JP2812843B2

JP2812843B2 - 液晶表示素子の製造方法

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Publication number: JP2812843B2
Application number: JP30908292A
Authority: JP
Inventors: 孝一藤森; 時彦四宮; 知明倉立
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1992-11-18
Filing date: 1992-11-18
Publication date: 1998-10-22
Anticipated expiration: 2013-10-22
Also published as: JPH06160815A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示素子の製造方
法であり、さらに詳しくは、高分子壁で仕切られた液晶
滴を有するＴＮモード、ＥＣＢモード、強誘電性液晶表
示および光散乱型の表示モードを利用した液晶表示素子
の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示素子としては、多くの表示モー
ドを利用したものが存在する。例えば、電気光学効果を
適用した液晶表示素子では、ネマティック液晶を用いた
ツイステッドネマティック（ＴＮ）型液晶表示素子やス
ーパーツイステッドネマティック（ＳＴＮ）型液晶表示
素子が実用化されており、また強誘電性液晶（ＦＬＣ）
を用いた液晶表示素子も提案されている。これらの液晶
表示素子は偏光板を必要とし、そして液晶に配向処理を
要する。

【０００３】一方、偏光板を必要としない液晶表示素子
としては、動的散乱（ＤＳ）効果や相転移（ＰＣ）効果
を適用した液晶表示素子がある。さらに最近では、偏光
板を必要とせず、しかも液晶の配向処理が不要な液晶表
示素子も実現されている。これは、対向する２つの基板
の間に高分子中に分散された液晶を有する高分子分散型
液晶表示素子であり、液晶の複屈折性を利用して表示を
行うものである。基本的には、電圧が印加されると液晶
分子の配向が一様となるので、液晶材料の常光屈折率と
高分子の屈折率とが一致した透明状態を得、電圧が印加
されない時には液晶分子の配向が乱れた光散乱状態を作
り出して不透明状態を得ることにより表示を行ってい
る。

【０００４】ところで、上述した高分子分散型液晶表示
素子の製造方法としては、従来では例えば、以下に示す
方法が提案されているが、それにはいくつかの問題点が
あった。

【０００５】まず、特開昭61−502128号公報等には液晶
と硬化性樹脂とを混合して２つの基板の間隙に注入した
後、この樹脂を硬化させることにより液晶を析出させて
樹脂中に液晶滴を形成する方法が開示されている。しか
し、この方法では特開平3−72317号公報に記載の方法に
よって液晶滴の径を制御しようとしても、液晶と高分子
との相分離を利用しているために、液晶滴の径を精密に
制御したり、液晶滴を精密に平面的に配置することが難
しいという問題があった。さらに、特開平3−59515号公
報等には高分子多孔膜に液晶を含浸させる方法が開示さ
れている。この方法は液晶滴を形成する時に相分離を利
用しないので、高分子および液晶の選択の幅が広いとい
う利点を有しているが、現状では上記問題を克服するも
のではない。

【０００６】このように、従来の高分子分散型液晶表示
素子の製造方法においては、液晶滴の形状および径を均
一に制御することができず、また液晶の平面的な配置を
制御することが困難であるという問題があった。従っ
て、得られる表示モードを利用した液晶表示素子は電気
光学特性の急峻性が欠如しており、デューティ駆動にお
けるデューティ比を大きくすることができず、高精細化
および大画面化を行い得なかった。

【０００７】上記問題を解決するために、かかる高分子
分散型液晶表示素子の製造に際して高分子中に液晶を分
散させると同時に液晶の配向処理を行うことが試みられ
ている。例えば特開平2−153318号公報には、フォトマ
スクを用いて液晶表示素子の表示エリアを高分子中で限
定する方法が開示されている。この方法は、まず、フォ
トマスクを用いて電極に電圧を印加しながら硬化した透
明部と未硬化部とを分離し、次いでフォトマスクを除去
してから未硬化部を硬化して散乱部とするものである。
得られる表示素子は基本的には単独絵素を意識したもの
であり、この表示素子に電場を加えると散乱部が透明に
なることで全体が透明になるが、この方法はフォトマス
クで液晶の形状を制御するものではない。

【０００８】一方、ＦＬＣを用いた表示素子において
は、自発分極を発現し得るスメクティックＣ ^*相（Ｓｍ
Ｃ ^*相）が利用されるが、液晶分子の規則性がネマティ
ック相よりも結晶に近いので衝撃に弱いことが問題とな
っている。この問題を解決するため、ＦＬＣを高分子中
に分散させ、かつ液晶の配向処理を行うことが提案され
ているが、現状では高分子中で液晶の配向処理を行うこ
とは難しく、実用化には至っていない。これを詳細に説
明すると、例えば特開昭63−264721号公報〜63−264724
号公報には、ＦＬＣを高分子中に分散させてフィルム状
に加工してから一方向に延伸処理を行うことにより液晶
を配向させる方法が開示されている。しかし、この方法
では液晶と高分子との界面が絵素内に数多く存在し、入
射する直線偏光が散乱して一部の光が脱偏光するため、
液晶セルの黒レベルが低下し、コントラストが低下す
る。この問題はＦＬＣを用いた表示素子だけでなく、偏
光板を用いた他の液晶表示素子においても同様に起こ
る。また、特開昭59−201021号公報および特開平3−192
334号公報には、ＦＬＣの耐衝撃性を付与する目的で、
配向処理した基板材料にフォトリソグラフィーを用いて
高分子壁を作製することにより液晶セルを形成した後、
この液晶セル中に液晶を注入する方法が開示されてい
る。しかし、この方法では独立した液晶エリアを形成す
ることができず、またセル厚を厳密に維持することが困
難であった。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】このように、従来の液
晶表示素子、特に高分子分散型液晶表示素子の製造方法
においては、液晶滴の形状の制御を厳密に行うのが難し
く、また液晶と高分子との相分離も容易ではないという
問題があった。また、ＦＬＣを用いた表示素子において
は、上記問題に加え、耐衝撃性を付与しようとしても液
晶セルのセル厚を厳密に維持するのが難しいという別の
問題もあった。

【００１０】本発明は、上記課題を解決すべくなされた
ものであり、液晶滴の形状を容易に制御することがで
き、さらには液晶と高分子とが互いに取り込むことなく
分離することのできる液晶表示素子の製造方法を提供す
ることを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示素子の
製造方法は、少なくとも一方が透明な対向する一対の基
板の間隙に高分子壁に包囲された液晶滴を有する液晶表
示素子の製造方法において、２つの基板各々の片面に複
数の直線状電極を形成する工程と、該２つの基板を、該
直線状電極の配列方向が相互に交差し、かつ該直線状電
極の形成された面が向かい合うように間隙を設けて対向
させる工程と、光重合性化合物と液晶と光重合開始剤と
からなる混合材料を該間隙に注入する工程と、相互に交
差する２つの直線状電極の交差部からなる絵素の１また
は隣接する複数に対し各液晶滴が形成されるように、該
絵素を除いた部分の全部または一部に直線状の光を照射
して光照射部分に高分子壁を形成する工程とを含み、そ
のことにより上記目的が達成される。

【００１２】また、本発明の液晶表示素子の製造方法
は、少なくとも一方が透明な対向する一対の基板の間隙
に高分子壁に包囲された液晶滴を有する液晶表示素子の
製造方法において、２つの基板各々の片面に複数の直線
状電極を形成する工程と、該２つの基板を、該直線状電
極の配列方向が相互に交差し、かつ該直線状電極の形成
された面が向かい合うように間隙を設けて対向させる工
程と、光重合性化合物と液晶と光重合開始剤とからなる
混合材料を該間隙に注入する工程と、相互に交差する２
つの直線状電極の交差部からなる絵素の１または隣接す
る複数に対し各液晶滴が形成されるように、該絵素を除
いた部分の全部または一部に点状のスポット光を移動さ
せながら照射して光照射部分に高分子壁を形成する工程
とを含み、そのことにより上記目的が達成される。

【００１３】さらに、本発明の液晶表示素子の製造方法
は、少なくとも一方が透明な対向する一対の基板の間隙
に高分子壁に包囲された液晶滴を有する液晶表示素子の
製造方法において、２つの基板の片面に複数の直線状電
極を形成する工程と、透明である１つの基板に形成され
た直線状電極の上に絶縁膜を形成する工程と、該２つの
基板を該直線状電極の配列方向が相互に直交するよう
に、かつ該直線状電極の形成された面が向かい合うよう
に間隙を設けて対向させる工程と、光重合性化合物と液
晶と光重合開始剤とからなる混合材料を該間隙に注入す
る工程と、該絶縁膜が形成された基板側から光を照射し
て絶縁膜で覆われていない非絵素部に存在する混合材料
中の光重合性化合物を硬化することにより高分子壁を形
成する工程とを含み、そのことにより上記課題が達成さ
れる。

【００１４】

【作用】本発明の液晶表示素子の製造方法においては、
絵素を除いた部分の全部または一部に直線状の光を照射
して基板の間隙に注入された混合材料に含まれる光重合
性化合物を硬化させている。これにより、高分子と液晶
とは互いに取り込むことなく容易に相分離し、高分子壁
が限定的に形成されて各液晶滴が絵素の１または複数に
対し規則的に配置する。また本発明においては、光重合
性化合物を硬化させる他の方法として、 (1)絵素を除いた部分の全部または一部に対し点状のス
ポット光を移動させながら照射する方法 (2)透明な１つの基板に形成された直線状電極の上に絶
縁膜を形成し、この絶縁膜が形成された基板側から光を
照射して絶縁膜で覆われていない非絵素部の混合材料中
の光重合性化合物を硬化する方法を挙げているが、これら何れの方法を行っても高分子と
液晶とは容易に相分離する。

【００１５】

【実施例】次に、本発明を実施例に基づいて説明する。

【００１６】（実施例１）本実施例は、本発明の第１の
製造方法、すなわち絵素以外の部分の各々に直線状の光
を照射する工程を行う製造方法について具体的に説明し
たものである。図１は本実施例の高分子分散型液晶表示
素子の製造方法における一工程を示す断面図であり、図
２は図１の全体図である。

【００１７】まず、２枚の基板１、１上にＩＴＯ（酸化
インジウムおよび酸化スズの混合物）からなる直線状電
極２を形成する。本実施例においては、基板１としてフ
リントガラス（日本板硝子（株）、厚さ１．１ｍｍ、３
００ｍｍ角）を使用し、直線状電極２は厚さ５００オン
グストローム、幅２００μｍ、電極間隔５０μｍ、電極
数１０００×１０００に形成した。次に、直線状電極２
が形成された基板１、１上にスピンコート法によりポリ
イミド（ＳＥ−１５０、日産化学（株））を塗布し、熱
処理を行うことにより配向膜を形成した後、一方向にナ
イロン布を用いてラビング処理を行う。次いで、２枚の
基板１、１を直線状電極２、２が互いに直交するように
対向させ、６μｍのスペーサーを用いて液晶セル４を形
成する。次に、光重合性化合物としてトリメチロールプ
ロパントリメタクリレート０．１ｇ、２−エチルヘキシ
ルアクリレート０．４ｇおよびイソボルニルアクリレー
ト０．５ｇと、液晶としてZLI-3700-000（メルク社製）
にCN（コレステリックノナネート）を０．３％添加した
混合物４ｇと、光重合開始剤としてIrgacure184０．１
ｇとを均一に混合して混合材料を作製した後、この混合
材料を液晶セル４内に注入する。直線状電極２、２が混
合材料を間に介して交差する交差部は絵素７となる。

【００１８】続いて、図１に示すように、Ｈｅ−Ｃｄレ
ーザー光をビームエキスパンダーによって絵素７を除い
た部分（非絵素部５）に直線状の光を順次照射すること
により混合物中の光重合性化合物を硬化し高分子壁８を
形成する。なお、図２に示すように非絵素部５は縦方向
に配列する複数の非絵素部５ａと横方向に配列する複数
の非絵素部５ｂからなる。具体的にはまず、図２に示す
ように非絵素部５ａ、５ｂのうち、一方向に平行に配列
した非絵素部５ａを最端部から順次それぞれ５分間ずつ
照射したのち、非絵素部５ａに交差する他方の非絵素部
５ｂを同様に順次５分ずつ照射する。しかる後、液晶と
高分子とは相分離を起こし、光照射部には高分子壁８が
形成される。

【００１９】このようにして得られた液晶パネルを液体
窒素中で剥離し、アセトンで液晶を洗い流した後に、作
製された高分子壁８の水平断面をＳＥＭ（走査型電子顕
微鏡）で観察したところ、絵素と同じ規則性を有し、か
つ大きさが均一に揃った液晶滴が形成され、規則的な高
分子壁が形成されていることが確認された。

【００２０】上述のようにして作製された液晶パネル
に、配向方向に沿った方向に偏光方向を合わせて偏光板
を貼合わせ、本実施例の高分子分散型液晶表示素子を得
る。

【００２１】得られた液晶表示素子について、電圧が無
印加の場合および電極に１０Ｖの電圧を印加した場合に
おける、液晶表示素子を透過する光の透過率を測定し、
それらの比（電圧印加時の光の透過率／電圧無印加時の
光の透過率）を求めることによりコントラストを測定し
た。本実施例のコントラストは３８であった。作製した
液晶表示素子を立てかけた時の表示むらは観測されなか
った。

【００２２】なお、本実施例においては、非絵素部５の
すべてを照射することにより各液晶滴を１つの絵素に対
して形成したが、本発明はこれに限定されず、この他に
各液晶滴を隣接する複数の絵素７に対して形成したい場
合には非絵素部５を部分的に照射すればよい。

【００２３】（実施例２）本実施例は、本発明の第２の製造方法、すなわち絵素以
外の各領域の各々に対しスポット光を照射する工程を行
う製造方法について具体的に説明したものである。図３
は本実施例の強誘電性液晶（ＳＳＦＬＣ）表示素子の製
造方法における一工程を示す断面図であり、図４は図３
の全体図である。

【００２４】まず、２枚の基板１、１の上にウエットエ
ッチング法によりＩＴＯからなる直線状電極２、２を１
０００オングストロームの厚さに形成する。次いで、直
線状電極２、２が形成された基板１、１の上にポリイミ
ドをスピンコート法により５００オングストロームの厚
さに塗布し、２００℃の加熱雰囲気下、１時間焼成する
ことにより配向膜を形成した後、一軸方向にラビング処
理を行う。このラビング処理は２枚の基板１、１に形成
された直線状電極２、２が互いに向かい合うようにかつ
直交するように２枚の基板１、１を対向させた場合に、
２枚の基板１、１のラビング処理した方向が同一になる
ように行う。続いて、基板１、１上に１．７μｍのＳｉ
Ｏビーズを散布することにより２枚の基板１、１を貼合
わせ、液晶セル４を形成する。

【００２５】次に、実施例１と同一の光重合性化合物
と、液晶としてZLI-4237-000（メルク社製）と、光重合
開始剤としてIrgacure184 ０．１ｇとを均一に混合して
混合材料を作製した後、この混合材料を常圧で混合物が
等方性液体相を示す状態で液晶セル４内に注入する。

【００２６】続いて、図３に示すようにＨｅ−Ｃｄレー
ザー光を用いて非絵素部５の点をポイントスキャンする
ことにより光照射を行う。図４に示すように非絵素部５
は非絵素部５ｃの点群からなる。具体的には図４に示す
ようにまず、基板１の端部にある非絵素部５ｃに点状の
スポット光を当て、その点から非絵素部５ｃ上を１ｍｍ
／ｍｉｎの速度でスキャンする。しかる後、液晶と高分
子とは相分離を起こし、光照射部には高分子壁８が形成
される。

【００２７】上述のようにして得られた液晶パネルを用
いて耐衝撃性信頼試験を行った。圧力試験においては液
晶パネルに０．５ｍｍ／ｍｉｎの速度で５ｋｇｆ／ｃｍ
²の圧力を荷重することにより、落下試験においては液
晶パネルを５ｃｍの高さから床面に自然落下させること
により、液晶パネルの液晶の配向の乱れ具合を調べた。
結果を表１および表２に示す。この液晶パネルは、液晶
の耐衝撃性もよく、セル厚を厳密に維持し得ることが分
かった。その後、上記液晶パネルは実施例１と同様に偏
光板を貼合わせ、本実施例の液晶表示素子を得る。

【００２８】なお、本実施例においては非絵素部５のす
べてを照射することにより各液晶滴を１つの絵素に対し
て形成したが、この他に各液晶滴を隣接する複数の絵素
７に対して形成したい場合には非絵素部５を部分的に照
射すればよい。

【００２９】（実施例３）本実施例は本発明の第３の方法、すなわち透明な１つの
基板に形成された直線状電極の上に絶縁膜を形成し、こ
の絶縁膜で覆われていない混合材料に光を照射する工程
を行う製造方法について具体的に説明したものである。
図５は本実施例の強誘電性液晶（ＳＳＦＬＣ）表示素子
の製造方法における一工程を示す断面図である。

【００３０】実施例２と同様にして２枚の基板１、１に
直線状電極２、２を形成した後、一方の直線状電極２の
上のみにＯＣＤ（東京応化製）からなる絶縁膜６（屈折
率１．４）を形成する。なお、ＩＴＯからなる直線状電
極２における屈折率は１．５である。その後の工程は実
施例２と同様にして液晶セル４を作製し、その間隙に実
施例２と同じ混合材料を注入する。

【００３１】次に、図５に示すようにトルエン中から紫
外線の平行光を絶縁膜６が形成された基板１側に対し、
８０℃の角度で入射するように照射する。この場合、非
絵素部５では光が透過するので混合材料中の光重合性化
合物が硬化するが、絵素７では直線状電極２と絶縁膜６
との２重構造となっており、境界面では光が反射して透
過しないので、光硬化反応は起こらない。これにより、
選択的かつ規則的に光重合性化合物が硬化し、液晶と高
分子とは相分離して非絵素部５のみに高分子壁８が形成
される。なお、本実施例においては、紫外線を平行光が
得られる高圧水銀ランプによって１０ｍＷ／ｃｍ²の照
射量で、１０分間照射した。

【００３２】上述のようにして得られた液晶パネルを用
いて耐衝撃性信頼試験を行った。圧力試験においては液
晶パネルに０．５ｍｍ／ｍｉｎの速度で５ｋｇｆ／ｃｍ
²の圧力を荷重することにより、落下試験においては液
晶パネルを５ｃｍの高さから床面に自然落下させること
により、液晶パネルの液晶の配向の乱れ具合を調べた。
結果を表１および表２に示す。この液晶パネルは、液晶
の耐衝撃性もよく、セル厚を厳密に維持し得ることが分
かった。その後、上記液晶パネルは実施例１と同様に偏
光板を貼合わせ、本実施例の液晶表示素子を得る。

【００３３】

【表１】

【００３４】

【表２】

【００３５】なお、本発明で適用する光重合性化合物
は、光照射により硬化して高分子となり、最終的に液晶
を支えるポリマーマトリックスを形成するため、その選
択は重要である。特に、ＴＦＴ駆動を行う場合、液晶お
よび高分子の電気絶縁性が要求されるので、上記光重合
性化合物の比抵抗は未硬化状態でも１×１０¹²オーム・
ｃｍ以上であることが必要である。使用される光重合性
化合物としては、モノマー、オリゴマーである。上記モ
ノマーとしては、炭素原子数が３以上の長鎖アルキル基
またはベンゼン環を有する、アクリル酸およびアクリル
酸エステルであり、例えばアクリル酸イソブチル、アク
リル酸ステアリル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸イ
ソアミル、ｎ−ブチルメタクリレート、ｎ−ラウリルメ
タクリレート、トリデシルメタクリレート、２−エチル
ヘキシルアクリレート、ｎ−ステアリルメタクリレー
ト、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリ
レート、２−フェノキシエチルメタクリレート、イソボ
ルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート等を
挙げることができる。さらに、得られる高分子の物理的
強度を高めるために２以上の官能基を有する多官能性化
合物、例えばビスフェノールＡジメタクリレート、ビス
フェノールＡジアクリレート、1,4-ブタンジオールジメ
タクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロー
ルメタンテトラアクリレートを挙げることができ、より
好ましくはこれらのモノマーをハロゲン化特に塩素化お
よびフッ素化した化合物、例えば2,2,3,4,4,4-ヘキサフ
ルオロブチルメタクリレート、2,2,3,4,4,4-ヘキサクロ
ロブチルメタクリレート、2,2,3,3-テトラフルオロプロ
リルメタクリレート、2,2,3,3-テトラクロロプロリルメ
タクリレート、パーフルオロオクチルエチルメタクリレ
ート、パークロロオクチルエチルメタクリレート、パー
フルオロオクチルエチルアクリレート、パークロロオク
チルエチルアクリレートである。これらモノマーは、単
独で使用してもよく、また２種以上混合して使用しても
よい。また、上記オリゴマーとしてはアクリル酸ステア
リルをハロゲン化特に塩素化およびフッ素化した化合物
を挙げることができる。上記モノマーとオリゴマーとは
混合して使用してもよい。光重合性化合物は全混合材料
に対し１０〜１５重量％の割合で使用するのが好まし
い。上記実施例１〜３においては、光重合性化合物とし
てトリメチロールプロパントリメタクリレートと２−エ
チルヘキシルアクリレートとイソボルニルアクリレート
との混合物を使用した。

【００３６】本発明で使用し得る液晶は、常温付近で液
晶状態を示す有機物混合体であり、ネマチック液晶（２
周波駆動用液晶、△ε＜０の液晶を含む）、コレステリ
ック液晶（特に、可視光に選択反射特性を有する液
晶）、スメクチック液晶、強誘電性液晶、デスコチック
液晶等を使用し得る。これらの液晶は混合して用いても
よい。特に、ネマチック液晶、もしくはコレステリック
液晶又はカイラル剤の添加されたネマチック液晶がその
特性上好ましい。さらに、上記混合材料は加工時にプレ
ポリマーの光重合反応を伴うため、耐化学反応性に優れ
た液晶が好ましい。具体的な液晶の例としては、ZLI-48
01-000、ZLI-4801-001、ZLI-4792（メルク社製）等であ
る。液晶は全混合材料に対し８０〜９０重量％の割合で
使用するのが好ましい。液晶として、上記実施例１にお
いてはZLI-3700-000（メルク社製）にCN（コレステリッ
クノナネート）を０．３％添加した混合物を使用し、実
施例２および実施例３においてはZLI-4237-000（メルク
社製）を使用した。

【００３７】光重合開始剤としは一般に使用されている
光重合開始剤を用いればよく、例えばIrgacure 184、65
1および907、Darocure 1173、1116および2959等を挙げ
ることができる。光重合開始剤は全混合材料に対し０．
５〜５重量％の割合で使用するのが好ましい。上記実施
例１〜３においてはIrgacure184を使用した。

【００３８】光照射の工程で使用され得る光源として
は、実施例３、すなわち基板の全面に光を照射する方法
においては水銀ランプを使用した。実施例１および実施
例２、すなわち部分的に光を照射する方法においてはＨ
ｅ−Ｃｄレーザーを使用したが、その他にエキシマレー
ザー、色素レーザー等も使用することができる。

【００３９】なお、本実施例で得られる液晶表示素子は
２枚の偏光板で挟むことによって、ハイコントラストで
駆動電圧の急峻な液晶表示素子、例えばＴＮ表示素子、
ＳＴＮ表示素子、ＥＣＢ型液晶表示素子、ＦＬＣ表示素
子等に応用することができる。また、この液晶表示素子
は、単純マトリクス駆動、ＴＦＴ、ＭＩＭ等のアクティ
ブ駆動等の駆動法で駆動できるが特に限定されない。

【００４０】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の高分子分散型液晶表示素子の製造方法においては、フ
ォトマスクを用いずに液晶と高分子とが互いに取り込ま
れることなく液晶と高分子とを相分離させて各液晶滴を
絵素に対して配置することができる。また、液晶滴の形
状をうまく制御し、かつ液晶セルのセル厚を維持するこ
とが可能となるので、大画面の液晶表示素子を製造する
ことができ、さらには強誘電性液晶を用いた表示素子の
耐衝撃性の向上にも大きく寄与することができる。従っ
て、本発明の応用範囲は極めて広いと言える。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１に係る高分子分散型液晶表示
素子の製造方法における一工程を示す断面図である。

【図２】図２の全体図である。

【図３】本発明の実施例２に係る強誘電性液晶（ＳＳＦ
ＬＣ）表示素子の製造方法における一工程を示す断面図
である。

【図４】図３の全体図である。

【図５】本発明の実施例３に係る強誘電性液晶（ＳＳＦ
ＬＣ）表示素子の製造方法における一工程を示す断面図
である。

【符号の説明】

１基板２直線状電極３シール材４液晶セル５非絵素部６絶縁膜７絵素８高分子壁

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも一方が透明な対向する一対の
基板の間隙に高分子壁に包囲された液晶滴を有する高分
子分散型液晶表示素子の製造方法において、２つの基板各々の片面に複数の直線状電極を形成する工
程と、該２つの基板を、該直線状電極の配列方向が相互に交差
し、かつ該直線状電極の形成された面が向かい合うよう
に間隙を設けて対向させる工程と、光重合性化合物と液晶と光重合開始剤とからなる混合材
料を該間隙に注入する工程と、相互に交差する２つの直線状電極の交差部からなる絵素
の１または隣接する複数に対し各液晶滴が形成されるよ
うに、該絵素を除いた部分の全部または一部に直線状の
光を照射して光照射部分に高分子壁を形成する工程とを
含む高分子分散型液晶表示素子の製造方法。
【請求項２】少なくとも一方が透明な対向する一対の
基板の間隙に高分子壁に包囲された液晶滴を有する高分
子分散型液晶表示素子の製造方法において、２つの基板各々の片面に複数の直線状電極を形成する工
程と、該２つの基板を、該直線状電極の配列方向が相互に交差
し、かつ該直線状電極の形成された面が向かい合うよう
に間隙を設けて対向させる工程と、光重合性化合物と液晶と光重合開始剤とからなる混合材
料を該間隙に注入する工程と、相互に交差する２つの直線状電極の交差部からなる絵素
の１または隣接する複数に対し各液晶滴が形成されるよ
うに、該絵素を除いた部分の全部または一部に点状のス
ポット光を移動させながら照射して光照射部に高分子壁
を形成する工程とを含む高分子分散型液晶表示素子の製
造方法。
【請求項３】少なくとも一方が透明な対向する一対の
基板の間隙に高分子壁に包囲された液晶滴を有する高分
子分散型液晶表示素子の製造方法において、２つの基板の片面に複数の直線状電極を形成する工程
と、透明である１つの基板に形成された直線状電極の上に絶
縁膜を形成する工程と、該２つの基板を該直線状電極の配列方向が相互に直交す
るように、かつ該直線状電極の形成された面が向かい合
うように間隙を設けて対向させる工程と、光重合性化合物と液晶と光重合開始剤とからなる混合材
料を該間隙に注入する工程と、該絶縁膜が形成された基板側から光を照射して絶縁膜で
覆われていない非絵素部に存在する混合材料中の光重合
性化合物を硬化することにより高分子壁を形成する工程
とを含む高分子分散型液晶表示素子の製造方法。