JP2838352B2 - 直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法 - Google Patents

直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法

Info

Publication number
JP2838352B2
JP2838352B2 JP25923793A JP25923793A JP2838352B2 JP 2838352 B2 JP2838352 B2 JP 2838352B2 JP 25923793 A JP25923793 A JP 25923793A JP 25923793 A JP25923793 A JP 25923793A JP 2838352 B2 JP2838352 B2 JP 2838352B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
organopolysiloxane
group
polymerization
linear organopolysiloxane
acidic compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP25923793A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0790083A (ja
Inventor
凱夫 井上
実 五十嵐
晋 関口
高至 松田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP25923793A priority Critical patent/JP2838352B2/ja
Publication of JPH0790083A publication Critical patent/JPH0790083A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2838352B2 publication Critical patent/JP2838352B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Silicon Polymers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、低分子量シロキサンが
副生しない直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】シリコーンゴムの原料として用いられる
直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法としては、低
分子量の環状又は直鎖状のオルガノポリシロキサンを酸
性あるいは塩基性の触媒を用いて平衡化反応を利用して
重合する方法が知られている。しかし、該重合方法にお
いては、シロキサン結合の生成ばかりでなく開裂も起こ
る結果、得られる高分子量の直鎖状オルガノポリシロキ
サンは低分子量の環状シロキサンをかなり含有したもの
となる。かかる欠点を解決した製造方法として、例え
ば、低分子量シロキサン含有量の少ない水酸基含有オル
ガノポリシロキサンをpKa が3以下である酸性化合物を
触媒として用いて重合する方法が開示されている(特開
平3-179027号公報)。この重合方法によれば、シロキサ
ン結合の開裂は起こらないので、低分子量の環状シロキ
サンがほとんど副生することなく高分子量のオルガノポ
リシロキサンが得られる。
【0003】しかし、この重合方法により所望の有機基
を有する高分子量の直鎖状オルガノポリシロキサンを得
るには、出発原料である両末端に水酸基を有するオルガ
ノポリシロキサンとして所望の有機基を有するものを予
め合成した後、このオルガノポリシロキサンを重合する
必要があり、製造方法は少なくとも2工程となる。しか
し、生産性等の観点から一工程からなる製造方法が求め
られる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明の課題
は、低分子量シロキサンがほとんど副生しない直鎖状オ
ルガノポリシロキサンの製造方法であって、重合と所望
の有機基の導入とを一工程で行うことができる直鎖状オ
ルガノポリシロキサンの製造方法を提供することであ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、下記一
般式(1) :
【0006】
【化3】 (式中、R及び R1 は、同一でも異なっていてもよく、
非置換または置換の一価炭化水素基である)で表される
モノアシロキシシラン及びpKa3以下の酸性化合物の存
在下で、両末端に水酸基を有するオルガノポリシロキサ
ンの重合を行うことからなる、両末端に(R1 ) 3 SiO-基
を有する直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法が提
供される。
【0007】本発明の方法を実施する際には、前記の重
合を前記モノアシロキシシランに加えて、さらに下記式
(2) :
【0008】
【化4】 (式中、Rは前記のとおりであり、 R2 は、同一でも異
なっていてもよく、非置換または置換の一価炭化水素基
である)で表されるジアシロキシシランをも存在させて
行ってもよい。この実施態様によれば、両末端が(R1 )
3 SiO-基で停止されているとともに、分子鎖中に -Si
( R2 ) 2 O- で表される構造単位を有する直鎖状オル
ガノポリシロキサンが得られる。
【0009】以下、本発明を詳細に説明する。アシロキシシラン 一般式(1) で表されるモノアシロキシシランは、得られ
る直鎖状オルガノポリシロキサンの末端をトリオルガノ
シリル基(R1 ) 3 SiO-で停止し、該オルガノポリシロキ
サンの末端に有機基 R1 を導入する。また、得られる直
鎖状オルガノポリシロキサンの側鎖に有機基R2 を導入
したいときは、一般式(2)で表されるジアシロキシシラ
ンをさらに反応系に添加して重合すればよい。
【0010】一般式(1) 及び一般式(2) において、非置
換又は置換の一価炭化水素基R、R1 及び R2 として
は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等のアル
キル基;ビニル基、アリル基等のアルケニル基;フェニ
ル基、トリル基等のアリール基;ベンジル基;フェニル
エチル基等のアラルキル基;クロロメチル基、トリフロ
ロプロピル基、シアノエチル基等の先に例示した炭化水
素基の水素原子の一部又は全部を塩素、フッ素等のハロ
ゲン原子、シアノ基等で置換した基等が挙げられる。本
発明により得られる重合体をシリコーンゴムの原料とし
て用いる場合には、R 1 及び R2 の少なくとも1つがビ
ニル基等の反応性の有機基であることが好ましい。ま
た、入手が容易なことから、Rとしてはメチル基が好適
である。
【0011】上記のモノアシロキシシランとしては、例
えば、トリメチルアセトキシシラン、ジメチルビニルア
セトキシシラン等が挙げられる。
【0012】また、上記のジアシロキシシランとして
は、例えば、メチルビニルジアセトキシシラン等が挙げ
られる。
【0013】上記のモノアシロキシシランは、得られる
直鎖状オルガノポリシロキサンの分子鎖末端に有機基の
導入を行う他に、さらに該オルガノポリシロキサンの重
合度を制御するものである。従ってモノアシロキシシラ
ンは目的とする重合度から計算される量が添加される。
例えば重合度が 4.0×103 のオルガノポリシロキサンを
前記の重合反応により重合する場合は、両末端に水酸基
を有するオルガノポリシロキサンに対してモル比で1/
2000のモノアシロキシシランが添加される。目的とする
重合度の直鎖状オルガノポリシロキサンを得るために、
重合反応はモノアシロキシシランの沸点以下で行われる
ことが好ましい。
【0014】上記のジアシロキシシランは得られる直鎖
状オルガノポリシロキサンの側鎖に有機基を導入するも
のであるから、導入される有機基の必要量から計算され
る量が添加される。通常、ジアシロキシシランは、両末
端に水酸基を有するオルガノポリシロキサンの水酸基の
量よりモル比で少ない量となるように添加される。ジア
シロキシシランの添加量が多過ぎると、添加した量から
計算される量の有機基を得られる直鎖状オルガノポリシ
ロキサン中に導入できない。両末端に水酸基を有するオ
ルガノポリシロキサンの水酸基より多いモル数のジアシ
ロキシシランを添加しても、過剰のジアシロキシシラン
は未反応のまま得られる直鎖状オルガノポリシロキサン
中に残存することになり経済的に好ましくない。
【0015】アシロキシシランは一種単独で、又は二種
以上を併用して用いてもよい。両末端に水酸基を有するオルガノポリシロキサン 本発明の製造方法において、両末端に水酸基を有するオ
ルガノポリシロキサンとしては、例えば、下記一般式
(3)
【0016】
【化5】 (式中、 R3 は置換または非置換の一価炭化水素基を示
し、nは2〜3000の整数である)で表されるオルガノポ
リシロキサンが挙げられる。
【0017】上記一般式(3) において R3 は、同一でも
異なっていてもよく、非置換または置換の一価炭化水素
基である。 R3 としては、例えば、前記した非置換又は
置換の一価炭化水素基R 1 について例示したものが挙げ
られる。R3 としてより好ましいものはメチル基であ
る。
【0018】上記一般式(3) において、nは、2〜3000
の整数であり、より好ましくは10〜1000の整数である。
上記の両末端に水酸基を有するオルガノポリシロキサン
としては、得られる直鎖状オルガノポリシロキサン中の
低分子量シロキサンの含有量を抑えるために、加熱減圧
下で低分子量シロキサンを予め除去したものが好適であ
る。
【0019】両末端に水酸基を有するオルガノポリシロ
キサンとして一般式(3) で表されるものを使用した場合
には、下記一般式(4):
【0020】
【化6】 (式中、R、 R1 、 R3 及びnは前記のとおりであり、
pは正の整数である)で表される直鎖状オルガノポリシ
ロキサンが得られる。酸性化合物 本発明において、前記の酸性化合物は触媒として作用す
る。該酸性化合物としては、例えば、特開平3-179027号
公報に開示された酸性触媒が挙げられる。具体的には、
例えば、 CF3 COOH、FCH 2 COOH、C 3 F 7 COOH、C 3 F 7 OCF(CF
3 )COOH 、C 3 F 7 OCF(CF3 )CF 2 OCF(CF3 )COOH 、Cl
CH2 COOH、BrCH2 COOH、CH2 (COOH)2 等が挙げられる。
【0021】本発明で使用される酸性化合物は、通常、
20℃における pKaの値が−3〜3の範囲のものであり、
より好ましくは0〜3のものである。pKa の値が高過ぎ
る酸性化合物を使用すると縮重合反応の速度が小さくな
り反応に時間がかかる。また、pKa の値が低過ぎる酸性
化合物を使用するとシロキサン結合の切断が起こるため
に低分子量シロキサンが副生する。
【0022】上記の酸性化合物の使用量は、両末端に水
酸基を有するオルガノポリシロキサン 100重量部に対し
て、好ましくは 0.001〜10重量部であり、より好ましく
は 0.1〜1重量部である。該酸性化合物の使用量が少な
過ぎると、重合反応の速度が小さくなり反応に時間がか
かる。また、酸性化合物の使用量が多過ぎると、該酸性
化合物が無駄になる。重合反応 本発明の重合反応は、例えば、両末端に水酸基を有する
オルガノポリシロキサン、アシロキシシラン及び酸性化
合物の混合物を加熱して行われる。
【0023】上記重合反応の温度は、通常、20〜200 ℃
であり、より好ましくは100〜150℃である。反応温度が
低過ぎると、重合反応の速度が小さくなり反応に時間が
かかる。また、反応温度は使用するアシロキシシランの
沸点以下であることが好ましい。
【0024】上記重合反応の時間は、通常、1〜10時間
の範囲であるが、酸性化合物の使用量を増加することに
より、反応時間を短縮することができる。
【0025】得られる直鎖状オルガノポリシロキサンの
重合度は、モノアシロキシシランの添加量によって自由
に制御できる。また、ヘキサメチルジシラザン等を添加
して酸性化合物を中和すれば、得られる直鎖状オルガノ
ポリシロキサン中に酸性化合物が残留することがないの
で、耐熱安定性に優れた直鎖状オルガノポリシロキサン
を得ることができる。
【0026】本発明の重合方法はバッチプロセスで行っ
ても、連続プロセスで行ってもよい。
【0027】
【実施例】以下に本発明の実施例を示す。本発明は以下
の実施例により何ら限定されるものではない。尚、以
下、オルガノポリシロキサンに含まれる、重合度が3〜
20のシロキサンをD3-D20と表す(ガスクロマトグラフィ
ーにより定量)。また、粘度は全て20℃における測定値
である。
【0028】実施例1 両末端に水酸基を有するポリジメチルシロキサン(粘
度:450cSt 、D3-D20:550ppm) 500gにメチルビニルジア
セトキシシラン1.44g 、トリメチルアセトキシシラン0.
446g及び酸性化合物としてC 3 F 7 CF(CF 3 )CF 2 OCF
(CF3 )COOH 1.0gを混合した。次いで、該混合物を 100
℃で2時間撹拌した。温度を100 ℃に保ちながらこの2
時間攪拌後の液にヘキサメチルジシラザン2.0gを添加し
1時間撹拌し上記酸性化合物を中和した。中和後の液を
150 ℃に加熱し窒素ガス通気下で過剰量のヘキサメチル
ジシラザンを除去して、両末端にトリメチルシリルを有
し、側鎖の一部にビニル基を有するポリジメチルシロキ
サン( 数平均分子量:3.5 ×105 、D3-D20 :590ppm、
ビニル基含有量:1.25×10-3モル/100g) を得た。
【0029】ところで、上記の製造方法において、酸性
化合物を中和せずにさらに混合液を2時間加熱して得た
ポリジメチルシロキサンは、ヘキサメチルジシラザンで
中和して得た上記ポリジメチルシロキサンと同程度の分
子量であった。
【0030】実施例2 トリメチルアセトキシシランの添加量を0.223gとした以
外は実施例1と同様な操作を行い、表1に示される数平
均分子量及び低分子シロキサン含有量のポリジメチルシ
ロキサンを得た。
【0031】実施例3 トリメチルアセトキシシランの添加量を0.669gとした以
外は実施例1と同様な操作を行い、表1に示される数平
均分子量及び低分子シロキサン含有量のポリジメチルシ
ロキサンを得た。
【0032】実施例4 トリメチルアセトキシシランの添加量を0.892gとした以
外は実施例1と同様な操作を行い、表1に示される数平
均分子量及び低分子シロキサン含有量のポリジメチルシ
ロキサンを得た。
【0033】実施例5 トリメチルアセトキシシランに代えてジメチルビニルア
セトキシシラン0.680gを用いた以外は実施例1と同様な
操作を行い、側鎖及び末端にビニル基が導入されたポリ
ジメチルシロキサン(数平均分子量: 3.2×105 、D3-D
20:560ppm)を得た。
【0034】
【表1】
【0035】比較例1 酸性化合物 C 3 F7 CF(CF 3 )CF 2 OCF(CF3 )COOH を添
加しない以外は、実施例1と同様な操作を行った。両末
端に水酸基を有するポリジメチルシロキサン、メチルビ
ニルジアセトキシシラン及びトリメチルアセトキシシラ
ンを混合して得られた混合液の粘度が経時変化しないこ
とから、酸性化合物を添加しない限り前記縮合反応は進
行しないことがわかった。
【0036】比較例2 両末端に水酸基を有するポリジメチルシロキサン(粘
度:450cSt 、D3-D20:550ppm) 500gにメチルビニルジア
セトキシシラン1.44g 及び酸性化合物としてC 3F 7 CF
(CF 3 )CF 2 OCF(CF3 )COOH 1.0gを混合した。次いで該
混合物を 100℃で1時間撹拌し反応させたところ、得ら
れたポリジメチルシロキサンの数平均分子量は3.1 ×10
5 であった。さらに、中和せずに 100℃で1時間攪拌し
たところ、得られたポリジメチルシロキサンの数平均分
子量は 6.5×105 であったことから、重合反応がさらに
進行していることがわかった。本例によりモノアシロキ
シシランを添加せず重合を行うと時間とともに得られる
重合体の重合度が増加することがわかった。この場合、
重合をヘキサメチルジシラザン等の停止剤を反応系に添
加して重合を終了させることができるが、停止剤を添加
するタイミングによって得られる高分子量の直鎖状オル
ガノポリシロキサンの重合度が異なるため、該重合度の
制御が困難である。
【0037】比較例3 平衡化反応による直鎖状オルガノポリシロキサンの製造
例を以下に示す。両末端が水酸基で停止されたポリジメ
チルシロキサン(粘度:450cSt 、D3-D20:550ppm) 500g
に、水酸化カリウムとポリジメチルシロキサンとの10%
ペースト0.01g を添加し 170℃で2時間攪拌した。その
結果、数平均分子量が 1.8×105、D3-D20が39000ppmの
ポリジメチルシロキサンを得た。平衡化反応により得ら
れる直鎖状オルガノポリシロキサンのD3-D20の値は、原
料に比べ著しく増加しており、重合中にシロキサン結合
の開裂が起こっていることが示唆される。
【0038】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、重合と所望
の有機基の導入とを一工程で行い、低分子量シロキサン
が副生することなく、高分子量の直鎖状オルガノポリシ
ロキサンを製造することができる。従って、重合と有機
基の導入とを別個の工程で行う従来の方法に比べて生産
性が高い。
【0039】本発明によれば、アシロキシシランを選択
して使用することにより所望の有機基を得られる高分子
量の直鎖状オルガノポリシロキサン中に導入することが
でき、アシロキシシランの添加量を調節することにより
得られる高分子量の直鎖状オルガノポリシロキサン中に
導入される有機基の量を調節することができる。また、
モノアシロキシシランの添加量を調節することにより、
得られる高分子量の直鎖状オルガノポリシロキサンの数
平均分子量を調節することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 関口 晋 群馬県碓氷郡松井田町大字人見1番地10 信越化学工業株式会社 シリコーン電 子材料技術研究所内 (72)発明者 松田 高至 群馬県碓氷郡松井田町大字人見1番地10 信越化学工業株式会社 シリコーン電 子材料技術研究所内 (56)参考文献 特開 昭56−92922(JP,A) 特開 昭54−24999(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C08G 77/06 C08G 77/16

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(1) : 【化1】 (式中、R及び R1 は、同一でも異なっていてもよく、
    非置換または置換の一価炭化水素基である)で表される
    モノアシロキシシラン及びpKa3以下の酸性化合物の存
    在下で、両末端に水酸基を有するオルガノポリシロキサ
    ンの重合を行うことからなる、両末端に(R1 ) 3 SiO-基
    を有する直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法。
  2. 【請求項2】 前記重合が、さらに下記一般式(2) : 【化2】 (式中、Rは前記のとおりであり、 R2 は、同一でも異
    なっていてもよく、非置換または置換の一価炭化水素基
    である)で表されるジアシロキシシランの存在下で行わ
    れ、得られる前記オルガノポリシロキサンが -Si(
    R2 ) 2 O- で表される構造単位を有する、請求項1に
    記載の直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法。
JP25923793A 1993-09-21 1993-09-21 直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法 Expired - Fee Related JP2838352B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25923793A JP2838352B2 (ja) 1993-09-21 1993-09-21 直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25923793A JP2838352B2 (ja) 1993-09-21 1993-09-21 直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0790083A JPH0790083A (ja) 1995-04-04
JP2838352B2 true JP2838352B2 (ja) 1998-12-16

Family

ID=17331316

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25923793A Expired - Fee Related JP2838352B2 (ja) 1993-09-21 1993-09-21 直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2838352B2 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002026686A1 (fr) * 2000-09-27 2002-04-04 Asahi Glass Company, Limited Processus de production de fluorure acyle et de sel d'acide carboxylique
JP7157998B2 (ja) * 2017-04-24 2022-10-21 国立研究開発法人産業技術総合研究所 シロキサン化合物の製造方法、新規なシロキサン化合物、およびそれらの用途
WO2019200579A1 (en) * 2018-04-19 2019-10-24 Wacker Chemie Ag Polysiloxane composition
JP7136001B2 (ja) * 2019-05-22 2022-09-13 信越化学工業株式会社 オルガノポリシロキサン生ゴムの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0790083A (ja) 1995-04-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5169920A (en) Method for preparing diphenylsiloxane/dimethylsiloxane copolymers
JPH0623255B2 (ja) パーフルオロアルキル基含有オルガノポリシロキサンの製造方法
JP2511046B2 (ja) 液体ポリジオルガノシロキサンの調製法
JPH11255899A (ja) 一官能価単位および四官能価単位を含有するポリオルガノシロキサン樹脂の製造法
US4267298A (en) Process for preparing M-stopped silicone fluids from silanol fluids
JPH06172535A (ja) クラスターアザシラシクロアルキル官能性ポリシロキサンの調製方法
US6284859B1 (en) Polymerization of siloxanes
JPS6320856B2 (ja)
JP2000319285A (ja) シラノール基を有する有機けい素化合物の製造方法
JP2652307B2 (ja) 分子鎖末端に水酸基を有する直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法
JP3079939B2 (ja) シラノール基を有する低分子量のオルガノシロキサンの製造方法
JPS6217594B2 (ja)
JP2838352B2 (ja) 直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法
US3706775A (en) Method of preparing high molecular weight linear organopolysiloxanes
JP3055307B2 (ja) オルガノクロロシランの加水分解方法
JP3453430B2 (ja) ジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体の製造方法
JPH09132645A (ja) アルコキシシルアルキレン基を末端基とするジオルガノシロキサンポリマーの製法
JP2938734B2 (ja) 低分子量ポリメチルシクロポリシロキサンの安定化方法
JP3473871B2 (ja) オルガノポリシロキサンの製造方法
JP4603635B2 (ja) ジハロシランからオルガノシロキサンを製造する方法
RU2357978C1 (ru) Способ получения полиорганоацетоксисилоксанов
EP0423684B1 (en) Polycyclosiloxanes containing silacyclobutane
JP3661807B2 (ja) ヒドロキシル基含有シロキサン化合物の製造方法
JPH04268333A (ja) オルガノポリシロキサンの製造方法
EP0693520B1 (en) Method for the preparation of organopolysiloxanes

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 10

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081016

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 10

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081016

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 11

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091016

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees