JP2811485B2 - マンガンで活性化した珪酸亜鉛蛍光体の製造のための焼成及びミリング処理方法 - Google Patents
マンガンで活性化した珪酸亜鉛蛍光体の製造のための焼成及びミリング処理方法Info
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Description
ロイドシリカ源がブレンドされている、マンガンで活性
化した珪酸亜鉛蛍光体を製造する方法に関する。この方
法は高品質の蛍光体の輝度の再現可能な発生をもたら
す。更にブレンド時間が減じられ、用いることが出来る
Zn+Mn/Siモル比における適応性が増大する。これは配
合及びブレンドにおける一層の適応性及び蛍光体の製造
における一層良好な再現性を許容する。蛍光体を再焼成
またはミリング処理してから焼成することが出来、これ
は蛍光を更に増加することになる。上記蛍光体を被覆し
又は被覆してからアニールして、蛍光体をランプ中に用
いたときに蛍光体の持続性または寿命を改善することが
できる。
良好な反応を達成するために、過剰の珪酸がフラックス
と長時間ブレンドされ、長時間の焼成がされる。この蛍
光体は高い蛍光効率に必要な高いマンガン濃度を要し、
特に亜鉛成分との良好なブレンドを達成するのが困難で
ある。時々、これらの方法により製造された蛍光体は茶
色または黄色の変色及び極めて弱い蛍光のランプをもた
らす。これは場合により亜鉛成分に組み込まれていない
マンガンの微細な痕跡が原因となる。
109,984号、2,206,280号、2,210,087号、2,222,509号、
2,241,030号、2,245,414号、2,247,142号、2,544,99号
及び3,416,019号中に開示されている。
題は蛍光ランプの持続性が比較的乏しいことである。す
なわち、蛍光体の光出力またはルーメン/ワットがラン
プ寿命の間に望ましい値より一層大きな程度で減少す
る。
鉛蛍光体が提供され、そして、本質的に酸化亜鉛、珪
酸、マンガン源、塩化アンモニウム、フッ化アンモニウ
ム、酸化タングステン及びシリカからなる成分混合物を
ドライブレンドし、ここでZn+Mn/Siモル比が約1.95〜
2.02であり、シリカがコロイドであり約50〜約410m2/g
の表面積を有し、上記コロイドシリカが約0.01〜約1.0
重量%を構成し、窒素雰囲気中約200〜約1300度の温度
で上記蛍光体を生じるのに十分な時間で上記ブレンドを
焼成し、そして上記蛍光体を空気中で約1175〜約1275度
の温度でタングステン及びマンガンを蛍光体粒子の表面
に拡散するのに十分な時間焼成することを含む上記マン
ガンで活性化した珪酸亜鉛蛍光体の製造方法が提供され
る。上記の焼成工程の間に、蛍光体を約60〜120分間ミ
リング処理して蛍光を増大することができる。上記蛍光
体は酸化アルミニウムの連続被覆で被覆して蛍光体の持
続を改善することが出来る。
蛍光ランプが提供される。
に一層よく理解するために、後記図面及び本発明のいく
つかの態様の記載との関係で以下の記載及び特許請求の
範囲が参照される。
出発成分の混合物をドライブレンドすることである。出
発成分は酸化亜鉛、珪酸、マンガン源、好ましくは炭酸
マンガン、並びに塩化アンモニウム、フッ化アンモニウ
ム及び酸化タングステンのようなフラックスである。酸
化タングステンは米国特許第4,728,450号に記載されて
いるように蛍光体の持続性を改善する。この混合物の典
型的な組成物を後の実施例中に挙げる。Zn+Mn/Siモル
比は約1.95〜2.02である。上記成分にさらにコロイドシ
リカ源を加えて混合物を作成する。上記混合物中のこの
シリカの含有量は約0.01重量%〜約0.1重量%の範囲で
あり、好ましくは約0.03重量%〜約0.3重量%の範囲で
ある。このシリカ含有量の範囲は、得られる蛍光体を蛍
光ランプ中で試験したときに蛍光体が再現可能な輝度を
有することを可能にする。シリカはコロイドであり、高
い表面積により特徴づけられる。上記表面積は約50〜41
0m2/gであり、好ましくは約100〜約300m2/gであり、最
も好ましくは約175〜約225m2/gである。このタイプのシ
リカの好ましい源は商標名“Aerosil"のもとでデグサ・
インコーポレーテッド(ニューヨーク州、ニューヨー
ク)により製造されている。デグサによる技術抄録に従
えば、Aerosilは気相中で4塩化ケイ素を燃焼(flame)
加水分解することにより製造されたコロイドのシリカで
ある。Aerosilはその名の後番号により示されるような
種々の表面積のものが提供される。本発明の目的に特に
適したものは、約200±25m2/gの高い表面積及び約12ミ
リミクロンの一次粒子粒度を有するAerosil 200であ
る。これは普通でない電気的及び光学的特性を有する極
めて純粋なシリカである。
00〜約1300℃の温度、好ましくは約1250℃で十分な時
間、好ましくは約2.5時間焼成して蛍光体を生成する。
小さい片または粒子にすることが出来る。
℃の温度で上記蛍光体の粒子表面にタングステン及びマ
ンガンを拡散するのに十分な時間焼成する。この工程
を、“再焼成”工程と呼ぶ。
光体粒子の表面をクリーンにし且つ表面に存在するマン
ガンを除去する。軽度のミリング処理とはミリング処理
の時間が比較的短いことを意味し、すなわち、典型的に
は上記時間が約20〜約30分間である。上記ミリング処理
をクエン酸水中で行なうのが好ましい。ミリング処理し
た材料を水で洗浄し、過し、乾燥し、そしてふるい分
けのような分級を行なって用途に望ましい粒度得る。こ
の一連のミリング処理、洗浄、及び分級の工程の少なく
とも一回は、蛍光体の用途のための製造時の蛍光体の仕
上げと呼ばれる。ミリング処理は当業界で周知の方法に
従い行なわれる。
に添加することは一層緊密なブレンドを達成し、蛍光ラ
ンプ中で評価したときに、再現可能な且つ高品質の蛍光
体ロットをもたらす。第1表は混合物中0.1重量%のコ
ロイドシリカにより製造した9つのロットに関するラン
プのデータを示す。上記データはブレンドした混合物を
焼成した後、軽度のミリング処理工程にかけた材料に関
して得られる。蛍光体の2回目の焼成または再焼成工程
は行なっていない。0時間で約500ルーメンを超えるも
のが9つのロットのうち6つで達成され(1−1、1−
4、1−5、1−6、1−7及び1−8)、残る3つの
ロットは0時間で約4900ルーメンより高い光度を達成し
た。また、第1表は、この高い光度が正規の時間の半分
の時間でドライブレンドして(DB、8時間)またはV−
ブレンド(好ましいブレンド技術)して、より低いNH4F
濃度(1/2,1/4)で達成されることを示している。これ
らの結果はコロイドシリカを用いないで配合した、第2
表に掲げたような従来のロットと対比される。また、上
記データはブレンドした混合物を焼成した後、軽度のミ
リング処理した材料に関して得られたものである。再焼
成はしていない。これらのロットは蛍光ランプ中で評価
したときに粗悪であり、場合により茶色に焼成したケー
クをもたらす。V−ブレンディングは通常好ましいブレ
ンド技術であるけれども、ロット2−3及び2−14中に
示したように高い光度の蛍光体をもたらさない。
ブレンド時間を減じる試験はドラムブレンダーを用いて
達成されることが立証される。ブレンド時間は本発明に
従いコロイドシリカを用いると、典型的な16時間から約
4時間に減じられる。以下の第3表は、ランプの性能に
関するAerosilの添加によるドラムブレンド時間の長さ
を示す。該データはドライブレンドした混合物を焼成し
た後、軽度のミリング処理した材料に関して得られる。
再焼成は行なわない。
(約16時間から約4時間への低下)で約5000ルーメンを
超える再現可能な輝度が達成される。第2表中に前に示
したように、Aerosilを用いない16時間のブレンド時間
では高い光度の特性を再現的に達成しない。
このシリカを用いないときよりもZn+Mn/Siのモル比の
一層大きな適応性をもたらす。
て高度の反応性及びランプの良質の明度をもたらす。本
発明に従い、コロイドシリカを添加すると、一層大きな
範囲の上記モル比が可能になる。例えば、コロイドシリ
カを用いてZn+Mn/Siモル比が2.02のように2より大き
いと、蛍光体をランプ中で試験したときに0時間で5000
ルーメンより大きな輝度が達成される。また、輝度はZn
+Mn/Siの一層低いモル比、例えば、1.99、1.98、及び
1.95でも高い。
ガン及びケイ素との反応がコロイドシリカを用いないと
きの不完全さに対して一層完全になると考えられる。こ
の不完全な反応は焼成した材料における茶系の色彩また
は蛍光ランプにおける低い光度により指摘される。上記
茶色の材料はマンガンと反応していないの酸化亜鉛の存
在を含む。
のように、すなわち、成分をブレンドし、焼成しそして
再焼成し、場合により軽度のミリング処理をし、水で洗
浄し、過し、そして乾燥する工程により製造されれ
ば、蛍光体粒子を酸化アルミニウムの連続被覆により被
覆しアニールすることができる。この被覆してアニール
した蛍光体はアルミナ被覆及びアニールしてない蛍光体
に比べて増大した持続または一層長い寿命を示す。
な保護被覆で被覆されるときの蛍光体のランプの性能に
より示される。独立に及び連続的に被覆された蛍光体粒
子は、連続的な、粒状でない、相似の酸化アルミニウム
被覆を独立の粒子の外側表面に堆積することにより調製
される。かかる被覆は例えば、化学気相堆積法または好
ましくは流動床中の化学気相堆積法のような被覆方法に
より適用することができる。
℃の温度で約15分から約20分の時間でアニールする。
60分間から約120分間、好ましくは約約90分間でミリン
グ処理することが出来る。このミリング工程は、以前に
記載した軽度のミリング工程と区別するために長いミリ
ング処理と呼ばれる。通常、長いミリング操作及び軽度
のミリング操作はミリング時間以外は同一の操作であ
る。ミリング処理は当業界で周知の方法により行なう。
ミリング処理はクエン酸中で行なう。再焼成工程の前に
長いミリング処理した蛍光体を、通常、洗浄して、過
し、乾燥しそして分級する。
前記のように、軽度にミリング処理し、洗浄し、過
し、乾燥して分級する(仕上げる)。第1図は、焼成工
程、長いミリング処理工程、再焼成工程、仕上工程(軽
度のミリング処理及び洗浄)並びに最後に被覆工程及び
アニール処理工程を含む本発明の方法の好ましい工程概
要図である。
被覆し又は被覆してアニールすることができる。
性の、封止されたガラス容器から構成される蛍光ランプ
が提供され、該硝子容器は電極を引き込み線により各々
の端部を支持して含み、該引き込み線はマウントステム
中のガラスの絞り部を通ってランプの末端に付加された
差し込み口金の接点に伸びている。該容器は低圧、例え
ば、2トルのアルゴン、ネオンのような不活性ガス及び
運転の間に約6ミクロンの低蒸気圧をもたらすのに十分
な少量の水銀が充填されている。容器の内部は蛍光体の
ブレンドの少なくとも一層で被覆されている。ブレンド
は本発明の蛍光体の少なくとも一種を含む。
ダーとしてポリエチレンオキシドを用いる水を基質とし
た系中に蛍光体粒子を分散することにより調製する。蛍
光体懸濁液を懸濁を生じる通常の方法で適用して容器の
内部表面に流し落し、水を蒸発させ、バインダー及び蛍
光体粒子を容器壁に接着させる。その後、蛍光体を塗布
した容器を除冷がま中で加熱して有機成分を揮発させる
と蛍光体層が容器壁に残る。
工する。
載するが、それらは本発明を限定するものではない。
レンダー中に入れ、約20分間ブレンドする。この同じV
ブレンダー中にZnOを加え、その後約20分間ブレンドし
た後、約20分間のブレンドによりブレンドを強化した
(これはブレンド#1である)。強化バーを有する8ク
ゥートのVブレンダー中に約2.5kgの上記ブレンド及び
以下に示すフラックス(ブレンド#2)を加える。得ら
れたフラックスとの新しいブレンドを強化バーにより約
30分間ブレンドする。
Vブレンダー中に加え、約10分間ブレンドする。このブ
レンド混合物にブレンド#2を加え、得られる新規なブ
レンドを約15分間ブレンドし、更に60分間ブレンドを強
化した。これは以下に与えたような配合のブレンドをも
たらす。
るつぼ毎に約8分間燃焼し(stoked)、そして窒素を充
填する。るつぼは蓋付きのアルミナであり、各々、この
配合物を約500グラム含む。得られる蛍光体ケークの外
皮を剥ぎ、任意の光沢のない蛍光体材料を除去する。こ
の段階での材料を焼成したケーク(FC)と呼ぶ。
ガロンのボールミルを、約8〜約12kgの焼成ケーク、約
14の脱イオン水、及び焼成したケーク1kg当たり約4g
のクエン酸で充填する。このミルはまた3/8インチのア
ルミナボール94ポンドを含んでおり、約27ppmで約20分
間回転して蛍光体を軽度のミリング処理する。軽度のミ
リング処理した蛍光体を50ガロンのタンクに移し、それ
ぞれ3.0、2.0、1.5、1.0、0.5時間の休止時間を用いて1
0分間で6回洗浄した。この材料を過して約230℃にて
約16時間オーブンで乾燥する。最後に上記材料を400メ
ッシュのふるいにかけた。
したケーク(FC)を約1225℃にて再度焼成し、約8分間
〜約12分間/るつぼで燃焼する。この焼成において蓋が
ないるつぼを空気中で用い、FC材料をるつぼ当たり約50
0gで用いた。材料の外皮を剥ぎ光沢のない蛍光体材料を
除去し、この段階の上記材料を焼成ケークRFCと呼ぶ。
この材料を実施例1のようにして仕上げる。
施例1からの材料を最初に長いミリング処理にかける。
これをミリング処理時間を約90分間に延長した以外は、
仕上げ工程と同様の方法により行なう。その後、この材
料を仕上げ工程と同様にして洗浄し、過しそして乾燥
するが、ふるいにかけない。その後、長いミリング処理
した材料を前記のように再焼成する。その後、この材料
を前記のように仕上げる。
してアニールする。
から販売されているアルミニウム酸化物Cのような流動
化剤約0.05〜0.1重量%と一緒に内径80mmの石英管から
構成される流動カラム中に充填する。該石英管は分配板
として作用する、底に融着したフリット有する。65mmの
ステンレス鋼の撹拌機ディスクが石英管の内側に位置さ
れている。撹拌機ディスクは振動混合撹拌機に取り付け
られている。撹拌機の底から約50ミクロンのところに、
2ミクロンのステンレス鋼のフィルター部材が並列に溶
接されており、酸素混合物の拡散機として作用する。撹
拌機のディスク自体は石英の分配機の約25mm上方に位置
する。およそ11個連続した1/4インチの鋼コイル巻き管
が石英管の底に位置するフリットのすぐ周りに位置し、
1つのコイルは分配機の下にあり、残る10個のコイルは
分配板の上にある。更に、冷却コイルと石英管の間に挟
まれて改善された熱移動をもたらす約120mmの銅箔であ
り、断熱材が上記銅コイル巻きの上に位置して加熱され
た管部分及び加熱されていない管部分の間の熱移動を更
に減じる。この断熱材は約50mm、1インチの幅、1/2イ
ンチの厚さのファイバーファックス(Fiberfax)ロール
断熱材から構成されている。ファイバーファックス断熱
材の端部は3域リンドベルグ炉の加熱された部分と加熱
されていない部分との間、すなわち該炉の底と中央域と
の間のレベルに丁度整合している。炉域は6インチ、12
インチ及び6インチの長さであり、針型熱電対が各々の
域の中心点に配置されている。最初の二つの炉域は500
℃に調製され、最後の域は閉鎖されている。カラム中に
充填した蛍光体の量は1500gであり、蛍光体床の高さは
およそ500mmである。蛍光体の流動床CVDアルミナ被覆の
運転条件を第I表中に示す。流動床の温度を流動床内の
分配板と伸長した床との半分の距離に位置した熱電対に
より記録する。第2の熱電対と撹拌機と分配板との間に
位置する。第I表に記載した温度は実際の被覆操作にお
いて測定した最低及び最高温度である。石英カラムの底
において分配板を通過するガスは第I表に記載したよう
な流量を有する。バブラーとして1500cc/分の窒素、ア
ルゴン、ヘリウム、ネオン、またはそれらの混合物のよ
うな不活性ガス、キャリアーとして1800cc/分の不活性
ガスを用いる。流動化した蛍光体の床は、不活性ガス流
中、蛍光体粒子を浮遊させるために不活性ガスを蛍光体
粒子を通じて上方に送ることにより形成する。不活性ガ
スは流動床中で蛍光体粒子を浮遊させることに加え、蒸
発したトリメチルアルミニウム用のキャリアーとして作
用する。不活性ガスを約30℃の液状のトリメチルアルミ
ニウムを含むバブラーを通じて送り、液状のトリメチル
アルミニウムは分配板を通じて流動化した蛍光体床に送
られる前に不活性ガス中に蒸発する。揮発したトリメチ
ルアルミニウムが酸素と揮発したトリメチルアルミニウ
ムとの間で起こる反応に十分な温度で酸素に露出される
とき、連続的な保護アルミニウム被覆が個々の蛍光体粒
子の表面上に形成される。酸素/不活性ガス混合物とし
ての酸素が、O2に関して2500cc/分及びN2に関して50cc/
分で、振動ディスク上の振動ミキサーのシャフト上に位
置する2ミクロンのフィルター部品を通って流動床中に
導入される。被覆時間を第1表中に示す。蛍光体粒子
が、一旦、アルミナの連続被覆で被覆されると、アルミ
ナ被覆された蛍光体粉末は9/4インチ(高さ)×4イン
チ(幅)×10インチ(長さ)の寸法の石英ポート中に移
送される。典型的な粉末の充填量は750gである。ボート
は3/2/分の空気が充填される直径6インチのMAXIBRU
TE(商標名)管に挿入される。その後、炉は約1時間で
室温からアニール温度まで引き上げられる。アニール温
度は粉末中に埋め込まれた校正された熱電対により測定
して765℃である。粉末の上記温度を4時間維持させ、
その後一晩冷却させる。アニール工程の後、蛍光体を通
常の水を基質とした懸濁液の系を用いて20W−T12及び40
W−T12ランプ中に被覆する。その後、被覆したランプを
加工して完成されたランプにしそして評価する。
Al11O19蛍光体と比較しつつ、実施例1、2及び3に記
載したような一般的操作に従って製造した蛍光ランプに
関するデータを示す。
施例2)」及び「ミリング処理及び再焼成(実施例
3)」の3つの操作を対照する。この表はアルミナ被覆
しそして被覆を適用した後にアニールしたZn2SiO4:Mn蛍
光体に関する蛍光ランプのデータを扱う。このデータか
ら再焼成した蛍光体RF及び長いミリング処理をしそして
再焼成した蛍光体MFは、再焼成していない材料に比べて
0時間及び100時間並びに1000時間でのランプ操作を通
じて優れた光度を示すことを知ることが出来る。実施例
2及び3の方法は一層低い粉末重量及びより良好なラン
プの性質を示す。長くミリング処理し且つ再焼成した蛍
光体は最も低い粉末状量で最も高いルーメン出力をもた
らす。これらの方法は、セットIIの試料に示したように
再現可能であることがわかる。また、再焼成及び長いミ
リング処理して再焼成した蛍光体により得られた高い10
0時間の光度及び持続レベルは対照として働く(Ce,Tb)
MgAl11O19蛍光体と比較することが出来ることも知るべ
きである。
料ロットに関して第III表中に示す。第III表は粒度及び
化学的組成に関する粉末のデータを扱う。このデータか
ら、再焼成し且つ長いミリング処理した実施例2及び実
施例3の蛍光体はそれぞれともに良好な輝度を示すこと
がわかる。これらの方法は粒度分布を狭くし(コールタ
ー・カウンター技法により測定する低いQD)、特に粗大
成分を低下させる(一層高いNS)。粒度はコールター・
カウンターまたはBET(一層高い表面積)測定により測
定されるようにわずかに減じることがわかる。これらの
方法はそれぞれバルクのタングステンのレベルを約610
から約520または290重量ppmに低減することをもたら
す。最後に蛍光ランプの0時間の出力はセットIに関し
て被覆していないものでさえわずかに改善されたことが
わかる。再ミリング処理し再焼成した蛍光体は、再焼成
した蛍光体に比べて、すべてのこれらの結果において改
善をもたらす。これらの方法はセットIIの試料に関して
示したようにすべての粉末及び蛍光ランプの特性におい
て再現可能であることがわかる。
1、2及び3の蛍光体に加えて、米国特許第4,728,459
号中に教示されたように主に粒子成長を改善し且つ蛍光
ランプの持続を改良する。極めて高いタングステンレベ
ルは被覆後に望ましくない製品をもたらす。このタング
ステンのレベルは長いミリング処理をして再焼成する工
程によりかなり減じられそして再焼成工程によりわずか
に減じられる。これらの結果は第IV表中に見ることが出
来る。更にこの点を調査するために、第IV表はZn2SiO4:
Mn蛍光体のバルク(原子吸光)及び表面(EACA)の化学
的分析を示す。第IV表は上記方法の種々の工程の間の材
料及び仕上げた蛍光体の試料を含む。また、理論的な原
子%を蛍光体ロットに関する実際の配合を基準にして同
表中に含める。これらの試料の上記方法に関係する要約
説明を以下に示す。
いない IV−2:再焼成または長いミリング処理がなく、仕上げし
ている IV−3:再焼成した(実施例2におけるように)が、仕上
げしていない IV−4:再焼成し(実施例2におけるように)、仕上げし
ている IV−5:長いミリング処理し仕上げしたが、分級していな
い IV−6:長いミリング処理し再焼成した(実施例3におけ
るようにして)が、仕上げしていない IV−7:長いミリング処理し再焼成し(実施例3における
ようにして)、仕上げした 第IV表中のデータより、焼成した材料に関して表面の
タングステン及びマンガンのレベルが増加したこと(IV
−1、IV−3、及びIV−6)並びに仕上げすることがこ
れらの表面濃度を減じることがわかる。これは第III及
び第IV表中に示したように特にバルクのタングステンレ
ベルが減じることをもたらす。従って、MF及び低度の再
焼成操作は仕上げられた蛍光体においてバルクのタング
ステンを製品全体に関して蛍光体の有害な効果が観測さ
れないように減じさせ、蛍光体粒子の成長及び持続の利
点を利用することを可能にする。
して記載してきたが、当業者にとって特許請求の範囲に
より画定されるような本発明の領域を離れないで種々の
変更及び改良をし得る。
ある。
Claims (6)
- 【請求項1】マンガンで活性化された珪酸亜鉛蛍光体の
製造方法であって、 a)酸化亜鉛、珪酸、マンガン源、塩化アンモニウム、
フッ化アンモニウム、酸化タングステン及びシリカから
なる成分混合物であって、Zn+Mn/Siのモル比が1.95〜
2.02であり、上記シリカがコロイドであり且つ50〜410m
2/gの表面積を有し、上記コロイドシリカが上記混合物
の0.01〜1.0重量%を構成している上記混合物をドライ
ブレンドし、 b)得られる成分のドライブレンドを、窒素雰囲気中
で、1200℃〜1300℃の温度で上記蛍光体を生成するのに
十分な時間焼成し、 c)上記蛍光体を、空気中で、1175℃〜1275℃の温度
で、タングステン及びマンガンを蛍光体粒子の表面上に
拡散させるのに十分な時間で焼成することを含む上記方
法。 - 【請求項2】上記蛍光体粒子を酸化アルミニウムの連続
被覆で被覆して、上記蛍光体粒子上に酸化アルミニウム
の連続被覆を有するマンガンで活性化された珪酸亜鉛蛍
光体を形成して、被覆をしないで製造された蛍光体を超
える改善された持続を上記蛍光体に備えさせる工程を更
に含む請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】上記被覆された蛍光体を空気雰囲気中で70
0℃〜850℃の温度で15分〜20時間の時間でアニールして
アニールされた蛍光体を形成する請求項2に記載の方
法。 - 【請求項4】マンガンで活性化された珪酸亜鉛蛍光体を
製造する方法であって、 a)酸化亜鉛、珪酸、マンガン源、塩化アンモニウム、
フッ化アンモニウム、酸化タングステン及びシリカから
なる成分混合物であって、Zn+Mn/Siのモル比が1.95〜
2.02であり、上記シリカがコロイドであり且つ50〜410m
2/gの表面積を有し、上記コロイドシリカが上記混合物
の0.01〜1.0重量%を構成している上記混合物をドライ
ブレンドし、 b)得られる成分のドライブレンドを、窒素雰囲気中
で、1200℃〜1300℃の温度で上記蛍光体を生成するのに
十分な時間で焼成し、 c)得られる蛍光体を60分間〜120分間ミリング処理
し、 d)得られるミリング処理した蛍光体を、空気中で1175
℃〜1275℃の温度で、タングステン及びマンガンを蛍光
体粒子表面に拡散するのに十分な時間で焼成することを
含む上記方法。 - 【請求項5】上記蛍光体粒子を酸化アルミニウムの連続
被覆で被覆して、上記蛍光体粒子上に酸化アルミニウム
の連続被覆を有するマンガンで活性化された珪酸亜鉛蛍
光体を形成して、被覆しないで製造された蛍光体を超え
る改善された持続を上記蛍光体に備えさせる工程を更に
含む請求項4に記載の方法。 - 【請求項6】上記被覆された蛍光体を空気雰囲気中で70
0℃〜850℃の温度で、15分〜20時間の時間アニールして
アニールされた蛍光体を形成する請求項5に記載の方
法。
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