JP2852242B2 - 現像装置 - Google Patents
現像装置Info
- Publication number
- JP2852242B2 JP2852242B2 JP13714596A JP13714596A JP2852242B2 JP 2852242 B2 JP2852242 B2 JP 2852242B2 JP 13714596 A JP13714596 A JP 13714596A JP 13714596 A JP13714596 A JP 13714596A JP 2852242 B2 JP2852242 B2 JP 2852242B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nozzle
- developing
- developing solution
- valve
- developing device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウェハ（以
下単にウェハと記す）のレジスト面にノズルから現像液
を滴下し回転により該現像液を引伸して全面に塗布しレ
ジスト面に転写されたパターンを現像する現像装置に関
する。
下単にウェハと記す）のレジスト面にノズルから現像液
を滴下し回転により該現像液を引伸して全面に塗布しレ
ジスト面に転写されたパターンを現像する現像装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】図２は従来の一例における現像装置の模
式断面図である。従来、この種の現像装置は、図２に示
すように、ウェハ８を保持し回転するスピンチャック５
と、回転するウェハ８に現像液を滴下するノズル６と、
カップ４外にあって退避したノズル６から滴下される残
余現像液を受ける受容器７とを備えている。
式断面図である。従来、この種の現像装置は、図２に示
すように、ウェハ８を保持し回転するスピンチャック５
と、回転するウェハ８に現像液を滴下するノズル６と、
カップ４外にあって退避したノズル６から滴下される残
余現像液を受ける受容器７とを備えている。
【０００３】この現像装置によりウェハ８のレジスト面
に転写されたパターンを現像する場合は、まず、ノズル
６を受容器７に移動させ、清浄な現像液を供給できるよ
うに現像液をノズル６から空流してから、ノズル６をウ
ェハ上に移動させウェハ８に現像液を滴下し、滴下され
た現像液をスピンチャック５の回転によりウェハ８の全
面に引伸しウェハ８の全面に現像液を塗布し現像してい
た。
に転写されたパターンを現像する場合は、まず、ノズル
６を受容器７に移動させ、清浄な現像液を供給できるよ
うに現像液をノズル６から空流してから、ノズル６をウ
ェハ上に移動させウェハ８に現像液を滴下し、滴下され
た現像液をスピンチャック５の回転によりウェハ８の全
面に引伸しウェハ８の全面に現像液を塗布し現像してい
た。
【０００４】そして、現像液の滴下が終了したノズル６
は受容器７の上に退避し、ノズル６に残る現像液が落下
するのを受容器７で受け現像液が他の場所を汚染しない
ように図られていた。
は受容器７の上に退避し、ノズル６に残る現像液が落下
するのを受容器７で受け現像液が他の場所を汚染しない
ように図られていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の現像装置では、現像液滴下後にノズルが受容器
上に退避したとき、ノズルの先端に残った塩基性水溶液
である現像液が空気中の炭酸ガスと反応し炭酸塩とな
り、ノズルに付着したままになる。この付着した炭酸塩
は、滴下事前の現像液の空流し程度では除去することが
できず、次回の現像液の滴下時にこの炭酸塩が現像液に
混入し、現像能力を低下させ転写されたパターンが正確
に現像できず現像不良を起すという問題がある。
た従来の現像装置では、現像液滴下後にノズルが受容器
上に退避したとき、ノズルの先端に残った塩基性水溶液
である現像液が空気中の炭酸ガスと反応し炭酸塩とな
り、ノズルに付着したままになる。この付着した炭酸塩
は、滴下事前の現像液の空流し程度では除去することが
できず、次回の現像液の滴下時にこの炭酸塩が現像液に
混入し、現像能力を低下させ転写されたパターンが正確
に現像できず現像不良を起すという問題がある。
【０００６】また、現像液滴下する前に現像液を流し常
に新鮮な現像液をウェハに滴下する空流しと呼ばれる操
作自体が期待する程効果がなく、現像液の消費による運
用コストの上昇を招くという問題がある。
に新鮮な現像液をウェハに滴下する空流しと呼ばれる操
作自体が期待する程効果がなく、現像液の消費による運
用コストの上昇を招くという問題がある。
【０００７】従って、本発明の目的は、現像液を無駄に
することなく炭酸塩の混入による現像不良を起すことが
ない現像装置を提供することにある。
することなく炭酸塩の混入による現像不良を起すことが
ない現像装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、半導体
ウェハ上にノズルから現像液を滴下し該半導体ウェハ面
に転写されたパターンを現像する現像装置において、前
記現像液を滴下後あるいは滴下事前に前記ノズルを気密
に差し込みあるいは抜き出し得る開閉弁を具備するとと
もに不活性ガスを蓄える容器を備える現像装置である。
また、前記開閉弁は、前記ノズルの差し込みまたは抜き
出しにより前記容器の開口を開閉する弁体を備えること
が望ましい。
ウェハ上にノズルから現像液を滴下し該半導体ウェハ面
に転写されたパターンを現像する現像装置において、前
記現像液を滴下後あるいは滴下事前に前記ノズルを気密
に差し込みあるいは抜き出し得る開閉弁を具備するとと
もに不活性ガスを蓄える容器を備える現像装置である。
また、前記開閉弁は、前記ノズルの差し込みまたは抜き
出しにより前記容器の開口を開閉する弁体を備えること
が望ましい。
【０００９】
【発明の実施の形態】次に、本発明について図面を参照
して説明する。
して説明する。
【００１０】図１（ａ）および（ｂ）は本発明の一実施
の形態における現像装置の模式断面図および部分的に抽
出し拡大して示す断面図である。この現像装置は、図１
に示すように、ノズル６が現像液を滴下し元の位置に戻
ったときあるいは元の位置のままのとき、ノズル６の先
端をヘリウムなどの不活性ガスの雰囲気の中に入れるた
めに、ノズル６の先端を気密に差し込みかつ差し込まれ
たノズル６の先端を不活性ガスが充満する雰囲気に晒す
開閉弁付きガス容器１を設けたことである。それ以外は
従来例と同じである。
の形態における現像装置の模式断面図および部分的に抽
出し拡大して示す断面図である。この現像装置は、図１
に示すように、ノズル６が現像液を滴下し元の位置に戻
ったときあるいは元の位置のままのとき、ノズル６の先
端をヘリウムなどの不活性ガスの雰囲気の中に入れるた
めに、ノズル６の先端を気密に差し込みかつ差し込まれ
たノズル６の先端を不活性ガスが充満する雰囲気に晒す
開閉弁付きガス容器１を設けたことである。それ以外は
従来例と同じである。
【００１１】この開閉弁付きガス容器１は、図１（ｂ）
に示すように、エアシリンダ３により突き上げられるこ
とによってノズル６の先端で押し開けられる弁体１ｂ
と、フレキシブルホース２を経てガスボンベから供給さ
れる不活性ガスを蓄えるハウジング１ａと、差し込まれ
たノズル６の先端を抜くときに弁体１ｂを二点鎖線のよ
うに回転させ弁体１ｂで挿入穴（開口）を気密に塞ぐ閉
じる作用をするスプリング１ｃとを備えている。
に示すように、エアシリンダ３により突き上げられるこ
とによってノズル６の先端で押し開けられる弁体１ｂ
と、フレキシブルホース２を経てガスボンベから供給さ
れる不活性ガスを蓄えるハウジング１ａと、差し込まれ
たノズル６の先端を抜くときに弁体１ｂを二点鎖線のよ
うに回転させ弁体１ｂで挿入穴（開口）を気密に塞ぐ閉
じる作用をするスプリング１ｃとを備えている。
【００１２】次に、この現像装置の動作を説明する。ま
ず、ノズル６が開閉弁付きガス容器１に差し込まれた状
態から始まる。次に、エアシリンダ３が動作し、開閉弁
付きガス容器１が下降し、ノズル６が抜ける。このこと
により、開閉弁付きガス容器１の弁体１ｂがスプリング
１ｃの反発力で戻り挿入穴を気密に閉じる。このとき、
ハウジング１ａの圧力が下るので、ガスボンベの圧力弁
が動作し不活性ガスが供給されハウジング内の圧力は一
定になる。なお、ガス圧は外気より稍高めで、例えば、
外気圧の１．００５乃至１．０５倍程度である。
ず、ノズル６が開閉弁付きガス容器１に差し込まれた状
態から始まる。次に、エアシリンダ３が動作し、開閉弁
付きガス容器１が下降し、ノズル６が抜ける。このこと
により、開閉弁付きガス容器１の弁体１ｂがスプリング
１ｃの反発力で戻り挿入穴を気密に閉じる。このとき、
ハウジング１ａの圧力が下るので、ガスボンベの圧力弁
が動作し不活性ガスが供給されハウジング内の圧力は一
定になる。なお、ガス圧は外気より稍高めで、例えば、
外気圧の１．００５乃至１．０５倍程度である。
【００１３】一方、ノズルは矢印の方向に移動し、ウェ
ハ８上に停止し、図面に示していないが、現像液供給バ
ルブが作動し現像液がノズル６よりウェハ８に滴下され
る。現像液の滴下が終了すると、ノズル６は極めて短時
間で元の位置に戻る。そして、元の位置に戻ることをセ
ンサが検知し、センサの検知によりエアシリンダ３が動
作し、開閉弁付きガス容器１にノズル６が差し込まれ
る。この状態は、図１（ｂ）に示すように、ノズル６の
フランジ部で挿入穴が気密に閉じられ、弁体１ｂは押し
開かれガスが矢印のように流れノズル６の先端はガスに
晒さわれる。そして、不活性ガスは外部に漏れることな
く一定の圧力でハウジング１ａ内に閉じ込まれる。
ハ８上に停止し、図面に示していないが、現像液供給バ
ルブが作動し現像液がノズル６よりウェハ８に滴下され
る。現像液の滴下が終了すると、ノズル６は極めて短時
間で元の位置に戻る。そして、元の位置に戻ることをセ
ンサが検知し、センサの検知によりエアシリンダ３が動
作し、開閉弁付きガス容器１にノズル６が差し込まれ
る。この状態は、図１（ｂ）に示すように、ノズル６の
フランジ部で挿入穴が気密に閉じられ、弁体１ｂは押し
開かれガスが矢印のように流れノズル６の先端はガスに
晒さわれる。そして、不活性ガスは外部に漏れることな
く一定の圧力でハウジング１ａ内に閉じ込まれる。
【００１４】また、この現像装置は、ヘリウムボンベの
バルブを開の状態にしただけで、電気および圧縮空気を
遮断しても、図１（ｂ）の状態を維持することができ
る。その理由は、エアシリンダ３はスプリングの反発力
でピストンロッドを上昇させるタイプを使用していると
ともに開閉弁付きガス容器１の開閉弁も機械的に作動す
る構造であるからである。従って、電力や空気などの動
力を使わなくても常にノズル６を清浄な状態に保ち、即
時に運転できるという利点がある。
バルブを開の状態にしただけで、電気および圧縮空気を
遮断しても、図１（ｂ）の状態を維持することができ
る。その理由は、エアシリンダ３はスプリングの反発力
でピストンロッドを上昇させるタイプを使用していると
ともに開閉弁付きガス容器１の開閉弁も機械的に作動す
る構造であるからである。従って、電力や空気などの動
力を使わなくても常にノズル６を清浄な状態に保ち、即
時に運転できるという利点がある。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、現像液を
滴下後にノズルを気密に差込み不活性ガスの中に入れる
容器を設けることによって、変質した残余現像液がノズ
ルに付着することがないので、常に清浄な現像液を滴下
でき転写されたパターンを正確に現像できるという効果
がある。また、従来のように、清浄な現像液を滴下する
ために行なわれていた現像液の空流しが必要ではなくな
り、その分の運用コストが低減できる。
滴下後にノズルを気密に差込み不活性ガスの中に入れる
容器を設けることによって、変質した残余現像液がノズ
ルに付着することがないので、常に清浄な現像液を滴下
でき転写されたパターンを正確に現像できるという効果
がある。また、従来のように、清浄な現像液を滴下する
ために行なわれていた現像液の空流しが必要ではなくな
り、その分の運用コストが低減できる。
【図１】本発明の一実施の形態における現像装置の模式
断面図および部分的に抽出し拡大して示す断面図であ
る。
断面図および部分的に抽出し拡大して示す断面図であ
る。
【図２】従来の一例における現像装置の模式断面図であ
る。
る。
１ 開閉弁付きガス容器 １ａ ハウジング １ｂ 弁体 ２ フレキシブルホース ３ エアシリダ ４ カップ ５ スピンチャック ６ ノズル ７ 受容器 ８ ウェハ
Claims (2)
- 【請求項１】 半導体ウェハ上にノズルから現像液を滴
下し該半導体ウェハ面に転写されたパターンを現像する
現像装置において、前記現像液を滴下後あるいは滴下事
前に前記ノズルを気密に差し込みあるいは抜き出し得る
開閉弁を具備するとともに不活性ガスを蓄える容器を備
えることを特徴とする現像装置。 - 【請求項２】 前記開閉弁は、前記ノズルの差し込みま
たは抜き出しにより前記容器の開口を開閉する弁体を備
えることを特徴とする請求項１記載の現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13714596A JP2852242B2 (ja) | 1996-05-30 | 1996-05-30 | 現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13714596A JP2852242B2 (ja) | 1996-05-30 | 1996-05-30 | 現像装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09320941A JPH09320941A (ja) | 1997-12-12 |
| JP2852242B2 true JP2852242B2 (ja) | 1999-01-27 |
Family
ID=15191876
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13714596A Expired - Lifetime JP2852242B2 (ja) | 1996-05-30 | 1996-05-30 | 現像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2852242B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3381776B2 (ja) * | 1998-05-19 | 2003-03-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置および処理方法 |
-
1996
- 1996-05-30 JP JP13714596A patent/JP2852242B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09320941A (ja) | 1997-12-12 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19981013 |