JP2835145B2 - 電子装置 - Google Patents

電子装置

Info

Publication number
JP2835145B2
JP2835145B2 JP13543490A JP13543490A JP2835145B2 JP 2835145 B2 JP2835145 B2 JP 2835145B2 JP 13543490 A JP13543490 A JP 13543490A JP 13543490 A JP13543490 A JP 13543490A JP 2835145 B2 JP2835145 B2 JP 2835145B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
electronic device
conductive particles
hardness
liquid crystal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP13543490A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0430542A (ja
Inventor
博隆 中野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP13543490A priority Critical patent/JP2835145B2/ja
Publication of JPH0430542A publication Critical patent/JPH0430542A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2835145B2 publication Critical patent/JP2835145B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/29001Core members of the layer connector
    • H01L2224/29099Material
    • H01L2224/29198Material with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials in the form of a matrix with a filler, i.e. being a hybrid material, e.g. segmented structures, foams
    • H01L2224/29298Fillers
    • H01L2224/29499Shape or distribution of the fillers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73203Bump and layer connectors
    • H01L2224/73204Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/838Bonding techniques
    • H01L2224/8385Bonding techniques using a polymer adhesive, e.g. an adhesive based on silicone, epoxy, polyimide, polyester
    • H01L2224/83851Bonding techniques using a polymer adhesive, e.g. an adhesive based on silicone, epoxy, polyimide, polyester being an anisotropic conductive adhesive
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/321Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by conductive adhesives

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) この発明は液晶表示装置のような電子装置に係り、特
にICと基板上の電極とが、COG(Chip on Glass)法、取
分けフェース・ダウン・ボンディング法により電気的に
接続されてなる場合の接続部の構造に関する。
(従来の技術) 一般に電子装置例えば液晶表示装置においては、その
液晶表示板の周辺部に、液晶駆動用のベア・ICを実装す
る方法として、TAB(Tape Automated Bonding)法、COG
法が知られている。
TAB法では、テープ・キャリアにICを接続(ILB:Inner
Lead Bonding)・搭載した後、そのテープ・キャリア
を液晶表示板の周辺部に接続(OLB:Outer Lead Bondin
g)するという、2段階の接続工程を経る。
これに対し、COG法、特にフェース・ダウン・ボンデ
ィング法によるCOG法は、ICと液晶表示板上の電極とを
直接接続する方法であり、部材のテープ・キャリアが不
要にして、一度の接続でICを搭載出来、工程が短縮化さ
れ、低コスト化出来るという特徴があり、その実用化が
期待されている。
ところで、フェース・ダウン・ボンディング法による
COG法には、「日経マイクロ・デバイス」の1989年7月
号、No.49、p.107に記載されている種々の方式が知られ
ているが、ここでは特開昭62−244143号公報に開示され
ている液晶表示装置における接続材料として異方性導電
膜を用いて接続する方法を例にとり説明する。
この液晶表示装置は、第2図及び第3図に示すように
構成され、液晶表示板1のガラス基板2上に形成された
取出し電極であるITO配線電極3と、液晶駆動用IC4上に
形成された金バンプ5とが、異方性導電膜6を介してフ
ェース・ダウン・ボンディング法により接続されてい
る。
この接続部を拡大して示したものが第3図であり、液
晶駆動用IC4上にはアルミニウム電極7とパッシベーシ
ョン膜8とが形成され、アルミニウム電極7上に金属多
層膜からなるバリヤ・メタル層(図示せず)を介して金
バンプ5が設けられている。
異方性導電膜6は、第3図から明らかなように接着層
9中に導電粒子10が分散されているもので、導電粒子10
が配線電極3と金バンプ5との間に挾まれることによ
り、電気的に接続されている。ここで、異方性導電膜6
の接着層9の樹脂としては、熱可塑性樹脂が用いられ、
導電粒子10として焼結カーボンが用いられている。
即ち、従来の提案では、COG法に用いる液晶駆動用IC4
としては、アルミニウム電極7上に金属多層膜からなる
バリヤ・メタル層、その上に金バンプ5が形成されたも
のを用いている。従って、ICのウエハ段階で、バリヤ・
メタル層を形成するためのスパッタリング工程、それを
パターニングするためのリゾグラフィ工程、金バンプ5
を形成するためのリゾグラフィー工程と金メッキ工程な
どが必要で、工程が長くなり、液晶駆動用IC4がコスト
高になるという欠点があった。
(発明が解決しようとする課題) 以上、説明したように、液晶表示板1の配線電極3
と、液晶駆動用IC4との接続を、COG法、取分けフェース
・ダウン・ボンディング法によるCOG法により行なう場
合、従来はアルミニウム電極7上に金バンプ5が形成さ
れた液晶駆動用IC4を用いているため、液晶駆動用IC4の
コストが高くなり、更にそれを用いた液晶表示装置のコ
ストも高くなるという欠点があった。
この発明は、上記事情に鑑みなされたもので、金属バ
ンプが形成されていないICを用い、このIC上のアルミニ
ウム電極と、基板上に形成された電極とを直接接続し、
以て低コストで而も高信頼性の電子装置を提供すること
を目的とする。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) この発明によれば、一面に第1電極と、この第1電極
周辺に配置されるパッシベーション膜とが形成されたIC
が、第2電極が形成された基板上に、導電粒子を含む異
方性導電膜を介してフェース・ダウン・ボンディング法
によって接続され、且つ上記導電粒子を介して上記第1
電極と上記第2電極とが電気的に接続されてなる電子装
置において、上記導電粒子の硬度は、上記ICの上記第1
電極の硬度よりも大きく、上記パッシベーション膜の硬
度よりも小さいことを特徴とする電子装置が提供され
る。
(作用) この発明によれば、ICのアルミニウム電極上に金属バ
ンプを形成しない場合でも、基板上にICを直接接続して
実装することが出来るので、低コストにして且つ高信頼
性の電子装置を提供することが出来る。
(実施例) 以下、図面を参照して、この発明の一実施例を詳細に
説明する。
電子装置として液晶表示装置を例にとれば、この発明
による液晶表示装置は第1図に示すように構成され、従
来例(第3図)と同一箇所は同一符号を付すことにす
る。
即ち、液晶表示板1(第2図参照)のガラス基板2上
には、配線電極3が形成されている。この配線電極3
は、表面層がアルミニウム又はアルミニウムを主体する
金属又は金属多層膜からなる取出し電極であり、この実
施例ではクロム、アルミニウムがこの順に形成されてい
る(以下、Cr/Alと略す。そして、Cr、Alの膜厚はそれ
ぞれ500Å、4000Åに設定されている。
一方、出力数120の液晶駆動用IC4における表面の所定
箇所にはアルミニウム電極7が形成され、このアルミニ
ウム電極7以外の表面には、パッシベーション膜8が形
成されている。アルミニウム電極7の大きさは約80μm
角であり、ピッチは230μmである。そして、パッシベ
ーション膜8はリン・ガラス、シリコン・ナイトライド
の2層からなっており、各膜厚はそれぞれ4000Å、8000
Åに設定されている。
上記のような液晶駆動用IC4上のアルミニウム電極7
がガラス基板2上の配線電極3に、異方性導電膜11を介
してフェース・ダウン・ボンディング法により電気的に
接続される。この場合、異方性導電膜11は接着層12内に
導電粒子13が分散されてなり、導電粒子13の硬度はアル
ミニウム電極7の硬度よりも大きく、パッシベーション
膜8の硬度よりも小さい粒子、例えばニッケル粒子であ
る。この導電粒子13は例えば“イガグリ状”であるが、
その粒径(大きさ)は約1μm乃至2μm程度の範囲に
設定されている。そして、接着層12はエポキシ系の熱硬
化性樹脂からなり、膜厚は約8μmに設定されている。
さて次に、ガラス基板2上の配線電極3へ、液晶駆動
用IC4をフェース・ダウン・ボンディング法により電気
的に接続する工程について、説明する。
即ち、この実施例で用いている異方性導電膜11は、粘
着性のあるものであり、これを液晶駆動用IC4よりやや
大きく切り、ガラス基板2上の所定の位置に貼る。
次に、配線電極3と液晶駆動用IC4のアルミニウム電
極7との位置合わせを行ない、図示しないボンダー・ツ
ールを用い、液晶駆動用IC4の裏面側より約6Kgで加圧
(約50g/パッド)・加熱(ツール温度で190℃)しなが
ら約60秒間保持する。
この時、液晶表示板1(第2図参照)は約55℃に加熱
したステージ上に載せてあり、ガラス基板2の裏面側よ
り加熱されている。
次に、ボンダー・ツールを液晶駆動用IC4から離せ
ば、アルミニウム電極7と配線電極3とが異方性導電膜
11中の導電粒子13を介して接続される。
以上の工程により、第1図に示すように液晶駆動用IC
4は、液晶表示板1のガラス基板2上に実装される。
尚、この実施例における液晶表示装置は、上記以外は
従来例(第2図)と同様構成ゆえ、詳細な説明は省略す
る。
この実施例における異方性導電膜11の接着層12はエポ
キシ系の熱硬化性樹脂であり、接続時に図示しないツー
ルにて温度190℃で、約60秒間保持することによりキュ
ア度が増し、液晶駆動用IC4の表面保護層であるパッシ
ベーション膜8、ガラス基板2に強固に密着する。それ
故、液晶駆動用IC4全体が、ガラス基板2に強固に固着
され、その後のポッティングによる樹脂補強の工程も不
必要である。
この実施例による液晶表示装置の接続部の接触抵抗を
評価したところ、接続箇所180に対し、オープン・ショ
ートの発生は皆無であった。又、熱衝撃試験、高温高湿
試験、高温試験、温湿度サイクル試験、振動試験や衝撃
試験等の機械試験など、液晶表示装置に要求される各種
信頼性試験により、この実施例による液晶表示装置を評
価した所、接続箇所に起因する不具合の発生は皆無であ
った。
(変形例) 上記実施例では、異方性導電膜11中の導電粒子13がニ
ッケル粒子である場合を例に取り詳述したが、アルミニ
ウム電極7より硬く、パッシベーション膜8より軟らか
い導電粒子であれば、この発明が適用出来る。このよう
な導電粒子13としては、例えばニッケルの合金粒子やチ
タン粒子などがある。
又、上記実施例では、異方性導電膜11中の導電粒子13
の粒径が、約1μm乃至2μmの範囲にある場合を例に
取り詳述したが、導電粒子13の粒径が、パッシベーショ
ン膜8の膜厚と配線電極3の膜厚の差よりも大きけれ
ば、この発明が適用出来る。そして、導電粒子13の粒径
の上限は、5μm程度までならば、この発明が実装され
得る。
又、上記実施例では、配線電極3がCr/Alよりなる場
合を例に取り詳述したが、他の配線電極、例えば材料が
アルミニウム、アルミニウム合金、又はアルミニウム主
体とする金属からなっているならば、この発明が適用出
来る。このような例として、ガラス基板2上にモリブデ
ン、アルミニウム、モリブデンがこの順に形成された
(Mo/Al/Mo)配線電極がある。この場合、それぞれの膜
厚は、例えば700Å、4000Å、500Åである。
又、ITOを主体とする配線電極の場合にも、この発明
が適用出来るのは勿論である。
尚、この発明による液晶表示装置は、強固に密着した
高信頼性の接続部を有するので、液晶駆動用IC4の裏面
側から封止樹脂で覆うことは不要であるが、封止樹脂で
覆っても、この発明が適用出来るのは勿論である。
又、この発明は液晶表示装置に限定されず、ICが実装
された電子装置一般に適用出来る。
[発明の効果] この発明によれば、ICのアルミニウム電極上に金属バ
ンプを形成しない場合でも、基板上にICを直接接続して
実装することが出来るので、低コストにして且つ高信頼
性の電子装置を提供することが出来る。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例に係る電子装置(液晶表示
装置)の要部を示す断面図、第2図は従来の電子装置
(液晶表示装置)を示す断面図、第3図は第2図の要部
を拡大して示す断面図である。 2……ガラス基板、3……配線電極、4……液晶駆動用
IC、7……アルミニウム電極、8……パッシベーション
膜、11……異方性導電膜、12……接着層、13……導電粒
子。

Claims (15)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一面に第1電極と、この第1電極周辺に配
    置されるパッシベーション膜とが形成されたICが、第2
    電極が形成された基板上に、導電粒子を含む異方性導電
    膜を介してフェース・ダウン・ボンディング法によって
    接続され、且つ上記導電粒子を介して上記第1電極と上
    記第2電極とが電気的に接続されてなる電子装置におい
    て、 上記導電粒子の硬度は、上記ICの上記第1電極の硬度よ
    りも大きく、上記パッシベーション膜の硬度よりも小さ
    いことを特徴とする電子装置。
  2. 【請求項2】上記導電粒子の粒径は、上記パッシベーシ
    ョン膜と上記基板との間隙よりも大きく、上記第1電極
    と上記第2電極との間隙よりも小さくことを特徴とする
    請求項1に記載の電子装置。
  3. 【請求項3】上記ICの第1電極が金属バンプを含まない
    平面電極であることを特徴とする請求項1に記載の電子
    装置。
  4. 【請求項4】上記導電粒子は、突起形状であることを特
    徴とする請求項1に記載の電子装置。
  5. 【請求項5】上記導電粒子は、粒径が5μm以下である
    ことを特徴とする請求項1に記載の電子装置。
  6. 【請求項6】上記導電粒子は、粒径が1乃至2μmの範
    囲内であることを特徴とする請求項5に記載の電子装
    置。
  7. 【請求項7】上記導電粒子は、ニッケルを主体としたこ
    とを特徴とする請求項5に記載の電子装置。
  8. 【請求項8】上記基板は、ガラス基板であることを特徴
    とする請求項1に記載の電子装置。
  9. 【請求項9】上記第2電極は、アルミニウム、アルミニ
    ウム合金、及びアルミニウムを主体とする金属から選ば
    れることを特徴とする請求項8に記載の電子装置。
  10. 【請求項10】上記異方性導電膜は、熱硬化性樹脂を含
    むことを特徴とする請求項1に記載の電子装置。
  11. 【請求項11】上記熱硬化性樹脂は、エポキシ系樹脂で
    あることを特徴とする請求項10に記載の電子装置。
  12. 【請求項12】上記導電粒子の硬度は、上記ICの上記第
    1電極及び上記基板上の第2電極の硬度よりも大きく、
    上記パッシベーション膜の硬度よりも小さいことを特徴
    とする請求項1に記載の電子装置。
  13. 【請求項13】上記第1電極は、アルミニウムを主体と
    する金属のみで形成されていることを特徴とする請求項
    3に記載の電子装置。
  14. 【請求項14】上記パッシベーション膜は、リン・ガラ
    ス及びシリコン・ナイトライドの積層体によって形成さ
    れていることを特徴とする請求項1に記載の電子装置。
  15. 【請求項15】上記導電粒子の粒径は、上記パッシベー
    ション膜の膜厚と上記第2電極の膜厚との差より大きい
    ことを特徴とする請求項1に記載の電子装置。
JP13543490A 1990-05-28 1990-05-28 電子装置 Expired - Lifetime JP2835145B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13543490A JP2835145B2 (ja) 1990-05-28 1990-05-28 電子装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13543490A JP2835145B2 (ja) 1990-05-28 1990-05-28 電子装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0430542A JPH0430542A (ja) 1992-02-03
JP2835145B2 true JP2835145B2 (ja) 1998-12-14

Family

ID=15151635

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13543490A Expired - Lifetime JP2835145B2 (ja) 1990-05-28 1990-05-28 電子装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2835145B2 (ja)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3197788B2 (ja) 1995-05-18 2001-08-13 株式会社日立製作所 半導体装置の製造方法
KR100411809B1 (ko) * 1995-12-27 2004-03-31 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 크기형반도체패키지
JP3663293B2 (ja) * 1998-03-11 2005-06-22 株式会社 日立ディスプレイズ 液晶表示装置
JP3872648B2 (ja) 1999-05-12 2007-01-24 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置およびその製造方法並びに電子装置
US6451875B1 (en) * 1999-10-12 2002-09-17 Sony Chemicals Corporation Connecting material for anisotropically electroconductive connection
US20020098620A1 (en) * 2001-01-24 2002-07-25 Yi-Chuan Ding Chip scale package and manufacturing method thereof
KR20030047085A (ko) * 2001-12-07 2003-06-18 엘지전선 주식회사 니켈 금속을 연결수단으로 이용한 전자부품 및 접속방법
DE602004024672D1 (de) 2003-06-25 2010-01-28 Hitachi Chemical Co Ltd Schaltglied-verbindungsstruktur und herstellungsverfahren dafür
KR100591461B1 (ko) * 2005-03-04 2006-06-20 (주)실리콘화일 두 반도체 기판의 알루미늄 전극 접합방법

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0430542A (ja) 1992-02-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2596960B2 (ja) 接続構造
US7186584B2 (en) Integrated circuit chip, electronic device and method of manufacturing the same, and electronic instrument
JP4476381B2 (ja) 半導体チップパッケージ及びその製造方法
JP2825083B2 (ja) 半導体素子の実装構造
US5663530A (en) Wire bond tape ball grid array package
JP3869860B2 (ja) チップカードのための電子モジュール
JP3506393B2 (ja) 液晶表示装置とその製造方法、プリンタとその製造方法
JPH03125443A (ja) 実装基板の電極及び該実装基板の電極を有する液晶表示装置
JPH0541404A (ja) 熱硬化性樹脂シート及びそれを用いた半導体素子の実装方法
JP2835145B2 (ja) 電子装置
JP3119479B2 (ja) 電子装置の製造方法
JPH04296723A (ja) 半導体素子の製造方法
JPH04297044A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP2000183111A (ja) 半導体素子の実装方法
JP2000067200A (ja) Icカード
JP3710292B2 (ja) フェイスダウン実装構造
JP2000021935A (ja) 電子部品実装体及びその製造方法
JPH10144727A (ja) 半導体素子の実装方法および半導体素子を実装した電子装置
JP3054944B2 (ja) 表示装置の製造方法
JPH09237805A (ja) 電子装置
JPS62287647A (ja) 半導体チツプの接続バンプ
KR950006327B1 (ko) 액정표시장치의 액정구동용 아이씨 실장방법
JPH09330947A (ja) 半導体素子の実装方法
JP3325317B2 (ja) Cog方式の液晶モジュールに用いる半導体装置
JPH09252064A (ja) Bga型半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081002

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081002

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091002

Year of fee payment: 11

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091002

Year of fee payment: 11

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091002

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101002

Year of fee payment: 12

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101002

Year of fee payment: 12