JP2885551B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法

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  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置の製造方法に
関する。詳しくは超ファインピッチのリードを正確に加
工することができる半導体装置の製造方法に関する。
【0002】近時、半導体装置の薄型化、小型化、ファ
イン化に伴い、アウターリードのピッチが0.3乃至
0.4mmのデバイスが製品化されつつあるが、リード1
本が極めて細い為、折曲成形加工中に変形を生じ、正確
なリード加工を行なうことが困難である。従ってこの解
決策を早急に見出すことが重要な課題となっている。
【0003】
【従来の技術】従来のファインピッチのQFP型の半導
体装置の製造方法を図3及び図4により説明する。図3
は使用するリードフレーム1であり、2はダイステージ
部、3はリードで、3aはインナーリード部、3bはア
ウターリード部である。
【0004】製造方法は先ず図4(a)の如くリードフ
レーム1のダイステージ部2に半導体チップ4をダイボ
ンディングし、該半導体チップ4の電極とインナーリー
ド3a間をワイヤ5でワイヤボンディングする。次に
(b)図の如く、半導体チップ4、ダイステージ部2、
インナーリード3aを樹脂6でモールドする。次いで
(c)図の如く、アウターリード3bをリードフレーム
1の外周部から切り離し、成形金型を用いて図の如き形
状に曲げ加工を施して完成する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の半導体装置
の製造方法では、リード1本1本が細いデバイスでは、
アウターリードの曲げ加工時に微小なストレス等でリー
ド変形、ねじれ等が発生し正確なリード加工ができず不
良品が発生し歩留りが低下する。また試験、実装時にも
リードの接触不良が生じるという問題がある。
【0006】本発明は、ファインピッチのアウターリー
ドでも正確な曲げ加工ができる半導体装置の製造方法を
実現しようとする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置の製
造方法に於いては、リードフレーム素材の金属板10に
レジストを塗布し、ダイステージ11及びインナーリー
ド12を形成する内部パターンのみ露光・現像・エッチ
ングする工程と、前記レジストを剥離した後、アウター
リード形成予定部13にレジストを塗布し、アウターリ
ードパターン15を露光・現像する工程と、ダイステー
ジ11に半導体チップ16を搭載し、その電極とインナ
ーリード12間をワイヤ17でワイヤボンディングする
工程と、前記半導体チップ16、ダイステージ11、イ
ンナーリード12を樹脂18にてモールドして封止する
工程と、アウターリード形成予定部13を所定の形状に
折曲成形する工程と、該アウターリード形成予定部13
をエッチングしてアウターリード19を形成する工程と
よりなることを特徴とする。
【0008】また、本発明の半導体装置の製造方法に於
いては、リードフレーム素材の金属板10にレジストを
塗布し、ダイステージ11及びインナーリード12を形
成する内部パターンのみ露光・現像・エッチングする工
程と、前記レジストを剥離する工程と、ダイステージ1
1に半導体チップ16を搭載し、その電極とインナーリ
ード12間をワイヤ17でワイヤボンディングする工程
と、前記半導体チップ16、ダイステージ11、インナ
ーリード12を樹脂18にてモールドして封止する工程
と、アウターリード形成予定部13にレジストを塗布
し、アウターリードパターン15を露光・現像する工程
と、アウターリード形成予定部13を所定の形状に折曲
成形する工程と、該アウターリード形成予定部13をエ
ッチングしてアウターリード19を形成する工程とより
成ることを特徴とする。この構成を採ることにより、ア
ウターリードの正確な曲げ加工ができる半導体装置の製
造方法が得られる。
【0009】
【作用】本発明では、ダイステージ及びインナーリード
のみ形成されたリードフレームを用い、アウターリード
の加工は、1本1本にパターン化される前に、一体化さ
れた状態で折曲成形するため、ストレス等の影響を防ぐ
ことができる。折曲成形後のアウターリードのパターン
化は薬品処理により行なうためストレスの発生はない。
【0010】
【実施例】図1は本発明の第1の実施例を説明するため
の図である。本実施例の半導体装置の製造方法は、先ず
図1(a)に示すように、リードフレーム素材の金属板
10にレジストを塗布し、内部パターンのみ露光・現像
・エッチングしてダイステージ11及びインナーリード
12を形成する。同時にアウターリード形成予定部13
の外側にコ字状の窓14を設けておく。
【0011】次にレジストを剥離して除去した後、アウ
ターリード形成予定部13に再度レジストを塗布しアウ
ターリードパターン15を露光・現像する。次いで同図
(b)に示すように、ダイステージ11に半導体チップ
16を搭載し、その電極とインナーリード12との間を
ワイヤ17でワイヤボンディングする。次いで該半導体
チップ16、ダイステージ11及びインナーリード12
を同図(c)の如く樹脂18でモールドして封止する。
【0012】次いで、樹脂封止部分及びアウターリード
形成予定部13をリードフレーム素材の金属板10から
切り離し、同図(d)に示すようにアウターリード形成
予定部13を所定の形状に折曲成形する。最後にアウタ
ーリード形成予定部13をエッチングしてアウターリー
ドレジストパターン以外の部分を溶解除去して同図
(d)の如く所定の形状のアウターリード19を形成
し、Snめっき等を施して完成する。
【0013】以上の本実施例によれば、アウターリード
19の折曲成形は複数本のリードを一体として行なうた
め、1本1本のリードが変形することはない。また1本
1本に分離するのはエッチングにより不要部を溶解除去
するのでストレスは生ぜず、従って変形もない。これに
よりアウターリードの正確な曲げ加工ができる。
【0014】図2は本発明の第2の実施例を説明するた
めの図である。本実施例は、先ず図2(a)に示すよう
に、リードフレーム素材の金属板10にレジストを塗布
し、内部パターンのみ露光・現像・エッチングしてダイ
ステージ11及びインナーリード12を形成する。同時
にアウターリード形成予定部13の外側にコ字状の窓1
4を設けておく。
【0015】次いでレジストを剥離して除去した後、同
図(b)の如く、ダイステージ11に半導体チップ16
を搭載し、その電極とインナーリード12間をワイヤ1
7でワイヤボンディングする。次いで該半導体チップ1
6、ダイステージ11及びインナーリード12を同図
(c)の如く樹脂18でモールドして封止する。その後
アウターリード形成予定部13にレジストを塗布し、ア
ウターリードパターン15を露光・現像する。
【0016】次いで同図(d)の如く樹脂封止部分及び
アウターリード形成予定部13をリードフレーム素材の
金属板10から切り離し、アウターリード形成予定部1
3を所定の形状に折曲成形する。最後にエッチングして
アウターリードレジストパターン以外の部分を溶解除去
して同図(e)の如く所定の形状のアウターリード19
を形成し、Snめっき等を施して完成する。
【0017】以上の本実施例によれば、アウターリード
19の折曲成形工程は前実施例と全く同様であるので、
その効果も同様である。
【0018】
【発明の効果】本発明に依れば、ダイステージ及びイン
ナーリードのみ成形されたリードフレームを用い、アウ
ターリードの加工は1本1本にパターン化される前に、
一体化された状態で折曲成形するためストレス等の影響
を防ぎ、且つ折曲成形後のアウターリードのパターン化
は薬品処理により行うためストレスの発生はなく、従っ
て変形、ねじれ等の発生は防止され、歩留りが向上され
る。また、試験、実装等においてリードの接触不良等も
防止される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例を説明するための図であ
る。
【図2】本発明の第2の実施例を説明するための図であ
る。
【図3】従来のリードフレームを示す図である。
【図4】従来の半導体装置の製造方法を説明するための
図である。
【符号の説明】
10…金属板 11…ダイステージ 12…インナーリード 13…アウターリード形成予定部 14…窓 15…アウターリードパターン 16…半導体チップ 17…ワイヤ 18…樹脂 19…アウターリード
フロントページの続き (72)発明者 ▲高▼橋 文仁 宮城県柴田郡村田町大字村田字西ヶ丘1 番地の1 株式会社富士通宮城エレクト ロニクス内 (72)発明者 小林 均 宮城県柴田郡村田町大字村田字西ヶ丘1 番地の1 株式会社富士通宮城エレクト ロニクス内 (72)発明者 奥山 重徳 宮城県柴田郡村田町大字村田字西ヶ丘1 番地の1 株式会社富士通宮城エレクト ロニクス内 (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 23/50 H01L 21/56

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 リードフレーム素材の金属板(10)に
    レジストを塗布し、ダイステージ(11)及びインナー
    リード(12)を形成する内部パターンのみ露光・現像
    ・エッチングする工程と、 前記レジストを剥離した後、アウターリード形成予定部
    (13)にレジストを塗布し、アウターリードパターン
    (15)を露光・現像する工程と、 ダイステージ(11)に半導体チップ(16)を搭載
    し、その電極とインナーリード(12)間をワイヤ(1
    7)でワイヤボンディングする工程と、 前記半導体チップ(16)、ダイステージ(11)、イ
    ンナーリード(12)を樹脂(18)にてモールドして
    封止する工程と、 アウターリード形成予定部(13)を所定の形状に折曲
    成形する工程と、 該アウターリード形成予定部(13)をエッチングして
    アウターリード(19)を形成する工程とよりなること
    を特徴とする半導体装置の製造方法。
  2. 【請求項2】 リードフレーム素材の金属板(10)に
    レジストを塗布し、ダイステージ(11)及びインナー
    リード(12)を形成する内部パターンのみ露光・現像
    ・エッチングする工程と、 前記レジストを剥離する工程と、 ダイステージ(11)に半導体チップ(16)を搭載
    し、その電極とインナーリード(12)間をワイヤ(1
    7)でワイヤボンディングする工程と、 前記半導体チップ(16)、ダイステージ(11)、イ
    ンナーリード(12)を樹脂(18)にてモールドして
    封止する工程と、 アウターリード形成予定部(13)にレジストを塗布
    し、アウターリードパターン(15)を露光・現像する
    工程と、 アウターリード形成予定部(13)を所定の形状に折曲
    成形する工程と、 該アウターリード形成予定部(13)をエッチングして
    アウターリード(19)を形成する工程とより成ること
    を特徴とする半導体装置の製造方法。
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