JP2886697B2 - 可撓性回路基板の製造法 - Google Patents

可撓性回路基板の製造法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ロ−ル・ツ−・ロ−ル
で製作可能なエキシマレ−ザ光を用いた製品の外形加工
処理を含む可撓性回路基板の製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】この種の可撓性回路基板は、導電性イン
クやスクリ−ン印刷レジストインクを使用するスクリ−
ン印刷法等を除き、一般にはフォトリソグラフィ−方式
を採用するのが通常であって、この場合には露光・現像
工程、回路配線のパタ−ニングの為のエッチング工程、
表面保護層形成の為の被着工程を順次施した後、最後に
金型等を用いて打ち抜き工程を行って可撓性回路基板を
得るものであった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、近年の部品実
装密度の高密度化により回路配線パタ−ンのみならず、
外形寸法及び最外形パタ−ンと回路基板外形との距離に
関しても、微細化、高精度化が求められてきた。また、
このような可撓性回路基板はその材料厚みが薄くその形
成工程に於いては搬送が極めて困難になり、しわ、打痕
などの欠陥発生の原因になっている。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、可撓性回路基
板のエキシマレ−ザ加工又はエッチング工程等の製造工
程に於いても個々の可撓性回路基板を離脱させずに保持
しながら可撓性回路基板の製造に最適であって且つロ−
ル・ツ−・ロ−ル加工工程を採用可能なエキシマレ−ザ
手段を用いた可撓性回路基板の製造法を提供するもので
ある。
【0005】その為に本発明の可撓性回路基板の製造法
によれば、外形分離用溝形成を一方の面からのみのエキ
シマレ−ザ照射によっておこなわず、少なくとも二度以
上の工程に分けて両面から照射し、これらエキシマレ−
ザ照射工程間にメッキ処理及びメタルマスクのエッチン
グ除去等の処理を行い、外形分離用溝の最終形成を残し
て全ての工程を終了した後、エキシマレ−ザによる製品
の最終的な外形分離用溝形成を処理するので、個々の可
撓性回路基板を離脱乃至は脱落させる虞なく、微細な構
造を有する可撓性回路基板を好適に製造できる。
【0006】上記工程に於いて、製品の最終外形分離用
溝を形成する為のアブレ−ションを回路部品の搭載後に
行うことも可能である。また、最終外形分離用溝を形成
するアブレ−ションの際、エキシマレ−ザを照射しない
他の一方の面に、少なくとも粘着材層を形成した可撓性
絶縁シ−トからなるキャリアテ−プを貼合わせて行うこ
とも可能である。
【0007】
【実施例】以下、図示の実施例を参照しながら本発明を
更に詳述する。
【0008】図1の(1)から(5)は本発明の好まし
い実施例に従った可撓性回路基板の製造工程を示す。先
ず、図1の(1)の如く例えば接着層のあるもの又は無
接着材型の可撓性両面導張積層板等の材料を用意し、こ
れにフォトエッチング処理を施して可撓性絶縁ベ−ス材
1の一方の面に対しては所要の回路配線パタ−ン2を形
成し、またその他方面にはメタルマスク3を形成する。
このメタルマスク3は図の如く回路基板の外形に沿って
形成した分離用溝4を有するようにエッチング形成され
ている。更に、回路配線パタ−ン2側には接着剤5を用
いてポリイミドフィルム等の保護フィルム6を貼着して
表面保護層7を形成してある。この表面保護層7は、ワ
ニス状ポリイミドを印刷塗布する手段等を利用して形成
することもできる。
【0009】次に、同図(2)に示す如く、エキシマレ
−ザ光A1をメタルマスク3側から照射し、外形分離用
溝8をアブレ−ションにより形成するが、その際には外
形分離用溝8の底部には未アブレ−ション層9を残すよ
うに処理している。この段階で同図(3)の如くメタル
マスク3をエッチング処理で除去した後、同図(4)の
とおりメタルマスク3を除去した面に粘着層を設けるよ
うに予め構成した可撓性絶縁シ−トからなるキャリアテ
−プ11をその粘着層が絶縁べ−ス材1の外面に貼着さ
れるように貼合わせる。
【0010】そこで、同図(5)の如く未アブレ−ショ
ン層9を残した側からこの回路基板とは別体のメタルマ
スク10により外形分離用溝の周辺部を除いて遮光し、
メタルマスク10の下方からエキシマレ−ザ光A2を照
射して未アブレ−ション層9をアブレ−ション除去して
可撓性回路基板の製品外形加工を完了させるものであ
る。従って、上記の如く製品の外形加工を施して個々に
分離した可撓性回路基板はその状態で離脱することなく
キャリアテ−プ11に好適に保持される。
【0011】
【発明の効果】本発明の可撓性回路基板の製造法によれ
ば、メッキ処理、メタルマスクのエッチング除去処理及
び洗浄処理等の各種処理工程終了後にキャリアテ−プを
貼着した状態で製品の外形を完全に分離するので、最終
工程までロ−ル・ツ−・ロ−ルでの製作を可能とするこ
とから、各種工程の搬送を好適に処理できる為、しわ、
打根等の欠陥発生を大幅に抑えることができる。
【0012】また、キャリアテ−プを貼着した状態で製
品の外形分離処理を最終的に施すので、個々の製品は脱
落することなくキャリアテ−プに確実に保持され、その
為、IC等の回路部品の自動搭載時の位置合わせも容易
且つ確実に処理できる。
【0013】従って、本発明を採用する場合には微細な
構造を有する可撓性回路基板の製品でも安定的に提供す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1の(1)から(5)は本発明による可撓性
回路基板の製造法を説明する為の製造工程図である。
【符号の説明】
1 可撓性絶縁べ−ス材 2 回路配線パタ−ン 3 メタルマスク 4 メタルマスクの外形分離用溝 5 接着剤 6 保護フィルム 7 表面保護層 8 外形分離用溝 9 未アブレ−ション層 10 別体のメタルマスク A1 エキシマレ−ザ光 A2 エキシマレ−ザ光 11 キャリアテ−プ

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 可撓性絶縁ベ−ス材の少なくとも一方の
    面に所要の回路配線パタ−ンを形成し、エキシマレ−ザ
    光の照射により製品外形に適した外形分離用溝を形成し
    て製品外形加工を行う片面又は両面型の可撓性回路基板
    を製造する為の方法に於いて、上記外形分離用溝の形成
    を二度以上の工程で両面からのエキシマレ−ザ光の照射
    により行うことを特徴とする可撓性回路基板の製造法。
  2. 【請求項2】 可撓性絶縁ベ−ス材の一方の面に、回路
    基板の外形に適した形状の分離用溝を形成するように処
    理されたエキシマレ−ザ遮光用メタルマスクを形成する
    工程を含む請求項1の可撓性回路基板の製造法。
  3. 【請求項3】 回路配線パタ−ンの外面に表面保護層を
    形成する工程を含む請求項1又は2の可撓性回路基板の
    製造法。
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WO1999059761A1 (fr) * 1998-05-21 1999-11-25 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Procede d'usinage laser
DE10235864A1 (de) * 2002-08-05 2004-02-26 Carl Freudenberg Kg Verfahren zur Herstellung eines flächigen Schaltungsträgers

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