JP2837598B2 - ビスシリルメタンの製造方法 - Google Patents
ビスシリルメタンの製造方法Info
- Publication number
- JP2837598B2 JP2837598B2 JP4351370A JP35137092A JP2837598B2 JP 2837598 B2 JP2837598 B2 JP 2837598B2 JP 4351370 A JP4351370 A JP 4351370A JP 35137092 A JP35137092 A JP 35137092A JP 2837598 B2 JP2837598 B2 JP 2837598B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chloride
- reaction
- general formula
- silicon
- copper
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 80
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 45
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 37
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 37
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 21
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 14
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- AZFVLHQDIIJLJG-UHFFFAOYSA-N chloromethylsilane Chemical compound [SiH3]CCl AZFVLHQDIIJLJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 1-chlorobutane Chemical compound CCCCCl VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- NBRKLOOSMBRFMH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl chloride Chemical compound CC(C)(C)Cl NBRKLOOSMBRFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 4
- 239000004927 clay Substances 0.000 claims description 4
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 claims description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 3
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical group [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 2
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- SNMVRZFUUCLYTO-UHFFFAOYSA-N n-propyl chloride Chemical compound CCCCl SNMVRZFUUCLYTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 claims 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 37
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 20
- ITKVLPYNJQOCPW-UHFFFAOYSA-N chloro-(chloromethyl)-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)CCl ITKVLPYNJQOCPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 12
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 10
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 9
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 150000001348 alkyl chlorides Chemical class 0.000 description 6
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 5
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001805 chlorine compounds Chemical group 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000005243 fluidization Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 3
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- -1 trichlorosilyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 3
- YQQFFTNDQFUNHB-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethylsiletane Chemical compound C[Si]1(C)CCC1 YQQFFTNDQFUNHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical compound CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N but-2-ene Chemical compound CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBZVJUSTKXSFCR-UHFFFAOYSA-N chloro-(dichlorosilylmethyl)-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C[SiH](Cl)Cl KBZVJUSTKXSFCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 2
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 2
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAYBZWYBCUJLNQ-UHFFFAOYSA-N dichloro-(chloromethyl)-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCl JAYBZWYBCUJLNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 2
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 239000011863 silicon-based powder Substances 0.000 description 2
- GJIIJSWYRBEOCZ-UHFFFAOYSA-N trichloro-[[chloro(dimethyl)silyl]methyl]silane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C[Si](Cl)(Cl)Cl GJIIJSWYRBEOCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C(CN1CC2=C(CC1)NN=N2)=O HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]propan-1-one Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CCC(=O)N1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPHPBYBZTYSZLV-UHFFFAOYSA-N CC([SiH](Cl)Cl)([SiH2]Cl)C Chemical compound CC([SiH](Cl)Cl)([SiH2]Cl)C UPHPBYBZTYSZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAHYBTBOVVHUIZ-UHFFFAOYSA-N C[Si](C)(C)[Mg]C Chemical compound C[Si](C)(C)[Mg]C OAHYBTBOVVHUIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYTPGBJPTDQJCG-UHFFFAOYSA-N Trichloro(chloromethyl)silane Chemical compound ClC[Si](Cl)(Cl)Cl FYTPGBJPTDQJCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007805 chemical reaction reactant Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N chloro(114C)methane Chemical compound [14CH3]Cl NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002603 chloroethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])Cl 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- LOFPLWQPZAOILI-UHFFFAOYSA-N dichloro-(dichlorosilylmethyl)-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C[SiH](Cl)Cl LOFPLWQPZAOILI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZJINVYTYPELPM-UHFFFAOYSA-N dichlorosilylmethyl(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C[SiH](Cl)Cl LZJINVYTYPELPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJJLCTKQCYEFQI-UHFFFAOYSA-N dimethyl(silylmethyl)silane Chemical compound [SiH](C)(C)C[SiH3] WJJLCTKQCYEFQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N dimethylacetylene Natural products CC#CC XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910001623 magnesium bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- HVXTXDKAKJVHLF-UHFFFAOYSA-N silylmethylsilane Chemical compound [SiH3]C[SiH3] HVXTXDKAKJVHLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- ZTNLXKSEJCGJRH-UHFFFAOYSA-N trichloro(dichlorosilylmethyl)silane Chemical compound Cl[SiH](Cl)C[Si](Cl)(Cl)Cl ZTNLXKSEJCGJRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABDDAHLAEXNYRC-UHFFFAOYSA-N trichloro(trichlorosilylmethyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C[Si](Cl)(Cl)Cl ABDDAHLAEXNYRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABVUXBPCPLBFHM-UHFFFAOYSA-N trichloro-[[dichloro(methyl)silyl]methyl]silane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C[Si](Cl)(Cl)Cl ABVUXBPCPLBFHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/14—Preparation thereof from optionally substituted halogenated silanes and hydrocarbons hydrosilylation reactions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ジクロロヒドロシリル
基を有する後記一般式(III)のビスシリルメタンとトリ
クロロシリル基を有する後記一般式(IV)のビスシリル
メタンを同時に製造する方法に関する。
基を有する後記一般式(III)のビスシリルメタンとトリ
クロロシリル基を有する後記一般式(IV)のビスシリル
メタンを同時に製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】トリクロロシランは半導体シリコンの原
料として使われるだけでなく、トリクロロシランは不飽
和結合を有する有機化合物にケイ素水素化反応(hydros
ilylation)により付加するため、種々の官能基を有する
有機ケイ素化合物を製造するのに多く使用されている。
トリクロロシランは、従来工業的には、銅触媒の存在下
で、塩化水素をケイ素と反応させて製造される。(A.D.
Petrov. B.E. Mironov,V.A. Ponomaren Ko, 及びE.A.
Chernyshev, "Synthesis of Organosilicon Monomeys"
Consultants Bureau, New York, 1964)。
料として使われるだけでなく、トリクロロシランは不飽
和結合を有する有機化合物にケイ素水素化反応(hydros
ilylation)により付加するため、種々の官能基を有する
有機ケイ素化合物を製造するのに多く使用されている。
トリクロロシランは、従来工業的には、銅触媒の存在下
で、塩化水素をケイ素と反応させて製造される。(A.D.
Petrov. B.E. Mironov,V.A. Ponomaren Ko, 及びE.A.
Chernyshev, "Synthesis of Organosilicon Monomeys"
Consultants Bureau, New York, 1964)。
【0003】上記の反応は、銅触媒を使用する場合20
0−500℃で行われ、トリクロロシランが主生成物で
あるが、テトラクロロシラン、ジクロロシラン、そして
水素が副生物として生成し、反応条件に従いその組成が
異なることがある。そのため、主生成物であるトリクロ
ロシランを効果的に得るためには出発物質の純度、触媒
の使用量、反応温度、反応圧力、使用する反応槽の形態
等を考慮しなければならなかった。 Si+HCl→HSiCl3 +H2
0−500℃で行われ、トリクロロシランが主生成物で
あるが、テトラクロロシラン、ジクロロシラン、そして
水素が副生物として生成し、反応条件に従いその組成が
異なることがある。そのため、主生成物であるトリクロ
ロシランを効果的に得るためには出発物質の純度、触媒
の使用量、反応温度、反応圧力、使用する反応槽の形態
等を考慮しなければならなかった。 Si+HCl→HSiCl3 +H2
【0004】メチルヒドロジクロロシランは、変性シリ
コンオイルを製造するのに多く使われる物質で、ケイ素
とメチルクロライドを直接反応させる場合、約3%程度
副生物として得られる。(R.J.H. Voorhoeve, Organoha
losilanes: Precursors to Silicones, Elsevier Publi
shing Company, New York, 1967 )。 Si+CH3 Cl→(CH3)2 SiCl2 +CH3 H
SiCl2(3%)
コンオイルを製造するのに多く使われる物質で、ケイ素
とメチルクロライドを直接反応させる場合、約3%程度
副生物として得られる。(R.J.H. Voorhoeve, Organoha
losilanes: Precursors to Silicones, Elsevier Publi
shing Company, New York, 1967 )。 Si+CH3 Cl→(CH3)2 SiCl2 +CH3 H
SiCl2(3%)
【0005】ケイ素と反応させる有機塩化物がプロピル
クロライド又はブチルクロライドのように有機基が大き
い場合は、有機ヒドロジクロロシランの生成比が30%
程度と高くなると報告されている(A.D. Petrov, N.P.
Smetankina及びG.I. Nikishin, Zh. Obshch, Khim., 2
5, 2332 (1953), CA 50, 9280)。これは、これらの有
機塩化物が反応温度で分解して塩化水素を生じ、塩化水
素と有機塩化物の混合物がケイ素と反応するためである
ことが知られている。 Si+RCl→RHSiCl2 (Rはエチル、イソプロピル又はイソブチルを表す)
クロライド又はブチルクロライドのように有機基が大き
い場合は、有機ヒドロジクロロシランの生成比が30%
程度と高くなると報告されている(A.D. Petrov, N.P.
Smetankina及びG.I. Nikishin, Zh. Obshch, Khim., 2
5, 2332 (1953), CA 50, 9280)。これは、これらの有
機塩化物が反応温度で分解して塩化水素を生じ、塩化水
素と有機塩化物の混合物がケイ素と反応するためである
ことが知られている。 Si+RCl→RHSiCl2 (Rはエチル、イソプロピル又はイソブチルを表す)
【0006】S. Yamada 及びYasunagaの特公昭26−6
162号には、ケイ素に塩化メチルと塩化水素の混合物
を反応させると、メチルジクロロシランの生成率が高く
なると報告されている。最近、ハーム(R.L. Halm)と彼
の共同研究者らは、米国特許第4966986号にメチ
ルクロライドに塩化水素を重量比で1.5%混ぜてケイ
素と反応させ、9.5%のメチルヒドロジクロロシラン
を得ることができたと報告している。
162号には、ケイ素に塩化メチルと塩化水素の混合物
を反応させると、メチルジクロロシランの生成率が高く
なると報告されている。最近、ハーム(R.L. Halm)と彼
の共同研究者らは、米国特許第4966986号にメチ
ルクロライドに塩化水素を重量比で1.5%混ぜてケイ
素と反応させ、9.5%のメチルヒドロジクロロシラン
を得ることができたと報告している。
【0007】一方、G. Fritzと彼の共同研究者らは、銅
触媒を使用し、80℃でケイ素とメチルクロライドを直
接反応させると、副生物としてトリクロロシリル(ジク
ロロシリル)メタンが得られたと報告したが、これはS
i−H結合を有するビスシリルメタンが直接法により得
られたと報告された初めての報告である。しかしこの方
法は、Si−H結合を有するビスシリルメタンを製造す
る方法として使用するには、その収率が極めて低い(Z.
Ancrg. U. Allgem. Chem., 306 39 (1960))。
触媒を使用し、80℃でケイ素とメチルクロライドを直
接反応させると、副生物としてトリクロロシリル(ジク
ロロシリル)メタンが得られたと報告したが、これはS
i−H結合を有するビスシリルメタンが直接法により得
られたと報告された初めての報告である。しかしこの方
法は、Si−H結合を有するビスシリルメタンを製造す
る方法として使用するには、その収率が極めて低い(Z.
Ancrg. U. Allgem. Chem., 306 39 (1960))。
【0008】1957年にB.F Dannels とH.W. Post
は、グリニャール試薬であるトリメチルシリル(メチ
ル)マグネシウム・ブロマイドをトリクロロシランと反
応させ、トリメチルシリル(ジクロロシリル)メタンを
64%の良い収率で得たと報告している。しかしこの方
法も高価なグリニャール試薬を使用しなければならず、
火災の危険の高いエーテルを溶媒に使用しなければなら
ないため、工業的に利用することが難しい(J. Org. Ch
em., 22, 748 (1957))。
は、グリニャール試薬であるトリメチルシリル(メチ
ル)マグネシウム・ブロマイドをトリクロロシランと反
応させ、トリメチルシリル(ジクロロシリル)メタンを
64%の良い収率で得たと報告している。しかしこの方
法も高価なグリニャール試薬を使用しなければならず、
火災の危険の高いエーテルを溶媒に使用しなければなら
ないため、工業的に利用することが難しい(J. Org. Ch
em., 22, 748 (1957))。
【0009】1974年にソンマと彼の共同研究者ら
は、1,1−ジメチルシラシクロブタンとトリクロロシ
ランの混合物を、気体状態で611℃の温度で熱分解
し、ジメチルクロロシリル(ジクロロシリル)メタンを
22%の収率で得たと報告している。しかし原料である
1,1−ジメチルシラシクロブタンは容易に得られる化
合物ではなく、グリニャール方法により合成しなければ
ならない。
は、1,1−ジメチルシラシクロブタンとトリクロロシ
ランの混合物を、気体状態で611℃の温度で熱分解
し、ジメチルクロロシリル(ジクロロシリル)メタンを
22%の収率で得たと報告している。しかし原料である
1,1−ジメチルシラシクロブタンは容易に得られる化
合物ではなく、グリニャール方法により合成しなければ
ならない。
【0010】先に本発明者らは、一般式(I)のクロロ
メチル基を有するシランをケイ素と直接反応させる場合
に、流動層反応槽を使用するか、螺旋型撹拌器を使用し
た撹拌型反応槽で、反応温度を350℃以下に調節し、
銅触媒を1%から20%、望ましくは5%から10%を
維持しながら反応させ、一般式(V)のトリシラアルカ
ンを主生成物として得、一般式(IV)のジシラアルカン
を副生物として若干得た。流動比を助けるためにケイ素
の使用量に対し、5−50%の球形の微細粉末酸性白土
を使用すれば、流動化がより良くでき、ケイ素の反応性
と選択性もより良い結果を得た。(韓国特許出願第91
−1055号)
メチル基を有するシランをケイ素と直接反応させる場合
に、流動層反応槽を使用するか、螺旋型撹拌器を使用し
た撹拌型反応槽で、反応温度を350℃以下に調節し、
銅触媒を1%から20%、望ましくは5%から10%を
維持しながら反応させ、一般式(V)のトリシラアルカ
ンを主生成物として得、一般式(IV)のジシラアルカン
を副生物として若干得た。流動比を助けるためにケイ素
の使用量に対し、5−50%の球形の微細粉末酸性白土
を使用すれば、流動化がより良くでき、ケイ素の反応性
と選択性もより良い結果を得た。(韓国特許出願第91
−1055号)
【0011】
【化2】 (式中、R1 、R2 及びR3 は独立してメチル基又はク
ロロ原子を表す)
ロロ原子を表す)
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明では、ケイ素にク
ロロメチル基を有する一般式(I)のクロロメチルシラ
ンを反応させ、一般式(II)の塩化水素又は有機塩化物
を塩化水素の供給源として共に使用すれば、一般式(II
I)と(IV)のビスシリルメタンが得られることを知っ
た。
ロロメチル基を有する一般式(I)のクロロメチルシラ
ンを反応させ、一般式(II)の塩化水素又は有機塩化物
を塩化水素の供給源として共に使用すれば、一般式(II
I)と(IV)のビスシリルメタンが得られることを知っ
た。
【0013】本発明の製造方法をより詳細に説明すれ
ば、一般式(I)のクロロメチルシランと、一般式(I
I)の塩化水素又は有機塩化物の混合物を、銅又は銅を
遊離する銅化合物触媒の存在下で、250℃−350℃
の反応温度でケイ素と直接反応させ、一般式(III)のS
i−H結合を有するビスシリルメタンと、一般式(IV)
のトリクロロシリル基を有するビスシリルメタンを同時
に製造する、新しく進歩した製造方法に関するものであ
る。
ば、一般式(I)のクロロメチルシランと、一般式(I
I)の塩化水素又は有機塩化物の混合物を、銅又は銅を
遊離する銅化合物触媒の存在下で、250℃−350℃
の反応温度でケイ素と直接反応させ、一般式(III)のS
i−H結合を有するビスシリルメタンと、一般式(IV)
のトリクロロシリル基を有するビスシリルメタンを同時
に製造する、新しく進歩した製造方法に関するものであ
る。
【0014】
【化3】 (式中、Rは水素原子、C1 −C4 のアルキル基又は2
−クロロエチル基を表し、R1 、R2 及びR3 は独立し
てメチル基又はクロロ原子を表す)
−クロロエチル基を表し、R1 、R2 及びR3 は独立し
てメチル基又はクロロ原子を表す)
【0015】一般式(II)の化合物の例を挙げれば、塩
化水素、1,2−ジクロロエタン、プロピルクロライ
ド、n−ブチルクロライド、t−ブチルクロライド等を
挙げることができる。特に塩化水素を共に使用するか、
ブチルクロライドのように反応温度で容易に分解して塩
化水素を生成することのできる有機塩化物を共に使用す
れば、一般式(III)と(IV)の2種のビスシリルメタン
を共に得ることができる。
化水素、1,2−ジクロロエタン、プロピルクロライ
ド、n−ブチルクロライド、t−ブチルクロライド等を
挙げることができる。特に塩化水素を共に使用するか、
ブチルクロライドのように反応温度で容易に分解して塩
化水素を生成することのできる有機塩化物を共に使用す
れば、一般式(III)と(IV)の2種のビスシリルメタン
を共に得ることができる。
【0016】一般式(I)のクロロメチルシランと、一
般式(II)の塩化水素又は有機塩化物は、ケイ素と反応
させる前に気体状態で混合するか、一般式(I)と一般
式(II)の化合物が液体である場合には、そのまま混ぜ
て使用することもできる。2つの化合物の混合は重量で
又は容量で何れの比率でも混ぜることができる。しかし
一般式(II)の比率が高くなれば生成物において一般式
(III)のSi−H結合を有するビスシリルメタンの生成
比率が高くなる。一般式(I)の1モル当り一般式(I
I)化合物を0.1−4.0モル使用することができる
が、一般式(III)の比率を高めようとすれば、2.5−
3.0モルが適当である。
般式(II)の塩化水素又は有機塩化物は、ケイ素と反応
させる前に気体状態で混合するか、一般式(I)と一般
式(II)の化合物が液体である場合には、そのまま混ぜ
て使用することもできる。2つの化合物の混合は重量で
又は容量で何れの比率でも混ぜることができる。しかし
一般式(II)の比率が高くなれば生成物において一般式
(III)のSi−H結合を有するビスシリルメタンの生成
比率が高くなる。一般式(I)の1モル当り一般式(I
I)化合物を0.1−4.0モル使用することができる
が、一般式(III)の比率を高めようとすれば、2.5−
3.0モルが適当である。
【0017】本発明で使用する反応槽は、撹拌型か流動
層反応槽が良く、回分式又は連続的に反応させることが
可能である。ケイ素は工業用ケイ素を使用することがで
き、その純度が95%以上であれば使用が可能である
が、98%以上であることが好ましい。反応に適したケ
イ素粉末の大きさは1から200ミクロン迄の粉末が適
当であるが、反応槽の大きさと様式に従って適当である
ケイ素粉末の大きさと分布の選択は異なることもある。
流動層反応槽を使用する場合には、20から200ミク
ロン迄の粉末が適当である。
層反応槽が良く、回分式又は連続的に反応させることが
可能である。ケイ素は工業用ケイ素を使用することがで
き、その純度が95%以上であれば使用が可能である
が、98%以上であることが好ましい。反応に適したケ
イ素粉末の大きさは1から200ミクロン迄の粉末が適
当であるが、反応槽の大きさと様式に従って適当である
ケイ素粉末の大きさと分布の選択は異なることもある。
流動層反応槽を使用する場合には、20から200ミク
ロン迄の粉末が適当である。
【0018】反応温度は250℃から350℃迄可能で
あるが、望ましくは280℃から320℃が適当であ
る。反応圧力は常圧から5気圧迄使用することができ、
圧力を高くすれば反応速度が速くなる。固体である出発
物質の撹拌又は流動化を助けるために、ケイ素の使用量
に対し重量比で5−50%の球形の微細粉末酸性白土を
使用すれば、ケイ素の反応性と選択性がより良くなる。
特に流動層反応槽を使用する場合、窒素ガスを反応物質
と共に吹き込めば流動化がより良くなる。
あるが、望ましくは280℃から320℃が適当であ
る。反応圧力は常圧から5気圧迄使用することができ、
圧力を高くすれば反応速度が速くなる。固体である出発
物質の撹拌又は流動化を助けるために、ケイ素の使用量
に対し重量比で5−50%の球形の微細粉末酸性白土を
使用すれば、ケイ素の反応性と選択性がより良くなる。
特に流動層反応槽を使用する場合、窒素ガスを反応物質
と共に吹き込めば流動化がより良くなる。
【0019】触媒は、金属銅又は反応条件で銅を遊離す
ることのできる銅化合物を使用することも可能である。
銅の使用量は1%から20%迄使用することができる
が、望ましくは5%−10%が適当である。銅触媒以外
に、銅重量に対し0.001%から2%までの助触媒を
使用すれば反応が速くなるか、特定生成物に対する選択
性を高くすることができる。この反応に適した助触媒の
例として、カルシウム、バリウム、亜鉛、錫、カドミウ
ム、マンガン、マグネシウム、銀、クロム等の金属と、
反応条件でこれらの金属を遊離することのできる金属化
合物を挙げることができるが、これらに限定されるもの
ではない。
ることのできる銅化合物を使用することも可能である。
銅の使用量は1%から20%迄使用することができる
が、望ましくは5%−10%が適当である。銅触媒以外
に、銅重量に対し0.001%から2%までの助触媒を
使用すれば反応が速くなるか、特定生成物に対する選択
性を高くすることができる。この反応に適した助触媒の
例として、カルシウム、バリウム、亜鉛、錫、カドミウ
ム、マンガン、マグネシウム、銀、クロム等の金属と、
反応条件でこれらの金属を遊離することのできる金属化
合物を挙げることができるが、これらに限定されるもの
ではない。
【0020】
【実施例】実施例を挙げ本発明をより詳細に説明する。
ただし本発明がこれに限定されるものではない。
ただし本発明がこれに限定されるものではない。
【0021】 実施例1.Si/Cu接触混合物の製造(1) ケイ素360g(100−325メッシュ)と塩化第一銅
62.3g を反応槽に入れ、反応槽の温度を250℃に
した後、乾燥した窒素ガスを吹込みながら約2時間乾燥
させた。乾燥後、反応槽の温度を370℃迄上げれば、
反応生成物質としてテトラクロロシランが発生し、その
結果活性の大きいSi/Cu接触混合物が生成する。こ
の温度で約3時間維持し、接触混合物を生成させた後、
反応生成物であるテトラクロロシランを取り出した。主
触媒である銅以外に、助触媒にカドミウム、銀、亜鉛等
を使用する場合は、接触混合物の生成が完了した後に、
反応槽の上部を開け、必要量の助触媒を投入して、撹拌
して良く混ぜた後に、反応させた。
62.3g を反応槽に入れ、反応槽の温度を250℃に
した後、乾燥した窒素ガスを吹込みながら約2時間乾燥
させた。乾燥後、反応槽の温度を370℃迄上げれば、
反応生成物質としてテトラクロロシランが発生し、その
結果活性の大きいSi/Cu接触混合物が生成する。こ
の温度で約3時間維持し、接触混合物を生成させた後、
反応生成物であるテトラクロロシランを取り出した。主
触媒である銅以外に、助触媒にカドミウム、銀、亜鉛等
を使用する場合は、接触混合物の生成が完了した後に、
反応槽の上部を開け、必要量の助触媒を投入して、撹拌
して良く混ぜた後に、反応させた。
【0022】 実施例2.Si/Cu接触混合物の製造(2) ケイ素360g(100−325メッシュ)と銅触媒40
g を反応槽に入れ、実施例1と同様な条件で乾燥させ
た。乾燥後、反応槽の温度を350℃に上げ、塩化メチ
ルを反応槽の下部の予熱管を通じて吹き込むと、初期に
は若干の水が生成するが、約40−70分後にはそれら
の反応生成物としてジメチルクロロシランとメチルトリ
クロロシランが生成し始め、受けフラスコに集められる
ようになる。これらが生成し始まるのは、即ちSi/C
u接触混合物が生成されていることの証拠であり、約2
時間塩化メチルと反応させた後、塩化メチルの供給を中
断し、受けフラスコの反応生成物を取り出した。反応に
助触媒が必要な場合には、実施例1と同様な方法で投入
し、反応させた。
g を反応槽に入れ、実施例1と同様な条件で乾燥させ
た。乾燥後、反応槽の温度を350℃に上げ、塩化メチ
ルを反応槽の下部の予熱管を通じて吹き込むと、初期に
は若干の水が生成するが、約40−70分後にはそれら
の反応生成物としてジメチルクロロシランとメチルトリ
クロロシランが生成し始め、受けフラスコに集められる
ようになる。これらが生成し始まるのは、即ちSi/C
u接触混合物が生成されていることの証拠であり、約2
時間塩化メチルと反応させた後、塩化メチルの供給を中
断し、受けフラスコの反応生成物を取り出した。反応に
助触媒が必要な場合には、実施例1と同様な方法で投入
し、反応させた。
【0023】触媒の配合比が異なるSi/Cu接触混合
物を準備して使用した。その組成は表1の通りである。
物を準備して使用した。その組成は表1の通りである。
【0024】
【表1】
【0025】実施例3 クロロメチルジメチルクロロシランと塩化水素の1:3
混合気体とケイ素との反応 実施例2で準備したI−3のSi/Cu接触混合物40
2g を、撹拌型反応槽に入れ、反応槽の温度を320℃
に上げた後、反応槽の下部の注射器ポンプにクロロメチ
ルジメチルクロロシランを入れ、窒素ガスを240ml/
分の速度で吹き込みながら、同時に塩化水素を300ml
/分の速度で反応槽に流入させ、クロロメチルジメチル
クロロシランは0.6ml/分の速度で流してやった。反
応1分後から発熱反応による温度上昇が観察され、反応
生成物が反応槽の上部に設置した受けフラスコに集めら
れ始めた。このような条件を継続維持しながら、30分
毎に反応生成物を取り出し、2時間の間に使用したクロ
ロメチルジメチルクロロシランは234.8g であり、
取り出した反応生成物は333.9g であった。ここで
生成した反応生成物は、気体クロマトグラフ(packed c
olumn, SE-30, 0.5m×1/8" O.D., SS, TCD)を利用して
分析し、各成分を分別蒸留し、核磁気共鳴分光分析器で
その構造を確認した。
混合気体とケイ素との反応 実施例2で準備したI−3のSi/Cu接触混合物40
2g を、撹拌型反応槽に入れ、反応槽の温度を320℃
に上げた後、反応槽の下部の注射器ポンプにクロロメチ
ルジメチルクロロシランを入れ、窒素ガスを240ml/
分の速度で吹き込みながら、同時に塩化水素を300ml
/分の速度で反応槽に流入させ、クロロメチルジメチル
クロロシランは0.6ml/分の速度で流してやった。反
応1分後から発熱反応による温度上昇が観察され、反応
生成物が反応槽の上部に設置した受けフラスコに集めら
れ始めた。このような条件を継続維持しながら、30分
毎に反応生成物を取り出し、2時間の間に使用したクロ
ロメチルジメチルクロロシランは234.8g であり、
取り出した反応生成物は333.9g であった。ここで
生成した反応生成物は、気体クロマトグラフ(packed c
olumn, SE-30, 0.5m×1/8" O.D., SS, TCD)を利用して
分析し、各成分を分別蒸留し、核磁気共鳴分光分析器で
その構造を確認した。
【0026】ここで生成した反応生成物の組成は1,
1,3−トリクロロ−3−メチル−1,3−ジシラブタ
ン195.3g(58.5%);b. p. 155−157
℃:NMR(δ, CDCl3), 5.66(t, 1H, Si-H), 1.00(d, 2H,
-CM2-), 0.60(s, 6H, -CH3)と、1,1,1,3−テト
ラクロロ−3−メチル−1,3−ジシラブタン48.1
g(14.4%):b. p. 169.5−170℃;NMR
(δ, CDCl3) 1.30(s, 2H, -CH2-), 0.66(s, 6H, -CH3)
が得られた。その他の副産物27.1%中には、トリク
ロロシラン8.7%、トリメチルクロロシラン3.0
%、そして反応しないで回収した出発物質ケイ素も8.
8%含んでいた。上の実験のような反応物質、反応槽、
触媒及び助触媒の存在下で、反応温度だけを変化させた
反応生成物の組成を表2に示した。
1,3−トリクロロ−3−メチル−1,3−ジシラブタ
ン195.3g(58.5%);b. p. 155−157
℃:NMR(δ, CDCl3), 5.66(t, 1H, Si-H), 1.00(d, 2H,
-CM2-), 0.60(s, 6H, -CH3)と、1,1,1,3−テト
ラクロロ−3−メチル−1,3−ジシラブタン48.1
g(14.4%):b. p. 169.5−170℃;NMR
(δ, CDCl3) 1.30(s, 2H, -CH2-), 0.66(s, 6H, -CH3)
が得られた。その他の副産物27.1%中には、トリク
ロロシラン8.7%、トリメチルクロロシラン3.0
%、そして反応しないで回収した出発物質ケイ素も8.
8%含んでいた。上の実験のような反応物質、反応槽、
触媒及び助触媒の存在下で、反応温度だけを変化させた
反応生成物の組成を表2に示した。
【0027】
【表2】
【0028】実施例4 クロロメチルジメチルクロロシランと塩化水素の混合気
体とケイ素との反応 実施例3のような接触混合物を使用し、同じ形態の反応
槽、同じ反応条件、320℃の反応温度で反応させた
が、塩化水素とクロロメチルジメチルクロロシランのモ
ル比を変えて反応させた。表3はこれらのモル比を変え
て得た反応条件及び反応生成物の組成を示したものであ
る。表3で、実験番号8は酸性白土を接触混合物に対し
5%(20.0g)を使用して反応させた結果である。
体とケイ素との反応 実施例3のような接触混合物を使用し、同じ形態の反応
槽、同じ反応条件、320℃の反応温度で反応させた
が、塩化水素とクロロメチルジメチルクロロシランのモ
ル比を変えて反応させた。表3はこれらのモル比を変え
て得た反応条件及び反応生成物の組成を示したものであ
る。表3で、実験番号8は酸性白土を接触混合物に対し
5%(20.0g)を使用して反応させた結果である。
【0029】
【表3】
【0030】実施例5 クロロメチルジメチルクロロシランと塩化水素混合気体
とケイ素との反応 実施例1に示した表2の接触混合物を準備し、接触混合
物の種類だけを変え、他の条件はすべて同じ反応条件
で、実施例3の実験番号3のように反応させて得た反応
生成物の組成を、表4に示した。
とケイ素との反応 実施例1に示した表2の接触混合物を準備し、接触混合
物の種類だけを変え、他の条件はすべて同じ反応条件
で、実施例3の実験番号3のように反応させて得た反応
生成物の組成を、表4に示した。
【0031】
【表4】
【0032】実施例6 クロロメチルジメチルクロロシランと塩化アルキルの混
合気体とケイ素との反応 この実施例は、表5の実験番号25が典型的な例であ
る。実施例2の接触混合物1−3を準備し、反応出発物
質として使用するクロロメチルジメチルクロロシラン1
56.5g(1.094モル)と塩化水素供給源として使
用するt−ブチルクロライド303.7g(3.281モ
ル)を混ぜ、1:3モル比の混合物を製造した。これら
の混合物を、反応温度320℃の窒素気体下(240ml
/分)で、115ml/時間の速度で反応槽内に流入さ
せ、4.0時間反応させた結果、反応生成物268.6
g を得た。
合気体とケイ素との反応 この実施例は、表5の実験番号25が典型的な例であ
る。実施例2の接触混合物1−3を準備し、反応出発物
質として使用するクロロメチルジメチルクロロシラン1
56.5g(1.094モル)と塩化水素供給源として使
用するt−ブチルクロライド303.7g(3.281モ
ル)を混ぜ、1:3モル比の混合物を製造した。これら
の混合物を、反応温度320℃の窒素気体下(240ml
/分)で、115ml/時間の速度で反応槽内に流入さ
せ、4.0時間反応させた結果、反応生成物268.6
g を得た。
【0033】この反応生成物の組成は、1,1,3−ト
リクロロ−3−メチル−1,3−ジシラブタンが14
4.5g(53.8%)、1,1,1,3−テトラクロロ
−3−メチル−1,3−ジシラブタンが55.3g(2
0.6%)であり、トリクロロシランが11.3%、そ
してトリメチルクロロシランが3.1%であり、反応し
ない出発物質は全く無かった。またこの反応では、反応
中にコンデンサーに凝縮しないで外に抜けでる気体の成
分は、t−ブチルクロライドが高温で分解して塩化水素
を発生して生成するイソブテンであった。t−ブチルク
ロライドの使用量を半分に減らし、その量だけの塩化水
素を使用しても同じ結果を得た。
リクロロ−3−メチル−1,3−ジシラブタンが14
4.5g(53.8%)、1,1,1,3−テトラクロロ
−3−メチル−1,3−ジシラブタンが55.3g(2
0.6%)であり、トリクロロシランが11.3%、そ
してトリメチルクロロシランが3.1%であり、反応し
ない出発物質は全く無かった。またこの反応では、反応
中にコンデンサーに凝縮しないで外に抜けでる気体の成
分は、t−ブチルクロライドが高温で分解して塩化水素
を発生して生成するイソブテンであった。t−ブチルク
ロライドの使用量を半分に減らし、その量だけの塩化水
素を使用しても同じ結果を得た。
【0034】表5は、クロロメチルジメチルクロロシラ
ンと種々の塩化アルキルの混合気体とケイ素を、反応条
件を変化させて反応させて得た反応生成物の組成を示し
たものである。
ンと種々の塩化アルキルの混合気体とケイ素を、反応条
件を変化させて反応させて得た反応生成物の組成を示し
たものである。
【0035】
【表5】
【0036】実施例7.流動層反応槽を使用したクロロ
メチルジメチルクロロシランと塩化アルキル又は塩化水
素の混合気体とケイ素との反応 前述の流動層反応槽を装置し、接触混合物I−3 40
2g を反応槽に入れ、反応槽の温度を320℃に上昇さ
せた後、反応槽の下部に装置した予熱管を通じて、クロ
ロメチルジメチルクロロシランと塩化水素供給源として
使用したn−ブチルクロライドの1:3混合物を反応槽
内に流入した。この場合ケイ素の流動化を助けるため
に、乾燥した窒素ガスを約250ml/分の速度で反応物
質と共に流した。1.5時間の反応を通じて得た反応生
成物の量は139.4g であり、反応に使用したクロロ
メチルジメチルクロロシランは136.9g であった。
これらの反応生成物の組成を確認した結果、1,1,3
−トリクロロ−3−メチル−1,3−ジシラブタン1
2.5g(9.0%)と1,1,1,3−テトラクロロ−
3−メチル−1,3−ジシラブタン33.0g(23.7
%)が得られ、反応しないでそのまま抜け出た出発物質
シランも38.5%回収された。
メチルジメチルクロロシランと塩化アルキル又は塩化水
素の混合気体とケイ素との反応 前述の流動層反応槽を装置し、接触混合物I−3 40
2g を反応槽に入れ、反応槽の温度を320℃に上昇さ
せた後、反応槽の下部に装置した予熱管を通じて、クロ
ロメチルジメチルクロロシランと塩化水素供給源として
使用したn−ブチルクロライドの1:3混合物を反応槽
内に流入した。この場合ケイ素の流動化を助けるため
に、乾燥した窒素ガスを約250ml/分の速度で反応物
質と共に流した。1.5時間の反応を通じて得た反応生
成物の量は139.4g であり、反応に使用したクロロ
メチルジメチルクロロシランは136.9g であった。
これらの反応生成物の組成を確認した結果、1,1,3
−トリクロロ−3−メチル−1,3−ジシラブタン1
2.5g(9.0%)と1,1,1,3−テトラクロロ−
3−メチル−1,3−ジシラブタン33.0g(23.7
%)が得られ、反応しないでそのまま抜け出た出発物質
シランも38.5%回収された。
【0037】表6の実験は、すべて流動層反応槽を使用
し、同じ反応温度、接触混合物を使用して反応させた
が、塩化水素供給源の種類と、それらとクロロメチルジ
メチルクロロシランとのモル比を変えて反応させた。実
験番号32は実験番号33と同じ条件であるが、反応槽
の圧力を3kg/cm に高くして反応させた結果である。
し、同じ反応温度、接触混合物を使用して反応させた
が、塩化水素供給源の種類と、それらとクロロメチルジ
メチルクロロシランとのモル比を変えて反応させた。実
験番号32は実験番号33と同じ条件であるが、反応槽
の圧力を3kg/cm に高くして反応させた結果である。
【0038】
【表6】
【0039】実施例8 種々のクロロメチルシランと塩化アルキルの混合気体と
ケイ素との反応 この実施例は、実験番号34が典型的な例で、クロロメ
チルメチルジクロロシランとn−ブチルクロライドの
1:3混合気体と、ケイ素との反応の実施例である。実
施例2の接触混合物I−3を準備し、クロロメチルメチ
ルジクロロシラン212.9g(1.302モル)とn−
ブチルクロライド361.6g(3.906モル)の1:
3混合物を、実施例6と同様な反応条件で46時間反応
させ、反応生成物466.4g を得た。
ケイ素との反応 この実施例は、実験番号34が典型的な例で、クロロメ
チルメチルジクロロシランとn−ブチルクロライドの
1:3混合気体と、ケイ素との反応の実施例である。実
施例2の接触混合物I−3を準備し、クロロメチルメチ
ルジクロロシラン212.9g(1.302モル)とn−
ブチルクロライド361.6g(3.906モル)の1:
3混合物を、実施例6と同様な反応条件で46時間反応
させ、反応生成物466.4g を得た。
【0040】反応生成物の組成を確認した結果、1,
1,3,3−テトラクロロ−1,3−ジシラブタン12
6.9g(35.1%);b. p. 166−167℃;NMR
(δ, CDCl3), 5.73(t, 1H, Si-H), 1.33(d, 2H, -CH
2-), 1.00(s, 3H, -CH3)と、1,1,1,3,3−ペン
タクロロ−1,3−ジシラブタン46.6g(12.9
%);b. p. 181.5−182℃;NMR(δ, CDCl3)
1.53(s, 2H, -CH2-), 0.92(s, 3H, -CH3)が得られた。
そしてこれら生成物以外の副産物としてトリクロロシラ
ンが13.4%、そしてトリメチルクロロシランが1
6.7%であり、残りの21.7%が諸々の未確認物質
であった。この反応では、反応途中にコンデンサーに凝
縮されないで外に抜け出る気体は、2−ブテンであるこ
とを確認した。
1,3,3−テトラクロロ−1,3−ジシラブタン12
6.9g(35.1%);b. p. 166−167℃;NMR
(δ, CDCl3), 5.73(t, 1H, Si-H), 1.33(d, 2H, -CH
2-), 1.00(s, 3H, -CH3)と、1,1,1,3,3−ペン
タクロロ−1,3−ジシラブタン46.6g(12.9
%);b. p. 181.5−182℃;NMR(δ, CDCl3)
1.53(s, 2H, -CH2-), 0.92(s, 3H, -CH3)が得られた。
そしてこれら生成物以外の副産物としてトリクロロシラ
ンが13.4%、そしてトリメチルクロロシランが1
6.7%であり、残りの21.7%が諸々の未確認物質
であった。この反応では、反応途中にコンデンサーに凝
縮されないで外に抜け出る気体は、2−ブテンであるこ
とを確認した。
【0041】表7は、クロロメチルシランの種類が異な
り、塩化水素の供給源である塩化アルキルを変えた以外
は、すべて同じ反応条件で反応させて得た結果である。
り、塩化水素の供給源である塩化アルキルを変えた以外
は、すべて同じ反応条件で反応させて得た結果である。
【0042】
【表7】
【0043】実施例9 種々のクロロメチルシランと1,2−ジクロロエタンの
混合気体と、ケイ素との反応 この実施例は、実験番号42が実施例9の典型的な例で
ある。ここではあらゆる反応条件、即ち、接触混合物の
種類、反応温度、反応槽の形態等は実施例8と同じであ
るが、塩化アルキルとして1,2−ジクロロエタンを使
用し、シランとのモル比が1:1.2である点だけが異
なるようにして反応させた。実施例2での接触混合物I
−3を準備し、クロロメチルトリクロロシラン184.
6g(1.004モル)と1,2−ジクロロエタン11
1.5g(1.205モル)のモル比1:1.2の混合物
を、実施例7と同じ反応条件で3.5時間反応させ、2
92.7g の反応生成物を得た。これら生成物の組成を
確認したところ1,1,3,3,3−ペンタクロロ−
1,3−ジシラプロパン16.4g(5.6%)であり、
1,1,1,3,3,3−ヘキサクロロ−1,3−ジシ
ラプロパンが207.2g(70.8%)得られた。それ
以外の副産物としてメチルトリクロロシランが2.0%
得られ、残りの22.6%が未確認物質であった。それ
以外の他のクロロメチルシランを使用し、反応させた結
果を表8に示す。
混合気体と、ケイ素との反応 この実施例は、実験番号42が実施例9の典型的な例で
ある。ここではあらゆる反応条件、即ち、接触混合物の
種類、反応温度、反応槽の形態等は実施例8と同じであ
るが、塩化アルキルとして1,2−ジクロロエタンを使
用し、シランとのモル比が1:1.2である点だけが異
なるようにして反応させた。実施例2での接触混合物I
−3を準備し、クロロメチルトリクロロシラン184.
6g(1.004モル)と1,2−ジクロロエタン11
1.5g(1.205モル)のモル比1:1.2の混合物
を、実施例7と同じ反応条件で3.5時間反応させ、2
92.7g の反応生成物を得た。これら生成物の組成を
確認したところ1,1,3,3,3−ペンタクロロ−
1,3−ジシラプロパン16.4g(5.6%)であり、
1,1,1,3,3,3−ヘキサクロロ−1,3−ジシ
ラプロパンが207.2g(70.8%)得られた。それ
以外の副産物としてメチルトリクロロシランが2.0%
得られ、残りの22.6%が未確認物質であった。それ
以外の他のクロロメチルシランを使用し、反応させた結
果を表8に示す。
【0044】
【表8】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI B01J 23/889 C07B 61/00 300 23/89 B01J 23/82 X C07B 61/00 300 23/84 311X (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07F 7/12 - 7/16
Claims (8)
- 【請求項1】 一般式(I)のクロロメチルシランと一
般式(II)の塩化水素又は有機塩化物との混合物を、銅
又は銅を遊離する銅化合物触媒の存在下で、250−3
50℃の反応温度でケイ素と直接反応させることを特徴
とする一般式(III)及び(IV)のビスシリルメタンの製
造方法。 【化1】 (式中、Rは水素、C1 −C4 のアルキル基又は2−ク
ロロエチル基を表し、R1 、R2 及びR3 は独立してメ
チル基又はクロロ原子を表す) - 【請求項2】 一般式(II)の塩化物が、塩化水素であ
る請求項1の製造方法。 - 【請求項3】 一般式(II)の有機塩化物が、プロピル
クロライドである請求項1の製造方法。 - 【請求項4】 一般式(II)の有機塩化物が、n−ブチ
ルクロライドである請求項1の製造方法。 - 【請求項5】 一般式(II)の有機塩化物が、t−ブチ
ルクロライドである請求項1の製造方法。 - 【請求項6】 一般式(II)の有機塩化物が、1,2−
ジクロロエタンである請求項1の製造方法。 - 【請求項7】 球形の微細粉末酸性白土を、ケイ素の重
量に対し1−50%追加して混合し、流動性を上昇させ
て反応させる請求項1の製造方法。 - 【請求項8】 銅触媒の助触媒として、カルシウム、バ
リウム、亜鉛、錫、カドミウム、マンガン、マグネシウ
ム、銀、クロム及びこれらの金属化合物中から選択し、
反応固体全体の0.01−5%を添加して反応させる請
求項1の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019910024243A KR940010290B1 (ko) | 1991-12-24 | 1991-12-24 | 비스실릴메탄 및 그들의 제조방법 |
KR24243/1991 | 1991-12-24 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05255354A JPH05255354A (ja) | 1993-10-05 |
JP2837598B2 true JP2837598B2 (ja) | 1998-12-16 |
Family
ID=19325902
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4351370A Expired - Fee Related JP2837598B2 (ja) | 1991-12-24 | 1992-12-08 | ビスシリルメタンの製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5233069A (ja) |
JP (1) | JP2837598B2 (ja) |
KR (1) | KR940010290B1 (ja) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR950002860B1 (ko) * | 1992-06-13 | 1995-03-27 | 한국과학기술연구원 | 클로로알켄닐실란들과그제조방법 |
KR950011359B1 (ko) * | 1993-02-18 | 1995-10-02 | 한국과학기술연구원 | I-아릴-i-[알파-(트리아졸릴)알킬]-i-실라시클로알칸 및 이들의 제조방법 |
KR970010593B1 (ko) * | 1993-12-01 | 1997-06-28 | 한국과학기술연구원 | 2-아릴프로필알킬폴리실록산 형태의 실리콘 오일 및 그의 제조방법 |
KR970010592B1 (ko) * | 1993-12-01 | 1997-06-28 | 한국과학기술연구원 | 2-아릴프로필히드로겐폴리실록산 형태의 실리콘 오일 및 그의 제조방법 |
KR0141464B1 (ko) * | 1993-12-01 | 1998-07-01 | 김은영 | 알릴알킬실란 화합물 및 그의 제조방법 |
KR0134564B1 (ko) * | 1993-12-07 | 1998-04-20 | 김은영 | 알릴알킬실록산과 디오르가노실록산 공중합 형태의 실리콘 오일 및 그 제조 방법 |
US5399740A (en) * | 1993-12-10 | 1995-03-21 | Korea Institute Of Science And Technology | Tris(silyl)methanes and their preparation methods |
US5332849A (en) * | 1994-01-03 | 1994-07-26 | Korea Institute Of Science And Technology | Tris(silyl) alkanes and their preparation methods |
US5391794A (en) * | 1994-01-27 | 1995-02-21 | Korea Institute Of Science And Technology | Three-legged silane coupling agents and their preparation methods |
KR0142142B1 (ko) * | 1994-06-24 | 1998-07-01 | 김은영 | 비스(디클로로오르게노실릴)알칸 및 그것의 제조방법 |
US5527938A (en) * | 1994-07-19 | 1996-06-18 | Korea Institute Of Science And Technology | (2-arylpropyl)silanes and preparation methods thereof |
KR0139089B1 (ko) * | 1994-12-08 | 1998-05-01 | 김은영 | 올레핀의 중합반응용 촉매계 |
KR100398947B1 (ko) * | 2000-11-28 | 2003-09-22 | 금호석유화학 주식회사 | 폴리알킬렌글리콜로 치환된 다가반응성(multi-reactive)규소화합물 및 그제조방법 |
US20070287848A1 (en) * | 2004-03-12 | 2007-12-13 | Masatoshi Nakagawa | Silicon Compound Containi-Electron Conjugated-System Molecule and Process for Producing the Same |
US20080207864A1 (en) * | 2004-03-18 | 2008-08-28 | Masatoshi Nakagawa | Organosilanes, Process For Production of the Same, and Use Thereof |
EP1787319A4 (en) * | 2004-08-31 | 2011-06-29 | Silecs Oy | NEW DIELECTRIC POLYORGANOSILOXANE MATERIALS |
DE102009027241A1 (de) * | 2009-06-26 | 2010-12-30 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Oligohalogensilanen |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR940007416B1 (en) * | 1991-01-22 | 1994-08-18 | Korea Inst Sci & Tech | Process for the preparation of silaalkane |
-
1991
- 1991-12-24 KR KR1019910024243A patent/KR940010290B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1992
- 1992-10-23 US US07/965,705 patent/US5233069A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-12-08 JP JP4351370A patent/JP2837598B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR940010290B1 (ko) | 1994-10-22 |
JPH05255354A (ja) | 1993-10-05 |
KR930012794A (ko) | 1993-07-21 |
US5233069A (en) | 1993-08-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2837598B2 (ja) | ビスシリルメタンの製造方法 | |
JP2912106B2 (ja) | ビスシリルアルカンの製造方法 | |
KR950002860B1 (ko) | 클로로알켄닐실란들과그제조방법 | |
JPH08337588A (ja) | アルキルヒドロゲンクロルシランの製造方法 | |
US6528674B1 (en) | Method for preparing a contact mass | |
JPH0819140B2 (ja) | シラアルカン類の製造方法 | |
US5629439A (en) | Method for preparation of allylsilanes | |
JPH10316688A (ja) | アルケニルシランの製造方法 | |
JPH04305582A (ja) | メチルジクロロシランの収率増加方法 | |
KR20050000428A (ko) | 접촉괴의 제조방법 | |
KR20140093946A (ko) | 다이오가노다이할로실란의 제조 방법 | |
JP2511244B2 (ja) | トリス(シリル)アルカンとその製造方法 | |
EP1701965B1 (en) | Grignard processes with increased content of diphenylchlorosilanes | |
JP2951524B2 (ja) | トリスシリルメタンの製造方法 | |
EP0436234B1 (en) | Method for preparing organohalosilanes | |
KR950004175B1 (ko) | 트리스실릴알칸들과 그 제조방법 | |
US5399740A (en) | Tris(silyl)methanes and their preparation methods | |
KR950002861B1 (ko) | 트리스실릴메탄들과 그 제조방법 | |
US2660597A (en) | Alkyl silicon compounds | |
JPH101483A (ja) | アリルシラン化合物の製造方法 | |
KR940011185B1 (ko) | 규소를 포함한 헤테로고리 화합물들의 제조방법 | |
KR100454713B1 (ko) | 알킬디클로로실란의 제조 방법 | |
EP0659754B1 (en) | Method for introducing hydrocarbons into chlorosilanes | |
JPS6059917B2 (ja) | シス−1,2−ジシリルアルケン化合物 | |
JP2818603B2 (ja) | ケイ素化合物のアルキル化方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |