JP3059030B2 - 液晶表示素子及びその製造方法 - Google Patents

液晶表示素子及びその製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示素子及び製造
方法に関し、更に詳しくは、TN(TwistedNematic)、
STN(Super Twisted Nematic)、ECB(Electrica
lly Controlled Birefringence)、FLC(Ferroelect
ric Liquid Crystal)などの液晶層を有する液晶表示素
子およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、電気光学効果を利用した表示素子
として、ネマティック液晶を用いたTN型や、STN型
の表示素子が実用化されている。また、強誘電性液晶を
用いた表示素子も提案されている。これらの表示素子は
偏光板を要し、また配向処理を必要とする。一方、偏光
板を要さず、表示に液晶の散乱を利用した表示素子とし
て、動的散乱(DS)効果および相転移(PC)効果を
用いた表示素子がある。最近、偏光板を要さず、しかも
配向処理を不要とする表示素子として、液晶の複屈折率
を利用し、透明または白濁状態を電気的に制御する表示
方法が提案されている。この表示方法は、基本的には液
晶分子の常光屈折率と支持媒体の屈折率とを一致させ、
電圧を印加して液晶の配向が揃うときには、透明状態を
表示し、電圧無印加時には、液晶分子の配向の乱れによ
る光散乱状態を表示させる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】提案されている前記方
法としては、特表昭61−502128に液晶と光又は
熱硬化性樹脂とを混合し、樹脂を硬化させることによ
り、一対の基板間に液晶を析出させ、樹脂中に液晶滴を
形成させる方法が開示されている。偏光板を用いて視野
角を改善している素子として特開平4−338923、
同4−212928に、上記高分子分散型液晶素子を直
交偏光板中に挟む表示素子が開示されている。該表示素
子は、視野角特性を改善する効果は大きいが、原理的に
散乱による脱偏光を利用しているために、画像の明るさ
がTNモードの液晶表示素子と比べて、1/2程度であ
り、画像が暗いという問題点がある。従って、利用価値
が低い。さらに、液晶の配向状態を高分子の壁、突起物
により乱し、ランダムドメインを作成して、視野角を改
善する方法が特開平5−27242に開示されている。
しかし、この方法では、ドメインがランダムで且つ絵素
部分にも高分子材料が入り込むため、コントラストが低
く、表示品位が低いという問題点がある。
【0004】従来の偏光板を利用した液晶表示素子で
は、視野角特性が悪く、大きい視野角で見る液晶表示素
子には不適切であった。図6は、従来技術のTN型液晶
表示素子1の断面図である。例えば、TN型液晶表示素
子は、図6に示すように、一対の基板2、3の間に液晶
層4が挟まれた構成である。液晶層4の液晶分子5は、
初期配向が90°捩れ、且つ、一方向に液晶分子がある
角度(プレチルト角)を持って立ち上がっている構造に
なっている。従って、電源6からの駆動電圧の印加時に
於いて、図6(3)に示されるように、液晶分子5が同
一方向に立ち上がるように、配向処理が行われている。
そのため、中間調表示時において、液晶分子5が立ち上
がる場合、図6(2)に示されるように、同一方向に液
晶分子5が傾斜する。このために、同図に示すように相
互に比較的広い角度を有する矢符Aと矢符Bとで示され
る各方向から液晶分子5を見た場合、見かけの屈折率が
異なることになる。これにより、それぞれの方向A、B
から見た画像のコントラストが大きく異なり、極端な場
合には画像の反転現象などの表示異常が発現する。この
ように、従来の表示モードでは、視野角特性が悪いこと
が問題となっている。
【0005】ホトマスクを利用して液晶と高分子材料の
相分離を規則的に行わせ、偏光板を備えた液晶表示素子
1aは、図7に示すように、基板2、3間に高分子材料
からなる高分子壁7を有し、該高分子壁7で囲まれた液
晶滴9が形成されている。この液晶滴9に於て、電圧印
加時に液晶分子5と高分子壁7との相互作用により、液
晶分子5が各壁7方向に立ち上がっていく。そのため
に、矢符Aと矢符Bとの各方向から見た液晶分子5の見
かけ上の屈折率がほぼ同じ程度になり、視角特性の改善
に大きな効果がある。一方、前記一対の基板2、3の間
を連結する高分子壁7が存在するために、液晶分子5と
高分子壁7との相互作用が大きい。これにより、液晶分
子55の応答速度が遅く、かつ液晶分子5の状態変化に
関するヒステリシス特性が低下するという問題がある。
【0006】本発明は、上記問題点を解決しようとして
なされたものであり、画像の明度を向上することがで
き、かつ表示品位が格段に向上された液晶表示素子を提
供し、製造方法が簡略化することができる液晶表示素子
の製造方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示素子
は、少なくとも一方が透光性である一対の基板間に液晶
層が挟まれており、各基板上に配向膜となる高分子膜が
それぞれ設けられるとともに、一方の基板上にマトリク
ス状に複数の絵素電極が配列された液晶表示素子におい
て、各高分子膜の表面には、各絵素電極の周縁部の全周
に沿って突条がそれぞれ設けられるとともに、各突条に
て囲まれる領域に対応した液晶領域内に液晶分子が放射
状またはランダムに配向した液晶ドメインになっている
ことを特徴とし、そのことにより上記目的が達成され
る。
【0008】本発明において、前記各高分子膜の表面に
おける前記各突条にて囲まれた領域には、複数の突条が
それぞれが放射方向に沿って、または、ランダムに設け
られている
【0009】本発明において、前記液晶ドメインは、各
高分子膜にそれぞれ設けられた放射状またはランダムに
設けられた突条の間に対応して設けられている
【0010】本発明の液晶素子の製造方法は、少なくと
も一方が透光性である一対の基板間に液晶層が挟まれて
おり、各基板上に配向膜となる高分子膜がそれぞれ設け
られるとともに、一方の基板上にマトリクス状に複数の
絵素電極が配列された液晶表示素子の製造方法であっ
て、前記一対の基板間に、液晶材料化合物、光硬化性樹
脂および光重合開始剤を少なくとも含む混合物を注入す
る工程と、前記混合物に対して、各絵素電極の周囲に沿
って高分子膜の突条が形成されるように、前記各絵素電
極に対応する部分が他の部分よりも強度の低い弱照射領
域となった光を照射する工程と、を包含することを特徴
とする
【0011】本発明に於いて、前記液晶材料化合物、
硬化性樹脂および光重合開始剤を含む混合物中の光硬化
性樹脂含有量が、10重量%〜0.1重量%である場合
がある。
【0012】
【作用】上記問題点を解決するために、本発明者らは、
高分子壁にて囲まれた液晶領域を有する液晶表示素子に
於て、その液晶領域内に液晶分子が放射状、又は、ラン
ダムに配置される領域が存在することに注目し、高分子
壁を形成することなく、液晶分子を放射状、又は、ラン
ダムに配置させ得ることを見いだした。以下、本発明に
ついて更に詳細に説明する。
【0013】本発明に於て、液晶材料と光硬化性樹脂と
光重合開始剤との混合物に光を照射して光硬化性樹脂を
硬化させる。この場合、液晶表示素子の各絵素電極に対
応した部分に対しては、各絵素電極の周囲の部分よりも
強度が低くなっている弱照度領域の光を照射する。そし
て、光硬化性樹脂の添加量を減少させる事により、この
光硬化時に、一対の基板と該一対の基板に挟まれた液晶
層とから構成される液晶セルの上下の基板間に、各液晶
電極の周囲に高分子膜の突条が形成され、高分子膜によ
って液晶層を仕切る壁が形成されるおそれがほとんどな
【0014】このとき、一対の基板間における前記混合
物中に於て、光硬化性樹脂は、光の照射領域で重合反応
を生じる。この場合、光強度の強い領域に於ける混合物
中の未反応樹脂の濃度が低下するために、前記混合物中
の濃度勾配に従って物質移動が行われる。そして、混合
物の移動中に、散乱光や反射光により一部重合反応が生
じる。その結果、各絵素電極の中心に対応した部分から
各絵素電極の周辺部に対応した部分に向けて質移動が
行われつつ、重合反応され、各絵素電極の周縁部に沿っ
て高分子膜の突条が形成されるとともに、各絵素電極の
中心部に対応した部分から周辺部に対応した部分に沿っ
て傾斜した配向膜が形成される。
【0015】このようにして配向膜が形成されるため
に、形成された配向膜に対応して配置された液晶層内の
液晶分子がランダム状又は放射状に配向する。従って、
従来技術のTN型液晶セルのように、電圧印加時に一方
向に液晶分子が配列する事が防止される。特に、中間調
表示を行う際に、本発明の液晶表示素子を見る全ての方
向で、見かけ上の屈折率がほぼ均一になるために、前記
液晶セルの視野角特性が著しく改善される。
【0016】さらに、本発明の液晶表示素子に於て、前
記一対の基板間に亘る高分子壁が形成されていないの
で、液晶と高分子材料間の相互作用の量を低下すること
ができる。これにより、液晶分子の応答速度を増大する
ことができ、ヒステリシス特性を改善することができ
る。
【0017】(光硬化性樹脂) 使用されるポリマー材料は、光硬化性樹脂である。光硬
化性樹脂としては、例えばC3以上の長鎖アルキル基ま
たはベンゼン環を有するアクリル酸及びアクリル酸エス
テル、さらに具体的にはアクリル酸イソブチル、アクリ
ル酸ステアリル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸イソ
アミル、n−ブチルメタクリレート、n−ラウリルメタ
クリレート、トリデシルメタクリレート、2−エチルヘ
キシルアクリレート、n−ステアリルメタアクリレー
ト、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリ
レート、2−フェノキシエチルメタクリレート、イソボ
ルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレートさら
にポリマーの物理的強度を高めるために2官能以上の多
官能性樹脂、例えば、R−684(日本化薬社製)、ビ
スフェノールAジメタクリレート、ビスフェノールAジ
アクリレート、1、4−ブタンジオールジメタクリレー
ト、1、6−ヘキサンジオールジメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタン
テトラアクリレート、ネオペンチルジアクリレートさら
により好ましくは、これらのモノマーをハロゲン化とく
に塩素化、及びフッ素化した樹脂、例えば、2.2.
3.4.4.4−ヘキサフロロブチルメタクリレート、
2.2.3.4.4.4−ヘキサクロロブチルメタクリ
レート、2.2.3.3−テトラフロロプロピルメタク
リレート、2.2.3.3.−テトラフロロプロピルメ
タクリレート、パーフロロオクチルエチルメタクリレー
ト、パークロロオクチルエチルメタクリレートパーフロ
ロオクチルエチルアクリルレート、パークロロオクチル
エチルアクリレートである。
【0018】(光重合抑制剤)液晶層における液晶分子がランダムまたは放射状に配置
される領域を 大きくするために、上記樹脂材料以外に重
合反応を抑制する化合物を添加することが好ましい。具
体的には、ラジカル生成後に共鳴系でラジカルを安定化
するようなモノマー、及び化合物などであり、具体的に
は、スチレン、p−クロルスチレン、p−メチルスチレ
ン、p−フェニルスチレン、ニトロベンゼンなどであ
る。
【0019】(光重合開始剤) 光重合開始剤としては、Irugacure651,184,907、Darocur
e1173、1116、2956などの一般的な光重合開始剤を使用す
ることができる。また、可視光で重合できるような増感
剤などを使用してもよい。
【0020】また、紫外線波長域に吸収特性を有するプ
ラスチック基板を使用するときには、紫外線波長域吸収
特性を有するLucirin TPO(BASF社製)、KAYACURE
DETX-S(日本化薬社製)、CGI369(チバガイギー
社製)等を使用することができる。
【0021】さらに、これらの光重合開始剤の添加量
は、個々の化合物の反応性により異なり、本発明に於て
特に限定されないが、液晶と光硬化性樹脂(液晶性光硬
化樹脂を含む)との混合物に対して、5〜0.01%で
あることが好ましい。光重合開始剤の前記混合物に対す
る添加量が5%以上の場合、液晶と前記重合反応によっ
て形成された高分子膜との相分離速度が早すぎて、高分
子膜における配向膜となる領域を所定の大きさに形成す
る制御が困難となる。その結果、高分子膜における配向
膜の領域が小さくなり、配向膜による液晶分子の配向方
向の制御力が弱くなって、各液晶電極に印加される駆動
電圧が高くなるまた、光照射時において、ホトマスク
を使用した場合に、光重合開始剤の量が多いことによ
り、ホトマスクの遮光部に相当する液晶層部分におい
て、高分子膜が厚く形成され、コントラストが低下する
おそれがある。前記光重合開始剤の添加量が、0.01
%以下の場合、前記光硬化性樹脂を十分に硬化すること
ができない。
【0022】(液晶材料)本発明の液晶表示素子に使用
可能な液晶材料は、常温付近で液晶状態を示す有機物混
合体であって、ネマッチック液晶(2周波駆動用液晶、
誘電異方性△ε<0の液晶を含む)、コレステリック液
晶(特に、可視光に選択反射特性を有する液晶)、もし
くはスメクチック液晶、強誘電性液晶、デスコチック液
晶などが含まれる。これらの液晶材料は、混合されて用
いられても良く、特にネマチック液晶もしくは、コレス
テリック液晶(カイラル剤)の添加されたネマチック液
晶が液晶表示素子の特性上、好ましい。
【0023】更に好ましくは、加工時に光重合反応を伴
うため、耐化学反応性に優れた液晶が好ましい。具体的
には、化合物中、フッ素原子などの官能基を有する液晶
である。具体的には、ZLI−4801、ZLI−48
01−001、ZLI−4792(メルク社製)などで
ある。
【0024】(重合性液晶材料)基板表面における液晶分子の 配向状態を利用して表示す
るFLCモードあるいはECBモードなどの表示モード
の液晶表示素子の場合、液晶状態(配向状態)で光硬化
することが好ましい。液晶と光硬化性樹脂との混合物に
液晶状態を持たせるためには、両者の性質を合わせ持つ
重合性液晶材料を用いることが好ましい。これらの液晶
材料と、分子内に重合性官能基を有する前記重合性液晶
材料等の液晶性化合物とを選択するにあたり、それぞれ
の液晶性を発現する部分が類似していることが、相溶性
の観点から好ましい。特に、化学的環境が特異なF、C
l系液晶材料については、重合性官能基を有する液晶性
化合物についても、F、Cl系液晶材料であることが好
ましい。また、強誘電性液晶を使用する場合について
も、安定したスメクチック相を作成するためにも強誘電
性液晶を分子内に有する重合性化合物を使用することが
好ましい。
【0025】本発明に於て特に限定されないが、本発明
で使用される分子内に液晶性官能基を有する化合物即ち
前記重合性液晶材料とは、下記の化1で示される化合物
などであり、ホストの液晶分子の液晶性を乱しにくい化
合物のことである。
【0026】
【化1】A−B−LC 上記化1中のAは重合性官能基を示し、CH2=CH
−、CH2=CH−COO−、CH2=CH−COO−、
CH2−CH−などの不飽和結合、又は歪みを持ったヘ
テロ環構造を持った官能基を示す。
【0027】また、Bは、重合性官能基と液晶性化合物
とを結ぶ連絡基であり、具体的にはアルキル鎖(−(C
2)n−)、エステル結合(−COO−)、エーテル
結合(−O−)、ポリエチレングリコール鎖(−CH2
CH2O−)、及びこれらの結合基を組み合わせた結合
基である。重合性液晶材料と液晶材料とを混合したとき
に、該混合物が液晶性を示すことが好ましいので、重合
性官能基から液晶性分子の剛直部まで、6箇所以上の結
合を有する長さを持つ連結基が特に好ましい。
【0028】上記化1に於けるLCは、液晶性化合物を
示し、下記化2で示される化合物又はコレステロール環
及びその誘導体などである。
【0029】
【化2】D−E−G 上記化2中、Gは、液晶の誘電率異方性などを発現させ
る極性基であり、−CN、−OCH3、−F、−Cl、
−OCF3、−OCCl3、−H、−R(R:アルキル
基)等の官能基を有するベンゼン環、シクロヘキサン
環、パラジフェニル環、フェニルシクロヘキサン環等で
ある。Eは、D及びGを連結する官能基で、単結合、−
CH2−、−CH2CH2−、−O−、−C≡C−、−C
H=CH−等である。Dは、化1中のBと結合する官能
基であり、且つ、液晶分子の誘電率異方性、屈折率異方
性の大きさを左右する部分である。具体的には、パラフ
ェニル環、1,10−ジフェニル環、1,4−シクロヘ
キサン環、1,10−フェニルシクロヘキサン環等であ
る。
【0030】(液晶と重合性化合物との混合比)液晶と
重合性化合物とを混合する際の両者の重量比は、重合性
化合物の含有量が10〜0.1重量%であることが好ま
しい。重合性化合物の含有量が10重量%を上回ると、
従来技術で述べたように、高分子壁が一対の基板間に形
成され、液晶と高分子材料との相互作用が大きくなり、
ヒステリシス特性や液晶の応答速度が悪化する。一方、
重合性化合物の含有量が0.1重量%を下回ると、液晶
分子を配向させるための高分子膜、即ち配向膜が十分に
基板上に形成されなくなる。従って、前記配向膜の液晶
に対する配向制御力が低下する。前記重合性化合物の含
有量は、さらに好ましくは、7〜1重量%である。
【0031】(UV(紫外線)照度分布の構成法) ホトマスクの形状に対応した高分子膜を形成する為に、
前記一対の基板に挟まれた混合物に対してUV照度分布
を構成する構成法が重要である。具体的には、ホトマス
ク、マイクロレンズ、干渉板などを用いて、前記混合物
に対して規則的なUV照度の分布を構成することが好ま
しい。ホトマスクの位置は、前記液晶セルの内外のどち
らでもよく、UV光に規則的に濃淡を作成できればよ
い。
【0032】液晶セルからホトマスクを離すと、マスク
による液晶セル上の光学像がぼけ、高分子膜の厚さを高
精度に形成することができず、本発明の効果が減少す
る。このため、ホトマスクは、できるだけ液晶及び光硬
化性樹脂の混合物に近接していることが好ましい。ま
た、UV光源からの光もできるだけ平行光線であること
が望ましい。ただし、強誘電性液晶表示素子の耐衝撃性
を向上させるために、絵素電極と同程度のサイズの配向
の回りに、緩衝体として高分子膜の突条を配置するこ
とが効果的である。そのために、故意に、ホトマスクな
どに於て、遮光部の間のホトマスクの材料がエッチング
された透光性部分をぼかして透光性を不均一にしたり、
ホトマスクを故意にセル本体から離したり、UV光源と
して出射される光の平行度の少し低い光源を使用しても
よい。
【0033】本発明者らの検討結果によれば、ホトマス
クとして照度むら大きさ(遮光領域を含む弱照度領域)
が絵素の面積の30%以上のものが好ましい。ホトマス
クとして、照度むらの大きさが絵素面積の30%未満の
面積のものを使用すると、絵素毎に配向規制力が弱くな
り、表示の均一性が損なわれる。従って、ホトマスクと
して、絵素の面積より大きい面積の弱照度領域を有する
ものが好ましく、絵素以外の部分のみUV光が照射され
るようなホトマスクなどが好ましい。
【0034】さらに、高分子膜と液晶材料間の散乱を使
用しないモードの液晶表示素子において、ホトマスクな
どの遮光領域によって形成される弱照度領域の形状は、
絵素の30%以上を覆い、UV光強度を局部的に低下さ
せるものであればよい。本発明では、特にその形状を限
定しないが、円形、方形、台形、長方形、六角形、ひし
形、文字形、曲線および直線によって区切られた図形、
及び、これら図形の一部カットしたもの、及び、これら
図形を組み合わせた図形、さらに、これらの小形図形の
集合体等の形状が可能である。さらに好ましくは、液晶
表示素子の絵素部分が弱照度領域となるホトマスクなど
が、絵素内での光の散乱強度を低下させ、液晶表示素子
のコントラストを向上させる点で好ましい。
【0035】又、本発明の実施に際し、これら図形から
1種類以上選択して使用すればよく、好ましくは、液晶
滴の均一性を向上するためには、できるだけ形状を1種
に限定し揃えることが好ましい。
【0036】本発明においては、高分子膜にて形成され
る配向膜の領域が前記基板と平行な方向に規則的に配列
される。すなわち、絵素電極の配列状態に合わせて配列
される。具体的には、高分子膜を形成する際に照射され
る光の弱照度領域が、絵素電極のピッチに合わせて配置
することにより、各絵素電極内に対して弱照度領域がそ
れぞれ配置される。
【0037】前記弱照度領域は、数絵素にわたって配置
してもよく、マトリクス状に配列されている複数の絵素
の列或は行毎に弱照度領域を配置したり、相互に隣接す
る数絵素の組毎に、液晶表示素子の全体の弱照度領域を
配置してもよい。
【0038】高分子膜にて形成される配向膜の形状測定
には偏光顕微鏡を使用し、前記液晶セルを2枚の基板に
剥離し、液晶分子を溶剤で除去して基板上に残った高分
子膜であるポリマーマトリックスの局部的な形状を測定
した。ポリマーマトリックスの観察は、サンプル作成時
に構造が破壊されている部分があるため、サンプル内で
最も規則性の優れている20個の配向膜の領域を選んで
観察した。ホトマスクは、液晶表示素子の弱照度領域の
配列の規則性と同様の規則性が要求される。また、前記
弱照度領域は、それぞれの弱照度領域が独立である必要
はなく、その周縁部に於て隣接する弱照度領域と連結さ
れていてもよく、最もUV光を効果的に遮断する領域
が、上記形状、配列を有していればよい。
【0039】上記方法で作成され、かつ上記構成を有す
る液晶セルは、偏光板等と組み合わせることにより、従
来の表示方式の例であるFLC(SSF(Surface Stab
ilized Ferroelectric))、ECB方式等による液晶材
料を高分子壁の中に閉じ込めた構成、又は、液晶層を部
分的に仕切った構成を有する液晶表示素子と同様の効果
が得られる。従って、液晶表示素子の大画面化及びフィ
ルム化を図ることができる。特に、液晶表示素子のフィ
ルム化を図る場合、基板材料として硝子のほかにフィル
ムも利用できる。
【0040】(駆動方法)作成されたセルは、単純マト
リクス駆動、TFT(薄膜トランジスタ)、MIM(金
属ー絶縁膜ー金属構造のトランジスタ)などのスイッチ
ング素子を用いるアクティブ駆動などの駆動法で駆動で
きる。本発明に於て、液晶表示素子の駆動法は特に限定
しない。
【0041】
【実施例】以下、本発明の実施例を示すが、本発明は、
これに限定されるものではない。 (実施例1)図1は、本発明の一実施例のTN型液晶表
示素子11の断面図である。例えば、TN型液晶表示素
子11は、一対のガラス基板12、13の間に液晶層1
4が挟まれた構成である。一方の基板12上には、複数
の絵素電極15がマトリクス状に形成され、他方の基板
13上には共通電極16が形成されている。各基板1
2、13上には、高分子膜17、18がそれぞれ形成さ
れている。各高分子膜17、18の形状は、後述され
る。前記絵素電極15、共通電極16及び絵素電極15
と共通電極16とで挟まれた液晶層14を含んで各絵素
19が構成される。
【0042】以下に、本実施例の液晶表示素子11の作
成方法に付いて説明する。
【0043】一対のガラス基板(板厚1.1mm)1
2、13上に、ITO(酸化インジュウムおよび酸化ス
ズの混合物、膜厚50nm)を透明電極である前記絵素
電極15及び共通電極16としてそれぞれ有する一対の
表示基板20、21を、球状、円筒状あるいは繊維状の
直径6μmのスペーサー(図示せず)によって、セル厚
を保たせることによりセルを構成した。このセルは、前
記一対の表示基板20、21が前記スペーサーで間隔を
空けて配置され、表示基板20、21がその周縁部に於
てシール材でシールされた構成である。
【0044】作成された前記セルの上に、図2に示すホ
トマスク25をセル上面に配置する。このホトマスク2
5に於て、矩形状の複数の遮光領域22がマトリクス状
に形成され、かつ各遮光領域22の間に透光領域23が
形成され、更に、各遮光領域22の中心部に例として円
形の光透過孔24がそれぞれ形成された構成を有してい
る。
【0045】さらに、前記セル中に、光硬化性樹脂材料
(例として、R−684(日本化薬社製):スチレン:
イソボルニルメタクリレート=10:5:85)0.1
gと、液晶材料、例として、ZLI−4792(メルク
社製:S−811 0.4重量%含有)1.9gと、光
重合開始剤、例としてIrugacure651の0.0025
gとを混合した混合物を作成した。具体的には、該混合
物を透明状態(35℃)でセル中に注入し、その後、同
じ温度を保ってホトマスク25のドットパターン側か
ら、平行光線を得られる高圧水銀ランプの下の10mW
/cm2の位置に於て、(1秒UV光照射、30秒照射
無し)の照射サイクルを20サイクル行った。その後、
10分間UV光を照射し、さらに、10分間前記ホトマ
スク25を取り除いてUV光を照射して前記混合物中の
光硬化性樹脂材料を硬化させた。
【0046】このようにして、前記セルの一対の表示基
板20、21の間に液晶層14が形成された液晶表示素
子11を偏光顕微鏡で観察したところ、部分的に上下の
表示基板20、21間に亘って、前記光硬化性樹脂材料
が硬化して形成された高分子壁が形成されている領域も
存在するが、液晶表示素子11全体としては、図1に示
すように、実質的に前記高分子壁が形成されていない構
造であった。かつ、図3及び図4に示すように、液晶ド
メインが部分的に放射状に形成されていた。
【0047】以下に、液晶表示素子11の絵素毎の構成
を詳述する。図3は、液晶表示素子11の一部の平面図
であり、図4(1)は図3の切断面線A−Aから見た断
面図であり、図4(2)は図3の切断面線BーBから見
た断面図である。各絵素19は、実質的に前記絵素電極
15を被覆する範囲に形成される。また、各絵素19の
範囲内の前記高分子膜17、18には、各絵素19のほ
ぼ中心部に突起26が形成され、また、各絵素19の周
縁部に於て、この周縁部に沿って隆起が実質的に連続し
ている突条27が形成されている。更に、前記突起26
から突条27の間に、放射状の、或は比較的ランダムな
形状の複数の放射状突条28が形成されている。前記突
起26、突条27及び放射状突条28の間に於て、各電
極15、16上に比較的薄膜の薄膜部29が形成され
る。この薄膜部29が、液晶層14の液晶分子に対する
配向膜となる。
【0048】また、絵素19の範囲内の液晶層14に於
て、前記薄膜部29に相当する部分に前記液晶ドメイン
30がそれぞれ形成され、前記突起26、突条27及び
放射状突条28に相当する部分に、これらの形状に対応
して放射状或はランダムな形状にディスクリネーション
31が形成される。
【0049】作成した液晶表示素子11の前後に、偏光
軸が相互に直交する2枚の偏光板をそれぞれ貼り合わせ
て、液晶層14が高分子膜17、18に挟まれた液晶表
示素子11を作成した。作成した液晶表示素子11の電
気光学特性は、下記の表1に示した。表1中で、中間調
における反転現象の項目では、○印:反転現象が起こら
ない状態、×印:容易に反転現象を観察できる状態、△
印:辛うじて反転現象が観察される状態を示している。
【0050】(比較例1)実施例1で使用したセル内
に、光硬化性樹脂(R−684(日本化薬製):スチレ
ン:イソボルニルメタクリレート=10:5:85)の
0.15gと、液晶材料ZLI−4792(メルク社
製:S−811 0.4重量%含有)の0.85gと、
光開始剤Irugacure651の0.0025gとを混合し
た混合物を注入した。その後、前記実施例1と同様に、
液晶層14が高分子膜17、18で挟まれた液晶表示素
子を作成した。下記の表1に特性を示す。
【0051】(比較例2)上記セルに対して、光硬化製
樹脂0.001gと、液晶材料1.2gと、光重合開始
剤Irugacure651の0.0025gとを混合した混合
物を使用して、液晶表示素子を作成した。
【0052】下記表1に於て、 ・ヒステリシスは、液晶層14への駆動電圧−透過率曲
線の内、透過率変化が50%になる駆動電圧の昇圧時と
降圧時との電圧値の差で定義する。
【0053】・光線透過率は、2枚の偏光板を偏光軸が
平行となるように揃えたときを100%として測定し
た。
【0054】
【表1】
【0055】図5は、本実施例の液晶表示素子11の断
面図である。例えば、TN型液晶表示素子11に於て、
液晶層14の液晶分子14aは、絵素19内に於て、前
述したように、放射状或はランダム状に配向している。
従って、電源32からの駆動電圧の印加時に於いて、図
5(3)に示されるように、液晶分子14aは、前記突
条27に沿って、前記配向状態のままで立ち上がる。そ
のため、中間調表示時において、液晶分子14aが立ち
上がる場合、図5(2)に示されるように、絵素19の
中心部に関して放射状或はランダム状に液晶分子14a
が傾斜する。このために、同図に示すように、相互に比
較的広い角度を有する矢符Aと矢符Bとで示される各方
向から液晶分子14aを見た場合、見かけの屈折率が均
一化されることになる。これにより、それぞれの方向
A、Bから見た画像のコントラストが均一化され、従来
技術で述べたような、画像の反転現象などの表示異常を
防止することができ、視野角特性を格段に向上すること
ができる。
【0056】以上のように、本実施例に於て、液晶表示
素子11の一対の表示基板20、21の間の液晶材料と
光硬化性樹脂と光重合開始剤との混合物に、液晶表示素
子11の各絵素19にほぼ対応した面積の弱照度領域を
有する光により、光硬化性樹脂を硬化させるようにし
た。このとき、本実施例に於て、前記混合物中における
光硬化性樹脂の添加量を、従来技術における添加量より
も減少させる事により、光硬化時に、前記液晶表示セル
の上下の表示基板20、21間に、高分子材料からなる
高分子壁をほとんど形成せずことなく、液晶表示素子1
1を作成することができる。
【0057】このとき、前記一対の表示基板20、21
間における前記混合物中に於て、光硬化性樹脂は、光の
照射領域で重合反応を生じる。これにより、前記照射領
域に於ける混合物中の未反応樹脂の濃度が低下する。前
記混合物中の濃度勾配に従って物質移動が行われる。混
合物の移動中に、散乱光や反射光により一部重合反応が
生じる。従って、絵素19の中心から絵素19の周辺部
の前記照射領域に向けて物質移動が行われつつ、前記一
対の基板20、21上に高分子膜17、18が形成され
る。
【0058】本実施例の液晶表示素子11の絵素19の
液晶層14に於て、液晶分子14aがランダム状又は放
射状に配向している。従って、従来技術のTN型液晶セ
ルのように、電圧印加時に一方向に液晶分子が配列する
事が防止される。特に、中間調表示を行う際に、本発明
の液晶表示素子を見る全ての方向で、見かけ上の屈折率
がほぼ均一になるために、前記液晶セルの視野角特性が
著しく改善される。
【0059】さらに、本実施例の液晶表示素子11に於
て、前記一対の基板20、21の間に亘る高分子壁が形
成されていないので、液晶分子14aと高分子材料間の
相互作用の量を低下することができる。これにより、液
晶分子14aの応答速度を増大することができ、ヒステ
リシス特性を改善することができる。
【0060】この様にして、本実施例の液晶表示素子1
1に於て、画像の明度を向上することができ、かつ表示
品位が格段に向上される。更に、製造方法を簡略化する
ことができる。
【0061】本発明の液晶表示素子は、具体的には、広
視野角を生かした平面ディスプレー、例として、パソコ
ン、ワープロ、アミューズメント機器及びテレビジョン
受信機に用いることができ、また、シャッタ効果を利用
して各種表示板、窓、壁等に利用することが出来る。
【0062】また、本実施例の液晶表示素子は、セル内
に多数の高分子壁に囲まれたマイクロ液晶セルが存在す
るため、外圧に強いという特性を有している。従って、
ペン入力装置用の液晶表示素子として使用することがで
きる。
【0063】
【本発明の効果】本発明は、1絵素内に多方向に液晶分
子が配向できる配向膜を有する素子に関する発明であ
り、液晶分子が全方位的に配向するために、従来の液晶
表示素子で問題となっていた視角方向によるコントラス
トの激変を改善することができ、かつ、高分子壁を実質
的に形成していないため高分子壁に原因があると思われ
るヒステリシスが改善される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例のTN型液晶表示素子11の
断面図である
【図2】本実施例で使用されたホトマスク25の平面図
である。
【図3】液晶表示素子11の一部の平面図である。
【図4】図3の切断面線A−A及び切断面線BーBから
見た断面図である。
【図5】本実施例の液晶表示素子11の動作を説明する
断面図である。
【図6】従来技術のTN型液晶表示素子1の断面図であ
る。
【図7】他の従来技術の液晶表示素子の断面図である。
【符号の説明】
11 液晶表示素子 12、13 ガラス基板 14 液晶層 14a 液晶分子 15 絵素電極 16 共通電極 17、18 高分子膜 19 絵素
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1333 - 1/1334 G02F 1/1337 - 1/1337 530

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも一方が透光性である一対の基
    板間に液晶層が挟まれており、各基板上に配向膜となる
    高分子膜がそれぞれ設けられるとともに、一方の基板上
    にマトリクス状に複数の絵素電極が配列された液晶表示
    素子において、 各高分子膜の表面には、各絵素電極の周縁部の全周に沿
    って突条がそれぞれ設けられるとともに、各突条にて囲
    まれる領域に対応した液晶領域内に液晶分子が放射状ま
    たはランダムに配向した液晶ドメインになっていること
    を特徴とする液晶表示素子
  2. 【請求項2】 前記各高分子膜の表面における前記各突
    条にて囲まれた領域には、複数の突条がそれぞれが放射
    方向に沿って、または、ランダムに設けられている請求
    項1に記載の液晶表示素子。
  3. 【請求項3】 前記液晶ドメインは、各高分子膜にそれ
    ぞれ設けられた放射状またはランダムに設けられた突条
    の間に対応して設けられている請求項2に記載の液晶表
    示素子。
  4. 【請求項4】 少なくとも一方が透光性である一対の基
    板間に液晶層が挟まれており、各基板上に配向膜となる
    高分子膜がそれぞれ設けられるとともに、一方の基板上
    にマトリクス状に複数の絵素電極が配列された液晶表示
    素子の製造方法であって、 前記一対の基板間に、液晶材料化合物、光硬化性樹脂お
    よび光重合開始剤を少なくとも含む混合物を注入する工
    程と、 前記混合物に対して、各絵素電極の周囲に沿って高分子
    膜の突条が形成されるように、前記各絵素電極に対応す
    る部分が他の部分よりも強度の低い弱照射領域となった
    光を照射する工程と、 を包含することを特徴とする液晶表示素子の製造方法
  5. 【請求項5】 前記液晶材料化合物、光硬化性樹脂およ
    び光重合開始剤を含む混合物中の光硬化性樹脂含有量
    が、10重量%〜0.1重量%である請求項4に記載の
    液晶表示素子の製造方法。
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