JP2912106B2 - ビスシリルアルカンの製造方法 - Google Patents
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、2個のジクロロシリル
基をもつ後記一般式(III)のビス(シリル)アルカン、
2個のトリクロロシリル基をもつ後記一般式(V)のビ
ス(シリル)アルカン及び1つのジクロロシリル基と1
つのトリクロロシリル基を持つ後記一般式(IV)のビス
(シリル)アルカンを同時に製造する新しく進歩した製
造方法に関する。これらクロロシリル基を持つビス(シ
リル)アルカンは、不飽和結合を有する有機化合物に付
加反応するため、種々の有機官能基を有する有機ケイ素
化合物を製造するのに重要な出発物質である。
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造方法に関する。これらクロロシリル基を持つビス(シ
リル)アルカンは、不飽和結合を有する有機化合物に付
加反応するため、種々の有機官能基を有する有機ケイ素
化合物を製造するのに重要な出発物質である。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】金属ケ
イ素と、有機ハロゲン化合物を銅触媒の存在下で直接反
応させ、メチルクロロシラン類を製造する方法が米国特
許2,380,995号に紹介されて以来、今日シリコ
ーン工業ではこの技術を基礎としている。 Cu Si+2CH3 Cl────→(CH3 )2SiCl2 上記反応では、ジメチルジクロロシランだけでなく、メ
チルトリクロロシラン、トリメチルクロロシラン、テト
ラクロロシラン等の生成物が得られる。これらの外にも
少量の沸点の高い物質も生成し、生成物の組成は反応条
件によって異なる複雑な反応である。そのため、主生成
物であるジメチルジクロロシランを効果的に得るために
は、反応条件を例を挙げれば、出発物質の純度、触媒の
種類と使用量、助触媒、反応温度、反応圧力、使用する
反応槽の形態等を考慮しなければならない。
イ素と、有機ハロゲン化合物を銅触媒の存在下で直接反
応させ、メチルクロロシラン類を製造する方法が米国特
許2,380,995号に紹介されて以来、今日シリコ
ーン工業ではこの技術を基礎としている。 Cu Si+2CH3 Cl────→(CH3 )2SiCl2 上記反応では、ジメチルジクロロシランだけでなく、メ
チルトリクロロシラン、トリメチルクロロシラン、テト
ラクロロシラン等の生成物が得られる。これらの外にも
少量の沸点の高い物質も生成し、生成物の組成は反応条
件によって異なる複雑な反応である。そのため、主生成
物であるジメチルジクロロシランを効果的に得るために
は、反応条件を例を挙げれば、出発物質の純度、触媒の
種類と使用量、助触媒、反応温度、反応圧力、使用する
反応槽の形態等を考慮しなければならない。
【0003】金属ケイ素と有機塩化物の直接反応におい
て、触媒を使用しなければ反応が良く進行しないことが
知られていて、銅が最も良い触媒として知られている。
或る場合には、亜鉛、アルミニウム、カドミウム等の金
属を助触媒として使用する。助触媒は、反応開始時間を
短縮させ、生成物中からジメチルジクロロシラン生成の
選択性を高める[E. G. Rochow, J. Am. Chem. Soc., 6
7, 963(1945)]。銅触媒の使用量を増せば反応は速くな
るが、生成物の塩素含量が高くなる傾向がある。そのた
めケイ素とメチルクロライドとの反応では、ケイ素の重
量に対し10%程度の銅を触媒として使用する。触媒と
して使用する銅は、金属ケイ素とη−状のCu3 Siの
ケイ素結合を形成し、このCu3 Siが有機塩化物と反
応するものと報告されている[V. S. Fikhtengolts及び
A. L. Klebanskii, J. Gen. Chem. U.S.S.R., 27, 2535
(1957)]。このη−状のCu3 Siを形成させる方法と
して、不活性気体中で銅とケイ素を800℃−1,10
0℃に加熱する物理的な方法[P. Trambouze及びB. Ime
lik, J. Chim. Phys., 51,505(1954) ]と、塩化第一銅
をケイ素と反応させる化学的な方法[R. J. H. Voorhoe
ve及びJ. C. Vlugter, J. Catalysis, 4, 129(1965) ]
が紹介されている。
て、触媒を使用しなければ反応が良く進行しないことが
知られていて、銅が最も良い触媒として知られている。
或る場合には、亜鉛、アルミニウム、カドミウム等の金
属を助触媒として使用する。助触媒は、反応開始時間を
短縮させ、生成物中からジメチルジクロロシラン生成の
選択性を高める[E. G. Rochow, J. Am. Chem. Soc., 6
7, 963(1945)]。銅触媒の使用量を増せば反応は速くな
るが、生成物の塩素含量が高くなる傾向がある。そのた
めケイ素とメチルクロライドとの反応では、ケイ素の重
量に対し10%程度の銅を触媒として使用する。触媒と
して使用する銅は、金属ケイ素とη−状のCu3 Siの
ケイ素結合を形成し、このCu3 Siが有機塩化物と反
応するものと報告されている[V. S. Fikhtengolts及び
A. L. Klebanskii, J. Gen. Chem. U.S.S.R., 27, 2535
(1957)]。このη−状のCu3 Siを形成させる方法と
して、不活性気体中で銅とケイ素を800℃−1,10
0℃に加熱する物理的な方法[P. Trambouze及びB. Ime
lik, J. Chim. Phys., 51,505(1954) ]と、塩化第一銅
をケイ素と反応させる化学的な方法[R. J. H. Voorhoe
ve及びJ. C. Vlugter, J. Catalysis, 4, 129(1965) ]
が紹介されている。
【0004】 nSi+CuCl───→SiCl4 +Cu3 Si+Cu+(n−2)Si ケイ素とメチルクロライドとの反応は300℃以上の高
温で起り、発熱反応であるため反応熱を効果的に除去で
きなければ、反応物質が固まり部分的な過熱状態が形成
される[A. L. Klebaskii 及びV. S. Fikhtengolts, J.
Gen. Chem. U.S.S.R., 27,2693(1957) ]。反応温度が
適正温度より高いと、所望のジメチルジクロロシランの
生成量が減少して副反応が多く起り、出発物質であるメ
チルクロライド及び生成物が分解し、ケイ素の表面に炭
素が蒸着する。これによりケイ素の活性は急激に低下す
る[J. C. Vlugter 及び R. J. H. Voorhoeve, Conf.Ac
cad.Lincei, Alta Tech. Chim. 1961 p81(1962) ]。そ
のため、直接法でメチルクロロシランを合成するには、
反応温度を調節することが非常に重要である。
温で起り、発熱反応であるため反応熱を効果的に除去で
きなければ、反応物質が固まり部分的な過熱状態が形成
される[A. L. Klebaskii 及びV. S. Fikhtengolts, J.
Gen. Chem. U.S.S.R., 27,2693(1957) ]。反応温度が
適正温度より高いと、所望のジメチルジクロロシランの
生成量が減少して副反応が多く起り、出発物質であるメ
チルクロライド及び生成物が分解し、ケイ素の表面に炭
素が蒸着する。これによりケイ素の活性は急激に低下す
る[J. C. Vlugter 及び R. J. H. Voorhoeve, Conf.Ac
cad.Lincei, Alta Tech. Chim. 1961 p81(1962) ]。そ
のため、直接法でメチルクロロシランを合成するには、
反応温度を調節することが非常に重要である。
【0005】直接法で使用する反応槽の形態は、固定
型、撹拌型、流動型反応槽がある。撹拌型反応槽は固定
型反応槽より温度調節が容易で、固体粒子が互いにぶつ
かりながら表面を新しくする効果があるため反応性が良
い。触媒として使用する銅は、反応物質であるケイ素の
密度より約3倍高く、2つの金属を効果的に混合するの
は非常に難しい。このような難点を解決するために螺旋
型撹拌器を使用し、底にある固体を上に汲み上げなが
ら、有機塩化物を気体状態で下から吹き上げながら反応
させる方法が紹介されている[J. E. Sellers 及びJ.
L. Davis, 米国特許2,449,821号]。しか
し、この方法は腐蝕性の強い有機塩化物を高温で反応さ
せなければならないから、これに適合した耐腐蝕性撹拌
器を求めるのが難しく、大量生産と連続方法にも適当で
ない。このような欠点を補完した方法として、メチルク
ロライドを反応槽の底に吹き込み、ケイ素と銅触媒を流
動化させながら反応させる流動層反応槽が開発された
[B. A. Bluestrin, 米国特許2,887,502
号]。この方法は反応熱を効果的に除去することがで
き、メチルクロロシラン類の製造に広く使用されてい
る。
型、撹拌型、流動型反応槽がある。撹拌型反応槽は固定
型反応槽より温度調節が容易で、固体粒子が互いにぶつ
かりながら表面を新しくする効果があるため反応性が良
い。触媒として使用する銅は、反応物質であるケイ素の
密度より約3倍高く、2つの金属を効果的に混合するの
は非常に難しい。このような難点を解決するために螺旋
型撹拌器を使用し、底にある固体を上に汲み上げなが
ら、有機塩化物を気体状態で下から吹き上げながら反応
させる方法が紹介されている[J. E. Sellers 及びJ.
L. Davis, 米国特許2,449,821号]。しか
し、この方法は腐蝕性の強い有機塩化物を高温で反応さ
せなければならないから、これに適合した耐腐蝕性撹拌
器を求めるのが難しく、大量生産と連続方法にも適当で
ない。このような欠点を補完した方法として、メチルク
ロライドを反応槽の底に吹き込み、ケイ素と銅触媒を流
動化させながら反応させる流動層反応槽が開発された
[B. A. Bluestrin, 米国特許2,887,502
号]。この方法は反応熱を効果的に除去することがで
き、メチルクロロシラン類の製造に広く使用されてい
る。
【0006】有機物にハロゲン元素が2個以上結合して
いるものも、金属ケイ素と直接反応させて有機ケイ素化
合物を製造することができる。米国特許2,381,0
00号、2,381,001号及び2,381,002
号でも流動層反応槽でメチレンクロライドをケイ素と反
応させれば、線状か環状のクロロシラアルカンが得られ
ると報告された。しかし各反応生成物の正確な収率は報
告されていない。
いるものも、金属ケイ素と直接反応させて有機ケイ素化
合物を製造することができる。米国特許2,381,0
00号、2,381,001号及び2,381,002
号でも流動層反応槽でメチレンクロライドをケイ素と反
応させれば、線状か環状のクロロシラアルカンが得られ
ると報告された。しかし各反応生成物の正確な収率は報
告されていない。
【0007】
【化2】
【0008】一般的に金属ケイ素との反応において、メ
チレンクロライドはメチルクロライドよりもっと低い温
度で反応する。しかしこの反応はメチレンクロライドの
反応性が高く、300℃程度の高い反応温度で脱塩素反
応と脱塩化水素反応を起こすため、これにより種々の反
応生成物を生成するようになる。このように反応出発物
質が分解し、塩素か塩化水素を出しながら炭素が生成
し、この炭素がケイ素の表面を覆うようになり、ケイ素
の反応性が急激に低下する。Fritz と彼の共同研究者
は、上記の反応を流動層反応槽を使用し、反応温度を3
20℃に維持しながら反応させたところ、分子量の大き
い生成物の生成量が多くなったと報告した[G. Fritz及
びA. Wersching, Z. Anorg. Allgem. Chem., 512, 132
(1984) ]。
チレンクロライドはメチルクロライドよりもっと低い温
度で反応する。しかしこの反応はメチレンクロライドの
反応性が高く、300℃程度の高い反応温度で脱塩素反
応と脱塩化水素反応を起こすため、これにより種々の反
応生成物を生成するようになる。このように反応出発物
質が分解し、塩素か塩化水素を出しながら炭素が生成
し、この炭素がケイ素の表面を覆うようになり、ケイ素
の反応性が急激に低下する。Fritz と彼の共同研究者
は、上記の反応を流動層反応槽を使用し、反応温度を3
20℃に維持しながら反応させたところ、分子量の大き
い生成物の生成量が多くなったと報告した[G. Fritz及
びA. Wersching, Z. Anorg. Allgem. Chem., 512, 132
(1984) ]。
【0009】この反応で得られる反応生成物を幾つかに
分けて見ると、初めにビス(シリル)アルカンで、2個
のジクロロシリル基をもつ化合物、2個のトリクロロシ
リル基をもつ化合物又は1つのジクロロシリル基と1つ
のトリクロロシリル基をもつ化合物である。2番目に直
鎖状のカーボシランで、1,3,5−トリシラペンタン
そして1,3,5,7−テトラシラヘプタン等がこれに
属する。3番目に環状のカーボシランで、環のケイ素に
長い置換基を持つ化合物である。4番目に環状のカーボ
シランで、環の炭素に長い置換基を持つ化合物である。
5番目に歴青かタールのような分子量の非常に大きい化
合物である。しかし以上のどの1つの生成物も30%の
収率を越えず、最も多く生成する化合物が20%内外で
ある[G.Fritz及びE. Matern,“Carbosilanes-Synthese
s and Reactions”, Spring-Verlag, New York 198
6]。
分けて見ると、初めにビス(シリル)アルカンで、2個
のジクロロシリル基をもつ化合物、2個のトリクロロシ
リル基をもつ化合物又は1つのジクロロシリル基と1つ
のトリクロロシリル基をもつ化合物である。2番目に直
鎖状のカーボシランで、1,3,5−トリシラペンタン
そして1,3,5,7−テトラシラヘプタン等がこれに
属する。3番目に環状のカーボシランで、環のケイ素に
長い置換基を持つ化合物である。4番目に環状のカーボ
シランで、環の炭素に長い置換基を持つ化合物である。
5番目に歴青かタールのような分子量の非常に大きい化
合物である。しかし以上のどの1つの生成物も30%の
収率を越えず、最も多く生成する化合物が20%内外で
ある[G.Fritz及びE. Matern,“Carbosilanes-Synthese
s and Reactions”, Spring-Verlag, New York 198
6]。
【0010】Fritz と彼の共同研究者は、メチレンクロ
ライドと金属ケイ素との反応で、Si−H結合を持つビ
ス(トリクロロシリル)(ジクロロシリル)アルカン
は、3%程度の副産物から生成すると報告した[G. Fri
tz及びH. Thielking, Z. Anorg. Allgem. Chem., 306,
39(1960)]。先に本発明者らは、クロロメチル基をもつ
シランをケイ素と直接反応させるに際して、流動層反応
槽を使用するか、螺旋型撹拌器を使用した撹拌型反応槽
で、反応温度を350℃以下に調節し、銅触媒を10%
内外で、15%を越えないように維持しながら反応さ
せ、下記のようなトリシラアルカンを主生成物として得
て、ジシラアルカンを副産物として若干得た。流動化を
助けるためにケイ素の使用量に対し5−50%の球形の
微細粉末酸性白土を使用したところ、流動化がより良く
でき、ケイ素の反応性と選択性もより良い結果を得た
(韓国特許出願91−1055号)
ライドと金属ケイ素との反応で、Si−H結合を持つビ
ス(トリクロロシリル)(ジクロロシリル)アルカン
は、3%程度の副産物から生成すると報告した[G. Fri
tz及びH. Thielking, Z. Anorg. Allgem. Chem., 306,
39(1960)]。先に本発明者らは、クロロメチル基をもつ
シランをケイ素と直接反応させるに際して、流動層反応
槽を使用するか、螺旋型撹拌器を使用した撹拌型反応槽
で、反応温度を350℃以下に調節し、銅触媒を10%
内外で、15%を越えないように維持しながら反応さ
せ、下記のようなトリシラアルカンを主生成物として得
て、ジシラアルカンを副産物として若干得た。流動化を
助けるためにケイ素の使用量に対し5−50%の球形の
微細粉末酸性白土を使用したところ、流動化がより良く
でき、ケイ素の反応性と選択性もより良い結果を得た
(韓国特許出願91−1055号)
【0011】
【化3】
【0012】(式中、R1 、R2 及びR3 はそれぞれメ
チル基或いはクロロ原子を表す) 本発明者らは又、金属ケイ素にクロロメチル基をもつシ
ラン(VI)を反応させ、一般式(II)の化合物を塩化水
素の供給源として共に使用したところ、下記反応式に示
すような2種類のビスシリルメタン(VII 及びVIII)が
得られることを知った。一般式(II)の化合物の例を挙
げれば、1,2−ジクロロエタン、塩化水素、プロピル
クロライド、n−ブチルクロライド、t−ブチルクロラ
イド等を挙げることができる。特に塩化水素又はブチル
クロライドのように反応温度で容易に分解して塩化水素
を生成することのできる有機塩化物を共に使用すること
もできる(韓国特許出願91−24243号)
チル基或いはクロロ原子を表す) 本発明者らは又、金属ケイ素にクロロメチル基をもつシ
ラン(VI)を反応させ、一般式(II)の化合物を塩化水
素の供給源として共に使用したところ、下記反応式に示
すような2種類のビスシリルメタン(VII 及びVIII)が
得られることを知った。一般式(II)の化合物の例を挙
げれば、1,2−ジクロロエタン、塩化水素、プロピル
クロライド、n−ブチルクロライド、t−ブチルクロラ
イド等を挙げることができる。特に塩化水素又はブチル
クロライドのように反応温度で容易に分解して塩化水素
を生成することのできる有機塩化物を共に使用すること
もできる(韓国特許出願91−24243号)
【0013】
【化4】
【0014】(式中、R1 、R2 及びR3 はそれぞれメ
チル基又はクロロ原子であり、RはC1-4 アルキル基、
水素又は2−クロロエチル基を表す)
チル基又はクロロ原子であり、RはC1-4 アルキル基、
水素又は2−クロロエチル基を表す)
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明は、分子の両端に
クロロ原子を持つ一般式(I)の有機塩化物と、一般式
(II)の塩化水素又は反応中に分解して塩化水素を発生
するアルキルクロライドとの混合気体を、金属ケイ素と
直接反応させ、ビス(シリル)アルカンを製造する方法
に関するものである。より詳細に説明すれば、流動型反
応槽か撹拌型反応槽で、分子の両端にクロロ原子を持つ
一般式(I)の有機塩化物と一般式(II)の塩化水素又
は反応中で分解して塩化水素を発生するアルキルクロラ
イドとを混合し、銅触媒の存在下に250℃−370℃
の反応温度で金属ケイ素と直接反応させ、2個のジクロ
ロシリル基をもつ一般式(III)のビス(シリル)アルカ
ンと、2個のトリクロロシリル基をもつ一般式(V)の
ビス(シリル)アルカン、そして1つのジクロロシリル
基と1つのトリクロロシリル基をもつ一般式(IV)のビ
ス(シリル)アルカンを同時に製造する新しく進歩した
製造方法に関するものである。
クロロ原子を持つ一般式(I)の有機塩化物と、一般式
(II)の塩化水素又は反応中に分解して塩化水素を発生
するアルキルクロライドとの混合気体を、金属ケイ素と
直接反応させ、ビス(シリル)アルカンを製造する方法
に関するものである。より詳細に説明すれば、流動型反
応槽か撹拌型反応槽で、分子の両端にクロロ原子を持つ
一般式(I)の有機塩化物と一般式(II)の塩化水素又
は反応中で分解して塩化水素を発生するアルキルクロラ
イドとを混合し、銅触媒の存在下に250℃−370℃
の反応温度で金属ケイ素と直接反応させ、2個のジクロ
ロシリル基をもつ一般式(III)のビス(シリル)アルカ
ンと、2個のトリクロロシリル基をもつ一般式(V)の
ビス(シリル)アルカン、そして1つのジクロロシリル
基と1つのトリクロロシリル基をもつ一般式(IV)のビ
ス(シリル)アルカンを同時に製造する新しく進歩した
製造方法に関するものである。
【0016】
【化5】
【0017】(式中、RはH又はフェニル基であり、R
´は水素又はC1-4 アルキル基であり、nは1から4迄
の整数である。)
´は水素又はC1-4 アルキル基であり、nは1から4迄
の整数である。)
【0018】これらクロロシリル基をもつビス(シリ
ル)アルカンは、不飽和結合を持つ有機化合物に付加反
応するために種々の有機官能基を持つケイ素化合物を製
造するのに重要な出発物質である。一般式(I)の有機
化合物と一般式(II)の塩化水素又はアルキルクロライ
ドは、金属ケイ素と反応させる前に気体状態で混合する
か、一般式(II)の化合物を液体状態にある一般式
(I)の化合物に吹き込み混ぜることもできる。2つの
化合物の混合は重量で又は容量で何れの比率でも混ぜる
ことができる。しかし一般式(II)の比率が高くなれば
生成物において一般式(III)の生成比率が高くなる。一
般式(III)のようなケイ素と水素の結合をもつ化合物の
生成比率を高めようとすれば、一般式(I)の化合物1
モル当り一般式(II)の化合物を0.1−6.0モル混
合して使用することができるが、特に2−2.5モルが
適当である。
ル)アルカンは、不飽和結合を持つ有機化合物に付加反
応するために種々の有機官能基を持つケイ素化合物を製
造するのに重要な出発物質である。一般式(I)の有機
化合物と一般式(II)の塩化水素又はアルキルクロライ
ドは、金属ケイ素と反応させる前に気体状態で混合する
か、一般式(II)の化合物を液体状態にある一般式
(I)の化合物に吹き込み混ぜることもできる。2つの
化合物の混合は重量で又は容量で何れの比率でも混ぜる
ことができる。しかし一般式(II)の比率が高くなれば
生成物において一般式(III)の生成比率が高くなる。一
般式(III)のようなケイ素と水素の結合をもつ化合物の
生成比率を高めようとすれば、一般式(I)の化合物1
モル当り一般式(II)の化合物を0.1−6.0モル混
合して使用することができるが、特に2−2.5モルが
適当である。
【0019】本発明で使用する反応槽は、撹拌型か流動
型反応槽が良く、回分式か連続的に反応させることが可
能である。金属ケイ素は工業用ケイ素を使用することが
でき、その純度が95%以上であれば使用可能である
が、望ましくは98%以上であるものが好ましい。反応
に適したケイ素粉末の大きさは1から200ミクロン迄
の粉末が適当であるが、反応槽の大きさと様式に従って
適当であるケイ素粉末の大きさと分布の選択は異なるこ
ともある。流動型反応槽を使用する場合には、20から
200ミクロン迄の粉末が適当である。反応温度は20
0℃から350℃迄可能であるが、望ましくは250℃
から320℃が適当である。反応圧力は常圧から5気圧
迄使用することができ、圧力を高くすれば反応速度が速
くなる。触媒は、金属銅か反応条件で銅を遊離すること
のできる銅化合物を使用することも可能である。銅の使
用量は1%から20%迄使用することができるが、望ま
しくは5%−10%が適当である。銅触媒以外に、銅の
重量に対し0.001%から2%までの間の助触媒を使
用すれば反応が速くなるか、特定生成物に対する選択性
を高くすることができる。この反応に適した助触媒の例
として、カルシウム、亜鉛、錫、カドミウム、マンガ
ン、マグネシウム、銀、クロム等の金属と、反応条件で
これらの金属を遊離することのできる金属化合物を挙げ
ることができるが、これらに限定されるものではない。
これらの中、最小限1つを選択し、反応固体全体の0.
01−5%を使用することができる。
型反応槽が良く、回分式か連続的に反応させることが可
能である。金属ケイ素は工業用ケイ素を使用することが
でき、その純度が95%以上であれば使用可能である
が、望ましくは98%以上であるものが好ましい。反応
に適したケイ素粉末の大きさは1から200ミクロン迄
の粉末が適当であるが、反応槽の大きさと様式に従って
適当であるケイ素粉末の大きさと分布の選択は異なるこ
ともある。流動型反応槽を使用する場合には、20から
200ミクロン迄の粉末が適当である。反応温度は20
0℃から350℃迄可能であるが、望ましくは250℃
から320℃が適当である。反応圧力は常圧から5気圧
迄使用することができ、圧力を高くすれば反応速度が速
くなる。触媒は、金属銅か反応条件で銅を遊離すること
のできる銅化合物を使用することも可能である。銅の使
用量は1%から20%迄使用することができるが、望ま
しくは5%−10%が適当である。銅触媒以外に、銅の
重量に対し0.001%から2%までの間の助触媒を使
用すれば反応が速くなるか、特定生成物に対する選択性
を高くすることができる。この反応に適した助触媒の例
として、カルシウム、亜鉛、錫、カドミウム、マンガ
ン、マグネシウム、銀、クロム等の金属と、反応条件で
これらの金属を遊離することのできる金属化合物を挙げ
ることができるが、これらに限定されるものではない。
これらの中、最小限1つを選択し、反応固体全体の0.
01−5%を使用することができる。
【0020】
【実施例】次の実施例は、本発明をより詳細に説明する
ものであって、本発明をこれに限定するものではない。
ものであって、本発明をこれに限定するものではない。
【0021】実施例1 Si/Cu接触混合物の製造(1) 金属ケイ素360g(100−325メッシュ)と塩化
第一銅62.3gを反応槽に入れ、反応槽の温度を25
0℃にした後、乾燥した窒素ガスを吹込みながら約2時
間乾燥させた。乾燥後、反応槽の温度を370℃迄上げ
れば、反応生成物としてテトラクロロシランが発生し、
その結果活性の大きいSi/Cu接触混合物が生成す
る。この温度で約3時間維持し、接触混合物を生成させ
た後、反応生成物であるテトラクロロシランを取り出し
た。主触媒である銅以外に、助触媒としてカドミウム、
銀、亜鉛等を使用するときには、接触混合物の生成が完
了した後に、反応槽の上部を開け、必要量の助触媒を投
入して、撹拌して良く混ぜた後に、反応させた。
第一銅62.3gを反応槽に入れ、反応槽の温度を25
0℃にした後、乾燥した窒素ガスを吹込みながら約2時
間乾燥させた。乾燥後、反応槽の温度を370℃迄上げ
れば、反応生成物としてテトラクロロシランが発生し、
その結果活性の大きいSi/Cu接触混合物が生成す
る。この温度で約3時間維持し、接触混合物を生成させ
た後、反応生成物であるテトラクロロシランを取り出し
た。主触媒である銅以外に、助触媒としてカドミウム、
銀、亜鉛等を使用するときには、接触混合物の生成が完
了した後に、反応槽の上部を開け、必要量の助触媒を投
入して、撹拌して良く混ぜた後に、反応させた。
【0022】実施例2 Si/Cu接触混合物の製造(2) 金属ケイ素360g(100−325メッシュ)と銅触
媒40gを反応槽に入れ、実施例1と同様な条件で乾燥
させた。乾燥後、反応槽の温度を350℃に上げ、メチ
ルクロライドを反応槽の下部の予熱管を通じて吹き込む
と、初期には若干の水が生成するが、約40−70分後
にはそれらの反応生成物としてジメチルジクロロシラン
とメチルトリクロロシランが生成し始め、受けフラスコ
に集められるようになる。これらが生成し始まるのは、
即ちSi/Cu接触混合物が生成されていることの証拠
であり、約2時間メチルクロライドと反応させた後、メ
チルクロライドの供給を中断し、受けフラスコの反応生
成物を取り出した。反応に助触媒が必要な場合には、実
施例1と同様な方法で投入し、反応させた。触媒の配合
比が異なるSi/Cu接触混合物を準備して使用した
が、その組成は表1の通りである。
媒40gを反応槽に入れ、実施例1と同様な条件で乾燥
させた。乾燥後、反応槽の温度を350℃に上げ、メチ
ルクロライドを反応槽の下部の予熱管を通じて吹き込む
と、初期には若干の水が生成するが、約40−70分後
にはそれらの反応生成物としてジメチルジクロロシラン
とメチルトリクロロシランが生成し始め、受けフラスコ
に集められるようになる。これらが生成し始まるのは、
即ちSi/Cu接触混合物が生成されていることの証拠
であり、約2時間メチルクロライドと反応させた後、メ
チルクロライドの供給を中断し、受けフラスコの反応生
成物を取り出した。反応に助触媒が必要な場合には、実
施例1と同様な方法で投入し、反応させた。触媒の配合
比が異なるSi/Cu接触混合物を準備して使用した
が、その組成は表1の通りである。
【0023】
【表1】
【0024】実施例3 メチレンクロライドと塩化水素の1:3混合気体と金属
ケイ素との反応 次の実施例は実験番号4が典型的な例である。実施例2
で準備したSi/Cu接触混合物1−3の402gを撹
拌型反応槽に入れ、反応槽の温度を320℃に高めた
後、反応槽の下部のシリンジポンプにメチレンクロライ
ドを入れ、窒素気体を240ml/分の速度で吹き込みな
がら、同時に塩化水素を700ml/分の速度で反応槽に
流入させ、メチレンクロライドは0.667ml/分の速
度で流してやった。反応開始直後から発熱反応による温
度上昇が観察され、反応生成物が反応槽の上部に設置さ
れたフラスコに集められ始めた。このような条件を継続
維持しながら、1時間毎に反応生成物を取り出し、4時
間の間に使用したメチレンクロライドは212.0gで
あり、取り出した反応生成物は321.6gであった。
ここで生成した反応生成物は、気体クロマトグラフ(Pa
cked Column, 5%SE-54, 0.9m×1/8 ″ O. D., SS.TCD)
を利用して分析し、各成分を分別蒸留し、核磁気共鳴分
光分析でその構造を決定した。
ケイ素との反応 次の実施例は実験番号4が典型的な例である。実施例2
で準備したSi/Cu接触混合物1−3の402gを撹
拌型反応槽に入れ、反応槽の温度を320℃に高めた
後、反応槽の下部のシリンジポンプにメチレンクロライ
ドを入れ、窒素気体を240ml/分の速度で吹き込みな
がら、同時に塩化水素を700ml/分の速度で反応槽に
流入させ、メチレンクロライドは0.667ml/分の速
度で流してやった。反応開始直後から発熱反応による温
度上昇が観察され、反応生成物が反応槽の上部に設置さ
れたフラスコに集められ始めた。このような条件を継続
維持しながら、1時間毎に反応生成物を取り出し、4時
間の間に使用したメチレンクロライドは212.0gで
あり、取り出した反応生成物は321.6gであった。
ここで生成した反応生成物は、気体クロマトグラフ(Pa
cked Column, 5%SE-54, 0.9m×1/8 ″ O. D., SS.TCD)
を利用して分析し、各成分を分別蒸留し、核磁気共鳴分
光分析でその構造を決定した。
【0025】ここで生成した反応生成物の組成は、1,
1,3,3−テトラクロロ−1,3−ジシラプロパン7
4.3g(23.1%)[b. p. 142-3 ℃;NMR(δ, CD
Cl3)5.70(t, 2H, Si-H), 1.39(t, 2H, -CH2-) ]と、
1,1,1,3,3−ペンタクロロ−1,3−ジシラプ
ロパン101.3g(31.5%)[b. p. 158-9 ℃;
NMR(δ, CDCl3)5.75(t, 1H, Si-H), 1.63(d, 2H, -CH
2-) ];そして1,1,1,3,3,3−ヘキサクロロ
−1,3−ジシラプロパン27.0g(8.4%)[b.
p. 173-4 ℃;NMR(δ, CDCl3)1.74(S, 2H, -CH2-)]が
得られた。その他の副産物37.0%中には、トリクロ
ロシランが23.0%、テトラクロロシランが2%含ま
れ、残りは未確認物質であった。上記の実験のような反
応物質、反応槽、触媒、助触媒の存在下で、反応温度だ
けを変化させた反応生成物の組成を表2に示した。
1,3,3−テトラクロロ−1,3−ジシラプロパン7
4.3g(23.1%)[b. p. 142-3 ℃;NMR(δ, CD
Cl3)5.70(t, 2H, Si-H), 1.39(t, 2H, -CH2-) ]と、
1,1,1,3,3−ペンタクロロ−1,3−ジシラプ
ロパン101.3g(31.5%)[b. p. 158-9 ℃;
NMR(δ, CDCl3)5.75(t, 1H, Si-H), 1.63(d, 2H, -CH
2-) ];そして1,1,1,3,3,3−ヘキサクロロ
−1,3−ジシラプロパン27.0g(8.4%)[b.
p. 173-4 ℃;NMR(δ, CDCl3)1.74(S, 2H, -CH2-)]が
得られた。その他の副産物37.0%中には、トリクロ
ロシランが23.0%、テトラクロロシランが2%含ま
れ、残りは未確認物質であった。上記の実験のような反
応物質、反応槽、触媒、助触媒の存在下で、反応温度だ
けを変化させた反応生成物の組成を表2に示した。
【0026】
【表2】
【0027】実施例4 メチレンクロライド及び塩化水素の混合気体と金属ケイ
素との反応 実施例3のような反応槽、接触混合物、反応条件そして
320℃で反応させたが、塩化水素とメチレンクロライ
ドのモル比を変えて反応させた。表3はこれらのモル比
を変えて得た反応条件及び反応生成物の組成を示したも
のである。表3で実験番号7は酸性白土を接触混合物に
対し5%(20.0g)を使用して反応させた結果であ
る。
素との反応 実施例3のような反応槽、接触混合物、反応条件そして
320℃で反応させたが、塩化水素とメチレンクロライ
ドのモル比を変えて反応させた。表3はこれらのモル比
を変えて得た反応条件及び反応生成物の組成を示したも
のである。表3で実験番号7は酸性白土を接触混合物に
対し5%(20.0g)を使用して反応させた結果であ
る。
【0028】
【表3】
【0029】実施例5 メチレンクロライド及び塩化水素の混合気体と金属ケイ
素との反応 実施例2に示した表1の接触混合物を準備し、実施例3
の実験番号4とは接触混合物の種類だけを変え、他の条
件はすべて同じ反応条件で反応させ、得た反応生成物の
組成を表4に示した。
素との反応 実施例2に示した表1の接触混合物を準備し、実施例3
の実験番号4とは接触混合物の種類だけを変え、他の条
件はすべて同じ反応条件で反応させ、得た反応生成物の
組成を表4に示した。
【0030】
【表4】
【0031】実施例6 メチレンクロライド及びアルキルクロライドの混合気体
と金属ケイ素との反応 この実施例は、表5の実験番号24が典型的な例であ
る。表1の接触混合物1−3を準備し、反応出発物質と
して使用するメチレンクロライド106.0g(1.2
47モル)とt−ブチルクロライド346.0g(3.
741モル)を混ぜ、1:3モル比の混合物を製造し
た。これらの混合物を反応温度320℃で113ml/hr
の速度で反応層に流入させ、40時間反応させた結果、
反応生成物158.8gを得た。これらの反応中にコン
デンサーに凝縮されないで外に抜け出る気体が相当量あ
ったが、この気体の成分はt−ブチルクロライドが高温
で分解し生成したイソブテンであった。表5にその結果
を示す。
と金属ケイ素との反応 この実施例は、表5の実験番号24が典型的な例であ
る。表1の接触混合物1−3を準備し、反応出発物質と
して使用するメチレンクロライド106.0g(1.2
47モル)とt−ブチルクロライド346.0g(3.
741モル)を混ぜ、1:3モル比の混合物を製造し
た。これらの混合物を反応温度320℃で113ml/hr
の速度で反応層に流入させ、40時間反応させた結果、
反応生成物158.8gを得た。これらの反応中にコン
デンサーに凝縮されないで外に抜け出る気体が相当量あ
ったが、この気体の成分はt−ブチルクロライドが高温
で分解し生成したイソブテンであった。表5にその結果
を示す。
【0032】
【表5】
【0033】実施例7 流動層反応槽を使用したメチレンクロライドとアルキル
クロライド又は塩化水素の混合気体と金属ケイ素との反
応 実施例7では流動型反応槽を使用し、表1の接触混合物
1−3の402gを反応槽に入れ、反応槽の温度を32
0℃に上昇させた後、反応槽の下部に装置した予熱管を
通じて、反応物シランと塩化水素を供給源として使用し
たt−ブチルクロライドの1:3混合物を反応槽内に流
入した。この場合接触混合物の流動化を助けるために、
乾燥した窒素ガスを約250ml/分の速度で反応物質と
共に流入した。2時間の反応に使用したメチレンクロラ
イドは106.0gであり、生成物の量は108.7g
であった。表6の実験は、すべて流動型反応槽を使用
し、同じ反応温度、同じ接触混合物を使用したが、塩化
水素供給源の種類だけが異なり、実験番号29は28と
同じ条件であるが、反応槽の圧力を3.0kg/cm2に高め
て反応させた結果である。
クロライド又は塩化水素の混合気体と金属ケイ素との反
応 実施例7では流動型反応槽を使用し、表1の接触混合物
1−3の402gを反応槽に入れ、反応槽の温度を32
0℃に上昇させた後、反応槽の下部に装置した予熱管を
通じて、反応物シランと塩化水素を供給源として使用し
たt−ブチルクロライドの1:3混合物を反応槽内に流
入した。この場合接触混合物の流動化を助けるために、
乾燥した窒素ガスを約250ml/分の速度で反応物質と
共に流入した。2時間の反応に使用したメチレンクロラ
イドは106.0gであり、生成物の量は108.7g
であった。表6の実験は、すべて流動型反応槽を使用
し、同じ反応温度、同じ接触混合物を使用したが、塩化
水素供給源の種類だけが異なり、実験番号29は28と
同じ条件であるが、反応槽の圧力を3.0kg/cm2に高め
て反応させた結果である。
【0034】
【表6】
【0035】実施例8 1,2−ジクロロエタン及び塩化水素の混合物と金属ケ
イ素との反応 実施例3の実験番号4のような反応条件で、1,2−ジ
クロロエタン100.5gを2時間反応させ、112.
7gの反応生成物を得た。反応生成物の組成を分別蒸溜
をして確認した結果、1,1,4,4−テトラクロロ−
1,4−ジシラブタン(III)1.0g(0.9%)[b.
p. 171-2 ℃;NMR(δ, CDCl3), 5.56(t, 2H, Si-H),
1.32(d, 4H, -CH2-) ];1,1,1,4,4−ペンタ
クロロ−1,4−ジシラブタン(III)11.3g(1
0.0%)[b. p. 186-7 ℃;NMR(δ, CDCl3)5.58(t,
1H, Si-H), 1.57-1.50(m, 2H, -CH2-), 1.45-1.38(m, 2
H, -CH2-) ];そして1,1,1,4,4,4−ヘキサ
クロロ−1,4−ジシラブタン(V)13.1g(1
1.6%)[b. p. 254-6 ℃;NMR(δ, CDCl3)1.58(s,
4H, -CH2-)]が生成し、出発物質である1,2−ジクロ
ロエタンも10.4%回収した。その外の副産物として
は、トリクロロシラン、テトラクロロシラン等が生成し
た。
イ素との反応 実施例3の実験番号4のような反応条件で、1,2−ジ
クロロエタン100.5gを2時間反応させ、112.
7gの反応生成物を得た。反応生成物の組成を分別蒸溜
をして確認した結果、1,1,4,4−テトラクロロ−
1,4−ジシラブタン(III)1.0g(0.9%)[b.
p. 171-2 ℃;NMR(δ, CDCl3), 5.56(t, 2H, Si-H),
1.32(d, 4H, -CH2-) ];1,1,1,4,4−ペンタ
クロロ−1,4−ジシラブタン(III)11.3g(1
0.0%)[b. p. 186-7 ℃;NMR(δ, CDCl3)5.58(t,
1H, Si-H), 1.57-1.50(m, 2H, -CH2-), 1.45-1.38(m, 2
H, -CH2-) ];そして1,1,1,4,4,4−ヘキサ
クロロ−1,4−ジシラブタン(V)13.1g(1
1.6%)[b. p. 254-6 ℃;NMR(δ, CDCl3)1.58(s,
4H, -CH2-)]が生成し、出発物質である1,2−ジクロ
ロエタンも10.4%回収した。その外の副産物として
は、トリクロロシラン、テトラクロロシラン等が生成し
た。
【0036】実施例9 1,3−ジクロロプロパン及び塩化水素の混合物と金属
ケイ素との反応 実施例8の反応条件とは、反応温度が280℃である点
だけが異なり、他のあらゆる反応条件が同じ条件で1,
3−ジクロロプロパン95.2gを2時間反応させ、5
9.2gの反応生成物を得た。反応生成物の組成を分別
蒸留して確認した結果、1,1,5,5−テトラクロロ
−1,5−ジシラペンタン(III)が3.5g(5.8
%)[b. p. 198-200 ℃;NMR(δ, CDCl3)5.55(t, 2H,
Si-H), 1.89-1.78(m, 2H, -CH2-), 1.38-1.22(m, 4H, -
CH2-) ];1,1,1,5,5−ペンタクロロ−1,5
−ジシラペンタン(IV)1.8g(3.1%)[b. p.
213-5 ℃;NMR(δ, CDCl3)5.56(t, 1H, Si-H), 1.95-1.
82(m, 2H, -CH2-), 1.59(m,2H, -CH2-), 1.41-1.33(m,
2H, -CH2-) ];そして1,1,1,5,5,5−ヘキ
サクロロ−1,5−ジシラペンタン(V)0.6g
(1.0%)[b. p. 230-2 ℃:NMR(δ, CDCl3)2.00-
1.87(m, 2H, -CH2-), 1.63-1.56(m, 4H, -CH2-)]が生
成し、出発物質である1,3−ジクロロプロパンも5.
4%回収した。その外の副産物の大部分はトリクロロシ
ランとテトラクロロシランであった。
ケイ素との反応 実施例8の反応条件とは、反応温度が280℃である点
だけが異なり、他のあらゆる反応条件が同じ条件で1,
3−ジクロロプロパン95.2gを2時間反応させ、5
9.2gの反応生成物を得た。反応生成物の組成を分別
蒸留して確認した結果、1,1,5,5−テトラクロロ
−1,5−ジシラペンタン(III)が3.5g(5.8
%)[b. p. 198-200 ℃;NMR(δ, CDCl3)5.55(t, 2H,
Si-H), 1.89-1.78(m, 2H, -CH2-), 1.38-1.22(m, 4H, -
CH2-) ];1,1,1,5,5−ペンタクロロ−1,5
−ジシラペンタン(IV)1.8g(3.1%)[b. p.
213-5 ℃;NMR(δ, CDCl3)5.56(t, 1H, Si-H), 1.95-1.
82(m, 2H, -CH2-), 1.59(m,2H, -CH2-), 1.41-1.33(m,
2H, -CH2-) ];そして1,1,1,5,5,5−ヘキ
サクロロ−1,5−ジシラペンタン(V)0.6g
(1.0%)[b. p. 230-2 ℃:NMR(δ, CDCl3)2.00-
1.87(m, 2H, -CH2-), 1.63-1.56(m, 4H, -CH2-)]が生
成し、出発物質である1,3−ジクロロプロパンも5.
4%回収した。その外の副産物の大部分はトリクロロシ
ランとテトラクロロシランであった。
【0037】実施例10 1,4−ジクロロブタン及び塩化水素の混合物と金属ケ
イ素との反応 実施例9とあらゆる反応条件が同じ条件で、1,3−ジ
クロロブタンと塩化水素の1:3混合物を金属ケイ素と
反応させた。2時間の反応に使用した1,4−ジクロロ
ブタンは92.8gであり、生成物の量は125.6g
であった。反応生成物を分別蒸留して確認した結果、
1,1,6,6−テトラクロロ−1,6−ジシラヘキサ
ン(III)が15.6g(12.3%)[b. p. 222-4
℃;NMR(δ, CDCl3)5.54(t, 2H, Si-H), 1.66(m, 4H, -
CH2-), 1.25(m, 4H, -CH2-) ];1,1,1,6,6−
ペンタクロロ−1,6−ジシラヘキサン(IV)13.1
g(10.5%)[b. p. 240-2 ℃;NMR(δ, CDCl3)5.
54(t, 1H, Si-H), 1.69(m, 4H, -CH2-), 1.45(m, 2H, -
CH2-), 1.26(m, 2H, -CH2-) ];そして1,1,1,
6,6,6−ヘキサクロロ−1,6−ジシラヘキサン
(V)9.0g(7.2%)[b. p. 255-7 ℃;NMR
(δ, CDCl3)1.70(m, 4H, -CH2-), 1.46(m, 4H, -CH
2-)]であり、出発物質である1,4−ジクロブタンも
7.2%回収した。その外の副産物としてはトリクロロ
シランとテトラクロロシランが共に生成した。
イ素との反応 実施例9とあらゆる反応条件が同じ条件で、1,3−ジ
クロロブタンと塩化水素の1:3混合物を金属ケイ素と
反応させた。2時間の反応に使用した1,4−ジクロロ
ブタンは92.8gであり、生成物の量は125.6g
であった。反応生成物を分別蒸留して確認した結果、
1,1,6,6−テトラクロロ−1,6−ジシラヘキサ
ン(III)が15.6g(12.3%)[b. p. 222-4
℃;NMR(δ, CDCl3)5.54(t, 2H, Si-H), 1.66(m, 4H, -
CH2-), 1.25(m, 4H, -CH2-) ];1,1,1,6,6−
ペンタクロロ−1,6−ジシラヘキサン(IV)13.1
g(10.5%)[b. p. 240-2 ℃;NMR(δ, CDCl3)5.
54(t, 1H, Si-H), 1.69(m, 4H, -CH2-), 1.45(m, 2H, -
CH2-), 1.26(m, 2H, -CH2-) ];そして1,1,1,
6,6,6−ヘキサクロロ−1,6−ジシラヘキサン
(V)9.0g(7.2%)[b. p. 255-7 ℃;NMR
(δ, CDCl3)1.70(m, 4H, -CH2-), 1.46(m, 4H, -CH
2-)]であり、出発物質である1,4−ジクロブタンも
7.2%回収した。その外の副産物としてはトリクロロ
シランとテトラクロロシランが共に生成した。
【0038】実施例11 α,α−ジクロロトルエンと塩化水素の混合物と金属ケ
イ素との反応 実施例9とは反応温度が280℃である点だけが異な
り、あらゆる反応条件を同じくし、α,α−ジクロロト
ルエンと塩化水素の1:3混合物を金属ケイ素と反応さ
せた。2時間の反応に使用したα,α−ジクロロトルエ
ンは100.3gであり、反応生成物として116.0
gを得た。これら反応生成物を分別蒸留して確認した結
果、1,1,3,3−テトラクロロ−2−フェニル−
1,3−ジシラプロパン(III)が14.2g(12.2
%)[b. p. 133-4 ℃/20torr; NMR(δ, CDCl3)7.26-7.
21(m, 5H, ph), 5.70(d, 2H, Si-H), 2.78(t, 1H, -CH
=)];1,1,1,3,3−ペンタクロロ−2−フェニ
ル−1,3−ジシラプロパン(IV)12.3g(10.
6%)[b. p. 142-4 ℃/20torr; NMR( δ, CDCl3)7.30
-7.25(m, 5H, ph), 5.70(d, 2H, Si-H), 2.78(t, 1H, -
CH=)];そして1,1,1,3,3,3−ヘキサクロロ
−2−フェニル−1,3−ジシラプロパン(V)8.7
g(7.5%)[b. p. 150-2 ℃/20torr; NMR( δ, CD
Cl3)7.30-7.25(m,5H, ph), 3.22(S, 1H, -CH=) ]であ
った。その外の副産物にはトリクロロシランとテトラク
ロロシランが共に生成し、ベンジルジクロロシランとベ
ンジルトリクロロシランも各々4.5%及び1.3%生
成した。
イ素との反応 実施例9とは反応温度が280℃である点だけが異な
り、あらゆる反応条件を同じくし、α,α−ジクロロト
ルエンと塩化水素の1:3混合物を金属ケイ素と反応さ
せた。2時間の反応に使用したα,α−ジクロロトルエ
ンは100.3gであり、反応生成物として116.0
gを得た。これら反応生成物を分別蒸留して確認した結
果、1,1,3,3−テトラクロロ−2−フェニル−
1,3−ジシラプロパン(III)が14.2g(12.2
%)[b. p. 133-4 ℃/20torr; NMR(δ, CDCl3)7.26-7.
21(m, 5H, ph), 5.70(d, 2H, Si-H), 2.78(t, 1H, -CH
=)];1,1,1,3,3−ペンタクロロ−2−フェニ
ル−1,3−ジシラプロパン(IV)12.3g(10.
6%)[b. p. 142-4 ℃/20torr; NMR( δ, CDCl3)7.30
-7.25(m, 5H, ph), 5.70(d, 2H, Si-H), 2.78(t, 1H, -
CH=)];そして1,1,1,3,3,3−ヘキサクロロ
−2−フェニル−1,3−ジシラプロパン(V)8.7
g(7.5%)[b. p. 150-2 ℃/20torr; NMR( δ, CD
Cl3)7.30-7.25(m,5H, ph), 3.22(S, 1H, -CH=) ]であ
った。その外の副産物にはトリクロロシランとテトラク
ロロシランが共に生成し、ベンジルジクロロシランとベ
ンジルトリクロロシランも各々4.5%及び1.3%生
成した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI B01J 23/889 C07B 61/00 300 23/89 B01J 23/82 X // C07B 61/00 300 23/84 311X (56)参考文献 特開 平3−148287(JP,A) 特公 昭26−6913(JP,B1) 英国特許出願公開1089726(GB,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07F 7/12
Claims (7)
- 【請求項1】 分子の両端にクロロ原子を持つ一般式
(I)の有機塩化物と一般式(II)の塩化水素又は反応
中に分解して塩化水素を発生するアルキルクロライドと
を混合し、銅触媒の存在下、反応温度250−370℃
で金属ケイ素と直接反応させることを特徴とする、次の
一般式(III)、(VI)及び(V)のビスシリルアルカン
の製造方法。 【化1】 (式中、RはH又はフェニル基であり、R´は水素又は
C1-4 アルキル基であり、nは1乃至4の整数である。 - 【請求項2】 一般式(II)の化合物が、塩化水素であ
る請求項1の製造方法。 - 【請求項3】 一般式(II)の化合物が、n−プロピル
クロライドである請求項1の製造方法。 - 【請求項4】 一般式(II)の化合物が、n−ブチルク
ロライドである請求項1の製造方法。 - 【請求項5】 一般式(II)の化合物が、t−ブチルク
ロライドである請求項1の製造方法。 - 【請求項6】 球形の微細粉末酸性白土を、ケイ素の重
量に対し1−50%追加して混合し、流動性を増進させ
て反応させる請求項1の製造方法。 - 【請求項7】 銅触媒の助触媒として、カルシウム、バ
リウム、亜鉛、錫、カドミウム、マンガン、マグネシウ
ム、銀、クローム等の金属及びこれらの金属化合物中か
ら選択し、反応固体全体の0.01−5重量%を添加し
て反応させる請求項1の製造方法。
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