2,2−トリフルオロエチレン（3
FH）を一工程で製造する方法に関する。これらの生成物
は、それぞれ原料モノマー、代替フロンの原料として有
用である。
エタン（113）から１−クロロ−1,2,2−トリフルオロエ
チレン（3FCL）および1,2,2−トリフルオロエチレン（3
FH）を一工程で製造する方法に関する。これらの生成物
は、それぞれ原料モノマー、代替フロンの原料として有
用である。
［従来の技術および発明が解決しようとする課題］ 活性炭にパラジウムを担持させた触媒（Pd/活性炭）
の存在下、原料としての113と水素を200〜300℃で反応
させて3FHを製造する方法が特公昭43−8454号公報に記
載されている。この方法によれば、3FHと同時に3FCLも
生成されるが、3FH、3FCL以外の化合物の選択率が高
く、3FHおよび3FCLの選択率は40〜85％と低い。また、
アルカリフッ化マグネシウムを触媒として、113と水素
から3FHおよび3FCLを製造する方法（EP−Ａ−63657）に
よれば、これらのオレフィンを90％以上の高選択率で得
ることができるが、その反応温度は500℃と高い。ま
た、反応温度をより低く（200〜300℃）し、上記触媒に
0.5％のパラジウムを添加した触媒を用いた反応におい
ては、オレフィン選択率が70〜90％と低い。
の存在下、原料としての113と水素を200〜300℃で反応
させて3FHを製造する方法が特公昭43−8454号公報に記
載されている。この方法によれば、3FHと同時に3FCLも
生成されるが、3FH、3FCL以外の化合物の選択率が高
く、3FHおよび3FCLの選択率は40〜85％と低い。また、
アルカリフッ化マグネシウムを触媒として、113と水素
から3FHおよび3FCLを製造する方法（EP−Ａ−63657）に
よれば、これらのオレフィンを90％以上の高選択率で得
ることができるが、その反応温度は500℃と高い。ま
た、反応温度をより低く（200〜300℃）し、上記触媒に
0.5％のパラジウムを添加した触媒を用いた反応におい
ては、オレフィン選択率が70〜90％と低い。
本発明の課題は、工業的に有利である比較的低温で、
3FHおよび3FCLを、両者の生成比率を制御しつつ高選択
率で製造することのできる方法を提供することにある。
3FHおよび3FCLを、両者の生成比率を制御しつつ高選択
率で製造することのできる方法を提供することにある。
［課題を解決するための手段］ 本発明の要旨は、1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフ
ルオロエタンと水素とを触媒存在下に反応させることに
よって１−クロロ−1,2,2−トリフルオロエチレンおよ
び1,2,2−トリフルオロエチレンを製造する方法であっ
て、触媒としてパラジウム、ロジウムおよびルテニウム
から選ばれる少なくとも１種の金属と水銀、鉛、カドミ
ウム、錫、インジウム、銅、ビスマス、タリウムおよび
銀から選ばれる少なくとも１種の金属（ただし、後者の
金属がタリウムのとき、前者の金属がロジウムに限る）
とをAl2O3、SiO2またはカーボンに担持させた触媒（パ
ラジウムと銀またはビスマスとをAl2O3またはカーボン
に担持させた触媒を除く）を使用することを特徴とする
方法に存する。
ルオロエタンと水素とを触媒存在下に反応させることに
よって１−クロロ−1,2,2−トリフルオロエチレンおよ
び1,2,2−トリフルオロエチレンを製造する方法であっ
て、触媒としてパラジウム、ロジウムおよびルテニウム
から選ばれる少なくとも１種の金属と水銀、鉛、カドミ
ウム、錫、インジウム、銅、ビスマス、タリウムおよび
銀から選ばれる少なくとも１種の金属（ただし、後者の
金属がタリウムのとき、前者の金属がロジウムに限る）
とをAl2O3、SiO2またはカーボンに担持させた触媒（パ
ラジウムと銀またはビスマスとをAl2O3またはカーボン
に担持させた触媒を除く）を使用することを特徴とする
方法に存する。
本発明の方法で起こる反応を以下に示す。
CCl2FCF2Cl＋H2 → CClF＝CF2＋2HCl CCl2FCF2Cl＋2H2 → CFH＝CF2＋3HCl 本発明の方法において用いる触媒は、アルミナまたは
シリカゲルに、パラジウム、ロジウムおよびルテニウム
から選ばれる少なくとも１種の金属（以下、ベース金属
と称する。）とさらに水銀、鉛、カドミウム、錫、イン
ジウム、銅、ビスマス、タリウムおよび銀から選ばれる
少なくとも１種の金属（以下、添加金属と称する。）を
担持させて得られるものである。ベース金属と添加金属
の担持体への担持は、ベース金属先付けでもベース金属
と添加金属の同時付けでもよい。触媒のベース金属の含
量は0.1〜10％、好ましくは0.5〜５％である。
シリカゲルに、パラジウム、ロジウムおよびルテニウム
から選ばれる少なくとも１種の金属（以下、ベース金属
と称する。）とさらに水銀、鉛、カドミウム、錫、イン
ジウム、銅、ビスマス、タリウムおよび銀から選ばれる
少なくとも１種の金属（以下、添加金属と称する。）を
担持させて得られるものである。ベース金属と添加金属
の担持体への担持は、ベース金属先付けでもベース金属
と添加金属の同時付けでもよい。触媒のベース金属の含
量は0.1〜10％、好ましくは0.5〜５％である。
上記添加金属を担持させるために上記添加金属の硝酸
塩、炭酸塩、硫酸塩、ハロゲン化物、水酸化物、リン酸
塩、過塩素酸塩、有機金属化合物および有機酸塩等の化
合物が用いられる。それらは触媒中に主としてメタル状
で存在するが表面は部分的に塩化物あるいはフッ化物で
覆われている可能性が高い。
塩、炭酸塩、硫酸塩、ハロゲン化物、水酸化物、リン酸
塩、過塩素酸塩、有機金属化合物および有機酸塩等の化
合物が用いられる。それらは触媒中に主としてメタル状
で存在するが表面は部分的に塩化物あるいはフッ化物で
覆われている可能性が高い。
添加金属とベース金属とのモル比は、添加金属がビス
マス以外の場合0.5以上であることが必要であり、添加
金属がビスマスの場合0.05以上であることが必要であ
る。例えば、Hg/Pdモル比が0.5より低くなると3FHの選
択率が大幅に低下し、オレフィン全体の選択率も低下し
てしまう。また、このモル比は大きくなっても選択率に
は大きな影響を与えないが、大きすぎると反応率が低下
するので４以下に押さえることが好ましい。さらには、
オレフィンの中でも3FCLの選択率の高い金属の場合は、
ベース金属とのモル比を４以下の適当な値にすることに
より3FHの選択率を高くすることもできる。
マス以外の場合0.5以上であることが必要であり、添加
金属がビスマスの場合0.05以上であることが必要であ
る。例えば、Hg/Pdモル比が0.5より低くなると3FHの選
択率が大幅に低下し、オレフィン全体の選択率も低下し
てしまう。また、このモル比は大きくなっても選択率に
は大きな影響を与えないが、大きすぎると反応率が低下
するので４以下に押さえることが好ましい。さらには、
オレフィンの中でも3FCLの選択率の高い金属の場合は、
ベース金属とのモル比を４以下の適当な値にすることに
より3FHの選択率を高くすることもできる。
また上記添加金属の種類を選択することにより3FCL/3
FH生成比を変えることができる。例えば、その添加金属
を、水銀、鉛、銅とした場合、3FCL/3FH生成比は代表的
にはそれぞれ0.11、0.58、5.8となる。
FH生成比を変えることができる。例えば、その添加金属
を、水銀、鉛、銅とした場合、3FCL/3FH生成比は代表的
にはそれぞれ0.11、0.58、5.8となる。
また、反応に用いる水素と113のモル比は0.5〜4.0が
好ましい。この値が大きくなっても、水素化されたパラ
フィン系化合物の生成は起こりにくく、オレフィン（3F
CLと3FH）の高選択率は保持される。しかし4.0より大き
いと不経済である。
好ましい。この値が大きくなっても、水素化されたパラ
フィン系化合物の生成は起こりにくく、オレフィン（3F
CLと3FH）の高選択率は保持される。しかし4.0より大き
いと不経済である。
接触時間に相当するW/F（W:触媒重量ｇ、F:標準状態
における総流量ml/秒）は、1.3〜11.4の範囲内において
は選択率に大きな影響を与えない。
における総流量ml/秒）は、1.3〜11.4の範囲内において
は選択率に大きな影響を与えない。
反応温度は、150〜400℃、好ましくは200〜300℃であ
る。
る。
本発明によれば、200〜300℃の比較的低い温度での反
応により3FCLおよび3FHを87〜100％の高選択率で得るこ
とができる。
応により3FCLおよび3FHを87〜100％の高選択率で得るこ
とができる。
［実施例］ 担持方法 水30mlに添加金属の金属塩を溶かし、Al2O3にパラジ
ウム0.5％を担持させてなる直径3.2mm、高さ3.2mmのペ
レット状パラジウム触媒［触媒ａ］5g、そのペレット状
触媒を60メッシュ以下に粉砕した触媒［触媒ｂ］4g、カ
ーボン（活性炭）にパラジウム２％を担持させてなる粉
末状触媒［触媒ｃ］またはAl2O3にベース金属５％を担
持させてなる粉末状触媒［触媒ｄ］4gのいずれか〔いず
れも市販蝕媒:N.E.ケミカル・カタリスト（CHEMICAL CA
TALYST）製〕およびホルマリン0.2gを添加し、50℃で２
〜３時間熟成させた。上記金属塩の量は、添加金属とベ
ース金属のモル比が目的の値となるようにした。その
後、ロータリーエバポレーターで水を除去し、さらに空
気中100℃で12時間乾燥させた。得られた触媒ａ、ｂ、
ｃを、反応前に、水素気流中300〜400℃で２時間前処理
した。但し、ビスマスを添加したものは、300℃酸素気
流中で２時間前処理した。
ウム0.5％を担持させてなる直径3.2mm、高さ3.2mmのペ
レット状パラジウム触媒［触媒ａ］5g、そのペレット状
触媒を60メッシュ以下に粉砕した触媒［触媒ｂ］4g、カ
ーボン（活性炭）にパラジウム２％を担持させてなる粉
末状触媒［触媒ｃ］またはAl2O3にベース金属５％を担
持させてなる粉末状触媒［触媒ｄ］4gのいずれか〔いず
れも市販蝕媒:N.E.ケミカル・カタリスト（CHEMICAL CA
TALYST）製〕およびホルマリン0.2gを添加し、50℃で２
〜３時間熟成させた。上記金属塩の量は、添加金属とベ
ース金属のモル比が目的の値となるようにした。その
後、ロータリーエバポレーターで水を除去し、さらに空
気中100℃で12時間乾燥させた。得られた触媒ａ、ｂ、
ｃを、反応前に、水素気流中300〜400℃で２時間前処理
した。但し、ビスマスを添加したものは、300℃酸素気
流中で２時間前処理した。
実施例１ 担持金属塩としてHgCl2を触媒中のHg/Pdモル比＝４と
なる量にして用いた。内径20mmのハステロイ製反応管に
触媒a4gを充填し、113と水素を、モル比1:2、総流量21m
l/分として流通させて200℃で反応させた。
なる量にして用いた。内径20mmのハステロイ製反応管に
触媒a4gを充填し、113と水素を、モル比1:2、総流量21m
l/分として流通させて200℃で反応させた。
反応率は17.2％で、3FCLおよび3FHがそれぞれ選択率2
4.6％および75.4％で得られた。
4.6％および75.4％で得られた。
実施例２ 担持金属塩としてPd（NO3）３を用い（Pb/Pdモル比＝
４）、反応温度を280℃とした以外は、実施例１と同様
の反応を行った。
４）、反応温度を280℃とした以外は、実施例１と同様
の反応を行った。
反応率は46.8％で、3FCL、3FH、123a（CHClFCCl
F2）、141a（CHCl2CH2F）、160（CH2ClCH3）および142
（CHF2CH2Cl）がそれぞれ選択率23.4％、71.0％、2.7
％、1.1％、0.6％および0.3％で得られた。
F2）、141a（CHCl2CH2F）、160（CH2ClCH3）および142
（CHF2CH2Cl）がそれぞれ選択率23.4％、71.0％、2.7
％、1.1％、0.6％および0.3％で得られた。
実施例３ 担持金属塩としてCdCl2を用い（Cd/Pdモル比＝４）、
反応温度を280℃とした以外は実施例１と同様の反応を
行った。
反応温度を280℃とした以外は実施例１と同様の反応を
行った。
反応率は21.6％で、3FCL、3FH、160、123a、142およ
び141aがそれぞれ選択率33.4％、58.8％、2.0％、1.9
％、1.6％および1.5％で得られた。
び141aがそれぞれ選択率33.4％、58.8％、2.0％、1.9
％、1.6％および1.5％で得られた。
実施例４ 担持金属塩としてSnCl2を用い（Sn/Pdモル比＝４）、
反応温度を250℃とした以外は実施例１と同様の反応を
行った。
反応温度を250℃とした以外は実施例１と同様の反応を
行った。
反応率は15.9％で、3FCL、3FHおよび142がそれぞれ選
択率79.2％、15.3％および2.5％で得られた。
択率79.2％、15.3％および2.5％で得られた。
実施例５ 担持金属塩としてInCl3を用い（In/Pdモル比＝４）、
反応温度を250℃とした以外は実施例１と同様の反応を
行った。
反応温度を250℃とした以外は実施例１と同様の反応を
行った。
反応率は10.4％で、3FCL、3FH、142、160、123および
141aがそれぞれ選択率71.9％、16.1％、4.6％、2.9％、
2.3％および1.3％で得られた。
141aがそれぞれ選択率71.9％、16.1％、4.6％、2.9％、
2.3％および1.3％で得られた。
実施例６ 担持金属塩としてCuCl2を用い（Cu/Pdモル比＝４）、
反応温度を250℃とした以外は実施例１と同様の反応を
行った。
反応温度を250℃とした以外は実施例１と同様の反応を
行った。
反応率は18.7％で、3FCL、3FHおよび142がそれぞれ選
択率79.5％、17.1％および1.9％で得られた。
択率79.5％、17.1％および1.9％で得られた。
実施例７（参考例） 担持金属塩としてAgNO3を触媒中のAg/Pdモル比＝４に
なる量にして用いた。内径7.2mmのステンレス製反応管
に触媒b1.3gを充填し、113と水素を、モル比1:2、総流
量27ml/分として流通させて250℃で反応させた。反応率
は32.2％で、3FH、3FCL、142、123a、160および141aが
それぞれ選択率29.3％、67.0％、1.2％、0.9％、0.5％
および0.3％で得られた。
なる量にして用いた。内径7.2mmのステンレス製反応管
に触媒b1.3gを充填し、113と水素を、モル比1:2、総流
量27ml/分として流通させて250℃で反応させた。反応率
は32.2％で、3FH、3FCL、142、123a、160および141aが
それぞれ選択率29.3％、67.0％、1.2％、0.9％、0.5％
および0.3％で得られた。
実施例８ 担持金属塩としてHgCl2を用い（Hg/Pdモル比＝４）、
総流量を60ml/分とした以外は実施例７と同様の反応を
行った。
総流量を60ml/分とした以外は実施例７と同様の反応を
行った。
反応率は54.7％で、3FCL、3FH、152a（CF2HCH3）、12
3aおよび142がそれぞれ選択率9.3％、87.4％、2.2％、
0.7％および0.4％で得られた。
3aおよび142がそれぞれ選択率9.3％、87.4％、2.2％、
0.7％および0.4％で得られた。
実施例９ 総流量を27ml/分とした以外は実施例８と同様の反応
を行った。
を行った。
反応率は45.2％で、3FH、3FCL、123a、152a、142およ
び160がそれぞれ選択率82.7％、7.6％、4.8％、1.5％、
0.6％および0.5％で得られた。
び160がそれぞれ選択率82.7％、7.6％、4.8％、1.5％、
0.6％および0.5％で得られた。
実施例10 113と水素のモル比を1:4とした以外は実施例９と同様
の反応を行った。
の反応を行った。
反応率は40.0％で、3FH、3FCL、123a、141a、152a、1
42および160がそれぞれ選択率76.9％、12.0％、5.8％、
2.1％、1.7％、0.7％および0.5％で得られた。
42および160がそれぞれ選択率76.9％、12.0％、5.8％、
2.1％、1.7％、0.7％および0.5％で得られた。
実施例11 担持金属塩としてPb（NO3）２を用い（Pb/Pdモル比＝
４）113と水素のモル比を1:1、総流量18ml/分とした以
外は実施例７と同様の反応を行った。
４）113と水素のモル比を1:1、総流量18ml/分とした以
外は実施例７と同様の反応を行った。
反応率は11.2％で、3FH、3FCL、123a、152aおよび142
がそれぞれ選択率60.4％、35.1％、2.1％、1.0％および
0.9％で得られた。
がそれぞれ選択率60.4％、35.1％、2.1％、1.0％および
0.9％で得られた。
実施例12 113と水素のモル比を1:4とした以外は実施例11と同様
の反応を行った。
の反応を行った。
反応率は12.0％で、3FHおよび3FCLがそれぞれ選択率5
6.3％および43.7％で得られた。
6.3％および43.7％で得られた。
実施例13 反応温度を300℃とした以外は実施例12と同様の反応
を行った。
を行った。
反応率は22.9％で、3FH、3FCL、123a、142および152a
がそれぞれ選択率44.3％、49.4％、1.9％、1.4％および
1.4％で得られた。
がそれぞれ選択率44.3％、49.4％、1.9％、1.4％および
1.4％で得られた。
実施例14 触媒d1.3gを充填し、Hg/Pd＝１とした以外は実施例９
と同様にして反応を行った。
と同様にして反応を行った。
反応率は60.8％で、3FCL、3FH、123a、134a（CF3CF
H2）141a、142および160がそれぞれ選択率79.0％、12.1
％、3.6％、2.4％、1.5％、0.6％および0.5％で得られ
た。
H2）141a、142および160がそれぞれ選択率79.0％、12.1
％、3.6％、2.4％、1.5％、0.6％および0.5％で得られ
た。
実施例15 触媒c0.6gを充填し、反応温度を280℃とした以外は実
施例８と同様にして反応を行った。
施例８と同様にして反応を行った。
反応率は63.9％で、3FH、3FCLおよび123aがそれぞれ
選択率16.0％、62.2％および21.9％で得られた。
選択率16.0％、62.2％および21.9％で得られた。
実施例16 触媒c0.6gを充填し、反応温度を280℃とし、担持金属
塩としてPb（NO3）２を用いた（Pb/Pdモル比＝４）以外
は実施例８と同様にして反応を行った。反応率は28.5％
で、3FH、3FCLおよび123aがそれぞれ選択率6.0％、69.2
％および24.8％で得られた。
塩としてPb（NO3）２を用いた（Pb/Pdモル比＝４）以外
は実施例８と同様にして反応を行った。反応率は28.5％
で、3FH、3FCLおよび123aがそれぞれ選択率6.0％、69.2
％および24.8％で得られた。
比較例１ パラジウム以外の金属を担持させなかった以外は実施
例８と同様の反応を行った。
例８と同様の反応を行った。
反応率は64.3％で、3FCL、3FH、143、141a、123a、14
2、160および152aがそれぞれ選択率０％、23.0％、40.2
％、18.7％、7.0％、6.0％、4.6％および0.7％で得られ
た。
2、160および152aがそれぞれ選択率０％、23.0％、40.2
％、18.7％、7.0％、6.0％、4.6％および0.7％で得られ
た。
比較例２ パラジウム以外の金属を担持させず、反応温度を150
℃とした以外は実施例１〜７と同様の反応を行った。
℃とした以外は実施例１〜７と同様の反応を行った。
反応率は24.7％で、3FH、143、141a、160,142および1
23aがそれぞれ選択率1.5％、44.2％、41.2％、1.0％、
3.7％および8.5％で得られた。
23aがそれぞれ選択率1.5％、44.2％、41.2％、1.0％、
3.7％および8.5％で得られた。
実施例17（参考例） 担持金属塩としてBiCl3を用いた（Bi/Pdモル比＝0.
4）触媒d1gを内径10mmガラス製反応管に充填し、113と
水素をモル比1:3で流通させ250℃で反応させた。反応率
は96.4％で、3FH、3FCL、152a、123aがそれぞれ選択率8
1.3％.8.9％、6.1％、1.3％で得られた。
4）触媒d1gを内径10mmガラス製反応管に充填し、113と
水素をモル比1:3で流通させ250℃で反応させた。反応率
は96.4％で、3FH、3FCL、152a、123aがそれぞれ選択率8
1.3％.8.9％、6.1％、1.3％で得られた。
実施例18 触媒中のTl/Rhモル比＝２となる量にした触媒d1gを内
径10mmのガラス製反応管に充填し、113と水素をモル比
3:4で流通させ230℃で反応させた。反応率は4.5％で、3
FCL、3FH、143a、123aがそれぞれ選択率71.8％、19.3
％、2.6％、2.3％で得られた。
径10mmのガラス製反応管に充填し、113と水素をモル比
3:4で流通させ230℃で反応させた。反応率は4.5％で、3
FCL、3FH、143a、123aがそれぞれ選択率71.8％、19.3
％、2.6％、2.3％で得られた。
比較例３ Tlを添加しないこと以外は実施例18と同様の反応を行
った。反応率は12.5％で、3FCL、3FH、143、141a、123
a、エタンがそれぞれ選択率26.7％、3.7％、22.0％、2
1.8％、9.0％、6.6％で得られた。
った。反応率は12.5％で、3FCL、3FH、143、141a、123
a、エタンがそれぞれ選択率26.7％、3.7％、22.0％、2
1.8％、9.0％、6.6％で得られた。
実施例19 触媒中のHg/Ruモル比が１となる量にした触媒d1gを内
径10mmのガラス製反応管に充填し、113と水素をモル比
1:2で流通させ、200℃で反応させた。反応率は18.7％
で、3FCL、3FH、1132a（CF2＝CH2）がそれぞれ選択率8
1.5％、12.4％、1.2％で得られた。
径10mmのガラス製反応管に充填し、113と水素をモル比
1:2で流通させ、200℃で反応させた。反応率は18.7％
で、3FCL、3FH、1132a（CF2＝CH2）がそれぞれ選択率8
1.5％、12.4％、1.2％で得られた。
［発明の効果］ 本発明によれば、113を利用して、134a、CTFEポリマ
ーの原料となる3FHと3FCLを高選択率で製造することが
できる。また、300℃以下の温度においても高い選択率
を得ることができ、3FCLと3FHの生成比を容易に制御す
ることもできる。
ーの原料となる3FHと3FCLを高選択率で製造することが
できる。また、300℃以下の温度においても高い選択率
を得ることができ、3FCLと3FHの生成比を容易に制御す
ることもできる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｂ０１Ｊ 23/89 Ｃ０７Ｃ 17/354 Ｃ０７Ｃ 17/354 Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｂ０１Ｊ 23/64 １０１Ｘ (72)発明者 大西 隆一郎 北海道札幌市北区北十一条西10丁目（番 地の表示なし） 北海道大学触媒化学研 究センター内 (72)発明者 鈴木 聡雄 北海道札幌市北区北十一条西10丁目（番 地の表示なし） 北海道大学触媒化学研 究センター内 (56)参考文献 特開 平４−13638（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−99738（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフルオロ
エタンと水素とを触媒存在下に反応させることによって
１−クロロ−1,2−２−トリフルオロエチレンおよび1,
2,2−トリフルオロエチレンを製造する方法であって、
触媒としてパラジウム、ロジウムおよびルテニウムから
選ばれる少なくとも１種の金属と水銀、鉛、カドミウ
ム、錫、インジウム、銅、ビスマス、タリウムおよび銀
から選ばれる少なくとも１種の金属（ただし、後者の金
属がタリウムのとき、前者の金属がロジウムに限る）と
をAl2O3、SiO2またはカーボン担持させた触媒（パラジ
ウムと銀またはビスマスとをAl2O3またはカーボン担持
させた触媒を除く）を使用することを特徴とする方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2241691A JP2887278B2 (ja) | 1990-05-31 | 1990-09-11 | １―クロロ―１，２，２―トリフルオロエチレンおよび１，２，２―トリフルオロエチレンの製造方法 |
| EP19910108824 EP0459463B1 (en) | 1990-05-31 | 1991-05-29 | Process for preparing 1-chloro-1,2,2-trifluoroethylene or 1,2,2-trifluoroethylene |
| DE1991603473 DE69103473T2 (de) | 1990-05-31 | 1991-05-29 | Verfahren zur Herstellung von 1-Chlor-1,2,2-trifluorethylen oder von 1,2,2-trifluorethylen. |
| US08/369,259 US5498806A (en) | 1990-05-31 | 1995-01-05 | Process for preparing 1-chloro-1,2,2-trifluoroethylene or 1,2,2-trifluoroethylene |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2-143053 | 1990-05-31 | ||
| JP14305390 | 1990-05-31 | ||
| JP2241691A JP2887278B2 (ja) | 1990-05-31 | 1990-09-11 | １―クロロ―１，２，２―トリフルオロエチレンおよび１，２，２―トリフルオロエチレンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04117333A JPH04117333A (ja) | 1992-04-17 |
| JP2887278B2 true JP2887278B2 (ja) | 1999-04-26 |
Family
ID=26474868
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2241691A Expired - Fee Related JP2887278B2 (ja) | 1990-05-31 | 1990-09-11 | １―クロロ―１，２，２―トリフルオロエチレンおよび１，２，２―トリフルオロエチレンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2887278B2 (ja) |
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| US9868684B2 (en) | 2011-02-04 | 2018-01-16 | Solvay Specialty Polymers Italy S.P.A. | Method for manufacturing perfluorovinylethers |
| CN109529830B (zh) * | 2018-12-18 | 2021-11-23 | 沈阳化工大学 | 一种二甲基硫醚用催化剂组合物制备方法 |
| CN111269081B (zh) * | 2020-03-12 | 2022-08-09 | 浙江巨化汉正新材料有限公司 | 一种六氟丙烯三聚体的制备方法 |
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|---|---|---|---|---|
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| JPS5473717A (en) * | 1977-11-17 | 1979-06-13 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Production of carboxylic ester |
| JPS55338A (en) * | 1978-06-19 | 1980-01-05 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Preparation of diacetoxybutene |
| JPH02178238A (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-11 | Du Pont Mitsui Fluorochem Co Ltd | 含フツ素エチレンの製造法 |
| JPH0413638A (ja) * | 1990-04-27 | 1992-01-17 | Central Glass Co Ltd | 三フッ化塩化エチレンの製造法 |
| JP2763186B2 (ja) * | 1990-08-13 | 1998-06-11 | エフテック株式会社 | トリフルオロエチレンの製造方法 |
-
1990
- 1990-09-11 JP JP2241691A patent/JP2887278B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
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|---|---|---|---|
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