JP2876929B2 - 光学活性１，３−ジオールの製法 - Google Patents
光学活性１，３−ジオールの製法Info
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- JP2876929B2 JP2876929B2 JP5348293A JP5348293A JP2876929B2 JP 2876929 B2 JP2876929 B2 JP 2876929B2 JP 5348293 A JP5348293 A JP 5348293A JP 5348293 A JP5348293 A JP 5348293A JP 2876929 B2 JP2876929 B2 JP 2876929B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光学活性な医薬品等の製
造に有用な光学活性１，３−ジオールの製法に関するも
のである。
造に有用な光学活性１，３−ジオールの製法に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】高い光学
純度を有する光学活性１，３−ジオールについて現在の
ところ一般的な合成方法はまだ確立されていない。従っ
て、より汎用性のある入手方法が望まれている。
純度を有する光学活性１，３−ジオールについて現在の
ところ一般的な合成方法はまだ確立されていない。従っ
て、より汎用性のある入手方法が望まれている。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明はすなわち式Ｉで
示される光学活性グリシジルエーテルをジコバルトオク
タカルボニルの存在下、一酸化炭素及びトリアルキルシ
ランと反応させて式IIで示される光学活性ジシリルエー
テルに導き、次いで該光学活性ジシリルエーテルを脱シ
リル化することを特徴とする式III で示される光学活性
１，３−ジオールの製法である。
示される光学活性グリシジルエーテルをジコバルトオク
タカルボニルの存在下、一酸化炭素及びトリアルキルシ
ランと反応させて式IIで示される光学活性ジシリルエー
テルに導き、次いで該光学活性ジシリルエーテルを脱シ
リル化することを特徴とする式III で示される光学活性
１，３−ジオールの製法である。
【０００４】
【化２】
【０００５】本発明の反応の第１段階は光学活性エポキ
シドに一酸化炭素を反応させ光学純度を損なうことなく
炭素鎖をひとつ伸ばすことにより光学活性ジシルエーテ
ルを製造するものである。同種の反応としては、トリア
ルキルシラン，一酸化炭素，ジコバルトオクタカルボニ
ルを用いたエポキシドのシロキシメチル化の反応（ＭＵ
ＲＡＩ反応）がよく知られている(J.Am.Chem.Soc.,106,
6093(1984);J.Am.Chem.Soc.,117,7938(1989);Tetrahedr
on,48,2013(1992)) が、光学活性エポキシドとの反応に
ついてはまだ検討されていなかった。そこで本発明者ら
は、鋭意検討の結果、光学活性グリシジルエーテルを原
料に用いた光学純度の高い光学活性１，３−ジオールの
短段階製造方法を見出し本発明を完成したものである。
シドに一酸化炭素を反応させ光学純度を損なうことなく
炭素鎖をひとつ伸ばすことにより光学活性ジシルエーテ
ルを製造するものである。同種の反応としては、トリア
ルキルシラン，一酸化炭素，ジコバルトオクタカルボニ
ルを用いたエポキシドのシロキシメチル化の反応（ＭＵ
ＲＡＩ反応）がよく知られている(J.Am.Chem.Soc.,106,
6093(1984);J.Am.Chem.Soc.,117,7938(1989);Tetrahedr
on,48,2013(1992)) が、光学活性エポキシドとの反応に
ついてはまだ検討されていなかった。そこで本発明者ら
は、鋭意検討の結果、光学活性グリシジルエーテルを原
料に用いた光学純度の高い光学活性１，３−ジオールの
短段階製造方法を見出し本発明を完成したものである。
【０００６】本発明をさらに詳しく説明する。本発明の
原料に用いる光学活性グリシジルエーテルは例えば、He
terocycles,31,1715(1990)及びHeterocycles,34,173(19
92) に記載された方法で入手できる。トリアルチルシラ
ンとしては、トリメチルシラン，エチルジメチルシラ
ン，ジエチルメチルシラン，トリエチルシラン，ｔ−ブ
チルジメチルシラン等が使用できる。第１段階の反応は
常圧で達成されるが反応に用いる一酸化炭素の圧力は１
気圧から５０気圧がよく、好ましくは１気圧から１０気
圧である。また反応温度は０℃から８０℃がよく好まし
くは１０℃から５０℃である。
原料に用いる光学活性グリシジルエーテルは例えば、He
terocycles,31,1715(1990)及びHeterocycles,34,173(19
92) に記載された方法で入手できる。トリアルチルシラ
ンとしては、トリメチルシラン，エチルジメチルシラ
ン，ジエチルメチルシラン，トリエチルシラン，ｔ−ブ
チルジメチルシラン等が使用できる。第１段階の反応は
常圧で達成されるが反応に用いる一酸化炭素の圧力は１
気圧から５０気圧がよく、好ましくは１気圧から１０気
圧である。また反応温度は０℃から８０℃がよく好まし
くは１０℃から５０℃である。
【０００７】この反応で用いられる触媒としてはジコバ
ルトオクタカルボニル錯体が不可欠である。使用量はグ
リシジル化合物１モルに対して０．００５モル用いるこ
とにより反応は容易に進行するが、好ましくは０．０１
モルから０．２モルである。溶媒はアプロチックな溶媒
であれば何れも使用できるが、例えばジエチルエーテ
ル，テトラヒドロフラン，塩化メチレン，クロロホル
ム，ジクロロエタン，ベンゼン，トルエン，ｎ−ヘキサ
ン等が好ましい。第１段階の反応は一酸化炭素の圧力が
１気圧の場合、通常１時間から５０時間で終了する。ま
た圧力をそれ以上にすれば、さらに短時間で反応が終了
する。
ルトオクタカルボニル錯体が不可欠である。使用量はグ
リシジル化合物１モルに対して０．００５モル用いるこ
とにより反応は容易に進行するが、好ましくは０．０１
モルから０．２モルである。溶媒はアプロチックな溶媒
であれば何れも使用できるが、例えばジエチルエーテ
ル，テトラヒドロフラン，塩化メチレン，クロロホル
ム，ジクロロエタン，ベンゼン，トルエン，ｎ−ヘキサ
ン等が好ましい。第１段階の反応は一酸化炭素の圧力が
１気圧の場合、通常１時間から５０時間で終了する。ま
た圧力をそれ以上にすれば、さらに短時間で反応が終了
する。
【０００８】第２段階の反応は脱シリル化反応で、フッ
化物イオンを含む化合物，酸，塩基等で脱シリル化する
ことができる。フッ化物イオンを含む化合物としてはフ
ッ化テトラｎ−ブチルアンモニウム，フッ化カリウム，
フッ化ナトリウム，フッ化水素等を挙げられる。この場
合の溶媒はアプロチックな溶媒であれば何れも使用でき
るが、例えばジエチルエーテル，テトラヒドロフラン，
塩化メチレン，クロロホルム，ジクロロエタン及びそれ
らの混合物等が好ましい。酸としては、特に制限なく使
用することができるが、好ましくは塩酸，硫酸等の鉱
酸、酢酸，トリフルオロ酢酸等の有機酸及び酸残基を有
する樹脂等を使用することができる。この場合、プロチ
ック，アプロチック何れの溶媒も使用することができ、
好ましくは水，メタノール，エタノール，アセトニトリ
ル，テトラヒドロフラン及びそれらの混合物が使用でき
る。塩基としてはアルカリ金属又はアルカリ土類金属の
水酸化物，炭酸塩等が使用でき、好ましくは水酸化ナト
リウム，水酸化カリウム，水酸化カルシウム，炭酸ナト
リウム，炭酸カリウム等が使用できる。この場合、プロ
チック，アプロチック何れの溶媒も使用することがで
き、好ましくは水，メタノール，エタノール，アセトニ
トリル，テトラヒドロフラン及びこれらの混合物が使用
できる。何れの場合も反応温度は０℃から１００℃で、
好ましくは０℃から５０℃で、２４時間以内に終了す
る。
化物イオンを含む化合物，酸，塩基等で脱シリル化する
ことができる。フッ化物イオンを含む化合物としてはフ
ッ化テトラｎ−ブチルアンモニウム，フッ化カリウム，
フッ化ナトリウム，フッ化水素等を挙げられる。この場
合の溶媒はアプロチックな溶媒であれば何れも使用でき
るが、例えばジエチルエーテル，テトラヒドロフラン，
塩化メチレン，クロロホルム，ジクロロエタン及びそれ
らの混合物等が好ましい。酸としては、特に制限なく使
用することができるが、好ましくは塩酸，硫酸等の鉱
酸、酢酸，トリフルオロ酢酸等の有機酸及び酸残基を有
する樹脂等を使用することができる。この場合、プロチ
ック，アプロチック何れの溶媒も使用することができ、
好ましくは水，メタノール，エタノール，アセトニトリ
ル，テトラヒドロフラン及びそれらの混合物が使用でき
る。塩基としてはアルカリ金属又はアルカリ土類金属の
水酸化物，炭酸塩等が使用でき、好ましくは水酸化ナト
リウム，水酸化カリウム，水酸化カルシウム，炭酸ナト
リウム，炭酸カリウム等が使用できる。この場合、プロ
チック，アプロチック何れの溶媒も使用することがで
き、好ましくは水，メタノール，エタノール，アセトニ
トリル，テトラヒドロフラン及びこれらの混合物が使用
できる。何れの場合も反応温度は０℃から１００℃で、
好ましくは０℃から５０℃で、２４時間以内に終了す
る。
【０００９】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
【００１０】実施例１（光学活性ジシリルエーテルの製
造） 一酸化炭素雰囲気下でジコバルトオクタカルボニル錯体
６８ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）にジエチルメチルシラン
２．２ｍｌ（１５ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分攪拌
した後、（Ｓ）−ベンジルグリシドール８２０ｍｇ
（５．０ｍｍｏｌ）のベンゼン５ｍｌ溶液を加え、２０
時間攪拌した。反応溶液中にピリジン５滴を加え、窒素
を１５分吹き込み、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減
圧下溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（エーテル−ｎ−ヘキサン系）で精製し無
色油状のジシリルエーテル（（２Ｒ）−１−ベンジルオ
キシ−２，４−ビス（ジエチルメチルシロキシ）ブタ
ン）１．４ｇ（７０．７％）を得た。 ［α］D 28 ＋１１．７°（ｃ＝１．０１，ＣＨＣ
ｌ3 ） ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ：２９５６，１４５５ｃｍ-1 1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：７．３２（ｓ，５Ｈ，a
romatic），４．５３（ｓ，２Ｈ，ＡｒＯ−ＣＨ2 ），
４．２−３．８（ｍ，１Ｈ，Ｃ（２）−Ｈ），３．６７
（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，Ｃ（４）−Ｈ），３．４
０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，Ｃ（１）−Ｈ），１．
９−１．６（ｍ，２Ｈ，Ｃ（３）−Ｈ），１．１−０．
６（ｍ，２０Ｈ，Ｓｉ−（Ｃ2 Ｈ5 ）2 ×２），０．２
−０．０（ｍ，６Ｈ，Ｓｉ−ＣＨ3 ×２） ＭＳ ｍ／ｚ：３６７（Ｍ−２９），９１（１００％） ＨＲＭＳ Ｃ19Ｈ35Ｏ3 Ｓｉ2 ｃａｌｃｄ ： ３６７．２１２５ ｆｏｕｎｄ ： ３６７．２１３３
造） 一酸化炭素雰囲気下でジコバルトオクタカルボニル錯体
６８ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）にジエチルメチルシラン
２．２ｍｌ（１５ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分攪拌
した後、（Ｓ）−ベンジルグリシドール８２０ｍｇ
（５．０ｍｍｏｌ）のベンゼン５ｍｌ溶液を加え、２０
時間攪拌した。反応溶液中にピリジン５滴を加え、窒素
を１５分吹き込み、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減
圧下溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（エーテル−ｎ−ヘキサン系）で精製し無
色油状のジシリルエーテル（（２Ｒ）−１−ベンジルオ
キシ−２，４−ビス（ジエチルメチルシロキシ）ブタ
ン）１．４ｇ（７０．７％）を得た。 ［α］D 28 ＋１１．７°（ｃ＝１．０１，ＣＨＣ
ｌ3 ） ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ：２９５６，１４５５ｃｍ-1 1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：７．３２（ｓ，５Ｈ，a
romatic），４．５３（ｓ，２Ｈ，ＡｒＯ−ＣＨ2 ），
４．２−３．８（ｍ，１Ｈ，Ｃ（２）−Ｈ），３．６７
（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，Ｃ（４）−Ｈ），３．４
０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，Ｃ（１）−Ｈ），１．
９−１．６（ｍ，２Ｈ，Ｃ（３）−Ｈ），１．１−０．
６（ｍ，２０Ｈ，Ｓｉ−（Ｃ2 Ｈ5 ）2 ×２），０．２
−０．０（ｍ，６Ｈ，Ｓｉ−ＣＨ3 ×２） ＭＳ ｍ／ｚ：３６７（Ｍ−２９），９１（１００％） ＨＲＭＳ Ｃ19Ｈ35Ｏ3 Ｓｉ2 ｃａｌｃｄ ： ３６７．２１２５ ｆｏｕｎｄ ： ３６７．２１３３
【００１１】実施例２（光学活性ジシリルエーテルの製
造） 一酸化炭素雰囲気下でジコバルトオクタカルボニル錯体
６８ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）にジエチルメチルシラン
２．２ｍｌ（１５ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分攪拌
した後、（Ｒ）−（４−メトキシフェニル）グリシドー
ル９００ｍｇ（５．０ｍｍｏｌ）のベンゼン５ｍｌ溶液
を加え、２０時間攪拌した。反応溶液中にピリジン５滴
を加え、窒素を１５分吹き込み、無水硫酸マグネシウム
で乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残留物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（エーテル−ｎ−ヘキサン
系）で精製し無色油状のジシリルエーテル（（２Ｒ）−
１−（４−メトキシフェニルオキシ）−２，４−ビス
（ジエチルメチルシロキシ）ブタン）１．２９ｇ（収率
６２．９％）を得た。 ［α］D 30 ＋４．９５°（ｃ＝１．０１，ＣＨＣ
ｌ3 ） ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ：２９５４，１５０８ｃｍ-1 1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：６．８２（ｓ，４Ｈ，a
romatic），４．１２−４．０５（ｍ，１Ｈ，Ｃ（２）
−Ｈ），３．８３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，Ｃ
（１）−Ｈ），３．７７（ｓ，３Ｈ，Ｏ−ＣＨ3 ），
３．７３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，Ｃ（４）−
Ｈ），１．９３−１．８２（ｍ，２Ｈ，Ｃ（３）−
Ｈ），１．０−０．６（ｍ，２０Ｈ，Ｓｉ−（Ｃ
2 Ｈ5 ）2 ×２），０．２−０．０（ｍ，６Ｈ，Ｓｉ−
ＣＨ3 ×２） ＭＳ ｍ／ｚ：４１２（Ｍ＋），１０３（１００％） ＨＲＭＳ Ｃ21Ｈ40Ｏ4 Ｓｉ2 ｃａｌｃｄ ： ４１２．２４６５ ｆｏｕｎｄ ： ４１２．２４４５
造） 一酸化炭素雰囲気下でジコバルトオクタカルボニル錯体
６８ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）にジエチルメチルシラン
２．２ｍｌ（１５ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分攪拌
した後、（Ｒ）−（４−メトキシフェニル）グリシドー
ル９００ｍｇ（５．０ｍｍｏｌ）のベンゼン５ｍｌ溶液
を加え、２０時間攪拌した。反応溶液中にピリジン５滴
を加え、窒素を１５分吹き込み、無水硫酸マグネシウム
で乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残留物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（エーテル−ｎ−ヘキサン
系）で精製し無色油状のジシリルエーテル（（２Ｒ）−
１−（４−メトキシフェニルオキシ）−２，４−ビス
（ジエチルメチルシロキシ）ブタン）１．２９ｇ（収率
６２．９％）を得た。 ［α］D 30 ＋４．９５°（ｃ＝１．０１，ＣＨＣ
ｌ3 ） ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ：２９５４，１５０８ｃｍ-1 1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：６．８２（ｓ，４Ｈ，a
romatic），４．１２−４．０５（ｍ，１Ｈ，Ｃ（２）
−Ｈ），３．８３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，Ｃ
（１）−Ｈ），３．７７（ｓ，３Ｈ，Ｏ−ＣＨ3 ），
３．７３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，Ｃ（４）−
Ｈ），１．９３−１．８２（ｍ，２Ｈ，Ｃ（３）−
Ｈ），１．０−０．６（ｍ，２０Ｈ，Ｓｉ−（Ｃ
2 Ｈ5 ）2 ×２），０．２−０．０（ｍ，６Ｈ，Ｓｉ−
ＣＨ3 ×２） ＭＳ ｍ／ｚ：４１２（Ｍ＋），１０３（１００％） ＨＲＭＳ Ｃ21Ｈ40Ｏ4 Ｓｉ2 ｃａｌｃｄ ： ４１２．２４６５ ｆｏｕｎｄ ： ４１２．２４４５
【００１２】実施例３（光学活性１，３−ジオールの製
造） 実施例１で得たジシリルエーテル４００ｍｇ（１．０ｍ
ｍｏｌ）のテトラヒドロフラン３ｍｌ溶液に、室温でフ
ッ化テトラブチルアンモニウム溶液（濃度１．０Ｍ）
２．４ｍｌ（２．４ｍｍｏｌ）を加え、同温で１０ｍｉ
ｎ攪拌した。酢酸エチル，１０重量％塩酸，食塩を加
え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去
し、残留物をシリカゲル１５ｇを用いてカラムクロマト
グラフィー（酢酸エチル）に付し、無色油状のジオール
体（（２Ｒ）−１−ベンジルオキシ−２，４−ジヒドロ
キシブタン）１７１ｍｇ（８７．２％）を得た。 ［α］D 30 ＋８．０６°（ｃ＝１．０７，ＣＨＣ
ｌ3 ） 光学純度：９３．４％ｅ．ｅ．（ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ
ＯＤ，ｉ−プロパノール−ｎ−ヘキサン−ジエチルアミ
ン（２０：８０：０．１（ｖ／ｖ／ｖ）） ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ：３３９０ｃｍ-1 1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：７．３２（ｓ，５Ｈ，a
romatic），４．５３（ｓ，２Ｈ，ＡｒＯ−ＣＨ2 ），
４．２−３．８（ｍ，１Ｈ，Ｃ（２）−Ｈ），３．７７
（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，Ｃ（４）−Ｈ），３．６
−３．２（ｍ，２Ｈ，Ｃ（１）−Ｈ），３．１１（ｂｒ
ｓ，２Ｈ，ＯＨ×２），１．６６（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝
９．５，６．２Ｈｚ，Ｃ（３）−Ｈ） ＭＳ ｍ／ｚ：１９６（Ｍ＋），９１（１００％） ＨＲＭＳ Ｃ11Ｈ16Ｏ3 ｃａｌｃｄ ： １９６．１０９９ ｆｏｕｎｄ ： １９６．１０７９
造） 実施例１で得たジシリルエーテル４００ｍｇ（１．０ｍ
ｍｏｌ）のテトラヒドロフラン３ｍｌ溶液に、室温でフ
ッ化テトラブチルアンモニウム溶液（濃度１．０Ｍ）
２．４ｍｌ（２．４ｍｍｏｌ）を加え、同温で１０ｍｉ
ｎ攪拌した。酢酸エチル，１０重量％塩酸，食塩を加
え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去
し、残留物をシリカゲル１５ｇを用いてカラムクロマト
グラフィー（酢酸エチル）に付し、無色油状のジオール
体（（２Ｒ）−１−ベンジルオキシ−２，４−ジヒドロ
キシブタン）１７１ｍｇ（８７．２％）を得た。 ［α］D 30 ＋８．０６°（ｃ＝１．０７，ＣＨＣ
ｌ3 ） 光学純度：９３．４％ｅ．ｅ．（ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ
ＯＤ，ｉ−プロパノール−ｎ−ヘキサン−ジエチルアミ
ン（２０：８０：０．１（ｖ／ｖ／ｖ）） ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ：３３９０ｃｍ-1 1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：７．３２（ｓ，５Ｈ，a
romatic），４．５３（ｓ，２Ｈ，ＡｒＯ−ＣＨ2 ），
４．２−３．８（ｍ，１Ｈ，Ｃ（２）−Ｈ），３．７７
（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，Ｃ（４）−Ｈ），３．６
−３．２（ｍ，２Ｈ，Ｃ（１）−Ｈ），３．１１（ｂｒ
ｓ，２Ｈ，ＯＨ×２），１．６６（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝
９．５，６．２Ｈｚ，Ｃ（３）−Ｈ） ＭＳ ｍ／ｚ：１９６（Ｍ＋），９１（１００％） ＨＲＭＳ Ｃ11Ｈ16Ｏ3 ｃａｌｃｄ ： １９６．１０９９ ｆｏｕｎｄ ： １９６．１０７９
【００１３】実施例４（光学活性１，３−ジオールの製
造） 実施例２で得たジシリルエーテル３８０ｍｇ（０．９２
ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン４ｍｌ溶液に室温でフ
ッ化テトラブチルアンモニウム溶液（濃度１．０Ｍ）
２．０ｍｌ（２．０ｍｍｏｌ）を加え、同温で１０ｍｉ
ｎ攪拌した。酢酸エチル,１０重量％塩酸，食塩を加
え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去
し、残留物をシリカゲル２０ｇを用いてカラムクロマト
グラフィー（酢酸エチル）に付し、無色結晶のジオール
体（（２Ｒ）−１−（４−メトキシフェニルオキシ）−
２，４−ジヒドロキシブタン）１７１ｍｇ（収率８７．
７％）を得た。光学純度は対応するジアセテート体より
８３．４％ｅ．ｅ．（ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ，ｉ−
プロパノール−ｎ−ヘキサン（５：９５（ｖ／ｖ））と
決定した。さらに、この結晶を塩化メチレンより再結晶
することにより次のデータを有するジオール体を得た。 ｍ．ｐ．１０８℃ ［α］D 31 ＋２．４４°（ｃ＝０．６５，ＭｅＯＨ） 光学純度：１００％ｅ．ｅ． ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ：３３０２ｃｍ-1 1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：６．８６（ｓ，４Ｈ，a
romatic），４．４−４．１（ｍ，１Ｈ，Ｃ（２）−
Ｈ），４．１−３．８（ｍ，４Ｈ，Ｃ（１）−Ｈ，Ｃ
（４）−Ｈ），３．７８（ｓ，３Ｈ，Ｏ−ＣＨ3 ），
３．２−２．８（ｍ，１Ｈ，ＯＨ），２．６−２．０
（ｍ，１Ｈ，ＯＨ），２．０−１．６（ｍ，２Ｈ，Ｃ
（３）−Ｈ） ＭＳ ｍ／ｚ：２１２（Ｍ＋），１２４（１００％） ＨＲＭＳ Ｃ11Ｈ16Ｏ4 ｃａｌｃｄ ： ２１２．１０４９ ｆｏｕｎｄ ： ２１２．１０１１
造） 実施例２で得たジシリルエーテル３８０ｍｇ（０．９２
ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン４ｍｌ溶液に室温でフ
ッ化テトラブチルアンモニウム溶液（濃度１．０Ｍ）
２．０ｍｌ（２．０ｍｍｏｌ）を加え、同温で１０ｍｉ
ｎ攪拌した。酢酸エチル,１０重量％塩酸，食塩を加
え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去
し、残留物をシリカゲル２０ｇを用いてカラムクロマト
グラフィー（酢酸エチル）に付し、無色結晶のジオール
体（（２Ｒ）−１−（４−メトキシフェニルオキシ）−
２，４−ジヒドロキシブタン）１７１ｍｇ（収率８７．
７％）を得た。光学純度は対応するジアセテート体より
８３．４％ｅ．ｅ．（ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ，ｉ−
プロパノール−ｎ−ヘキサン（５：９５（ｖ／ｖ））と
決定した。さらに、この結晶を塩化メチレンより再結晶
することにより次のデータを有するジオール体を得た。 ｍ．ｐ．１０８℃ ［α］D 31 ＋２．４４°（ｃ＝０．６５，ＭｅＯＨ） 光学純度：１００％ｅ．ｅ． ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ：３３０２ｃｍ-1 1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：６．８６（ｓ，４Ｈ，a
romatic），４．４−４．１（ｍ，１Ｈ，Ｃ（２）−
Ｈ），４．１−３．８（ｍ，４Ｈ，Ｃ（１）−Ｈ，Ｃ
（４）−Ｈ），３．７８（ｓ，３Ｈ，Ｏ−ＣＨ3 ），
３．２−２．８（ｍ，１Ｈ，ＯＨ），２．６−２．０
（ｍ，１Ｈ，ＯＨ），２．０−１．６（ｍ，２Ｈ，Ｃ
（３）−Ｈ） ＭＳ ｍ／ｚ：２１２（Ｍ＋），１２４（１００％） ＨＲＭＳ Ｃ11Ｈ16Ｏ4 ｃａｌｃｄ ： ２１２．１０４９ ｆｏｕｎｄ ： ２１２．１０１１
【００１４】
【発明の効果】本発明によれば光学活性な医薬品，農薬
品等の製造に必要な光学純度の高い光学活性な１，３−
ジオールを、反応経路中でラセミ化を起こすことなく少
ない工程数で容易に製造することができる。
品等の製造に必要な光学純度の高い光学活性な１，３−
ジオールを、反応経路中でラセミ化を起こすことなく少
ない工程数で容易に製造することができる。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−25436（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−117186（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−157373（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−85845（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−128338（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−110040（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07C 41/26 C07C 41/30 C07C 43/178 C07C 43/23
Claims (2)
- 【請求項１】 式Ｉで示される光学活性グリシジルエー
テルをジコバルトオクタカルボニルの存在下、一酸化炭
素及びトリアルキルシランと反応させて式ＩＩで示され
る光学活性ジシリルエーテルに導き、次いで該光学活性
ジシリルエーテルを脱シリル化することを特徴とする式
ＩＩＩで示される光学活性１，３−ジオールの製法。 【化１】 - 【請求項２】 式中Ｒ1 がフェニル基又は４−メトキシ
フェニル基である請求項１に記載の光学活性１，３−ジ
オールの製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5348293A JP2876929B2 (ja) | 1993-03-15 | 1993-03-15 | 光学活性１，３−ジオールの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5348293A JP2876929B2 (ja) | 1993-03-15 | 1993-03-15 | 光学活性１，３−ジオールの製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06263675A JPH06263675A (ja) | 1994-09-20 |
| JP2876929B2 true JP2876929B2 (ja) | 1999-03-31 |
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ID=12944065
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5348293A Expired - Fee Related JP2876929B2 (ja) | 1993-03-15 | 1993-03-15 | 光学活性１，３−ジオールの製法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2876929B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5140828B2 (ja) * | 2007-03-09 | 2013-02-13 | 国立大学法人 岡山大学 | イミノ基を含有する化合物の製造方法 |
-
1993
- 1993-03-15 JP JP5348293A patent/JP2876929B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JPH06263675A (ja) | 1994-09-20 |
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