JP2845002B2 - 半導体装置用複合リードフレーム - Google Patents

半導体装置用複合リードフレーム

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JP2845002B2
JP2845002B2 JP1722792A JP1722792A JP2845002B2 JP 2845002 B2 JP2845002 B2 JP 2845002B2 JP 1722792 A JP1722792 A JP 1722792A JP 1722792 A JP1722792 A JP 1722792A JP 2845002 B2 JP2845002 B2 JP 2845002B2
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lead frame
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達也 大高
則夫 岡部
隆志 鈴村
幸弘 叶野
昇 荻野目
直 川野辺
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はIC等の半導体装置を搭
載する半導体装置用複合リードフレームに関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】近年、Logic系ICにおいては、演
算スピード、処理数の増大が開発の推進力である。これ
ら開発のポイントはIC回路設計であるが、その回路を
安定して動作させる技術も合せて必要である。特に、I
Cの信号を外に伝える信号線での電気的雑音の低下およ
びICで発生する熱の放散がICを包むパッケージとし
て非常に重要な技術となってきた。
【0003】その試みの一つとして、ICを搭載する部
分を熱伝導性の良い厚めの金属板とし、これをリードフ
レームのほぼ中央に貼り付ける構造が最近注目されるよ
うになった。この構造により金属板がICで発生した熱
を効率良く熱拡散すると共に、金属板をアースに接続し
て電位的に安定させれば、信号線間の相互Cおよび相互
L成分を低下させる効果が期待され、電気雑音対策が可
能となる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これら金属を
内包した樹脂封止パッケージでは、密着性の悪い金属と
樹脂との接触面積が従来のリードフレームに較べて飛躍
的に増大し、パッケージ封止性が低下してしまう。そし
て、封止性が低下すると外部からの水分がパッケージ内
に容易に侵入してICのパッドやボンディング線を腐食
する恐れが急増するばかりでなく、樹脂と金属との密着
性の悪さから半田リフロー時にパッケージクラックを起
こし易くなるなど、ICパッケージとして致命的な事故
につながる可能性が高いという問題点がある。
【0005】本発明は以上の問題点に鑑みてなされたも
ので、その目的は金属板等の表面に樹脂との密着性のよ
い金属を被覆してパッケージの樹脂封止性に優れた信頼
性の高い半導体装置用複合リードフレームを提供するこ
とにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は、IC等の半導体装置を搭載するためのアイ
ランド部を除去し、このアイランド部に代えてインナー
リードの下側に配した絶縁層を介して半導体装置搭載用
熱的および電気的伝導性に優れた金属板を固定した半
導体装置用複合リードフレームにおいて、上記インナー
リードを含むフレーム部と上記金属板の表面を、Snの
組成が40〜95wt%、その厚みが0.05〜10μ
mのSn−Ni合金膜にて被覆することによって封止樹
脂との密着性を高めたことを特徴とする。
【0007】
【作用】Sn−Ni合金膜は樹脂との密着性がよく、さ
らにこの合金膜をSnの組成が40〜95wt%、その
厚みが0.05〜10μmとして金属板等の表面に被覆
することで、パッケージの樹脂封止性が大幅に向上す
る。
【0008】
【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面を参照しな
がら説明する。
【0009】図1は本実施例の半導体装置用複合リード
フレームの具体的構造を示す横断面図である。図中の1
は周囲から一点に集中するように配設されたインナーリ
ードで、このインナーリード1の内側先端部にワイヤボ
ンディング用のAgめっき2が施されている。インナー
リード1先端の下側部には接着性の絶縁材3が取付けら
れ、この絶縁材3の下側に熱伝導性に優れた銅系の金属
板4が取付けられている。そして、これらインナーリー
ド1、絶縁材3及び金属板4でICチップ搭載部5が形
成されている。
【0010】そして、上記インナーリード1及びアウタ
ーリード(図示せず)を含むフレーム部と上記金属板4
の各表面にはそれぞれめっきが施されている。このめっ
きは、Snの組成が70wt%、Niの組成が30wt
%で、厚さが0.3μmのSn−Ni合金膜6により構
成されている。このフレーム部及び金属板4へのめっき
は、半導体装置用複合リードフレームが形成される前に
施される。
【0011】以上のように本実施例ではSn−Ni合金
膜6をめっきによって被覆する。従ってめっきを行い易
く、かつ樹脂封止性の高いSn−Ni合金組成及び厚み
にすることが望ましい。この観点から選定される合金組
成及び厚みは、Snの組成を40〜95wt%、その厚
みを0.05〜10μmとするのが望ましい。
【0012】Sn−Ni合金膜6は樹脂との密着性がよ
く、この合金膜6を前記組成及び厚みで金属板等の表面
に被覆することにより、従来行われていたCu表面むく
又はNiめっき等を施したパッケージに比べてパッケー
ジの樹脂封止性が大幅に向上し、半田リフローの際のパ
ッケージクラックもほとんど皆無にすることが可能にな
る。
【0013】なお、前記実施例では、Sn−Ni合金膜
6をめっきによって形成したが、本発明はこれに限ら
ず、スパッタリングや合金箔の貼付等の他の手段でもよ
い。
【0014】
【発明の効果】以上詳述したように本発明の半導体装置
用複合リードフレームによれば、以下の効果を奏する。
【0015】(1) フレーム部と金属板の表面を、S
n−Ni合金膜で被覆するので、パッケージ内の全域で
樹脂封止性の良いフレームが得られる。
【0016】(2) 金属板を積層した複合リードフレ
ームにおいても、パッケージ内の全域で樹脂封止性の良
いフレームが得られる。
【0017】(3) 樹脂封止性に優れたリードフレー
ムを得ることができるので、信頼性の高い高性能のパッ
ケージを低コストで提供することができる。
【0018】(4) Sn−Ni合金膜をめっきで形成
することにより、半導体装置用複合リードフレームを経
済的に低コストで、かつ容易に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体装置用複合リードフレームの実
施例を示す横断面図である。
【符号の説明】
1 インナーリード 2 Agめっき 3 絶縁材 4 金属板 5 ICチップ搭載部 6 Sn−Ni合金膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 叶野 幸弘 茨城県土浦市木田余町3550番地 日立電 線株式会社システムマテリアル研究所内 (72)発明者 荻野目 昇 茨城県日立市助川町3丁目1番1号 日 立電線株式会社電線工場内 (72)発明者 川野辺 直 茨城県日立市助川町3丁目1番1号 日 立電線株式会社電線工場内 (56)参考文献 特開 昭60−147148(JP,A) 特開 昭61−174751(JP,A) 特開 平3−89539(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 23/50

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】IC等の半導体装置を搭載するためのアイ
    ランド部を除去し、このアイランド部に代えてインナー
    リードの下側に配した絶縁層を介して半導体装置搭載用
    熱的および電気的伝導性に優れた金属板を固定した半
    導体装置用複合リードフレームにおいて、上記インナー
    リードを含むフレーム部と上記金属板の表面を、Snの
    組成が40〜95wt%、その厚みが0.05〜10μ
    mのSn−Ni合金膜にて被覆することによって封止樹
    脂との密着性を高めたことを特徴とする樹脂封止型半導
    体装置用複合リードフレーム。
JP1722792A 1992-02-03 1992-02-03 半導体装置用複合リードフレーム Expired - Fee Related JP2845002B2 (ja)

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